JP2003255251A - 走査制御装置、プログラム、位置決め機構、光走査ユニット及び画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 偏向モジュール１００の駆動数誤差に起因す
る画質低下を抑えることができる画像形成装置を提供す
る。 【解決手段】 ３つの偏向モジュール１００を、図示し
ない感光体ドラムの表面移動方向で且つ副走査方向でも
ある方向ｙに直交する方向ｘに沿わせて並行配設した光
走査ユニット３００において、各偏向モジュール１００
を次のように配設した。即ち、それぞれの主走査方向
ｘ’を、副走査方向たる方向ｙに直交する方向ｘよりも
傾斜角度θだけ傾けて、画像全体の走査開始点と走査開
始点Ｐｂとの方向ｙにおけるずれ量を１画素分よりも大
きくするように配設した。また、ビットマップ画像デー
タを３分割した各分割マトリクスについて、それぞれ各
画素に対応する上記座標を分割マトリクスから傾斜角度
θだけ傾いた傾斜マトリクス内の座標に変換した結果に
基づいて、各半導体レーザ１１０の駆動タイミングを決
定させるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光走査装置を制御す
る走査制御装置、コンピュータに用いられるプログラ
ム、画像形成装置内で光走査装置の位置決めを行う位置
決め機構、光走査装置を複数備える光走査ユニット、及
び画像形成装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、光源から発した光ビームを偏
向手段によって偏向せしめながら被走査面に走査する光
走査装置が、デジタル方式のレーザ複写機やプリンタ等
の画像形成装置に広く用いられている。この光走査装置
は、半導体レーザ等の光源から発した光ビームを、回転
するポリゴンミラーや往復振動する振動ミラーなどを用
いる偏向手段によって逐次偏向せしめて、感光体ドラム
等の潜像担持体の表面に走査する。光源から発せられた
光ビームは、潜像担持体の表面上でその移動方向に概ね
直交する方向に移動するように偏向せしめられる。潜像
担持体の表面上で光ビームがこのように移動する方向は
主走査方向と呼ばれている。潜像担持体が表面移動しな
ければ、光ビームは潜像担持体の同じ位置を直線状に繰
り返し照射するだけである。しかし、潜像担持体の表面
は主走査方向に概ね直交する方向に移動するため、光ビ
ームはこの方向にも走査される。この方向（潜像担持体
の表面移動方向）は副走査方向と呼ばれている。これら
主、副の両方の走査により、潜像担持体には静電潜像が
光書込される。書き込まれた静電潜像は、画像形成装置
内の現像装置によって現像されて可視像となる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の偏向
手段がポリゴンミラーを用いるものである場合、ポリゴ
ン駆動モータは、設計基準回転数に対して数［％］程度
の回転誤差を生ずるのが一般的である。このため、ポリ
ゴンミラーを用いる偏向手段は、単位時間あたりの主走
査回数である走査周波数が個々に異なってくる。走査周
波数が異なってくると、当然ながら、形成される画像の
副走査方向におけるサイズが異なってくる。具体的に
は、ポリゴン駆動モータの回転数が設計基準回転数より
も速くなると、副走査方向における画素ピッチが短くな
るため、画像の副走査方向におけるサイズが小さくな
る。仮に回転誤差が＋１［％］であったとすると、主走
査方向に１００回走査される間に、副走査方向における
サイズが１画素分も小さくなってしまう。逆に、設計基
準回転数よりも遅くなると、画像の副走査方向における
サイズが大きくなる。

【０００４】また、上述の偏向手段が振動ミラーを用い
るものである場合でも、振動ミラーは設計基準振動数に
対して数［％］程度の振動誤差を生ずるのが一般的であ
る。このため、振動ミラーを用いる偏向手段において
も、その振動誤差によって副走査方向における画像のサ
イズに誤差が生ずる。つまり、偏向手段に駆動数誤差が
生ずると、画像の副走査方向におけるサイズ誤差が生じ
てしまうのである。

【０００５】かかるサイズ誤差を抑える方法として、偏
向手段の駆動数誤差に応じて、主走査方向への走査を所
定の周期で補完又は省略させる方法が考えられる。例え
ば、ポリゴン駆動モータの回転誤差が＋１［％］である
場合には、１００ライン走査する毎に、１００回目の走
査ラインと、１０１回目の走査ラインとの間に１ライン
を補完して走査させるのである。また例えば、＋１
［％］である場合には、１００ライン目の走査を省略さ
せるのである。このような走査により、画像のサイズ誤
差を抑えることができる。しかしながら、本来存在しな
いラインを書き加えたり、存在していたラインを省略し
たりするため、オリジナル画像を忠実に再現することが
できず、どうしても画質を低下させてしまう。

【０００６】本発明は、以上の背景に鑑みなされたもの
であり、その目的とするところは、偏向手段の駆動数誤
差に起因する画質低下を抑えることができる走査制御装
置を提供することである。また、かかる画質低下を抑え
ることができるプログラム、位置決め機構、光走査ユニ
ット及び画像形成装置を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の発明は、光源から発した光ビームを偏向
手段によって偏向せしめながら被走査面に走査する光走
査装置の少なくとも該光源及び偏向手段の駆動を制御
し、複数の仮想直線を格子状に直交させたマトリクス内
の座標によって各画素の位置が示される画像情報に基づ
いて該光源の駆動タイミングを決定する走査制御装置に
おいて、各画素に対応する上記座標を、上記マトリクス
から所定角度傾いた傾斜マトリクス内の座標に変換した
結果に基づいて、上記光源の駆動タイミングを決定させ
るようにしたことを特徴とするものである。また、請求
項２の発明は、請求項１の走査制御装置であって、上記
光走査装置による走査ビームを所定位置で検知する走査
ビーム検知手段からの信号に基づいて該光走査装置の単
位時間あたりの走査回数である走査周波数を演算し、演
算結果に応じた仮想直線配設ピッチの上記傾斜マトリク
スを使用することを特徴とするものである。また、請求
項３の発明は、請求項１又は２の走査制御装置であっ
て、一走査周期内において、走査速度の変動に応じて上
記光源の駆動周期を変化させることを特徴とするもので
ある。また、請求項４の発明は、請求項１、２又は３の
走査制御装置であって、上記画像情報の上記マトリクス
をその一方の座標軸方向で複数に分割し、分割マトリク
スのそれぞれについて、各画素に対応する座標を上記傾
斜マトリクス内の座標に変換した結果に基づいて、分割
数と同数の光走査装置におけるそれぞれの上記光源の駆
動タイミングを決定することを特徴とするものである。
また、請求項５の発明は、複数の仮想直線を格子状に直
交させたマトリクス内の座標によって各画素の位置が示
される画像情報を、演算処理によって構築する演算処理
手段としてコンピュータを機能させるプログラムにおい
て、各画素に対応する上記座標を上記マトリクスから所
定角度傾いた傾斜マトリクス内の座標に変換して、上記
画像情報を構築し直すことを特徴とするものである。ま
た、請求項６の発明は、所定方向に移動する表面に潜像
を担持する潜像担持体と、光源から発した光ビームを偏
向手段によって偏向せしめながら走査して、該潜像担持
体に対して該潜像の光書込を行う光走査装置とを有する
画像形成装置内にて、該光走査装置から発せられる光ビ
ームの偏向による該潜像担持体上での移動方向たる主走
査方向を位置決めする位置決め機構であって、上記主走
査方向を、上記潜像担持体の表面移動方向たる副走査方
向に直交する方向よりも傾けて、画像全体の上記主走査
方向における走査先端位置と走査終端位置とを該副走査
方向に１画素分のサイズよりも大きくずらした位置決め
を行うことを特徴とするものである。また、請求項７の
発明は、請求項６の位置決め機構であって、複数の上記
光走査装置を有する光走査ユニットにおけるそれぞれの
光走査装置の上記主走査方向について、上記副走査方向
に直交する方向よりも傾けた位置決めを行うことを特徴
とするものである。また、請求項８の発明は、光源から
発した光ビームを偏向手段によって偏向せしめながら走
査する複数の光走査装置がそれぞれの該偏向手段を並行
に位置させるように固定された光走査ユニットであっ
て、それぞれの偏向手段が偏向による上記光ビームの走
査方向を互いの並び方向から傾ける姿勢で１つの固定部
材に固定されていることを特徴とするものである。ま
た、請求項９の発明は、所定方向に移動する表面に潜像
を担持する潜像担持体と、光源から発した光ビームを偏
向手段によって偏向せしめながら走査して、該潜像担持
体に対して該潜像の光書込を行う光走査装置と、該偏向
手段の画像形成装置本体内における位置決めを行うため
の位置決め機構と、該光走査装置の少なくとも該光源及
び偏向手段の駆動を制御し、複数の仮想直線を格子状に
直交させたマトリクス内の座標によって各画素の位置が
示される画像情報に基づいて該光源の駆動タイミングを
決定する走査制御装置とを備える画像形成装置におい
て、上記位置決め機構として請求項６又は７のものを用
いたことを特徴とするものである。また、請求項１０の
発明は、請求項９の画像形成装置において、複数の上記
光走査装置を有する請求項８の光走査ユニットと、請求
項７の位置決め機構とを用いるとともに、上記走査制御
装置として、請求項４のものを用いたことを特徴とする
ものである。また、請求項１１の発明は、請求項１０の
画像形成装置であって、上記走査制御装置が、各光走査
装置の上記偏向手段のそれぞれについて、傾き誤差に応
じた傾斜角度の上記傾斜マトリクスを用いることを特徴
とするものである。また、請求項１２の発明は、請求項
１０又は１１の画像形成装置であって、上記走査制御装
置が、各光走査装置の上記偏向手段のそれぞれについ
て、上記副走査方向における位置ズレに応じて、上記分
割マトリクスと上記傾斜マトリクスとの上記副走査方向
における相対位置をずらして座標変換することを特徴と
するものである。また、請求項１３の発明は、請求項１
０、１１又は１２の画像形成装置であって、上記走査制
御装置が、各光走査装置の上記偏向手段のそれぞれにつ
いて、上記主走査方向における位置ズレに応じて、上記
分割マトリクスと上記傾斜マトリクスとの上記主走査方
向における相対位置をずらして座標変換し、且つ、該位
置ズレに応じて各光走査装置による主走査開始タイミン
グ及び主走査終了タイミングをずらすことを特徴とする
画像形成装置。ものである。また、請求項１４の発明
は、請求項１０、１１、１２又は１３の画像形成装置で
あって、各光走査装置について、それぞれ単位時間あた
りの主走査回数である走査周波数が、上記潜像担持体の
表面移動速度を上記副走査方向における走査ピッチで除
算した値よりも大きいことを特徴とするものである。ま
た、請求項１５の発明は、請求項９、１０、１１、１
２、１３又は１４の画像形成装置であって、請求項９、
１０、１１、１２、１３又は１４の画像形成装置であっ
て、上記光走査装置が複数の光源を有し、これらから同
時に発せられた複数の光ビームを上記偏向手段によって
偏向せしめることを特徴とするものである。これらの発
明においては、走査制御装置又はプログラムにより、例
えば図１に示すような１ライン画像の形成を可能にする
マトリクスにおける各画素の座標が、図２に示すような
傾斜マトリクスにおける座標に変換される。図１におい
て、マトリクスのＹ座標軸は図示しない潜像担持体の表
面移動方向である副走査方向に相当する。また、Ｘ座標
軸は副走査方向に直交し且つ潜像担持体の被走査面に平
行な方向（以下、単に副走査方向に直交する方向とい
う）に相当する。従来の画像情報は、図１に示すよう
に、各画素のｘ座標を副走査方向（Ｙ軸方向）に直交す
る方向に対応させて記憶している。かかる画像情報で
は、光ビームが主走査方向に走査されながら、潜像担持
体の表面が副走査方向に実際に移動しないと、潜像担持
体の表面における１ライン領域だけが繰り返し走査され
るだけである。よって、副走査方向における光ビームの
照射ピッチ（副走査方向の画素ピッチ）が、潜像担持体
の表面移動速度に完全に依存してしまう。このため、偏
向手段の駆動数誤差によって単位時間あたりの主走査回
数（走査周波数）が変動してしまうと、副走査方向にお
ける画像のサイズ誤差が生じてしまうのである。これに
対し、本発明においては、図１のマトリクスのＸ−Ｙ座
標で示されていた各画素の位置が、図２に示したよう
に、傾斜マトリクスのＸ’−Ｙ’座標に変換される。変
換後における殆どの画素の位置は、変換前よりも副走査
方向に微妙にシフトするが、画像全体としては主走査方
向にほぼ一直線となる。一方、偏向手段の主走査方向を
画像形成装置本体内に位置決めする位置決め機構は、該
主走査方向を副走査方向に直交する方向よりも大きく傾
けるような位置決めを行う。具体的には、図３に示すよ
うな位置決めである。図３において、方向ｙは副走査方
向を示し、図示しない潜像担持体の表面移動方向と同じ
である。また、方向ｘはこの副走査方向に直交する方向
である。また、方向ｘ’は、図示しない光走査装置の偏
向手段によって偏向せしめられる光ビームの潜像担持体
上での移動方向、即ち該光走査装置の主走査方向であ
る。従来の位置決め機構は、主走査方向を副走査方向た
る方向ｙに直交する方向ｘに沿わせるように位置決めす
るのが一般的であった。また、潜像担持体の表面移動を
考慮して、主走査方向を方向ｘよりも若干傾けるような
位置決めをすることも希にあったが、その傾斜角度θに
ついては、点Ｐｓと点Ｐｅとの方向ｙにおけるずれ量Ｍ
ｙを１画素分以下にする値にとどめていた。この点Ｐ
ｓ、Ｐｅとは、それぞれ方向ｘにおける走査開始点、走
査終了点である。副走査方向たる方向ｙにおける両点の
ずれ量Ｍｙを１画素分よりも大きくしてしまうと、潜像
担持体表面上での走査軌跡を逆方向に傾けてしまうから
である。具体的には、潜像担持体表面は、光走査装置に
よって点Ｐｓが光照射されてから点Ｐｅが光照射される
までの間に方向ｙに向けて移動する。このため、主走査
方向が方向ｘと同じであると、潜像担持体表面上での走
査軌跡（照射ライン）が方向ｘよりも図中右斜め上に傾
いてしまう。そこで、この傾きを考慮して、主走査方向
（ｘ’）を予め図中右斜め上に傾けるようにし、実際に
潜像担持体表面で得られる走査軌跡を方向ｙに直交させ
るように傾斜角度θを設けるわけである。しかし、点Ｐ
ｓと点Ｐｅとの方向ｙにおけるずれ量Ｍｙを１画素分よ
り大きくするような傾斜角度θに設定すると、今後は走
査軌跡を逆方向に傾けてしまう。このため、従来は、点
Ｐｓと点Ｐｅとの方向ｙにおけるずれ量Ｍｙを１画素分
以下にする値に、上記傾斜角度θをとどめていたのであ
る。しかしながら、本発明に係る位置決め機構は、ずれ
量を１画素よりも大きくする傾斜角度θで偏向手段の主
走査方向を位置決めする。このように主走査方向を位置
決めされた偏向手段が、上述のような座標変換後の画像
情報に基づいて駆動制御されるとする。すると、図４に
示すように、従来では主走査方向への１回の走査によっ
て得られていた１ライン画像が、複数回の走査によって
得られることになる。かかる構成では、従来では潜像担
持体の表面移動速度に完全に依存させていた副走査方向
の画素ピッチを、主走査方向における走査タイミングに
よっても依存させることが可能になる。そして、このこ
とにより、主走査方向における走査タイミングに基づい
て副走査方向の画素ピッチを微妙に調整して、偏向手段
の駆動数誤差に起因する画質低下を抑えることができ
る。なお、請求項５のプログラムについては、ＣＤ−Ｒ
ＯＭ等の記録媒体に記録された状態で配布したり、入手
したりすることができる。また、このプログラムの情報
信号を、所定の送信装置によって公衆電話回線、専用
線、無線通信手段、その他の通信網などを介して送信す
ることでも、配布や入手が可能である。この送信の際、
情報信号の伝送媒体中には、プログラムに係る情報信号
の少なくとも一部が伝送されていればよい。よって、プ
ログラムを構成するためのすべての情報信号が、一時に
伝送媒体上に存在している必要はない。また、請求項９
の画像形成装置における走査制御装置が、必ずしも請求
項１、２、３又は４の走査制御装置である必要はない。
請求項５のプログラムに基づいて座標変換された画像情
報を受け取れば、従来の光制御装置であっても副走査方
向の画素ピッチを微妙に調整することができるからであ
る。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した画像形成
装置の一実施形態として、電子写真方式のレーザプリン
タ（以下、単にプリンタという）について説明する。ま
ず、本プリンタの基本的な構成について説明する。図５
は、本プリンタの要部を示す概略構成図である。図にお
いて、プリンタ筐体内の略中央には、図示しない駆動手
段によって図中時計回りに回転せしめられる感光体ドラ
ム１が配設されている。潜像担持体たる感光体ドラム１
の周囲には、帯電チャージャ２、光走査ユニット３０
０、現像装置４、転写チャージャ５、ドラムクリーニン
グ装置６などが配設されている。回転駆動する感光体ド
ラム１の表面は、帯電チャージャ２によって一様帯電せ
しめられる。光走査ユニット３００は、図示しないパー
ソナルコンピュータ等から送られてくる画像情報に基づ
いて、光ビームＬを一様帯電後の感光体ドラム１表面に
走査する。この走査に基づく露光により、感光体ドラム
１表面には静電潜像が書き込まれる。書き込まれた静電
潜像は、ドラム表面の回転に伴って現像装置４との対向
位置を通過する際に、現像ローラ４ａからトナーが付着
せしめられてトナー像に現像される。現像装置４内にお
いて、現像ローラ４ａに供給するトナーを収容するトナ
ー収容部４ｃに対しては、トナーカートリッジ４ｂ内の
トナーが補給される。現像されたトナー像は、ドラム表
面の回転に伴って転写チャージャ５との対向位置である
転写位置に至る。

【０００９】上記現像装置４の図中下側には、給紙カセ
ット７が配設されている。この給紙カセット７は、内部
に転写紙Ｐを複数重ねた状態で収容しており、一番上の
転写紙Ｐに給紙ローラ７ａを当接させている。そして、
所定のタイミングで給紙ローラ７ａを回転駆動して、一
番上の転写紙Ｐを送り出す。送り出された転写紙Ｐは、
レジストローラ対８のローラ間ニップに挟まれる。レジ
ストローラ対８は、転写紙Ｐを、上記転写位置で感光体
ドラム１上のトナー像と重ね合わせ得るタイミングを見
計らって送り出す。上記転写位置には、上記転写チャー
ジャ５の影響によって転写電界が形成されている。転写
位置で転写紙Ｐに重ね合わされたトナー像は、この転写
電界の影響によってドラム表面から転写紙Ｐ表面に静電
的に転写される。

【００１０】このようにしてトナー像が転写せしめられ
た転写紙Ｐは、紙搬送装置８を経由した後に定着装置９
内に送られる。そして、加熱ローラ９ａと加圧ローラ９
ｂとによって形成された定着ニップに挟まれて、トナー
像の定着処理が施される。定着処理を終えた転写紙Ｐ
は、排紙ローラ対１１を経由して機外の排紙トレイ１０
上にストックされる。

【００１１】図６は上記光走査ユニット３００の光走査
装置に用いられる偏向モジュールを示す分解斜視図であ
る。この光走査装置は、振動ミラーの共振によってビー
ムを偏向せしめるものである。図６において、偏向手段
たる偏向モジュール１００は、振動ミラー１０１を有し
ている。この振動ミラー１０１は枠部１０２の内側に配
設されており、その素材には厚さ６０［μｍ］のシリコ
ンが用いられている。振動ミラー１０１の裏面には、図
中点線で示すようにリブが形成されている。このリブに
より、ミラー板部の厚みを５［μｍ］程度まで薄くして
軽量化が図られるとともに、その厚みでも十分な耐久性
が確保されるようになっている。振動ミラー１０１の少
なくともおもて面には、金（Ａｕ）等の導電性金属被膜
が蒸着されている。また、長方形状の振動ミラー１０１
における４つの側面のうち、互いに対向する２つの側面
には、ねじり梁１０１ａが形成されている。ねじり梁１
０１ａが枠部１０２に回転自在に支持されることによ
り、振動ミラー１０１の図中矢印Ａ方向の振動が可能に
なっている。長方形状の振動ミラー１０１における４つ
の端部のうち、ねじり梁１０１ａが形成されていない２
つの端部には、櫛歯状の凹凸が形成されている。この凹
凸の少なくとも側面や、上記ねじり梁１０１ａの少なく
とも上面にも導電性金属被膜が蒸着されており、前者は
後者からミラーおもて面を介して電圧が供給される側面
電極として機能するようになっている。

【００１２】一方、上記枠部１０２の内周面にも櫛歯状
の凹凸を形成する部分があり、振動ミラー１０１の上記
凹凸と噛み合うようになっている。この枠部１０２の凹
凸も導電性材料で形成され、固定電極部１０２ａとして
機能するようになっている。固定電極部１０２ａと、振
動ミラー１０１の上記側面電極との電位差で生ずる静電
力によって振動ミラー１０１を矢印Ａ方向に微小回転角
で振動せしめるように、各電極に電圧が印加される。こ
れにより、振動ミラー１０１が微小回転各で往復振動す
る。電圧の周波数が振動ミラー１０１の共振周波数に近
づくと、励振によるミラー振幅が拡大する。図示の例で
は、電極間（上記側面電極〜固定電極部間）のギャッ
プ、上記ねじり梁１０１ａの幅、ミラー径が、それぞれ
４μｍ、６０μｍ、４×２ｍｍに設定され、振動ミラー
１０１が２．５ｋＨｚで共振振動する。なお、各電極を
櫛歯状としているのは、各電極の表面積をできるだけ多
く確保するためで、低電圧でより大きい静電トルクを得
るように配慮している。

【００１３】上記枠部１０２の上面には、厚み５２５μ
ｍのシリコン素材が用いられたフレーム基板１０３が固
定されている。このフレーム基板１０３は、図示しない
絶縁膜を介して枠部１０２に接合されており、その中央
部に大きく見開かれた貫通開口から、振動ミラー１０１
を覗かせるようになっている。フレーム基板１０３に
は、振動ミラー１０１のねじり梁１０１ａ上面や、枠部
１０２の固定電極部１０２ａに電源を導くための複数の
引き出し配線１０３ａがパターン形成されている。

【００１４】上記フレーム基板１０３の図中上側には、
厚み５２５μｍのシリコン素材が用いられた対向ミラー
基板１０４が固定される。この対向ミラー基板１０４に
はスリット状の細長い貫通開口１０４ａが形成されてい
る。対向ミラー基板１０４は、この貫通開口１０４ａの
長手方向を、振動ミラー１０１に対向させるように位置
合わせしてフレーム基板１０３に固定される。対向ミラ
ー基板１０４には、フレーム基板１０３の上記引き出し
配線１０３ａに接触せしめられる複数の電極パッド１０
４ｂが形成されている。また、基板裏面には、接合面か
ら約２６［°］傾いた反射面Ｓ１を有する第１ミラーチ
ップ１０４ｃ、約９［°］傾けた反射面Ｓ２を有する第
２ミラーチップ１０４ｄが、上記貫通開口１０４ｂを互
いに挟むように固定されている。これらミラーチップの
反射面Ｓ１、Ｓ２は、それぞれエッチング処理によって
スライス角度を結晶面方位から２６、９［°］傾けるよ
うに形成されたシリコン基板面上に、金属被膜が蒸着さ
れたものである。

【００１５】上記枠部１０２の下面には、支持基体１０
５が固定されている。この支持基体１０５は、矩形状の
底板部１０５ａと、これの上側に位置する台座部１０５
ｂとが鉄（Ｆｅ）等の焼結金属によって一体形成された
ものである。台座部１０５ｂには振動する振動ミラー１
０１の端部を受け入れるための四角状の凹部１０５ｃか
形成されている。

【００１６】上記支持基体１０５の四隅付近には、それ
ぞれ導電性材料で形成された円柱状端子１０６が支持基
体１０５を貫通するように固定されている。但し、支持
基体１０５と各円柱状端子１０６との間には図示しない
絶縁材が介在しているため、両者は導通しないようにな
っている。各円柱状端子１０６は、それぞれ一端側がワ
イヤーボンディングによって上記対向ミラー基板１０４
の電極パッド１０４ｂに接合されている。この接合によ
り、円柱状端子１０６→電極パッド１０４ｂ→引き出し
配線１０３ａという経路を経て、上記側面電極や固定電
極部１０２ａに電圧が印加される。

【００１７】支持基体１０５やこれの上側に位置する各
部材は、各円柱状端子１０６の下端が図示しない電子回
路基板のスルーホールに挿入せしめられて半田付けによ
る電気接続が行われることで、この電子回路基板上に固
定実装される。

【００１８】このように固定実装された各部材には、上
面に透明窓１０７ａを有する箱蓋状のカバー１０７が上
側から被せられる。なお、カバー１０７内に粘性抵抗の
低い不活性ガスを封入するか、あるいはカバー１０７内
を減圧状態にすると、より低負荷で振動ミラー１０１を
振動せしめることが可能になる。

【００１９】図７は上記偏向モジュール１００の断面図
である。図示しない光源から偏向モジュール１００に向
けて発せられた光ビームＬは、上記透明窓１０７ａの面
方向と直交する方向から約２０［°］傾いた入射角度で
偏向モジュール１００に入射せしめられる。そして、上
記透明窓１０７ａと上記貫通開口１０４ａとを通過して
振動ミラー１０１に至り、この表面で反射して反射光と
なる。更に、上記ミラーチップの反射面（Ｓ１やＳ２）
で反射した後、再び振動ミラー１０１に反射するという
多重反射を繰り返しながら、上記貫通開口１０４ａの僅
かなスリットを通り抜けてモジュール外に射出される。
このような多重反射により、偏向モジュール１００から
射出される光の方向は、入射光からこれよりも約４０
［°］傾いた範囲内を順次往復移動するように変化す
る。そして、この変化によって光ビームの主走査がなさ
れる。なお、図示の例では、上述のように入射光を多重
反射させることで、振動ミラー１０１の振れ角を比較的
小さくしても、大きな走査角を得ることができる。例え
ば、光ビームの振動ミラー１０１による総反射回数を
Ｎ、振れ角をαで表すと、走査角θは２Ｎαとなる。図
示の例では、±５［°］の振れ角αで走査角５０［°］
を実現している。

【００２０】図８は、上記光走査ユニット３００の要部
を示す斜視図である。この光走査ユニット３００は、３
つの光走査装置２００が一つにユニット化された構成と
なっている。各光走査装置２００は、それぞれ、上記偏
向モジュール１００、半導体レーザ１１０、第１レンズ
１１１、第２レンズ１１２などを有している。また、基
準位置反射ミラー１１３、走査ビーム検知手段たる基準
角検知センサ１１４、フレキシブルケーブル１１５、カ
ップリングレンズ１１６なども有している。半導体レー
ザ１１０は、発光源とモニタ用フォトダイオードとがパ
ッケージングされた汎用の素子であり、そのリード端子
はフレキシブルケーブル１１５によって電子回路基板３
０１に結線されている。電子回路基板３０１には、半導
体レーザ１１０の変調制御回路や、偏向モジュール１０
０の各電極に供給する駆動パルス電圧の制御を行う回路
などを備える走査制御部が形成されている。半導体レー
ザ１１０から発せられた光ビームＬは、軸対称の非球面
である第１面と、垂直走査方向に曲率を発揮するシリン
ダ面である第２面とを有するカップリングレンズ１１６
によって集束せしめられる。このとき、進行方向と直交
する方向には略平行に、進行方向には振動ミラー１０１
面が焦点となるように収束せしめられる。そして、上述
のような多重反射を繰り返しながら、偏向モジュール１
００から射出される。射出された光ビームＬは、上記感
光体ドラム（図示せず）を露光して静電潜像の光書込を
行う。偏向モジュール１００による光ビームＬの偏向方
向が図中最も左側の位置になると、モジュールからの光
ビームは第１レンズ１１１を通過した後に、第２レンズ
１１２ではなくその左下に位置する同期ミラー１１３に
至る。そして、ここで反射して基準角検知センサ１１４
に検知される。上記走査制御部は、この基準角検知セン
サ１１４による検知タイミングや検知周期に基づいて、
上記振動ミラー１０１の振動周期（走査周波数）や振動
角変位などを演算する。そして、偏向モジュール間でタ
イミングを合わせるための同期信号を構築する。各光走
査装置２００の偏向モジュール１００は、１つの電子回
路基板３０１に固定されている。各偏向モジュール１０
０は、図示しない感光体ドラムの表面移動方向で且つ副
走査方向でもある方向ｙに直交する方向ｘに沿って互い
に並ぶように、電子回路基板３０１上に並行配設されて
いる。

【００２１】従来より、複数の光走査装置をこのように
配設した画像形成装置は公知となっている。例えば、特
開平３−１６１７７８号、特開平９−５６５５号、特開
平１０−１９７８１２号公報に記載のものである。かか
る画像形成装置によれば、次に説明する理由により、装
置の大型化を抑えながら、主走査方向の走査領域を増大
させることができる。即ち、例えばＡ３サイズ用紙の横
幅に対応させるなど、主走査方向の走査領域を幅広く確
保しようとすると、走査レンズの焦点距離をその幅に合
わせて増大させる必要がある。また、ポリゴンミラーや
振動ミラーの幅も増大させる必要がある。更には、この
ような幅広のミラーを駆動させるための駆動手段も、そ
れに見合ったトルクを発揮する大型のものを用いる必要
がある。走査レンズ、ミラー及び駆動手段として、それ
ぞれ大型のものを用いなければならないのである。この
結果、画像形成装置本体内における光走査装置のレイア
ウト自由度を大きく制約して、装置の大型化に迫られる
のである。そこで、複数の光走査装置を副走査方向
（ｙ）に直交する方向（ｘ）に並行配設するのである。
かかる構成によれば、１つの画像情報をそのＸ座標軸方
向（方向ｘに相当）に複数に分割することで、主走査領
域を複数に分割する。そして、個々の主走査領域をそれ
ぞれ専用の光走査装置によって走査させることで、光走
査装置として比較的小型なものを用いることが可能にな
る。よって、１つの大型の光走査装置を用いる場合に比
べ、画像形成装置本体の大型化を抑えながら、光走査ユ
ニット全体としての主走査方向の走査領域を増大させる
ことができるのである。本実施形態に係るプリンタにお
いても、かかる走査領域の増大化を図る目的で、３つの
光走査装置２００を有する光走査ユニット３００を設け
ている。

【００２２】ところで、上記偏向モジュール１００にお
いては、振動ミラー１０１の重量誤差、寸法誤差、各導
通路の抵抗誤差などに起因して、振動ミラー１０１の単
位時間あたりにおける振動数にどうしても誤差を生じて
しまう。振動ミラー１０１の振動数誤差は、そのまま、
偏向モジュールの単位時間あたりにおける走査回数（走
査周波数）の誤差となって現れる。そして、これによ
り、画像の副走査方向におけるサイズ誤差が生じてしま
う。また、本実施形態では、偏向手段として、振動ミラ
ー１０１を振動させる偏向モジュール１００を用いてい
るが、回転するポリゴンミラーを用いるものでも、ポリ
ゴン回転数の誤差によって同様のサイズ誤差が生じてし
まう。振動数誤差や回転数誤差などの駆動数誤差に応じ
て、主走査方向への走査を所定の周期で補完又は省略さ
せる方法を採用すれば、かかるサイズ誤差を抑えること
ができる。しかしながら、かかる方法では、本来存在し
ないラインを書き加えたり、存在していたラインを省略
したりするため、オリジナル画像を忠実に再現すること
ができず、画質低下が避けられないことは、上述した通
りである。

【００２３】この画質低下は、光走査装置を１つだけ備
える画像形成装置において生ずるものであるが、本プリ
ンタのように複数の光走査装置を配設した画像形成装置
では、より深刻な画質低下が生ずる。具体的には、方向
ｘ（副走査方向に直交する方向）に複数に分割した分割
画像間での繋ぎ目が不自然になるのである。

【００２４】図９は、従来の画像形成装置において、３
つの光走査装置の走査によって感光体ドラム上に描かれ
る走査軌跡を示す模式図である。図示しない３つの光走
査装置は、それぞれ感光体ドラム上の領域ｘ１、ｘ２、
ｘ３の走査を担当している。これら光走査装置のうち、
どれか１つでも走査周波数の著しく異なるものがある
と、それぞれの光走査装置による走査軌跡が１ライン上
に繋がらなくなる。図９では、領域ｘ２の走査を担当す
る光走査装置の走査周波数が、他の光走査装置の走査周
波数よりも著しく低い例を示している。それぞれの走査
軌跡が１ライン状に繋がらなければ、当然ながら分割画
像間での繋ぎ目が不自然になって画質を著しく低下させ
てしまう。なお、感光体ドラム１表面は走査中にも移動
するため、その表面上での走査軌跡は厳密には方向ｘか
ら僅かに傾く。図９では、この僅かな傾きを無視して走
査軌跡を描いている。

【００２５】本実施形態では、偏向手段として振動ミラ
ー方式の偏向モジュール１００を設けた例について説明
したが、他の方式によるものでもよい。例えばポリゴン
ミラー方式の偏向手段でもよい。振動ミラー方式の偏向
手段では主走査方向での往復走査となるが、ポリゴンミ
ラー方式では片道走査となる。但し、振動ミラー方式で
も、振動ミラーの片方向への振動だけを走査に利用する
ようにすれば、片道走査が可能である。

【００２６】また、画像情報たるビットマップ画像デー
タをＸ軸方向に３分割する例について説明したが、分割
数と光走査装置の数とを同じにすれば、何分割であって
もよい。

【００２７】次に、本プリンタの特徴的な構成について
説明する。先に示した図８において、電子回路基板３０
１の４隅付近には、それぞれ丸穴３０１ａが設けられて
いる。一方、図示しないプリンタ本体には、基板支持金
具４００が固定されている。この基板支持金具４００
は、４つの上記丸穴３０１ａにそれぞれ対応する４つの
丸穴４００ａを有しており、これらにはその内面に雌ネ
ジが着られている。電子回路基板３０１の４つの丸穴３
０１ａには、それぞれボルト４０１が挿入される。挿入
された４つのボルト４０１は、それぞれ基板支持金具４
００の４つの丸穴４００ａに螺合せしめられる。この螺
合により、電子回路基板３０１がプリンタ本体内に固定
されるとともに、３つの偏向モジュール１００がそれぞ
れ位置決めされる。偏向モジュール１００が位置決めさ
れると、当然ながらその主走査方向も位置決めされる。
よって、本実施形態のプリンタでは、４つの丸穴３０１
ａ、基板支持金具４００、４つのボルト４０１によって
位置決め機構が構成されていることになる。

【００２８】この位置決め機構は、３つの偏向モジュー
ル１００の主走査方向をそれぞれ次に説明するように位
置決めする。即ち、それぞれの主走査方向ｘ’を、副走
査方向たる方向ｙに直交する方向ｘよりも傾ける位置決
めである。より詳しくは、単に傾けるだけではなく、先
に図３に示したように、走査開始点Ｐａと走査終了点Ｐ
ｂとの方向ｙにおけるずれ量が１画素分よりも大きくな
るように、その傾斜角度θを十分に大きくする位置決め
である。傾斜角度θについては、上記走査開始点Ｐａと
上記走査終了点Ｐｂとの方向ｙにおけるずれ量が１画素
分よりも大きくなれば何°でもよい。

【００２９】図１０は、画像情報たるビットマップ画像
データのマトリクスを示す模式図である。図において、
マトリクスのＹ軸方向は光書込の副走査方向である方向
ｙに相当し、Ｘ軸方向は方向ｙに直交する方向ｘに相当
する。図１０では、方向ｘに真っ直ぐに延びるライン像
が、方向ｙに３本並列配設される画像の例を示してい
る。画像を構成する各画素の相対位置は、複数の仮想直
線を格子状に直交させたマトリクス内の座標によって示
されている。なお、実機においては、上記Ｘ軸方向に数
千の画素が並ぶビットマップ画像データとなるが、図１
０においては便宜上、上記Ｘ軸方向の画素配列数を約５
０として描いている。

【００３０】本プリンタのようにそれぞれ方向ｘにおけ
る走査領域の異なる３つの光走査装置によって光書込を
行う画像形成装置においては、まず、ビットマップ画像
データをそのＸ軸方向に３分割して３つの分割マトリク
スを構築する。例えば、図１０に示したビットマップ画
像データであれば、図１１に示すような３つの分割マト
リクスが構築される。各分割マトリクスのマス目サイズ
は、あくまでも理論上の大きさである。３つの光走査装
置（偏向手段）の走査周波数がどれも設計基準通りであ
れば、それぞれのマス目サイズは理論上の大きさと同じ
になる。しかしながら、設計基準から著しく外れる走査
周波数の光走査装置（偏向手段）が存在すると、これに
対応する分割マトリクスの実際のマス目サイズは上記Ｙ
軸方向に伸縮する。例えば、図９に示した例では、真ん
中の領域ｘ２に対応する分割マトリクスにおいて、その
実際のマス目サイズが理論上のサイズよりもＹ軸方向に
大きく伸びる。但し、マス目内のドットの大きさは変わ
らず、ドットはそのマス目の中心に形成される。このた
め、従来の画像形成装置では、図１２に示すように各ド
ットが形成され、各分割位置でライン像が繋がらなくな
ってしまう。

【００３１】そこで、本プリンタの上記走査制御部は、
３つの光走査装置（２００）のそれぞれについて、上記
基準角検知センサ１１４による光の検知周期に基づいて
走査周波数を演算する。そして、予め記憶部に記憶して
おいた複数種類の傾斜マトリクスのうち、それぞれの走
査周波数に応じたマス目サイズの傾斜マトリクスを特定
する。この傾斜マトリクスとは、正規のマトリクスから
上記傾斜角度θだけ傾いた座標軸構成となっているマト
リクスである。当然ながら、走査周波数が低くなるほ
ど、マス丈（Ｙ軸方向の長さ）の大きな傾斜マトリクス
が特定される。例えば、図１１に示した３つの分割マト
リクスでは、図１３に示すような３つの傾斜マトリクス
が特定される。これら３つの傾斜マトリクスのうち、真
ん中の傾斜マトリクスは他のものよりもマス丈が大きく
なっている。

【００３２】図１４は、本プリンタにおいて、３つの偏
向モジュール（１００）の偏向に基づく走査によって感
光体ドラム上に描かれる走査軌跡を示す模式図である。
先に図９に示した例と同様に真ん中の領域ｘ２における
走査周波数が他の領域よりも著しく低くなっている。但
し、それぞれの走査軌跡は、領域にかかわらず傾斜角度
θだけ傾いて描かれる。この傾斜角度θと、先に図８に
示した偏向モジュール１００の傾斜角度θとはほぼ同じ
値である。厳密には、一走査時間内における感光体ドラ
ム１の表面移動分だけ前者の傾斜角度θが後者の傾斜角
度θから僅かにずれるが、画質上無視できる程度のずれ
である。後者の傾斜角度θは、主走査方向ｘ’への走査
を５画素分だけ進ませる毎に、副走査方向ｙへの移動量
を１画素分とする角度である。

【００３３】図１４の模式図と、先に図１３に示した傾
斜マトリクスとを重ね合わせると、図１５に示すよう
に、各走査軌跡の位置と、それぞれに対応するマス目中
心とがピタリと一致することがわかる。傾斜マトリクス
のマス目の中心は、それに対応する走査軌跡上に位置し
ているのである。

【００３４】上記走査制御部は、３つの上記分割マトリ
クスと、３つの上記傾斜マトリクスとに基づいて、次に
説明するような処理を行う。即ち、図１６に示すよう
に、分割マトリクス内の各ドットの座標を、対応する傾
斜マトリクスの座標（以下、傾斜座標という）に変換す
る。このとき、分割マトリクス内のドットの座標に最も
近い傾斜座標が選ばれる。このように座標変換されたデ
ータに基づいて、各光走査装置（２００）による光書込
が行われる。先に図８に示したように、各偏向モジュー
ル１００（光走査装置）は、その主走査方向（ｘ’）を
副走査方向（ｙ）から傾斜角度θだけ傾けるように位置
決めされた状態で光ビームＬを走査して、感光体ドラム
（１）に対して光書込を行う。このような光書込におい
ては、方向ｙ（副走査方向）の画素ピッチを、方向ｘ’
（主走査方向）における走査タイミングに依存させるこ
とができる。そして、図１７に示すように、方向ｘに延
びる仮想直線上を基線にして各ドットを方向ｙにジグザ
グにまとわりつかせるように形成することができる。各
領域（ｘ１、ｘ２、ｘ３）の分割ライン像については、
拡大すればジグザグな線として形成することになるが、
全体的にはそれぞれ方向ｘに一直線上に繋げることがで
きる。よって、方向ｘにおける分割画像間で繋ぎ目が不
自然になることによる画質の著しい低下を抑えることが
できる。なお、実際の画像においてジグザグの振幅は数
十［μｍ］であり目視で識別できない程度である。実質
上、無視できる程度のジグザグなのである。

【００３５】３つの偏向モジュール１００のそれぞれに
ついては、走査周波数（振動ミラー１０１の振動周波
数）を予め測定しておき、それに見合ったマス丈の傾斜
マトリクスだけを上記走査制御部に記憶させてもよい。
このようにすれば、上記基準角検知センサ１１４による
検知結果（同期信号）に基づいてそれぞれの走査周波数
を演算させ、演算結果に応じたマス丈の傾斜マトリクス
を特定させるといった複雑な処理を省略することができ
る。但し、各偏向モジュール１００の走査周波数は、温
湿度等の環境変化や装置の劣化進行などによって経時的
に変化するので、かかる構成ではこの変化に対応させる
ことができない。

【００３６】また、上記分割マトリクスから傾斜マトリ
クスへの座標変換については、必ずしも上記走査制御部
に実施させる必要はない。本プリンタに画像情報を送る
コンピュータが、本プリンタを駆動制御するためのドラ
イバ（プログラム）として、上述のような座標変換をし
てからデータを送信するものであれば、同様の光書込が
可能だからである。

【００３７】ところで、上記偏向モジュール１００にお
いて、方向ｘへの一走査周期内における走査速度は、上
記振動ミラー１０１の振動角度に応じて変化する。具体
的には、一走査周期内における上記振動ミラー１０１の
振動角度は、図１８に示すように正弦波状に変化する。
このため、各偏向モジュール（光走査装置）の一走査周
期内における走査速度は、走査領域（ｘ１、ｘ２又はｘ
３）内の両端付近よりも中央部の方が速くなる。このよ
うに走査速度が変化するにもかかわらず、各画素に対応
するレーザ駆動周期を等間隔に設定すると、各ドッドを
方向ｘ’（主走査方向）に等間隔に形成させることがで
きなくなる。走査領域内の両端付近よりも中央部でドッ
ト間隔を大きくしてしまうからである。そこで、本プリ
ンタにおいては、図１８に示したように、一走査周期内
において、上記振動角度（走査速度の変動）に応じてレ
ーザ駆動周期を変化させるようにしている。具体的に
は、上記同期信号に基づいて、レーザ駆動信号としての
書込パルス信号の発生間隔を調整することで、レーザ駆
動周期を変化させる。そして、これにより、走査領域内
の両端付近よりも中央部のレーザ駆動周期を速めるよう
にしている。かかる構成では、上記光走査装置２００の
走査速度が一走査周期内で変化しているにもかかわら
ず、方向ｘ’（ひいては方向ｘ）においてドットを等間
隔に形成することができる。

【００３８】図１９は上記走査制御部のブロック図であ
る。図において、走査制御部５００は、Ａ、Ｂ、Ｃとい
う３つの系統毎に、バッファメモリ、書込制御部、分周
器、印字パルス生成部、移動制御部及びレーザ駆動部を
有している。これら３つの系統は、３つの上記光走査装
置にそれぞれ個別に対応している。また、系統分けされ
ない単独の回路として、ラスタデータ変換部、マルチプ
レクサ、基準クロック生成部、偏向用分周器、駆動パル
ス生成部、振幅制御部などを有している。

【００３９】基準クロック生成部によって生成された基
準パルス信号は、偏向用分周器で分周されて駆動パルス
生成部に入力される。駆動パルス生成部は、偏向用分周
器から送られてくる信号に基づいて、ミラー振動数設計
基準に応じた周波数ｆのパルスを生成し、振幅制御部に
送る。振幅制御部は、送られてくる周波数ｆのパルスに
基づいて、駆動パルスを送って各偏向モジュール１００
の振動ミラー（１０１）をそれぞれ共振振動させる。し
かし、上述したように、各光走査装置において、振動ミ
ラーの共振周波数である走査周波数ｆｄは設計基準通り
のｆから若干の誤差が生じてしまう。各光走査装置にお
ける実際の走査周波数ｆｄは、それぞれ基準角検知セン
サ１１４から発信される同期信号に基づいて、書込制御
部Ａ、Ｂ、Ｃによって演算される。そして、それぞれの
演算結果がラスタデータ変換部に送られる。このラスタ
データ変換部は、各光走査装置について、それぞれ走査
線の傾き誤差に応じた傾斜マトリクスデータや、上記方
向ｘ、方向ｙにおける位置ズレデータを予め記憶してい
る。そして、図示しないパーソナルコンピュータ等から
ビットマップ画像データが送られてくると、これに基づ
いて３つの分割マトリクスを構築し、それぞれ専用の傾
斜マトリクスとの比較によって座標変換を行う。このと
き、それぞれの分割マトリクスについて、書込制御部
Ａ、Ｂ、Ｃから送られてきた走査周波数データに応じた
マス丈の傾斜マトリクスを用いる。また、方向ｘや方向
ｙにおける位置ズレデータに基づいて、分割マトリクス
と傾斜マトリクスとの比較基準位置をずらす。そして、
３つの分割マトリクスについて個別に得た座標変換デー
タを、それぞれマルチプレクサを介してバッファメモリ
Ａ、Ｂ、Ｃに送る。

【００４０】なお、バッファメモリからレーザ駆動部に
至るまでの信号の流れは、Ａ、Ｂ、Ｃの系統でそれぞれ
同様であるので、ここではＡ系統についてのみ説明す
る。書込制御部Ａは、基準角検知センサ１１４から送ら
れてくる同期信号に基づいてバッファメモリＡ内のデー
タを読み出し、画素位置データとして印字パルス生成部
Ａに送る。印字パルス生成部Ａは、分周器Ａから送られ
てくる基準パルス信号に対し、上記画素位置データに基
づくフィルター処理を施して、書込タイミングに応じて
パルスＯＮとなる印字パルス信号を生成する。但し、こ
の印字パルス信号は、等間隔でパルスＯＮとなる基準パ
ルス信号に基づいて生成されたものであり、そのまま利
用されると、振動ミラーの振動角に応じた走査速度変化
に起因してドット形成ピッチに誤差が生じてしまう。そ
こで、移動制御部Ａは、基準角検知センサ１１４から送
られてくる同期信号に基づいて、ドットピッチを等しく
するように印字パルス信号内の各パルスに位相処理を施
す。このようにして位相処理が施された印字パルス信号
は、レーザ駆動部Ａに送られて、半導体レーザ１１０を
駆動させる。

【００４１】次に、上記実施形態のプリンタに、より特
徴的な構成を付加した各実施例のプリンタについて説明
する。 ［実施例１］上記位置決め機構は、先に図８に示したよ
うに、３つの偏向モジュール１００を方向ｘから傾斜角
θだけ傾けるように位置決めする。しかしながら、基板
支持金具４００の装置本体への取付位置や丸穴３０１
ａ、４００ａの加工位置には、どうしても誤差が生じて
しまう。また、この誤差を考慮して、丸穴３０１ａをボ
ルト４０１の径よりも大きく加工して、ある程度のクリ
アランスを設けるのが一般的である。これらの結果、光
走査ユニット３００（電子回路基板３０１）の手作業に
よる組付時に、微妙な位置決め誤差を生ずる場合があ
る。かかる位置決め誤差が生ずると、３つの上記光走査
装置２００間で主走査方向（方向ｘ’）における走査線
が微妙にずれて、上記方向ｙにおける微妙な画像ズレと
なってしまう。例えば、図２０は位置決め誤差が生じて
いない場合における各光走査装置２００の主走査方向の
走査線を示す模式図である。仮に、図中の点Ｐｘを中心
にして走査線Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３を全体的に図中時計回り
に２［°］だけ回転させるような位置決め誤差が生じた
とする。すると、図２１に示すように、走査線Ｌ１、Ｌ
２、Ｌ３の方向ｘからの傾きがそれぞれ異なってしま
う。更に、上記方向ｙ（副走査方向）における位置もそ
れぞれ異なってしまう。それにもかかわらず、上述の座
標変換時に、図中点線で示した正規姿勢の走査線に基づ
く座標変換がなされると、変換後の上記傾斜座標に基づ
くドット形成位置が本来の位置からずれてしまう。そし
て、このズレにより、上記方向ｙにおける微妙な画像ズ
レが生ずるのである。

【００４２】また、上記電子回路基板３０１上における
各偏向モジュール１００の実装位置にも、僅かながらの
誤差を生ずる場合がある。基本的には、各偏向モジュー
ル１００は、上記電子回路基板３０１に対して精密に機
械加工されたスルーホールに上記円柱状端子１０６が挿
入せしめられることで基板上での位置決めがなされるた
め、実装位置の誤差は殆ど生じない。しかしながら、何
らかの突発的な要因によって誤差が生ずる場合もあり得
る。かかる実装位置の誤差が生ずると、上記走査線Ｌ
１、Ｌ２、Ｌ３間で上記方向ｙ（副走査方向）や方向ｘ
における位置ズレが生じたり、傾き誤差が生じたりす
る。そして、同様にして上記方向ｙにおける微妙な画像
ズレが生ずる。また、上記方向ｘにおける位置ズレがあ
った場合には、各走査線が上記方向ｘに繋がらずに上記
方向ｙに延びる空白ラインが形成される。この一方で、
走査線が上記方向ｘにおいて過剰にオーバーラップして
上記方向ｙに延びる高濃度ラインも形成される。そこ
で、本実施例１のプリンタにおいては、上述の座標変換
時に特殊な処理を実施させるように上記走査制御部を構
成している。

【００４３】以下、この特殊な処理について説明する。
本プリンタにおいては、上記光走査ユニット３００（電
子回路基板３０１）を装置本体（基板支持金具４００）
に組み付けた後に、各走査線Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３の傾きズ
レや位置ズレを測定している。即ち、３つの偏向モジュ
ール１００について、それぞれ位置決め誤差や傾き誤差
を測定するのである。そして、それぞれの光走査装置２
００について、測定した傾きズレに応じた傾斜角度の傾
斜マトリクスを上記走査制御部の記憶部に予め記憶させ
ている。具体的には、例えば先に図２１に示したような
傾き誤差が生じている場合には、本来の傾斜角度θの傾
斜マトリクスを記憶させるのではなく、傾斜角θ１、θ
２、θ３の傾斜マトリクスを記憶させるのである。そし
て、それぞれを対応する光走査装置２００のために使用
させる。また、位置ズレが生じている場合には、上記分
割マトリクスと上記傾斜マトリクスとの相対位置をずら
して座標変換させる。具体的には、例えば図２２に示す
ように、真ん中の走査線Ｌ２が正規位置よりも副走査方
向（方向ｙ）にずれていたとする。すると、図示のよう
に走査線Ｌ２によるドット形成位置が正規位置よりも副
走査方向（方向ｙ）にずれてしまう。そこで、図２３
（ａ）に示すように正規の相対位置に基づいた両マトリ
クスの照合によって座標変換させるのではなく、図２３
（ｂ）に示すように両マトリクスの相対位置を副走査方
向（方向ｙ）にずらして座標変換させる。このようにす
れば、ドット形成位置の副走査方向（方向ｙ）へのずれ
を解消することができる。また例えば、図２４に示すよ
うに、真ん中の走査線Ｌ２が正規位置から方向ｘにずれ
ていたとする。すると、図示のように走査線Ｌ２による
ドット形成位置が正規位置よりも副走査方向（方向ｙ）
にずれてしまう。また、走査線Ｌ１の図中右端部と走査
線Ｌ２の図中左端部とが副走査方向（方向ｙ）でオーバ
ーラップする一方で、走査線Ｌ２と走査線Ｌ３との間に
走査されない空白領域が形成されてしまう。そこで、図
２５（ａ）に示すように正規の相対位置に基づいた両マ
トリクスの照合によって座標変換させるのではなく、図
２５（ｂ）に示すように両マトリクスの相対位置を方向
ｘにずらして座標変換させる。更に、走査線Ｌ２の方向
ｘの位置ずれ量に応じて、真ん中の光走査装置（２０
０）による主走査開始タイミング及び主走査終了タイミ
ングをずらす。図示の例では、オーバーラップ領域にド
ット形成を形成させず、且つ空白領域にドットを形成さ
せるように、主走査開始タイミング及び主走査終了タイ
ミングをそれぞれ同じ量だけ遅らせる。このようにすれ
ば、ドット形成位置の副走査方向（方向ｙ）へのずれ
や、上述のような高濃度ラインや空白ラインの形成を解
消することができる。

【００４４】なお、望ましくは、様々な傾斜角度の傾斜
マトリクスを記憶させておく一方で、個々の走査線又は
光走査装置の傾きを検知する傾き検知手段を設け、検知
結果に応じた傾斜マトリクスを選択させるようにすると
よい。傾きズレによる画質低下を自動で解消しすること
ができるからである。更に望ましくは、走査線又は光走
査装置の位置を検知する位置検知手段を設け、検知結果
に応じた相対位置で上記分割マトリクスと傾斜マトリク
スとを比較して座標変換させるようにするとよい。位置
ズレによる画質低下を自動で解消することができるから
である。そして、この結果、光走査ユニット（３００）
の組付の際に、高精度の位置決めをする必要がなくな
り、生産効率を向上させることができる。

【００４５】先に図１７に示したように、上記実施形態
や本実施例１のプリンタにおいては、各領域（ｘ１、ｘ
２、ｘ３）の分割ライン像を全体的に方向ｘに一直線上
に繋げることができる。但し、厳密には、走査中に感光
体ドラム表面が方向Ｙに移動するため、その直線は方向
Ｘから微妙に傾く。この傾きは、実質上無視できる程度
のものであるが、次のようにすれば、この微妙な傾きを
解消することができる。即ち、まず、振動ミラー（１０
１）の片方向の振動のみを走査に利用して往復走査では
なく片道走査とするように、半導体レーザ（１１０）の
駆動タイミングを調整する。そして、偏向モジュール１
００（走査線）の傾きずれだけでなく、ドラム表面移動
に起因する走査軌跡の微妙な傾きをも反映させた傾斜角
度の傾斜マトリクスを記憶させればよい。例えば、傾き
ずれだけを反映させた傾斜マトリクスの傾斜角度がθａ
であり、且つドラム表面移動に起因するライン像の微妙
な傾き角度がθｂである場合には、次の数１の式によっ
て求められる傾斜角度θｃの傾斜マトリクスを記憶させ
る。

【数１】θｃ＝θａ−θｂ

【００４６】但し、実施形態や実施例１のプリンタとは
逆に、走査開始位置から上記方向ｘに延びる仮想線を基
線にしてドラム表面移動方向上流側に走査線を傾ける場
合には、傾斜角度θｃは次式のようになる。

【数２】θｃ＝θａ＋θｂ

【００４７】上記θｂについては、次の数３で示される
式によって求めることができる。

【数３】θｂ＝ｓｉｎ−１（ｎ・ｐ／ｋ・Ｌ）、 この式において、Ｌは方向ｘにおける全走査幅である。
また、ｎは上記マトリクスの分割数（光走査装置の数）
であり、本実施例では３となる。また、ｐは方向ｘにお
ける画素ピッチである。また、ｋは偏向方式係数であ
り、本実施例１のように振動ミラーによる往復走査の片
側走査だけを用いる場合には２となり、ポリゴンミラー
などもともと片道走査しかできないものを用いる場合に
は１となる。

【００４８】［実施例２］オリジナルのビットマップ画
像データの画素ピッチは、図２６に示すように、Ｙ軸、
Ｘ軸の両方向において同じ値のピッチｐとなっている
（以下、これをオリジナルピッチｐという）。複数の光
走査装置を並行配設した従来の画像形成装置において
は、副走査方向（方向ｙ）における画素ピッチをこのオ
リジナルピッチｐと等しくすべく、各光走査装置の走査
周波数を次の数４の式で求められる基準周波数ｆに設定
していた。

【数４】基準周波数ｆ＝感光体ドラム表面移動速度Ｖ／
副走査方向における画素ピッチｐ

【００４９】このように設定することで、ドラム表面移
動に伴う一走査あたりのピッチ（従来では副走査方向ピ
ッチに相当）をオリジナルピッチと等しくすることがで
きる。一方、本発明に係るプリンタにおいて、副走査方
向（方向ｙ）、これに直交する上記方向ｘでオリジナル
ピッチｐを得ようとしたとする。図２７に示すように、
傾斜マトリクスのピッチＰｓ（ドラム表面移動に伴う一
走査あたりのピッチ）、主走査方向（方向ｘ’）のピッ
チＰｍで、分割マトリクスのオリジナルピッチｐを得よ
うとするのである。すると、ピッチＰｓ、Ｐｍをそれぞ
れ次の数５、数６の式で示される値に設定する必要があ
る。

【数５】Ｐｓ＝Ｖ・ｃｏｓθ／ｆ

【数６】Ｐｍ＝ｐ／ｃｏｓθ

【００５０】ここで、従来の画像形成装置において、実
際の走査周波数ｆｄと基準周波数ｆとに誤差が生じてい
ると画像の副走査方向の大きさが理論上のサイズと異な
ってしまうことは、既に何度も述べた通りである。これ
に対し、本発明に係るプリンタでは、上述のように、実
際の走査周波数ｆｄが誤差によって基準周波数ｆからず
れていても、画像の副走査方向（方向ｙ）の大きさを理
論上のサイズに合わせることができる。よって、上記数
４の式の条件を具備させるように基準周波数ｆを設計す
る必要はない。先に図１７に示したように、方向ｘに延
びるライン像は実質上無視できる程度ではあるものの、
微妙にジグザグした形状となる。このジグザグについて
は、ピッチＰｓをより小さくすれば、より目立たなくす
ることができる。ピッチＰｓの縮小化については、走査
周波数ｆを高めることで対応することができる。

【００５１】そこで、本実施例２のプリンタにおいて
は、基準周波数ｆを従来の「Ｖ／ｐ」よりも十分に高く
設定している。具体的には、実際の走査周波数ｆｄが誤
差によって基準周波数ｆより低くなってもなお、「ｆｄ
＞Ｖ／ｐ」という条件が得られるように、最大誤差分を
見込んで基準周波数ｆを高く設定している。かかる構成
では、「ｆｄ＞Ｖ／ｐ」という条件が確実に得られ、基
準周波数ｆを従来と同様に「Ｖ／ｐ」と等しくする場合
に比べ、ジグザグを目立たなくして画質低下をより確実
に抑えることができる。

【００５２】なお、上記ジグザグについては、次のよう
にしても抑えることができる。即ち、図２８に示すよう
に、ドットの副走査方向（ｙ方向）における位置が、方
向ｘに延びる基線から離れるに従って、ドットの径を小
さくするのである。こうすることで、基線から副走査方
向に出っ張る部分を小さくして、ジグザグを目立たなく
することができる。ドットの径を小さくする方法として
は、レーザビームの光量を弱める方法、駆動パルス幅を
短くする方法のどちらでもよい。

【００５３】［実施例３］本実施例３のプリンタでは、
上記半導体レーザ１１０として、複数の光源によって複
数の光ビームを射出するものを用いている。具体的に
は、４つの光源からなる４ｃｈレーザアレイを有する半
導体レーザを用いている。かかる半導体レーザでは、図
２９に示すように、１回あたりの主走査を４本の走査線
によって行うことができる。換言すれば、４回分の主走
査を１回で行うことができる。なお、それぞれの光源に
ついては副走査方向における照射間隔を十数［μｍ］と
し、且つ、それらの配列中心を走査光学系の光軸Ｃ上に
合わせ、上下配列方向を方向ｘよりも傾斜角度θ分だけ
を傾けるように配設している。

【００５４】なお、複数の光走査装置２００によって方
向ｘに延びる１ライン像を形成させるようにしたプリン
タの例について説明したが、１つの光走査装置によって
１ライン像を形成する画像形成装置でも本発明の適用が
可能である。かかるプリンタにおいては、偏向モジュー
ル等の偏向手段の駆動数誤差に起因して生ずる副走査方
向の画像サイズ誤差を解消することができる。更に、か
かる画像サイズ誤差を回避すべく主走査を周期的に補完
又は省略することによってオリジナル再現性を低下させ
るといった事態も解消することができる。

【００５５】以上、実施形態に係るプリンタの走査制御
部５００においては、ビットマップ画像データ内の各ド
ットに対応する座標を、傾斜マトリクス内の座標に変換
した結果に基づいて、光源たる半導体レーザ１１０の駆
動タイミングを決定する。これにより、主走査方向
（ｘ’）を副走査方向（ｙ）に直交する上記方向ｘから
傾けるように配設された光走査装置２００に対し、副走
査方向の画素ピッチを主走査方向における走査タイミン
グによっても依存させることができる。よって、主走査
方向における走査タイミングに基づいて副走査方向の画
素ピッチを微妙に調整して、偏向モジュール１００の駆
動数誤差（ミラー振動誤差）に起因する画質低下を抑え
ることができる。また、光ビームＬを電子回路基板３０
１上の所定位置で検知する走査ビーム検知手段たる基準
角検知センサ１１４からの同期信号に基づいて各光走査
装置２００の実際の走査周波数ｆｄを演算する。そし
て、演算結果に応じたマス丈（ピッチ）の傾斜マトリク
スを使用する。このことにより、温湿度等の環境変化や
偏向モジュール１００の劣化進行などによって実際の走
査周波数ｆｄが経時的に変化しても、変化後の走査線を
忠実に再現した傾斜マトリクスに基づいて座標変換を行
う。よって、実際の走査周波数ｆｄの経時的な変化に起
因する画質低下を回避することができる。また、光走査
装置２００の方向ｘへの一走査周期内において、走査速
度の変動に応じてレーザ駆動周期を変化させる。具体的
には、走査速度が速くなる走査領域中央部のレーザ駆動
周期を走査領域両端側よりも速くしている。このことに
より、走査速度が一走査周期内で変化しているにもかか
わらず、方向ｘ’（ひいては方向ｘ）にドットを等間隔
に形成することができる。また、オリジナルのビットマ
ップ画像データのマトリクスを分割して３つの分割マト
リクスを構築し、それぞれについて、各ドットに対応す
る座標を傾斜マトリクス内の座標に変換する。そして、
それぞれの変換結果に基づいて、３つの光走査装置２０
０の半導体レーザ１１０の駆動タイミングを決定してい
る。これにより、オリジナルの画像を上記方向ｘに３分
割し、それぞれの分割画像を専用の光走査装置２００に
て光書込することを可能にしている。よって、１つの大
型の光走査装置を用いる場合に比べ、プリンタ本体の大
型化を抑えながら、上記方向ｘの走査領域を増大させる
ことができる。しかも、各光走査装置１００間で走査周
波数の誤差が生じていても、それぞれの分割画像を違和
感なく繋ぎ合わせることができる。また、上記光走査制
御部５００と同様の座標変換を行うプリンタドライバ等
のプログラムにおいても、主走査方向（ｘ’）を上記方
向ｘから傾けるように配設された光走査装置に対し、次
に説明するような制御を行うことができる。即ち、副走
査方向の画素ピッチを、主走査方向における走査タイミ
ングによっても依存させる制御である。よって、偏向手
段の駆動数誤差に起因する画質低下を抑えることができ
る。また、実施形態に係るプリンタの上記位置決め機構
においては、光走査装置２００の主走査方向（ｘ’）
を、副走査方向（ｙ）に直交する上記方向ｘよりも傾け
ている。そして、この傾きにより、画像全体の走査開始
点Ｐａと走査終了点Ｐｂとの方向ｙにおけるずれ量を１
画素分よりも大きくしている。かかる構成では、上述の
ような座標変換に基づく走査制御部５００によって制御
される各光走査装置２００に対し、副走査方向の画素ピ
ッチを主走査方向における走査タイミングによっても依
存させる光書込を行わせることができる。また、３つの
光走査装置２００の主走査方向（ｘ’）をそれぞれ個別
に位置決めするのではなく、これらが一体となった光走
査ユニット３００の位置決めによって間接的にそれぞれ
を位置決めするので、位置決め作業の手間を軽減するこ
とができる。また、実施形態に係るプリンタの光走査ユ
ニット３００においては、３つの偏向モジュール１００
を、それぞれの主走査方向ｘ’がモジュール並び方向で
ある方向ｘから傾くような姿勢で１つの電子回路基板３
０１に固定している。かかる構成では、ユニット全体の
位置決めによって、それぞれの偏向モジュール１００を
その主走査方向（ｘ’）が上記方向ｘから傾くように位
置決めすることができる。また、実施形態に係るプリン
タにおいては、走査制御部５００が、各偏向モジュール
１００の傾き誤差に応じた傾斜角度の傾斜マトリクスを
用いる。そして、このことにより、各偏向モジュール１
００の傾き誤差に起因する分割画像間での画像位置ズレ
を解消することができる。また、各偏向モジュール１０
０のそれぞれについて、副走査方向（ｙ）における位置
ズレに応じて、分割マトリクスと傾斜マトリクスとの副
走査方向（ｙ）における相対位置をずらして座標変換す
る。そして、このことにより、各偏向モジュール１００
の副走査方向の位置ズレに起因する分割画像間での画像
位置ズレを解消することができる。また、各偏向モジュ
ール１００のそれぞれについて、副走査方向（ｙ）に直
交する上記方向ｘおける位置ズレに応じて、分割マトリ
クスと傾斜マトリクスとの方向ｘにおける相対位置をず
らして座標変換する。そして、このことにより、各偏向
モジュール１００の方向ｘの位置ズレに起因する分割画
像間での画像位置ズレ、空白ラインの形成、及び高濃度
ラインの形成を解消することができる。また、実施例２
に係るプリンタにおいては、各光走査装置２００の実際
の走査周波数ｆｄを「Ｖ／ｐ」よりも大きくしている。
そして、このことにより、「Ｖ／ｐ」と等しくする場合
に比べ、上記ライン像のジグザグを目立たなくして更な
る高画質化を図ることができる。また、実施例３に係る
プリンタにおいては、上記半導体レーザ１１０として、
複数の光源によって４つの光ビームを射出する４ｃｈレ
ーザアレイを用い、４回分の主走査を１回で行う。よっ
て、光ビームを１つだけしか射出しない半導体レーザ１
１０を用いる場合に比べ、プリント速度の高速化を図る
ことができる。

【００５６】

【発明の効果】請求項１、２、３、４、５、６、７、
８、９、１０、１１、１２、１３、１４又は１５の発明
によれば、主走査方向における走査タイミングに基づい
て副走査方向の画素ピッチを微妙に調整して、偏向手段
の駆動数誤差に起因する画質低下を抑えることができる
という優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】ビットマップ画像データのマトリクスの一例を
示す模式図。

【図２】傾斜マトリクスの一例を示す模式図。

【図３】本発明に係る光走査装置の主走査方向ｘ’と、
画像形成装置の副走査方向ｙと、これに直交する方向ｘ
との関係を示す模式図。

【図４】本発明に係る画像形成装置による１ライン画像
の光書込の一例を示す模式図。

【図５】実施形態に係るプリンタの要部を示す概略構成
図。

【図６】同プリンタの偏向モジュールを示す分解斜視
図。

【図７】同偏向モジュールの断面図。

【図８】同プリンタの光走査ユニットの要部を示す斜視
図。

【図９】従来の画像形成装置において、３つの光走査装
置の走査によって感光体ドラム上に描かれる走査軌跡を
示す模式図。

【図１０】ビットマップ画像データのマトリクスの一例
を示す模式図。

【図１１】同マトリクスに基づいて構築される分割マト
リクスを示す模式図。

【図１２】従来の画像形成装置によって光書込される３
つのライン像を示す模式図。

【図１３】実施形態のプリンタに用いられる傾斜マトリ
クスを示す模式図。

【図１４】同プリンタの３つの偏向モジュールに基づく
走査によって感光体ドラム上に描かれる走査軌跡を示す
模式図。

【図１５】図１４と図１５とを重ね合わせた状態を示す
模式図。

【図１６】同プリンタの走査制御部によって行われる座
標変換を説明する模式図。

【図１７】同プリンタによって光書込されるライン画像
の一例を示す模式図。

【図１８】同プリンタの光走査装置にて生ずる一走査周
期内での走査速度変化と、同期信号と、書込信号との関
係を示すチャート。

【図１９】同走査制御部の要部を示すブロック図。

【図２０】位置決め誤差が生じていない場合における各
光走査装置の主走査方向の走査線を示す模式図。

【図２１】位置決め誤差が生じている場合における各光
走査装置の主走査方向の走査線を示す模式図。

【図２２】真ん中の走査線Ｌ２が正規位置よりも副走査
方向にずれた場合の光書込の一例を示す模式図。

【図２３】（ａ）副走査方向へのずれを考慮しない場合
の座標変換を説明するための模式図。 （ｂ）同ずれを考慮した場合の座標変換を説明するため
の模式図。

【図２４】真ん中の走査線Ｌ２が正規位置よりも方向ｘ
にずれた場合の光書込の一例を示す模式図。

【図２５】（ａ）方向ｘへのずれを考慮しない場合の座
標変換を説明するための模式図。 （ｂ）同ずれを考慮した場合の座標変換を説明するため
の模式図。

【図２６】走査開始位置から方向ｘに延びる仮想線を基
線にしてドラム表面移動方向上流側に走査線を傾ける場
合における主走査方向ｘ’の傾斜角度θｃを示す模式
図。

【図２７】オリジナルピッチｐと、同プリンタによる書
込ピッチＰｓ及びＰｍとの関係を示す模式図。

【図２８】変形例装置における光書込を説明するための
模式図。

【図２９】実施例３のプリンタによる光書込を説明する
ための模式図。

【符号の説明】

１ 感光体ドラム（潜像担持体） ２ 帯電チャージャ ４ 現像装置 ５ 転写チャージャ ６ ドラムクリーニング装置 ７ 給紙カセット １００ 偏向モジュール（偏向手段） １０１ 振動ミラー ２００ 光走査装置 ３００ 光走査ユニット ３０１ 電子回路基板（固定部材） ５００ 走査制御部（走査制御装置）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｇ 15/04 Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｚ ５Ｃ０７２ 21/14 Ｇ０３Ｇ 21/00 ３７２ Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｍ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ｚ Ｆターム(参考） 2C362 BA49 BA57 BA69 BA70 BA71 BA90 BB37 BB38 BB39 BB42 BB46 DA02 2H027 DA23 DA41 DE07 ED04 EE02 EE06 ZA07 2H045 AB06 AB08 AB16 AB72 BA22 BA33 CA88 CA98 CA99 2H076 AB05 AB06 AB11 AB66 5C051 AA02 CA07 DB24 DB30 DC04 DC05 DE02 5C072 AA03 DA21 HA02 HA06 HA14 XA05

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光源から発した光ビームを偏向手段によっ
   て偏向せしめながら被走査面に走査する光走査装置の少
   なくとも該光源及び偏向手段の駆動を制御し、複数の仮
   想直線を格子状に直交させたマトリクス内の座標によっ
   て各画素の位置が示される画像情報に基づいて該光源の
   駆動タイミングを決定する走査制御装置において、各画
   素に対応する上記座標を、上記マトリクスから所定角度
   傾いた傾斜マトリクス内の座標に変換した結果に基づい
   て、上記光源の駆動タイミングを決定させるようにした
   ことを特徴とする走査制御装置。
2. 【請求項２】請求項１の走査制御装置であって、上記光
   走査装置による走査ビームを所定位置で検知する走査ビ
   ーム検知手段からの信号に基づいて該光走査装置の単位
   時間あたりの走査回数である走査周波数を演算し、演算
   結果に応じた仮想直線配設ピッチの上記傾斜マトリクス
   を使用することを特徴とする走査制御装置。
3. 【請求項３】請求項１又は２の走査制御装置であって、
   一走査周期内において、走査速度の変動に応じて上記光
   源の駆動周期を変化させることを特徴とする走査制御装
   置。
4. 【請求項４】請求項１、２又は３の走査制御装置であっ
   て、上記画像情報の上記マトリクスをその一方の座標軸
   方向で複数に分割し、分割マトリクスのそれぞれについ
   て、各画素に対応する座標を上記傾斜マトリクス内の座
   標に変換した結果に基づいて、分割数と同数の光走査装
   置におけるそれぞれの上記光源の駆動タイミングを決定
   することを特徴とする走査制御装置。
5. 【請求項５】複数の仮想直線を格子状に直交させたマト
   リクス内の座標によって各画素の位置が示される画像情
   報を、演算処理によって構築する演算処理手段としてコ
   ンピュータを機能させるプログラムにおいて、各画素に
   対応する上記座標を上記マトリクスから所定角度傾いた
   傾斜マトリクス内の座標に変換して、上記画像情報を構
   築し直すことを特徴とするプログラム。
6. 【請求項６】所定方向に移動する表面に潜像を担持する
   潜像担持体と、光源から発した光ビームを偏向手段によ
   って偏向せしめながら走査して、該潜像担持体に対して
   該潜像の光書込を行う光走査装置とを有する画像形成装
   置内にて、該光走査装置から発せられる光ビームの偏向
   による該潜像担持体上での移動方向たる主走査方向を位
   置決めする位置決め機構であって、上記主走査方向を、
   上記潜像担持体の表面移動方向たる副走査方向に直交す
   る方向よりも傾けて、画像全体の上記主走査方向におけ
   る走査先端位置と走査終端位置とを該副走査方向に１画
   素分のサイズよりも大きくずらした位置決めを行うこと
   を特徴とする位置決め機構。
7. 【請求項７】請求項６の位置決め機構であって、複数の
   上記光走査装置を有する光走査ユニットにおけるそれぞ
   れの光走査装置の上記主走査方向について、上記副走査
   方向に直交する方向よりも傾けた位置決めを行うことを
   特徴とする位置決め機構。
8. 【請求項８】光源から発した光ビームを偏向手段によっ
   て偏向せしめながら走査する複数の光走査装置がそれぞ
   れの該偏向手段を並行に位置させるように固定された光
   走査ユニットであって、それぞれの偏向手段が偏向によ
   る上記光ビームの走査方向を互いの並び方向から傾ける
   姿勢で１つの固定部材に固定されていることを特徴とす
   る光走査ユニット。
9. 【請求項９】所定方向に移動する表面に潜像を担持する
   潜像担持体と、光源から発した光ビームを偏向手段によ
   って偏向せしめながら走査して、該潜像担持体に対して
   該潜像の光書込を行う光走査装置と、該偏向手段の画像
   形成装置本体内における位置決めを行うための位置決め
   機構と、該光走査装置の少なくとも該光源及び偏向手段
   の駆動を制御し、複数の仮想直線を格子状に直交させた
   マトリクス内の座標によって各画素の位置が示される画
   像情報に基づいて該光源の駆動タイミングを決定する走
   査制御装置とを備える画像形成装置において、上記位置
   決め機構として請求項６又は７のものを用いたことを特
   徴とする画像形成装置。
10. 【請求項１０】請求項９の画像形成装置において、複数
    の上記光走査装置を有する請求項８の光走査ユニット
    と、請求項７の位置決め機構とを用いるとともに、上記
    走査制御装置として、請求項４のものを用いたことを特
    徴とする画像形成装置。
11. 【請求項１１】請求項１０の画像形成装置であって、上
    記走査制御装置が、各光走査装置の上記偏向手段のそれ
    ぞれについて、傾き誤差に応じた傾斜角度の上記傾斜マ
    トリクスを用いることを特徴とする画像形成装置。
12. 【請求項１２】請求項１０又は１１の画像形成装置であ
    って、上記走査制御装置が、各光走査装置の上記偏向手
    段のそれぞれについて、上記副走査方向における位置ズ
    レに応じて、上記分割マトリクスと上記傾斜マトリクス
    との上記副走査方向における相対位置をずらして座標変
    換することを特徴とする画像形成装置。
13. 【請求項１３】請求項１０、１１又は１２の画像形成装
    置であって、上記走査制御装置が、各光走査装置の上記
    偏向手段のそれぞれについて、上記主走査方向における
    位置ズレに応じて、上記分割マトリクスと上記傾斜マト
    リクスとの上記主走査方向における相対位置をずらして
    座標変換し、且つ、該位置ズレに応じて各光走査装置に
    よる主走査開始タイミング及び主走査終了タイミングを
    ずらすことを特徴とする画像形成装置。
14. 【請求項１４】請求項１０、１１、１２又は１３の画像
    形成装置であって、各光走査装置について、それぞれ単
    位時間あたりの主走査回数である走査周波数が、上記潜
    像担持体の表面移動速度を上記副走査方向における走査
    ピッチで除算した値よりも大きいことを特徴とする画像
    形成装置。
15. 【請求項１５】請求項９、１０、１１、１２、１３又は
    １４の画像形成装置であって、上記光走査装置が複数の
    光源を有し、これらから同時に発せられた複数の光ビー
    ムを上記偏向手段によって偏向せしめることを特徴とす
    る画像形成装置。