JP5703251B2 - 有機電界発光素子、照明装置及び有機電界発光素子の製造方法 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、有機電界発光素子、照明装置及び有機電界発光素子の製造方法に関する。

近年、平面光源などの用途に有機電界発光素子が注目されている。有機電界発光素子においては、有機薄膜が、２つの電極の間に設けられる。有機薄膜に電圧を印加して電子と正孔とを注入し再結合させることにより、励起子を生成する。この励起子が放射失活する際の発光が利用される。
有機電界発光素子において、薄型、軽量、面発光などの特徴から、これまでの照明器具や光源では実現できなかった応用が期待されている。

特開２００４−３６３０４０号公報

本発明の実施形態は、光透過性の有機電界発光素子、照明装置及び有機電界発光素子の製造方法を提供する。

本発明の実施形態によれば、第１電極と、第２電極と、有機発光層と、光学層と、を備えた有機電界発光素子が提供される。前記第１電極は、第１主面と、前記第１主面と反対側の第２主面と、を有する。前記第１電極は、光透過性を有する。前記第２電極は、前記第１主面の一部と対向する。前記有機発光層は、前記第１電極と前記第２電極との間に設けられる。前記光学層は、前記第２主面に対向して設けられる。前記光学層は、前記有機発光層から放出される光を散乱させる第１状態と、前記光の散乱の度合いが前記第１状態よりも小さい第２状態と、の間で遷移可能である。前記光学層は、前記第１主面と平行な平面に投影した時に前記第２電極と重なる第１部分が少なくとも前記第１状態になり、前記有機発光層から放出された前記光を前記第１部分で散乱させて出射させることが可能であり、前記平面に投影した時に前記第２電極と重ならない第２部分が少なくとも前記第２状態になり、外部から入射した光を前記第２部分において透過させることが可能である。

第１の実施形態に係る有機電界発光素子の構成を例示する模式的断面図である。 第１の実施形態に係る有機電界発光素子の構成を例示する模式的平面図である。 図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１の実施形態に係る有機電界発光素子の一部の構成を例示する模式図である。 図４（ａ）〜図４（ｃ）は、第１の実施形態に係る有機電界発光素子の一部の光学特性を例示する模式的断面図である。 第１の実施形態に係る有機電界発光素子の一部の構成を例示する模式的断面図である。 図６（ａ）〜図６（ｄ）は、第１の実施形態に係る別の有機電界発光素子の一部の構成を例示する模式図である。 図７（ａ）及び図７（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の有機電界発光素子の一部の構成を例示する模式的平面図である。 第１の実施形態に係る別の有機電界発光素子の構成を例示する模式的断面図である。 第１の実施形態に係る別の有機電界発光素子の構成を例示する模式的断面図である。 第１の実施形態に係る別の有機電界発光素子の構成を例示する模式的断面図である。 第１の実施形態に係る別の有機電界発光素子の構成を例示する模式的断面図である。 第２の実施形態に係る照明装置の構成を例示する模式図である。 図１３（ａ）〜図１３（ｃ）は、第３の実施形態に係る有機電界発光素子の製造方法を例示する工程順模式的断面図である。 第３の実施形態に係る有機電界発光素子の製造方法を例示するフローチャート図である。

以下に、各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。

（第１の実施の形態）
図１は、第１の実施形態に係る有機電界発光素子の構成を例示する模式的断面図である。
図２は、第１の実施形態に係る有機電界発光素子の構成を例示する模式的平面図である。図１は、図２のＡ１−Ａ２線断面図である。
これらの図は、本実施形態に係る有機電界発光素子の一部を拡大して例示している。
図１及び図２に表したように、有機電界発光素子１１０は、第１電極１０と、第２電極２０と、有機発光層４０と、光学層５０と、を含む。

第１電極１０は、第１主面１０ａと、第２主面１０ｂと、を有する。第２主面１０ｂは、第１主面１０ａと反対側の面である。第１電極１０は、光透過性を有する。第１電極１０は、例えば、透明電極である。

ここで、第１主面１０ａに対して垂直な第１方向をＺ軸方向とする。第１主面１０ａに対して平行な１つの方向をＸ軸方向とする。第１主面１０ａに対して平行でＸ軸方向に対して垂直な方向をＹ軸方向とする。Ｘ軸方向及びＹ軸方向は、Ｚ軸方向に対して垂直な方向である。Ｚ軸方向は、第１電極１０の厚さ方向に相当する。

第２電極２０は、第１電極１０の第１主面１０ａの一部と対向する。第２電極２０は、光反射性を有する。第２電極２０の光反射率は、第１電極１０の光反射率よりも高い。第２電極２０は、導電部２１と、開口部２２と、を有する。導電部２１は、光反射性を有する。導電部２１は、開口部２２を除いて設けられる。第２電極２０において、例えば、複数の開口部２２が設けられる。開口部２２以外の領域に、導電部２１が設けられる。第２電極２０は、導電部２１において第１主面１０ａと対向する。

図２に表したように、導電部２１は、Ｙ軸方向に沿って延びる帯状である。導電部２１は、例えば、Ｘ軸方向に並べて複数設けられる。これにより、第２電極２０は、縞状のパターン形状に形成される。複数の導電部２１のそれぞれの間隔は、例えば、一定である。第２電極２０のパターン形状は、任意である。

有機発光層４０は、第１電極１０の第１主面１０ａと、第２電極２０と、の間に設けられる。有機発光層４０は、例えば、第１電極１０と第２電極２０とを介して電圧が印加された場合に、電子と正孔とを再結合させ、励起子を生成する。有機発光層４０は、例えば、励起子が放射失活する際の光の放出を利用して発光する。

有機電界発光素子１１０は、配線層３０と、第１基板８１と、第２基板８２と、高屈折率層８４と、をさらに備える。配線層３０と第１基板８１と第２基板８２と高屈折率層８４とは、それぞれ有機電界発光素子１１０に適宜設けられ、省略可能である。

第１基板８１と第２基板８２とは、光透過性を有する。第１基板８１の屈折率は、例えば、１．４以上１．９以下である。第２基板８２の屈折率は、例えば、１．４以上１．９以下である。

光学層５０は、第１基板８１と第２基板８２との間に設けられる。高屈折率層８４は、第１電極１０と第２基板８２との間に設けられる。この例では、第１基板８１の上に光学層５０が設けられる。光学層５０の上に第２基板８２が設けられる。第２基板８２の上に高屈折率層８４が設けられる。高屈折率層８４の上に第１電極１０が設けられる。第１電極１０の上に有機発光層４０が設けられる。そして、有機発光層４０の上に第２電極２０が設けられる。

高屈折率層８４の屈折率は、第１電極１０の屈折率と実質的に同じである。第１電極１０の屈折率は、有機発光層４０の屈折率と実質的に同じである。すなわち、高屈折率層８４の屈折率は、有機発光層４０の屈折率と実質的に同じである。このように、高屈折率層８４の屈折率を、第１電極１０の屈折率及び有機発光層４０の屈折率と合わせることにより、有機発光層４０から放出された光の取り出し効率を向上させることができる。すなわち、有機電界発光素子１１０の発光効率が向上する。有機発光層４０の屈折率は、例えば、１．６以上２．０以下である。

第２基板８２と高屈折率層８４との接合界面である第２基板８２の主面８２ａの上には、凹凸部８５が設けられる。凹凸部８５は、例えば、主面８２ａ上に複数設けられる。複数の凹凸部８５は、例えば、Ｚ軸方向に見たときに、第２電極２０と重なる位置に設けられる。複数の凹凸部８５は、例えば、ピラミッド状でもよい。ピラミッド状の凹凸部８５は、例えば、主面８２ａにフロスト処理を施すことによって形成することができる。複数の凹凸部８５は、例えば、有機発光層４０から発せられた光の進行方向を変える。複数の凹凸部８５は、例えば、光を散乱させる。これにより、複数の凹凸部８５は、有機発光層４０から発せられた光の主面８２ａでの全反射を抑制する。

配線層３０は、第１主面１０ａに対して平行な平面に沿って延在する。すなわち、配線層３０は、Ｘ−Ｙ平面内に延在する。この例において、配線層３０は、第１電極１０の第１主面１０ａの上に設けられる。配線層３０は、第１主面１０ａのうちの、Ｚ軸方向に見たときに、第２電極２０と重ならない部分の一部に設けられる。第２電極２０と重ならない部分とは、Ｚ軸方向に見たときの、隣り合う２つの導電部２１の間の部分である。配線層３０は、第１電極１０の第２主面１０ｂの上に設けてもよい。この場合、配線層３０は、第２主面１０ｂのうちの、Ｚ軸方向に見たときに、第２電極２０と重ならない部分の一部に設けられる。第１電極１０は、Ｘ−Ｙ平面に射影したときに、配線層３０と重ならない部分を有する。

配線層３０は、例えば、導電性の配線部３１と、開口部３２と、を有する。配線部３１は、開口部３２を除いて設けられる。Ｘ−Ｙ平面に射影したときに、開口部３２は、第１電極１０の少なくとも一部と重なる。例えば、配線部３１は、Ｘ−Ｙ平面に射影したときに第１電極１０の一部と重なる。配線層３０は、第１電極１０に電気的に接続される。配線層３０は、例えば、Ｘ−Ｙ平面内に延在する。配線層３０のパターン形状は、例えば、縞状、または、格子状である。

図２に表したように、この例において、配線部３１は、Ｙ軸方向に沿って延びる帯状である。配線部３１は、例えば、Ｘ軸方向に並べて複数設けられる。これにより、配線層３０は、縞状のパターン形状に形成される。複数の配線部３１のそれぞれの間隔は、例えば、一定である。また、複数の配線部３１のそれぞれの間隔は、例えば、複数の導電部２１のそれぞれの間隔よりも広い。この例においては、例えば、３つの導電部２１毎に、１つの配線部３１が設けられる。配線層３０のパターン形状は、任意である。

配線層３０の導電率は、第１電極１０の導電率よりも高い。配線層３０は、光反射性を有する。配線層３０は、例えば、金属配線である。配線層３０は、例えば、第１電極１０に流れる電流を伝達する補助電極として機能する。配線層３０は、第１電極１０の少なくとも一部を露出させる。

配線層３０の光反射率は、第１電極１０の光反射率よりも高い。本願明細書においては、第１電極１０の光反射率よりも高い光反射率を有している状態を光反射性という。配線層３０の上面及び側面に絶縁層（図示しない）を設けても良い。

第１電極１０の光透過率は、配線層３０の光透過率及び第２電極２０の光透過率よりも高い。本願明細書においては、配線層３０の光透過率及び第２電極２０の光透過率よりも高い光透過率を有している状態を光透過性という。例えば、第１基板８１の光透過率は、第２電極２０の光透過率、及び、配線層３０の光透過率よりも高い。第２基板８２の光透過率は、第２電極２０の光透過率、及び、配線層３０の光透過率よりも高い。

光学層５０は、第１電極１０の第２主面１０ｂと平行な第３主面５３ａを有する第３電極５３と、第３主面５３ａと平行な第４主面５４ａを有する第４電極５４と、第３電極５３と第４電極５４との間に設けられた液晶層５２と、を含む。第３電極５３及び第４電極５４は、光透過性を有する。第３電極５３及び第４電極５４は、例えば、透明電極である。

第３電極５３は、Ｚ軸方向に見たときに、第２電極２０と重なる部分に設けられた対向部５５と、Ｚ軸方向に見たときに、第２電極２０と重ならない部分に、対向部５５とは別に設けられた非対向部５６と、を含む。対向部５５のパターン形状は、第２電極２０のパターン形状と実質的に同じである。すなわち、対向部５５のパターン形状は、縞状である。

図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１の実施形態に係る有機電界発光素子の一部の構成を例示する模式図である。
図３（ａ）〜図３（ｃ）は、液晶層５２の一部を拡大して表示している。
図３（ａ）に表したように、液晶層５２は、例えば、樹脂部５２ａと、液晶部５２ｂと、を含む。液晶層５２においては、例えば、高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）と呼ばれる液晶方式が採用される。

樹脂部５２ａは、光透過性を有する。樹脂部５２ａとしては、例えば、フィルム状多孔質体などが用いられる。樹脂部５２ａの屈折率は、第１基板８１の屈折率、及び、第２基板８２の屈折率と、実質的に同じである。樹脂部５２ａの屈折率は、例えば、１．４以上１．８以下である。樹脂部５２ａには、例えば、熱や紫外線により硬化する透明材料が用いられる。

液晶部５２ｂには、例えば、ネマチック液晶が用いられる。この例では、液晶部５２ｂは、液滴状である。

図３（ｂ）に表したように、液晶部５２ｂは、例えば、網目状につながる不規則な形状でもよい。液晶層５２は、ポリマーネットワーク液晶と呼ばれる液晶方式でもよい。
図３（ｃ）に表したように、液晶層５２において、液晶部５２ｂの中に、樹脂部５２ａが分散されている。

図４（ａ）〜図４（ｃ）は、第１の実施形態に係る有機電界発光素子の一部の光学特性を例示する模式的断面図である。
図４（ａ）〜図４（ｃ）は、光学層５０の光学特性を例示する。
図４（ａ）に表したように、光学層５０は、透過する光（有機発光層３０から放出された光）の進行方向を変化させる第１状態を有する。第１状態の光学層５０は、例えば、液晶層５２において、入射した光を散乱させる。光の進行方向の変化は、屈折効果に基づいても良い。また、回折効果に基づいても良い。図３（ａ）〜図３（ｃ）のいずれかの構成の液晶層５２が用いられた光学層５０では、第３電極５３と第４電極５４との間の電圧の絶対値（実効値でも良い）が小さい第１電圧のときに第１状態となる。第１電圧は、０ボルトのときを含む。

図４（ｂ）に表したように、光学層５０は、透過する光の進行方向の変化の度合いが第１状態よりも小さい第２状態を有する。第２状態の光学層５０は、例えば、透過する光の進行方向を実質的に変化させない。第２状態の光学層５０は、例えば、透明である。換言すれば、第２状態の光学層５０の拡散率は、第１状態の光学層５０の拡散率よりも低い。光学層５０は、第３電極５３と第４電極５４との間に電圧が印加され、第３電極５３と第４電極５４との間の電圧の絶対値（実効値でも良い）が大きい第２電圧のときに第２状態となる。第２電圧の絶対値（実効値）は、第１電圧の絶対値（実効値）よりも大きい。このように、光学層５０は、第１状態と第２状態との間を遷移可能である。第１状態と第２状態との間で、液晶層５２の光学的な特性が変化する。

図４（ｃ）に表したように、光学層５０は、第３電極５３のうちの非対向部５６のみに電圧を印加することにより、液晶層５２のうちの、Ｚ軸方向に見たときに第２電極２０と重ならない部分の光学特性を、第１状態から第２状態に選択的に変化させることができる。反対に、光学層５０は、第３電極５３のうちの対向部５５のみに電圧を印加することにより、液晶層５２のうちの、Ｚ軸方向に見たときに第２電極２０と重なる部分の光学特性を、第１状態から第２状態に選択的に変化させることができる。

これ以降では、液晶層５２のうちの、Ｚ軸方向に見たときに第２電極２０と重ならない部分の光学特性が、第２状態にあり、液晶層５２のうちの、Ｚ軸方向に見たときに第２電極２０と重なる部分の光学特性が、第１状態にある状態（図４（ｃ）の状態）を、第３状態と称す。

有機電界発光素子１１０において、第１電極１０と第２電極２０（導電部２１）とが対向する部分の有機発光層４０が、発光領域４４となる。発光領域４４から発せられた発光光４５は、第１電極１０、高屈折率層８４、凹凸部８５、第２基板８２、光学層５０、及び、第１基板８１を介して、有機電界発光素子１１０の外部に出射する。発光光４５の一部は、第２電極２０で反射し、第１電極１０、高屈折率層８４、凹凸部８５、第２基板８２、光学層５０、及び、第１基板８１を介して外部に出射する。

例えば、有機発光層４０を発光させる場合に、光学層５０を第１状態にする。これにより、光学層５０を発光光４５が透過する際、液晶層５２によって発光光４５の進路が変更される。これにより、例えば、全反射によって有機電界発光素子１１０の内部に戻る光が低減され、光取り出し効率が向上する。すなわち、有機電界発光素子１１０の発光効率が向上する。

有機電界発光素子１１０において、外部から入射する外光４６は、第２電極２０の開口部２２、有機発光層４０、配線層３０の開口部３２、第１電極１０、高屈折率層８４、第２基板８２、光学層５０、及び、第１基板８１を透過する。このように、有機電界発光素子１１０は、発光光４５を出射させつつ、外部から有機電界発光素子１１０に入射する外光４６を透過させる。このように、有機電界発光素子１１０は、光透過性を有する。

例えば、有機発光層４０を発光させない場合に、光学層５０を第２状態にする。光学層５０が第２状態にある場合、有機電界発光素子１１０は、例えば、透明である。従って、有機電界発光素子１１０を透過する外光４６は、実質的に散乱されない。光学層５０が第２状態にある場合、有機電界発光素子１１０においては、有機電界発光素子１１０を介して、背景の像を視認できる。すなわち、有機電界発光素子１１０は、シースルー可能な薄膜状または板状の光源である。

導電部２１及び配線部３１において外部の像が鏡面反射すると、例えば、観察者の自分の像が、導電部２１及び配線部３１で反射し、その反射像が観察者に視認されてしまう。すなわち、外部の像の反射像が発生する。このため、背景の像の視認性を著しく劣化させる原因となる。

そこで、例えば、反射像の影響が大きい場合に、光学層５０を第３状態にする。光学層５０を第３状態にした場合、有機電界発光素子１１０では、Ｘ−Ｙ平面に射影したとき（Ｚ軸方向に見たとき）に、光反射性の導電部２１及び配線部３１と重なる位置において、液晶層５２が第１状態になっている。このため、導電部２１及び配線部３１による鏡面反射光が、液晶層５２によって散乱する。これにより、外部の像の反射像の視認が抑制される。

また、光学層５０を第３状態にした場合、有機電界発光素子１１０では、Ｘ−Ｙ平面に射影したとき（Ｚ軸方向に見たとき）に、光反射性の導電部２１及び配線部３１と重ならない位置において、液晶層５２が第２状態になっている。このため、外光４６の散乱が抑えられ、有機電界発光素子１１０の透明性も確保される。

このように、実施形態の有機電界発光素子１１０によれば、光透過性の有機電界発光素子を提供できる。この有機電界発光素子１１０は、高い発光効率と、高い透明性と、を有する。この有機電界発光素子１１０を照明装置に応用した場合、照明機能の他に、背景像を透過させる機能により、種々の新たな応用が可能になる。

なお、本実施形態においては、第２電圧の絶対値を第１電圧の絶対値よりも大きいこととしたが、第２電圧の絶対値を第１電圧の絶対値よりも小さいこととしてもよい。

図５は、第１の実施形態に係る有機電界発光素子の一部の構成を例示する模式的断面図である。
図５に表したように、有機発光層４０は、発光部４３を含む。有機発光層４０は、必要に応じて、第１層４１及び第２層４２の少なくともいずれかをさらに含むことができる。発光部４３は、可視光の波長を含む光を放出する。第１層４１は、発光部４３と第１電極１０との間に設けられる。第２層４２は、発光部４３と第２電極２０との間に設けられる。

発光部４３には、例えば、Ａｌｑ_３、Ｆ８ＢＴ及びＰＰＶなどの材料を用いることができる。発光部４３には、ホスト材料と、ホスト材料に添加されるドーパントと、の混合材料を用いることができる。ホスト材料としては、例えばＣＢＰ、ＢＣＰ、ＴＰＤ、ＰＶＫ及びＰＰＴなどを用いることができる。ドーパント材料としては、例えば、Ｆｌｒｐｉｃ、Ｉｒ（ｐｐｙ）_３及びＦｌｒ６などを用いることができる。

第１層４１は、例えば、正孔注入層として機能する。第１層４１は、例えば正孔輸送層として機能する。第１層４１は、例えば、正孔注入層として機能する層と、正孔輸送層として機能する層と、の積層構造を有しても良い。第１層４１は、正孔注入層として機能する層及び正孔輸送層として機能する層とは別の層を含んでも良い。

第２層４２は、例えば電子注入層として機能する層を含むことができる。第２層４２は、例えば、電子輸送層として機能する層を含むことができる。第２層４２は、例えば、電子注入層として機能する層と、電子輸送層として機能する層と、の積層構造を有しても良い。第２層４２は、電子注入層として機能する層及び電子輸送層として機能する層とは別の層を含んでも良い。

例えば、有機発光層４０は、可視光の波長の成分を含む光を放出する。例えば、有機発光層４０から放出される光は、実質的に白色光である。すなわち、有機電界発光素子１１０から出射する光は白色光である。ここで、「白色光」は、実質的に白色であり、例えば、赤色系、黄色系、緑色系、青色系及び紫色系などの白色の光も含む。

第１電極１０は、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ及びＴｉよりなる群から選択された少なくともいずれかの元素を含む酸化物を含む。第１電極１０には、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）膜、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物を含む導電性ガラスを用いて作製された膜（例えばＮＥＳＡなど）、金、白金、銀、及び、銅などを用いることができる。第１電極１０は、例えば、陽極として機能する。

第２電極２０は、例えば、アルミニウム及び銀の少なくともいずれかを含む。例えば、第２電極２０には、アルミニウム膜が用いられる。さらに、第２電極２０として、銀とマグネシウムとの合金を用いても良い。この合金にカルシウムを添加しても良い。第２電極２０は、例えば、陰極として機能する。

配線層３０は、例えば、Ｍｏ、Ｔａ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｎｉ及びＴｉよりなる群から選択された、少なくともいずれかの元素を含む。配線層３０は、例えば、この群から選択された元素を含む混合膜とすることができる。配線層３０は、それらの元素を含む積層膜とすることができる。配線層３０には、例えばＮｂ／Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ／Ｎｂの積層膜を用いることができる。配線層３０は、例えば、第１電極１０の電位降下を抑制する補助電極として機能する。配線層３０は、電流供給のためのリード電極として機能することができる。

第１基板８１及び第２基板８２には、例えば、ガラス基板、または、樹脂基板などを用いることができる。高屈折率層８４には、例えば、酸化チタンを混ぜたポリシロキサンが用いられる。高屈折率層８４の屈折率は、例えば、酸化チタンの混合比によって調整される。

図６（ａ）〜図６（ｄ）は、第１の実施形態に係る別の有機電界発光素子の一部の構成を例示する模式図である。
図６（ａ）〜図６（ｄ）は、光学層５０の一部を拡大して表示している。
図６（ａ）に表したように、光学層５０には、導電性のドーパント５２ｃを添加した液晶層５２を用いてもよい。すなわち、液晶層５２は、ダイナミックスキャタリング効果（以下、ＤＳ効果と称す）を利用した液晶方式でもよい。ＤＳ効果を利用した液晶層５２では、ドーパント５２ｃ（イオンなど）を添加し、液晶層５２の比抵抗を、例えば、５×１０^１０Ωｃｍ以下とする。液晶には例えば負の誘電異方性を有する材料を用いる。

この液晶層５２を含む光学層５０は、第３電極５３と第４電極５４との間の電圧が第１電圧のときに透明になる。例えば、電圧を印加していないときに、光学層５０が第２状態になる。この光学層５０では、第３電極５３と第４電極５４との間の電圧の絶対値（実効値）が第１電圧の絶対値（実効値）よりも大きい第２電圧のときに、ドーパント５２ｃが移動する。電圧印加時に、このドーパント５２ｃの移動により、例えば光の散乱性が発現する。すなわち、電圧が大きい第２電圧のときに、光学層５０が第１状態になる。

図６（ｂ）に表したように、光学層５０は、複数の導電部５３ｐと、複数の開口部５３ｑと、を有する第３電極５３を含む構成でもよい。開口部５３ｑは、例えば、Ｙ軸方向に沿ってスリット状に形成される。開口部５３ｑは、例えば、Ｘ軸方向に一定の間隔で並べられる。開口部５３ｑのＸ軸方向の幅、及び、隣り合う２つの開口部５３ｑの間隔は、例えば、発光光４５の波長に対応して設定される。この光学層５０では、第３電極５３と第４電極５４との間に電圧を印加したときに、導電部５３ｐと第４電極５４とが対向する部分の屈折率と、開口部５３ｑと第４電極５４とが対向する部分の屈折率と、の差により、主に回折効果によって入射光が散乱する。すなわち、この光学層５０では、印加電圧が大きいときに第１状態になり、印加電圧が相対的に小さいときに第２状態になる。

図６（ｃ）に表したように、光学層５０は、複数の導電部５３ｐと、複数の開口部５３ｑと、を有する第３電極５３と、液晶層５２と、を含む構成でもよい。この光学層５０では、隣り合う２つの導電部５３ｐのそれぞれの電位を異なる電位に設定する。隣り合う２つの導電部５３ｐの一方から他方に向かう横方向の電場を形成する。これにより、例えば、開口部５３ｑの近傍の液晶分子のダイレクタの向きを変える。こうすれば、導電部５３ｐと液晶層５２とが対向する部分の屈折率と、開口部５３ｑと液晶層５２とが対向する部分の屈折率と、の差により、入射光が散乱する。この光学層５０では、印加電圧が大きいときに第１状態になり、印加電圧が相対的に小さいときに第２状態になる。

図６（ｄ）に表したように、光学層５０は、第３電極５３と、第４電極５４と、第３電極５３と第４電極５４との間の電気泳動層５８と、を含む構成でもよい。電気泳動層５８は、例えば、電気泳動分散液５８ａと、この電気泳動分散液５８ａに添加された帯電微粒子５８ｂと、を有する。多孔質構造体を設け、多孔質構造体の間隙に電気泳動分散液５８ａを充填させてもよい。この光学層５０では、第３電極５３と第４電極５４との間に電圧を印加したときに、第３電極５３の近傍または第４電極５４の近傍に帯電微粒子５８ｂが集まって電気泳動分散液５８ａが白濁し、入射光が散乱する。すなわち、この光学層５０では、印加電圧が大きいときに第１状態になり、印加電圧が相対的に小さいときに第２状態になる。このように、光学層５０は液晶以外の構成でもよい。

図７（ａ）及び図７（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の有機電界発光素子の一部の構成を例示する模式的平面図である。
図７（ａ）は、本実施形態に係る有機電界発光素子１１１の第２電極２０のパターン形状の例を示している。図７（ｂ）は、有機電界発光素子１１１の配線層３０のパターン形状の例を示している。

図７（ａ）に表したように、有機電界発光素子１１１においては、第２電極２０（導電部２１）は格子状である。この例では、第２電極２０に設けられる開口部２２の形状は四角形（長方形）である。開口部２２の形状は、四角形に限定されず、任意である。例えば、第２電極２０の格子状のパターン形状は、ハニカム状でもよい。

また、図７（ｂ）に表したように、配線層３０（配線部３１）は格子状である。この例では、配線層３０に設けられる開口部３２の形状は四角形（長方形）である。開口部３２の形状は、四角形に限定されず、任意である。開口部３２の形状は、例えば、開口部２２の形状に合わせて形成すればよい。

第２電極２０のパターン形状を格子状にする場合には、光学層５０の第３電極５３の対向部５５のパターン形状も格子状にする。対向部５５のパターン形状は、第２電極２０のパターン形状と実質的に同じにする。非対向部５６の形状は、開口部２２の形状と実施的に同じにする。これにより、有機電界発光素子１１１においても、光透過性の有機電界発光素子が提供される。有機電界発光素子１１１においても、高い発光効率と、高い透明性と、が得られる。

第２電極２０のＸ軸方向に沿った長さを幅ｗｘ２とする。複数の第２電極２０（導電部２１）のうちで互いに隣り合う２つの第２電極２０（導電部２１）のＸ軸方向に沿った中心どうしの距離をピッチｐｘ２とする。

第２電極２０のうちでＸ軸方向に沿って延在する部分のＹ軸方向に沿った長さを幅ｗｙ２とする。複数の第２電極２０（導電部２１）のうちで互いにＹ軸方向において隣り合う２つのＹ軸に沿った中心どうしの距離をピッチｐｙ２とする。

例えば、幅ｗｘ２及び幅ｗｙ２の少なくともいずれかは、１μｍ以上２０００μｍ以下である。具体的には、幅ｗｘ２及び幅ｗｙ２の少なくともいずれかは、１０μｍ以上である。幅ｗｘ２及び幅ｗｘ２を１０μｍ以上にすることで、加工性が良好になる。一方、幅ｗｘ２及び幅ｗｙ２は５００μｍ以下である。幅ｗｘ２及び幅ｗｙ２を５００μｍ以下にすることで、第２電極２０が目立ち難くなる。幅ｗｘ２及び幅ｗｙ２の少なくともいずれかは、例えば、３０μｍ以上２００μｍ以下である。

ピッチｐｘ２及びピッチｐｙ２の少なくともいずれかは、５０μｍ以上５０００μｍ以下である。例えば、ピッチｐｘ２及びピッチｐｙ２を４００μｍ以上５００μｍ以下とし、幅ｗｘ２及び幅ｗｙ２を４０μｍ以下６０μｍ以下とする。この場合は、第２電極２０は、例えば、フォトリソグラフィとエッチングにより形成できる。

例えば、ピッチｐｘ２及びピッチｐｙ２を８００μｍ以上１０００μｍ以下とし、幅ｗｘ２及び幅ｗｙ２を８０μｍ以上１２０μｍ以下とする。この場合は、第２電極２０は、例えば、メタルマスクを用いた成膜（例えば蒸着など）によって形成できる。

配線層３０のＸ軸方向に沿った長さを幅ｗｘ３とする。複数の配線層３０（配線部３１）のうちで互いに隣り合う２つの配線層３０（配線部３１）のＸ軸に沿った中心どうしの距離をピッチｐｘ３とする。

配線層３０のうちでＸ軸方向に沿って延在する部分のＹ軸方向に沿った長さを幅ｗｙ３とする。複数の配線層３０（配線部３１）の上記の部分のうちで互いにＹ軸方向において隣り合う２つの配線層３０（配線部３１）のＹ軸に沿った中心どうしの距離をピッチｐｙ３とする。

例えば、幅ｗｘ３及び幅ｗｙ３の少なくともいずれかは、１μｍ以上２０００μｍである。具体的には、幅ｗｘ３及び幅ｗｙ３の少なくともいずれかは、１０μｍ以上である。幅ｗｘ３及び幅ｗｙ３を１０μｍ以上にすることで、加工性が良好になる。また、抵抗が下がり発光強度の面内均一性が高まる。一方、幅ｗｘ３及び幅ｗｙ３は５００μｍ以下である。幅ｗｘ２及び幅ｗｙ２を５００μｍ以下にすることで、配線層３０が目立ち難くなる。幅ｗｘ３及び幅ｗｙ３の少なくともいずれかは、例えば、１０μｍ以上２００μｍ以下である。

ピッチｐｘ３及びピッチｐｙ３の少なくともいずれかは、５０μｍ以上５０００μｍ以下である。

例えば、ピッチｐｘ３及びピッチｐｙ３を４００μｍ以上５００μｍ以下とし、幅ｗｘ３及び幅ｗｙ３を４０μｍ以下６０μｍ以下とする。この場合は、配線層３０は、例えば、フォトリソグラフィとエッチングにより形成できる。

例えば、ピッチｐｘ３及びピッチｐｙ３を８００μｍ以上１０００μｍ以下とし、幅ｗｘ３及び幅ｗｙ３を８０μｍ以下１２０μｍ以下とする。この場合は、配線層３０は、例えば、メタルマスクを用いた成膜（例えば蒸着など）によって形成できる。

本実施形態において、第２電極２０及び配線層３０のパターンの線幅が広いと（導電部２１の幅が広く、配線部３１の幅が広い）と、第２電極２０及び配線層３０が観察され易く、目立つ。第２電極２０及び配線層３０が目立つと、背景の像の認識を困難にする。

本願発明者は、第２電極２０及び配線層３０を目立ち難くする条件について検討した。この検討に用いた試料においては、ガラス基板の上に、複数の帯状のＡｇ膜が設けられている。このＡｇ膜が、第２電極２０及び配線層３０に相当する。Ａｇ膜の帯状パターンのピッチ（ピッチｐｙ２及びピッチｐｙ３に相当する）は２００μｍで一定である。Ａｇ膜の帯状パターンの幅（幅ｗｙ２及び幅ｗｙ３に相当する）を２０μｍ〜１００μｍで変えた試料が用いられる。なお、Ａｇ膜の帯状パターンの幅が１００μｍとき、開口率は５０％となる。この試料の後ろに白い紙を配置し、試料と観察者との間の距離Ｄを０．３ｍとして、Ａｇ膜の帯状パターンが視認できる幅を求めた。観察者の視力は１．２であり、評価環境は、蛍光灯下の室内である。

その結果、Ａｇ膜の帯状パターンが５０μｍ以上のときには、Ａｇ膜の複数の帯状パターンのそれぞれが分離して観察され、４０μｍ以下のときには帯状パターンが観察されない。すなわち、４０μｍ以下においては、試料の全体が、透過率が低下した灰色の領域として観察される。帯状パターンが４０μｍである場合の開口率は、例えば、７１％である。また、幅が２０μｍ（開口率が８３％）のときは、帯状のパターンが設けられている領域の明るさと、それ以外の領域の明るさと、の差異が小さくなり、違和感が小さい。

このように、実施形態において、第２電極２０の開口率（例えば、複数の開口部２２のＸ−Ｙ平面に射影した面積の合計の、その面積の合計と、導電部２１のＸ−Ｙ平面に射影した面積と、の和に対する比）は、例えば、７１％以上である。また、第２電極２０の開口率は、例えば、８３％以上である。第２電極２０の開口率が高くなることで、有機電界発光素子の透過率が向上する。ただし、開口率が大きくなると、発光領域４４の面積が小さくなる。

同様に、実施形態において、配線層３０の開口率は、例えば、７１％以上である。配線層３０の開口率は、例えば、８３％以上である。

表示装置において、観察者からみた１つの画素の幅の視角が約０．０２８度以下のときに、画素が見えなくなる（区別できなくなる）と言われている。このことは、試料と観察者との間の距離Ｄが３０ｃｍのときに４０μｍ以下において帯状パターンが見えなくなるという上記の結果と、実質的に整合する。

有機電界発光素子と観察者との間の距離を距離Ｄとし、パターンが観察されない幅をパターン幅ｗａとする。パターン幅ｗａは、パターンが観察されないときの、幅ｗｘ２、幅ｗｙ２、幅ｗｘ３及び幅ｗｙ３などに相当する。

パターンが観察されないパターン幅ｗａは、距離Ｄに対して比例する。距離Ｄが０．３ｍのときに、パターン幅ｗａは４０μｍである。距離Ｄが６ｍのときに、パターン幅ｗａは６００μｍとなる。本実施形態に係る有機電界発光素子が照明などに用いられる際に、その照明装置と使用者（観察者）との距離Ｄは、種々に変えることができる。実施形態において、用途に応じた距離Ｄに基づいて、幅ｗｘ２、幅ｗｙ２、幅ｗｘ３及び幅ｗｙ３は定められる。

図８は、第１の実施形態に係る別の有機電界発光素子の構成を例示する模式的断面図である。
図８は、例えば、図２のＡ１−Ａ２線断面に相当する断面図である。
図８に表したように、本実施形態に係る別の有機電界発光素子１１２において、第３電極５３は、Ｚ軸方向に見たときに、第２電極２０と重ならない部分に設けられている。すなわち、有機電界発光素子１１２の第３電極５３には、有機電界発光素子１１０の第２電極５３の非対向部５６のみが設けられている。

有機電界発光素子１１２においては、液晶層５２のうちの、Ｚ軸方向に見たときに第２電極２０と重ならない部分の光学特性を、第１状態と第２状態との間で変化させる。有機電界発光素子１１２の光学層５０は、図３（ａ）〜図３（ｃ）、及び、図６（ａ）〜図６（ｄ）の、いずれの構成でもよい。有機電界発光素子１１２では、高分子分散型液晶を用いた液晶層５２のように、電圧を印加していないときに第１状態になり、電圧を印加しているときに第２状態になる光学層５０を用いることが好適である。これにより、有機電界発光素子１１２では、第１状態と第３状態との間で液晶層５２の光学的な特性が変化する。

有機電界発光素子１１２においても、光透過性の有機電界発光素子が提供される。有機電界発光素子１１２においても、高い発光効率と、高い透明性と、が得られる。このように、第３電極５３は、液晶層５２の全体に設ける必要はなく、第１状態と第２状態との間の切り替えが必要な部分に少なくとも設けられていればよい。

図９は、第１の実施形態に係る別の有機電界発光素子の構成を例示する模式的断面図である。
図９は、例えば、図２のＡ１−Ａ２線断面に相当する断面図である。
図９に表したように、本実施形態に係る別の有機電界発光素子１１３において、第３電極５３は、Ｚ軸方向に見たときに、第２電極２０と重なる部分に設けられている。すなわち、有機電界発光素子１１３の第３電極５３には、有機電界発光素子１１０の第２電極５３の対向部５５のみが設けられている。

有機電界発光素子１１３においては、液晶層５２のうちの、Ｚ軸方向に見たときに第２電極２０と重なる部分の光学特性を、第１状態と第２状態との間で変化させる。有機電界発光素子１１３の光学層５０は、図３（ａ）〜図３（ｃ）、及び、図６（ａ）〜図６（ｄ）の、いずれの構成でもよい。有機電界発光素子１１３では、ＤＳ効果を用いた液晶層５２のように、電圧を印加しているときに第１状態になり、電圧を印加していないときに第２状態になる光学層５０を用いることが好適である。これにより、有機電界発光素子１１３では、第２状態と第３状態との間で液晶層５２の光学的な特性が変化する。

このように、有機電界発光素子１１３においても、光透過性の有機電界発光素子が提供される。有機電界発光素子１１３においても、高い発光効率と、高い透明性と、が得られる。

図１０は、第１の実施形態に係る別の有機電界発光素子の構成を例示する模式的断面図である。
図１０は、例えば、図２のＡ１−Ａ２線断面に相当する断面図である。
図１０に表したように、本実施形態に係る別の有機電界発光素子１１４の光学層５０は、第２主面１０ｂと平行な第３主面５３ａを有する第３電極５３と、第１電極１０と第３電極５３との間に設けられた液晶層５２と、を含む。すなわち、有機電界発光素子１１４においては、有機発光層４０の発光と、液晶層５２の光学特性の切り替えとに、第１電極１０を共通に用いる。有機電界発光素子１１４の光学層５０は、図３（ａ）〜図３（ｃ）、及び、図６（ａ）〜図６（ｄ）の、いずれの構成でもよい。

有機電界発光素子１１４においても、光透過性の有機電界発光素子が提供される。有機電界発光素子１１４においても、高い発光効率と、高い透明性と、が得られる。また、有機電界発光素子１１４では、有機電界発光素子１１０に比べて部品点数を削減できる。これにより、有機電界発光素子１１４では、例えば、製造が容易になる。

図１１は、第１の実施形態に係る別の有機電界発光素子の構成を例示する模式的断面図である。
図１１は、例えば、図２のＡ１−Ａ２線断面に相当する断面図である。
図１１に表したように、本実施形態に係る別の有機電界発光素子１１５の光学層５０は、１つの第３電極５３を含む。第３電極５３の第３主面５３ａは、第１電極１０の第２主面１０ｂの全面と対向する。すなわち、第３電極５３の第３主面５３ａの形状は、第１電極１０の第２主面１０ｂの形状と実質的に同じである。

この光学層５０では、液晶層５２の全体が、第１状態と第２状態との間で切り替えられる。このように、第３電極５３は、第２主面１０ｂの全面と対向する１つの電極でもよい。有機電界発光素子１１５の光学層５０は、図３（ａ）〜図３（ｃ）、及び、図６（ａ）〜図６（ｄ）の、いずれの構成でもよい。有機電界発光素子１１５においても、光透過性の有機電界発光素子が提供される。有機電界発光素子１１５においても、高い発光効率と、高い透明性と、が得られる。

（第２の実施形態）
図１２は、第２の実施形態に係る照明装置の構成を例示する模式図である。
図１２に表したように、本実施形態に係る照明装置２１０は、第１の実施形態に係る有機電界発光素子（例えば有機電界発光素子１１０）と、電源部２０１と、制御部２０２と、を備える。

電源部２０１は、第１電極１０と第２電極２０とに電気的に接続される。電源部２０１は、第１電極１０及び第２電極２０を介して有機発光層４０に電流を供給する。

制御部２０２は、例えば、第３電極５３と、第４電極５４と、に電気的に接続される。制御部２０２は、例えば、第３電極５３の対向部５５と非対向部５６とに個別に電気的に接続される。制御部２０２は、例えば、対向部５５と第４電極５４との間に電圧を印加し、対向部５５と第４電極５４との間に電界をかける。制御部２０２は、例えば、非対向部５６と第４電極５４との間に電圧を印加し、非対向部５６と第４電極５４との間に電界をかける。これにより、制御部２０２は、光学層５０の第１状態と第２状態と第３状態との切り替えを制御する。

本実施形態に係る照明装置２１０によれば、高い発光効率と、高い透明性と、を有する照明装置を提供できる。なお、制御部２０２の構成は、第３電極５３の構成などに合わせて適宜変更すればよい。制御部２０２は、少なくとも第３電極５３と第４電極５４とに電気的に接続され、第３電極５３と第４電極５４とが対向する部分における液晶層５２を第１状態と第２状態との間で切り替え可能であればよい。

（第３の実施形態）
本実施形態は、有機電界発光素子の製造方法に係る。本実施形態は、照明装置の製造方法の一部に対応する。
図１３（ａ）〜図１３（ｃ）は、第３の実施形態に係る有機電界発光素子の製造方法を例示する工程順模式的断面図である。
図１３（ａ）に表したように、例えば、第２基板８２の上に、凹凸部８５を形成する。凹凸部８５は、例えば、第２基板８２の主面８２ａの上に、マイクロレンズシートを貼り付けることによって形成される。第２基板８２の主面８２ａ及び凹凸部８５の上に、高屈折率層８４を形成する。高屈折率層８４の形成には、例えば、塗布法や印刷法を用いることができる。高屈折率層８４の上に、第１電極１０を形成する。第１電極１０の上に、配線層３０を形成する。配線層３０のパターンの形成には、例えば、フォトリソグラフィとエッチングが用いられる。また、マスクを用いた成膜（蒸着など）を用いても良い。

図１３（ｂ）に表したように、第１電極１０及び配線層３０の上に、有機発光層４０を形成する。有機発光層４０の上に、第２電極２０を形成する。第２電極２０のパターンの形成には、例えば、フォトリソグラフィとエッチングが用いられる。また、マスクを用いた成膜（蒸着など）を用いても良い。これにより、加工体１１０ｗが形成される。

図１３（ｃ）に表したように、第１基板８１の上に、第３電極５３と第４電極５４と液晶層５２とを含む光学層５０を形成する。光学層５０の上に加工体１１０ｗを載せ、位置合わせを行った後、光学層５０と第２基板８２とを接着する。以上により、有機電界発光素子１１０が完成する。

図１４は、第３の実施形態に係る有機電界発光素子の製造方法を例示するフローチャート図である。
図１４に表したように、実施形態に係る有機電界発光素子１１０の製造方法は、加工体１１０ｗを準備するステップＳ１１０と、光学層５０を形成するステップＳ１２０と、を含む。

ステップＳ１１０では、例えば、図１３（ａ）及び図１３（ｂ）に関して説明した処理を実施する。ステップＳ１２０では、例えば、図１３（ｃ）に関して説明した処理を実施する。
これにより、光透過性の有機電界発光素子１１０が製造される。この有機電界発光素子１１０は、高い発光効率と、高い透明性と、を有する。

実施形態によれば、光透過性の有機電界発光素子、照明装置及び有機電界発光素子の製造方法が提供される。

なお、本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、例えば製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれは良い。

以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明の実施形態は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、有機電界発光素子に含まれる、第１電極、第２電極、有機発光層、光学層、第３電極、第４電極、液晶層、対向部及び非対向部、並びに、照明装置に含まれる電源部などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。

その他、本発明の実施の形態として上述した有機電界発光素子、照明装置及び有機電界発光素子の製造方法を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての有機電界発光素子、照明装置及び有機電界発光素子の製造方法の成長方法も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。

その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１０…第１電極、 １０ａ…第１主面、 １０ｂ…第２主面、 ２０…第２電極、 ２１…導電部、 ２２…開口部、 ３０…配線層、 ３１…配線部、 ３２…開口部、 ４０…有機発光層、 ４１…第１層、 ４２…第２層、 ４３…発光部、 ４４…発光領域、 ４５…発光光、 ４６…外光、 ５０…光学層、 ５２…液晶層、 ５２ａ…樹脂部、 ５２ｂ…液晶部、 ５２ｃ…ドーパント、 ５３…第３電極、 ５３ａ…第３主面、 ５３ｐ…導電部、 ５３ｑ…開口部、 ５４…第４主面、 ５４ａ…第４主面、 ５５…対向部、 ５６…非対向部、 ５８…電気泳動層、 ５８ａ…電気泳動分散液、 ５８ｂ…帯電微粒子、 ８１…第１基板、 ８２…第２基板、 ８５…凹凸部、 １１０、１１１、１１２、１１３、１１４、１１５…有機電界発光素子、 １１０ｗ…加工体、 ２０１…電源部、 ２０２…制御部、 ２１０…照明装置

Claims (14)

1. 第１主面と、前記第１主面と反対側の第２主面と、を有し、光透過性の第１電極と、
   前記第１主面の一部と対向する第２電極と、
   前記第１電極と前記第２電極との間に設けられた有機発光層と、
   前記第２主面に対向し、前記有機発光層から放出された光を散乱させる第１状態と、前記光の散乱の度合いが前記第１状態よりも小さい第２状態と、を遷移可能な光学層と、
   を備え、
   前記光学層は、前記第１主面と平行な平面に投影した時に前記第２電極と重なる第１部分が少なくとも前記第１状態になり、前記有機発光層から放出された前記光を前記第１部分で散乱させて出射させることが可能であり、前記平面に投影した時に前記第２電極と重ならない第２部分が少なくとも前記第２状態になり、外部から入射した光を前記第２部分において透過させることが可能である有機電界発光素子。
2. 前記光学層は、
   前記第２主面と平行な第３主面を有する第３電極と、
   前記第３主面と平行な第４主面を有する第４電極と、
   前記第３電極と前記第４電極との間に設けられた液晶層と、
   を含む請求項１記載の有機電界発光素子。
3. 前記光学層は、
   前記第２主面と平行な第３主面を有する第３電極と、
   前記第１電極と前記第３電極との間に設けられた液晶層と、
   を含む請求項１記載の有機電界発光素子。
4. 前記第３電極は、
   前記第３主面に対して垂直な第１方向に見たときに、前記第２電極と重なる部分に設けられた対向部と、
   前記第１方向に見たときに、前記第２電極と重ならない部分に、前記対向部とは別に設けられた非対向部と、
   を含む請求項２または３に記載の有機電界発光素子。
5. 前記第３電極は、前記第３主面に対いて垂直な第１方向に見たときに、前記第２電極と重なる部分のみに設けられる請求項２または３に記載の有機電界発光素子。
6. 前記第３電極は、前記第３主面に対して垂直な第１方向に見たときに、前記第２電極と重ならない部分のみに設けられる請求項２または３に記載の有機電界発光素子。
7. 前記液晶層は、前記第３電極と前記第４電極との間の電圧が第１電圧のときに前記第１状態となり、前記第３電極と前記第４電極との間の電圧の絶対値が前記第１電圧の絶対値よりも高い第２電圧のときに前記第２状態となる、高分子分散型液晶である請求項２記載の有機電界発光素子。
8. 前記液晶層は、導電性のドーパントを含み、前記第３電極と前記第４電極との間の電圧が第１電圧のときに前記第２状態となり、前記第３電極と前記第４電極との間の電圧の絶対値が前記第１電圧の絶対値よりも高い第２電圧のときに前記第１状態となる請求項２記載の有機電界発光素子。
9. 前記第３電極は、所定の間隔で並べられた複数の開口部を有し、
   前記液晶層は、前記第３電極と前記第４電極との間の電圧が第１電圧のときに前記第２状態となり、前記第３電極と前記第４電極との間の電圧の絶対値が前記第１電圧の絶対値よりも高い第２電圧のときに前記第１状態となる請求項２記載の有機電界発光素子。
10. 前記第３電極は、
    前記第３主面に対して垂直な第１方向に見たときに、前記第２電極と重なる部分に設けられた対向部と、
    前記第１方向に見たときに、前記第２電極と重ならない部分に、前記対向部とは別に設けられた非対向部と、
    を含む請求項７〜９のいずれか１つに記載の有機電界発光素子。
11. 前記光学層は、
    液晶層と、
    前記第１主面と平行な方向に並ぶ複数の導電部を有する第３電極と、
    を含み、
    前記光学層は、隣り合う２つの前記導電部の間の電圧が第１電圧のときに前記第２状態となり、隣り合う２つの前記導電部の間の電圧の絶対値が前記第１電圧の絶対値よりも高い第２電圧のときに前記第１状態となる請求項１記載の有機電界発光素子。
12. 前記光学層は、
    前記第２主面と平行な第３主面を有する第３電極と、
    前記第３主面と平行な第４主面を有する第４電極と、
    前記第３電極と前記第４電極との間に設けられた電気泳動層と、
    を含み、
    前記光学層は、前記第３電極と前記第４電極との間の電圧が第１電圧のときに前記第２状態となり、前記第３電極と前記第４電極との間の電圧の絶対値が前記第１電圧の絶対値よりも高い第２電圧のときに前記第１状態となる請求項１記載の有機電界発光素子。
13. 請求項１〜１２のいずれか１つに記載の有機電界発光素子と、
    前記第１電極と前記第２電極とに電気的に接続され、前記第１電極及び前記第２電極を介して前記有機発光層に電流を供給する電源部と、
    を備えた照明装置。
14. 第１主面と前記第１主面と反対側の第２主面とを有し光透過性の第１電極と、前記第１主面の一部と対向する第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に設けられた有機発光層と、を含む加工体を準備する工程と、
    前記加工体の前記第２主面の側の面上に、前記有機発光層から放出される光を散乱させる第１状態と、前記光の散乱の度合いが前記第１状態よりも小さい第２状態と、の間を遷移可能な光学層であって、前記第１主面と平行な平面に投影した時に前記第２電極と重なる第１部分が少なくとも前記第１状態になり、前記有機発光層から放出された前記光を前記第１部分で散乱させて出射させることが可能であり、前記平面に投影した時に前記第２電極と重ならない第２部分が少なくとも前記第２状態になり、外部から入射した光を前記第２部分において透過させることが可能である光学層を形成する工程と、
    を備えた有機電界発光素子の製造方法。

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