JP2003251808A - インクジェット記録ヘッドの流路構成部材及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 - Google Patents
インクジェット記録ヘッドの流路構成部材及びインクジェット記録ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JP2003251808A JP2003251808A JP2002379563A JP2002379563A JP2003251808A JP 2003251808 A JP2003251808 A JP 2003251808A JP 2002379563 A JP2002379563 A JP 2002379563A JP 2002379563 A JP2002379563 A JP 2002379563A JP 2003251808 A JP2003251808 A JP 2003251808A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- recording head
- epoxy resin
- flow path
- resin layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 58
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 58
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 74
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 74
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 62
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 61
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 36
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 33
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 19
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 abstract description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 65
- 238000000034 method Methods 0.000 description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 description 20
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 8
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 8
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 5
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 2
- SBTSVTLGWRLWOD-UHFFFAOYSA-L copper(ii) triflate Chemical compound [Cu+2].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F SBTSVTLGWRLWOD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- -1 glycol ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- WQMWHMMJVJNCAL-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylpenta-1,4-dien-3-one Chemical compound CC(=C)C(=O)C(C)=C WQMWHMMJVJNCAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Natural products OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100219325 Phaseolus vulgaris BA13 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl)iodanium Chemical class C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- TYQCGQRIZGCHNB-JLAZNSOCSA-N l-ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(O)=C(O)C1=O TYQCGQRIZGCHNB-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000011328 necessary treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical compound C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920006215 polyvinyl ketone Polymers 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1645—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by spincoating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49401—Fluid pattern dispersing device making, e.g., ink jet
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
よるパターン成形により高精度の流路が形成されたイン
クジェット記録ヘッドの流路構成部材及び該流路構成部
材を有するインクジェット記録ヘッド、インクジェット
記録ヘッドの製造方法を提供すること。 【解決手段】 インクジェット記録ヘッドの流路構成部
材として、一分子中に少なくともエポキシ基を2個以上
含有するとともに特定の構造を有するエポキシ樹脂と、
カチオン重合開始剤と、を含有するエポキシ樹脂組成物
を用いる。
Description
を有し、紫外線照射などによるパターン成形で高精度な
流路を有するインクジェット記録ヘッドの流路構成部
材、該流路構成部材を有するインクジェット記録ヘッド
及びインクジェット記録ヘッドの製造方法に関する。
方式)に適用されるインクジェット記録ヘッドは、一般
に微細な記録液の吐出口(オリフィスとも言う)と、吐
出口に連通する流路と、流路の一部に設けられる液体吐
出エネルギー発生部とを有する構成単位を複数備えてい
る。そして、このようなインクジェット記録ヘッドで高
品位の画像を得るためには、吐出口から吐出されるイン
ク等の記録液の小滴が、それぞれの吐出口より常に同じ
体積、吐出速度で吐出されることが望ましい。これを達
成するために、特開平4−10940号から特開平4−
10942号までの各公報(特許文献1〜3)において
は、インク吐出圧力発生素子(電気熱変換素子)に記録
情報に対応して駆動信号を印加し、電気熱変換素子にイ
ンクの核沸騰を越える急激な温度上昇を与える熱エネル
ギーを発生させ、インク内に気泡を形成させ、この気泡
を外気と連通させてインク液滴を吐出させる方法が開示
されている。
ェット記録ヘッドとしては、吐出エネルギー発生部に設
けられた電気熱変換素子と吐出口との距離(以下、「O
H距離」と称す。)が短い方が好ましい。また、前記方
法においては、OH距離がその吐出体積をほぼ決定する
ため、OH距離を正確に、また再現良く設定できること
が必要である。
ェット記録ヘッドの製造方法として、特開平6−286
149号公報(特許文献4)では、インク吐出圧力発生素
子が形成された基体上に、溶解可能な樹脂にてインク
流路パターンを形成する工程と、常温にて固体状のエ
ポキシ樹脂を含む被覆樹脂を溶媒に溶解して、これを溶
解可能な樹脂層上にソルベントコートすることによっ
て、溶解可能な樹脂層上にインク流路壁となる被覆樹脂
層を形成する工程と、インク吐出圧力発生素子上方の
被覆樹脂層にインク吐出口を形成する工程と、溶解可
能な樹脂層を溶出する工程と、を有することを特徴とす
るインクジェット記録ヘッドの製造方法について開示し
ている。
アスペクトのパターンを形成すること及び耐インク性の
観点から脂環式エポキシ樹脂のカチオン重合物が用いら
れるようになってきている。
エポキシ樹脂のカチオン重合硬化物を用いることにより
新たに以下のような課題も見受けられるようになった。
重合硬化物は接着力は優れているものの、機械的強度が
高いため、内部応力が高くなると剥離が生じてしまうの
である。
組成物の厚みが厚くなるとこのような問題が発生しやす
い。
し、紫外線照射などによるパターン成形が容易である塗
膜を形成でき、インクジェット記録ヘッドの流路構成材
料及びそれを用いたインクジェット記録ヘッドならびに
インクジェット記録ヘッドの製造方法を提供することに
ある。
ェット記録ヘッドの流路構成材料は、一分子中に少なく
ともエポキシ基を2個以上含有するとともに下記一般式
(1)で表わされる単位を有するエポキシ樹脂と、カチ
オン重合開始剤、アミン及び酸無水物から選択された1
種と、を含有するエポキシ樹脂組成物により形成された
ことを特徴とする。
2は、−CH2−、−(CH2)2−または
のインクジェット記録ヘッドの流路構成部材と、インク
吐出圧力発生素子が形成された基体と、を有することを
特徴とする。
の製造方法は、インク吐出圧力発生素子が形成された基
体上に、溶解可能な樹脂にてインク流路パターンを形
成する工程と、一分子中に少なくともエポキシ基を2
個以上含有するとともに下記一般式(1)で表わされる
単位を有するエポキシ樹脂と、カチオン重合開始剤、ア
ミン及び酸無水物から選択された1種と、を含有するエ
ポキシ樹脂組成物からなる被覆樹脂を溶媒に溶解し、こ
れを前記溶解可能な樹脂層上にソルベントコートするこ
とによって、前記溶解可能な樹脂層上にインク流路壁と
なる被覆樹脂層を形成する工程と、前記インク吐出圧
力発生素子上方の前記被覆樹脂層にインク吐出口を形成
する工程と、前記溶解可能な樹脂層を溶出する工程
と、を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッ
ドの製造方法。
2は、−CH2−、−(CH2)2−または
ク溜りなどの原因となる凹凸のない流路を形成する被覆
樹脂層を得ることができ、低応力化及び耐薬品性が達成
され、剥離等の問題が格段に低減された製造歩留まりや
品質の向上したインクジェット記録ヘッドを得ることが
できる。
物に用いるエポキシ樹脂は、一分子中に少なくともエポ
キシ基を2個以上含有する数平均分子量が1,000〜
20,000、特に好ましくは2,000〜10,00
0のエポキシ樹脂であり、このエポキシ樹脂としては、
下記一般式(1):
2は、−CH2−、−(CH2)2−または
樹脂を好適なものとして挙げることができる。
キシ基を持つ単位を重合体中にモノマー単位として導入
するためのアクリルモノマーを当該業者に良く知られた
方法で重合することにより得ることができる。なお、こ
の重合の際、エポキシ基を持たないアクリルモノマーを
必要に応じて併用することができる。
当量が2000以下、さらに好ましくはエポキシ当量が
1000以下であることが望ましく、また下限としては
120が好ましい。これは、エポキシ当量が上記の範囲
内にある場合、硬化反応の際に架橋密度が低下し、硬化
物のTgもしくは熱変形温度が低下したり、不十分な密
着性や耐インク性等の問題の発生を有効に緩和すること
ができる為である。
コートにより塗布されるものであり、この観点から樹脂
組成物に用いられるエポキシ樹脂の数平均分子量が2,
000〜10,000であることが好ましい。
は、常温で固体でかつ融点が高い別の樹脂を添加するこ
とにより良好な塗布状態を確保することができる。
い、溶剤により溶液として、基板上に塗布した後、乾
燥、加熱などの処理によって、パターニングが可能であ
り、形状が安定した固体状の層を形成することができ
る。
ましく形成できる観点から、スピンコート等のソルベン
トコート時にエポキシ樹脂を溶剤に対して30〜70重
量(wt)%の濃度で、さらに好ましくは、40〜60
wt%の濃度で溶解させることにより被覆樹脂層の表面
をフラットにすることが容易となる。
合は、塗布剤の粘度を10〜3000cpsとする必要
ことが好ましく、エポキシ樹脂を含む塗布用溶液の粘度
が上述の濃度において所望の粘度となるように溶剤を適
宜選択することが好ましい。
性に優れ、各種部材への密着性に優れ、光に対する感度
が高いため優れたパターニング特性を有しているという
利点を有する。また、構造体として優れた硬化物や、硬
化応力の少ない硬化物を提供することが出来る。
ポキシ樹脂の重合を開始させる重合開始剤が含有され
る。この重合開始剤としては、カチオン重合触媒(開始
剤)が用いられる。このカチオン重合開始剤としては、
例えば、光重合開始剤及び熱重合開始剤がある。
ギー線によって賦活化されるルイス酸のオニウム塩を触
媒として用いることによって、パターン状に選択的に表
面処理を施すことが可能である。エポキシ樹脂の分子量
が上がることによって解像性は下がるが、他の樹脂を加
えることや分子量をそろえる事によって対応でき、分子
量が上がることで感度も向上する。パターン状に表面処
理を施す方法は、樹脂組成物を当該基材に塗布し、マス
クを介して活性エネルギー線の照射を行い、次いで現像
液を用いた現像処理を行う事によって達成される。この
場合における基本的な工程はフォトリソグラフィーと同
じであるが、現像液としては、樹脂組成物に適した溶剤
あるいは溶剤組成物を選択する必要がある。現像液とし
ては、芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類、グリ
コールエーテル類などおよびそれらの混合物を使用する
ことができる。
に低温硬化が可能となるところの活性エネルギー線によ
って賦活化されるルイス酸のオニウム塩に対して反応性
が高くなるように設計することは、フォトリソグラフィ
ーによる加工が簡便に行えるので好ましい。そのように
樹脂組成物を設計する際における好ましい光重合開始剤
としては、ビス(4-tert−ブチルフェニル)ヨー
ドニウム塩などの芳国ーヨードニウム塩、芳香族スルホ
ニウム塩[J.POLYMERSCI:Symposi
umNo.56383−395(1976)参照]、下
記構造のオプトマ−SP−150、オプトマ−SP17
0(旭電化工業)、下記構造のイルガキュアキュア26
1(チバスペシャルティー社製)などを挙げることがで
きる。
剤としてのアデカオプトンCP−66(旭電化工業)、
アデカオプトンCP−77(旭電化工業)などを挙げる
ことができ、これらを含有させることで、加熱によって
エポキシ樹脂を重合、硬化させる事が可能である。
に用いた場合、エポキシ樹脂のカチオン重合硬化物は、
比較的高い架橋密度(高Tg)を有するため、構造材と
して優れた特性を示すのでより好ましい。なお、硬化物
に要求される特性によっては、通常のエポキシの硬化剤
であるアミン類や酸無水物を用いることもでき、これら
を含有させることで加熱による硬化を行うことができ
る。また、加熱硬化を行う場合は、必要に応じて三級ア
ミンやイミダゾールなどの促進剤を加えても良い。
硬化剤などの熱硬化系では、塗膜形成後に熱硬化させ、
得られた硬化膜に対してエキシマレーザーを用いた加工
処理やドライエッチング等の方法で吐出口を形成し、イ
ンクジェットヘッドを得ることができる。熱重合開始剤
を用いる場合の添加量は、目的とする重合硬化状態が得
られる程度とすればよく、常法に応じて選択できる。
して、本発明にかかるエポキシ樹脂組成物を得ることが
できる。本発明にかかるエポキシ樹脂組成物には、イン
クジェット記録ヘッドの流路壁の形成工程の種類に応じ
て、溶剤等で樹脂濃度や粘度を調整して用いることがで
きる。そのような溶剤としては、例えばメチルエチルケ
トン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIB
K)、ジグライム、キシレン、トルエン、シクロヘキサ
ン、乳酸メチルなどを挙げることができる。
は、所望とする重合特性が得られるように設定され、例
えば、エポキシ樹脂100重量部に対して0.5〜10
重量部とすることが好ましい。
は、これに還元剤を併用することで、樹脂組成物を加熱
することによってカチオン重合を更に促進(単独の光カ
チオン重合に比較して架橋密度が向上する。)させるこ
とができる。ただし、光カチオン重合開始剤と還元剤を
併用する場合、常温では反応せず一定温度以上(好まし
くは60℃以上)で反応するいわゆるレドックス型の開
始剤系になるように、還元剤を選択する必要がある。こ
のような還元剤としては、銅化合物、特に反応性とエポ
キシ樹脂との相溶性を考慮して、銅トリフラート(トリ
フルオロメタンスルフォン酸銅(II))が最適であ
る。また、アスコルビン酸等の還元剤も有用である。ま
た、ノズル数の増加(高速印刷性)、非中性インクの使
用(着色剤の耐水性の改良)等、より高い架橋密度(高
Tg)が必要な場合は、上述の還元剤を後述のように前
記被覆樹脂層の現像工程後に溶液の形で用いて被覆樹脂
層を浸漬および加熱する後工程によって、架橋密度をあ
げることができる。
に応じて添加剤などを適宜添加することが可能である。
例えば、エポキシ樹脂の弾性率を下げる目的で可撓性付
与剤を添加したり、あるいは基板との更なる密着力を得
るためにシランカップリング剤を添加することなどがあ
げられる。
たインクジェット記録ヘッドの製造方法の一例を説明す
る。
ス、セラミックス、プラスチックあるいは金属等からな
る基板7を用い、この基板7上に電気熱変換素子あるい
は圧電素子等のインク吐出エネルギー発生素子8を所望
の個数配置する。この基板7は、流路構成部材の一部と
して機能し、また、後述のインク流路およびインク吐出
口を形成する材料層の支持体として機能し得るものであ
れば、その形状、材質等に特に限定されることなく使用
できる。このインク吐出エネルギー発生素子8によって
インクの小滴を吐出させるための吐出エネルギーがイン
クに与えられ、吐出口からインク滴が記録用紙などの記
録媒体吐出されて記録が行われる。
8として電気熱変換素子が用いられる時には、この素子
が近傍のインクを加熱することにより、インクに状態変
化を生起させ吐出エネルギーを発生する。また、圧電素
子が用いられる時は、この素子の機械的振動によって、
吐出エネルギーが発生される。
動作させるための制御信号入力用電極(図示せず)が接
続されている。また、一般にはこれら吐出エネルギー発
生素子の耐用性の向上を目的として、保護層等の各種機
能層が設けられるが、このような機能層を設けることは
一向に差し支えない。
部9を基板7に予め設けておき、基板7の後方よりイン
クを供給する形態が例示されている。開口部9の形成に
は、基板7に穴を形成できる手段であれば、いずれの方
法も使用できる。例えば、ドリル等機械的手段にて形成
しても構わないし、レーザー等の光エネルギーを使用し
ても構わない。また、基板7にレジストパターン等を形
成して化学的にエッチングしても構わない。
成せず、後述する被覆樹脂層12側に形成し、基板7に
対してインク吐出口14と同じ面に設けてもよい。
吐出エネルギー発生素子8が設けられた基板7上に、溶
解可能な樹脂にてインク流路パターン10'を形成する
ための層10を設ける。最も一般的な層10の形成手段
としては、感光性材料にて形成する手段が挙げられる
が、スクリーン印刷法等の手段にても形成は可能であ
る。感光性材料を使用する場合においては、インク流路
パターン10'が溶解可能であることが要求されるた
め、ポジ型レジストか、あるいは溶解性変化型のネガ型
レジストの使用が可能である。
ようなインク供給口9を設けた基板7を使用する場合に
は、感光性材料を適当な溶剤に溶解し、PETなどのフ
ィルム上に塗布、乾燥してドライフィルムを作成し、ラ
ミネートによってこれを基板7上の必要部分に転写して
形成することが好ましい。このドライフィルムとして
は、ポリメチルイソプロペニルケトン、ポリビニルケト
ン等のビニルケトン系光崩壊性高分子化合物を好適に用
いることができる。これらを用いるのは、これら化合物
が、光照射前は高分子化合物としての特性(被膜性)を
維持しており、インク供給口9上にも容易にラミネート
可能であるためである。
な充填物を配置し通常のスピンコート法、ロールコート
法等で層10を形成しても構わない。この層10を、図
1(c)〜(d)に示すようにフォトグラフィー等を利
用してパターニングしてインク流路パターン10'を得
ることができる。
ーン10'上に、図2(a)に示すように、被覆樹脂層
12を通常のスピンコート法、ロールコート法等でさら
に形成する。ここで、被覆樹脂層12を形成する工程に
おいて、インク流路パターン10'を変形せしめない等
の処置が必要となる。すなわち、被覆樹脂層12を形成
するための材料を溶剤に溶解して塗料を調製し、この塗
料をスピンコート、ロールコート等で、インク流路パタ
ーン10'上に形成する場合、インク流路パターン10'
を塗料が溶解しないように塗料の溶剤を選択する必要が
ある。
被覆樹脂層12としては、インク吐出口14をフォトリ
ソグラフィーで容易にかつ精度よく形成できるという観
点からは、感光性のものが好ましい。このような被覆樹
脂層12は、構造材料としての高い機械的強度、基板7
との密着性、耐インク性などの特性と同時にインク吐出
口14の微細なパターンを形成するための解像性が要求
される。また、更なる低応力化及び更なる耐薬品性が達
成された硬化物層を形成できることが要求される。本発
明にかかるエポキシ樹脂組成物は、これらの要求を満た
し、インクジェット記録ヘッドの流路構成用材料として
極めて好適なものである。
常の酸無水物もしくはアミンによる硬化物に比較して高
い架橋密度(高Tg)を有するため、構造材として優れ
た特性を示す。また、常温にて固体状のエポキシ樹脂を
用いることで、光重合開始剤を用いた場合に、光照射に
よりカチオン重合開始剤より発生した重合開始種のエポ
キシ樹脂層中への拡散が抑えられ、優れたパターニング
精度、形状を得ることができる。これらのエポキシ樹脂
の有する特性に加えて、本発明にかかるエポキシ樹脂組
成物は、更なる低応力化及び耐薬剤性を達成することが
できる。
12を形成する工程には、常温で固体状の被覆樹脂層を
形成できるエポキシ樹脂を重合開始剤とともに溶剤に溶
解し、スピンコート法で形成する方法が好適である。薄
膜コーティング技術であるスピンコート法を用いること
で、被覆樹脂層12を均一にかつ精度良く形成し、また
インク吐出エネルギー発生素子8と吐出口間の距離を短
くすることができ、吐出口14からのインクの小液滴の
吐出を容易に達成することができる。
ーン10'を覆う層として形成され、その表面はフラッ
トに形成されることが望ましい。これは、吐出口面とな
る表面に凸凹がある場合に、その凹部が製品として使用
した際に不要なインク溜となるので、平滑な面として形
成することでこのような凹部の形成を防ぐことができ、
また、被覆樹脂層12にインク吐出口を形成する際の加
工が容易となるためである。
組成物を用いて形成した場合について説明する。
(b)に示すように、マスク13を介してパターン露光
を行う。被覆樹脂層12としてネガ型を用いた場合は、
インク吐出口14を形成する部分をマスクで遮蔽する
(むろん、電気的な接続を行う部分も遮蔽する。図示せ
ず。)。
開始剤の感光領域に合わせて紫外線、Deep−UV
光、電子線、X線などから適宜選択することができる。
フォトリソグラフィー技術を用いて位置合わせが可能で
あり、吐出口プレートを別途作成し基板と張り合せる方
法に比べて、格段に精度をあげることができる。こうし
てパターン露光された被覆樹脂層12においては、必要
に応じて反応を促進するために、加熱処理を行ってもよ
い。ここで、被覆樹脂層12は、常温で固体状の成形可
能な層として構成されているので、パターン露光で生じ
るカチオン重合開始種の拡散は層中で制約を受け、優れ
たパターニング精度、形状を実現できる。
脂層5は適当な溶剤を用いて現像され、図2(c)に示
すようにインク吐出口14が形成される。ここで、被覆
樹脂層12の未露光の部分の現像時に、同時に溶解可能
な材料からなるインク流路パターン10'を現像するこ
とも可能である。ただし、一般的に、基板7上には、複
数の同一または異なる形態のヘッドが配置され、各ヘッ
ドを互いに分離するための切断工程を経てインクジェッ
ト記録ヘッドが得られるので、切断時のごみ対策とし
て、まず被覆樹脂層12のみを選択的に現像することに
より、インク流路パターン10'を残し(液室内にパタ
ーン10'が残存するため切断時に発生するゴミが入り
込まない)、切断工程後にインク流路パターン10'を
現像することも可能である。また、この際、被覆樹脂層
12を現像する時に発生するスカム(現像残渣)は、溶
解可能なインク流路パターン10'と共に溶出されるた
め、流路や吐出口内には残渣が残らない。
るエポキシ樹脂組成物の硬化物における架橋密度を上げ
る必要がある場合には、この後、インク流路およびイン
ク吐出口が形成された硬化した被覆樹脂層5を還元剤を
含有する溶液に浸漬および加熱することにより後硬化を
行う方法が利用できる。これにより、被覆樹脂層12の
架橋密度はさらに高まり、基板に対する密着性および耐
インク性は非常に良好となる。もちろん、この銅イオン
含有溶液に浸漬加熱する工程は、被覆樹脂層5にパター
ン露光し、現像してインク吐出口を形成した直後に行っ
ても一向にさしつかえなく、その後で溶解可能な樹脂パ
ターン4を溶出しても構わない。また浸漬、加熱工程
は、浸漬しつつ加熱しても構わないし、浸漬後に加熱処
理を行っても構わない。
ネガ型の場合、通常は基板面からの反射、およびスカム
(現像残渣)が発生する場合がある。しかしながら、図
示した工程を用いる場合、溶解可能な樹脂にて形成され
たインク流路パターン10'上に吐出口14のパターン
を形成するため、基板7からの反射の影響は無視でき、
さらに現像時に発生するスカムは、後述のインク流路を
形成する溶解可能な樹脂を洗い出す工程でリフトオフさ
れるため、悪影響を及ぼさない。
ク吐出口等が形成された基板を含む積層体に対して必要
処理を施してインクジェット記録ヘッドが完成される。
例えば、吐出口面のインク溜まりによるインク滴の偏向
や不吐出を更に効果的に防ぐ目的で、吐出口面に撥イン
ク処理を施してもよく、その場合の撥インク処理には、
撥水層を転写法等により吐出口面に形成する方法などが
用いられる。
以下の実験を行った。
厚と硬化後の膜厚を観測することにより行い、両者の膜
厚が等しいときには樹脂の硬化に伴う体積変化による内
部応力が極めて少ないものと考えることができる。
6インチウェハーにスピンコートし、ホットプレートで
90℃5minのプリベーク後に、19.5μmになるよう塗布
しMPA600で1J/cm2露光し、ホットプレートで90℃4min
のポストベーク後200℃1時間の硬化をおこなった。
の組成物では、膜厚の減少が観測されなかったが、表2
の組成物では、膜厚の減少が観測された。
ス測定装置 テンコール社製 FLX-2320で測定したとこ
ろ 表1では、8.5×107dyne/cm2 表2では、2.0×108dyne/cm2 であった。
成物に比べて本願発明の材料である表1の組成物の応力
が格段に低下していることが確認された。
する。
を作製した。基板7としてインク供給口9が設けられて
いるSi基板を用い、所定個所に吐出エネルギー発生素
子8としての電気熱変換素子を配置し、基板表面の必要
部分を保護層で被覆した。この基板7の吐出エネルギー
発生素子8が設けられた面の所定部に、ポジ型レジスト
ODUR1010(商品名東京応化(株)製)の層10
を、14μm厚で形成した。
それと連通する液室形成予定部位を除き、マスク11を
通して露光し、所定の現像液での現像を行い、インク流
路パターン10'を得た。このインク流路パターン10'
が設けられた面の所定部に、下記の組成から成る流路形
成材料(エポキシ樹脂組成物1)をスピンコートで、膜
厚が30μmになるように塗布し、ホットプレートで9
0℃、3分のベークを行い、被覆樹脂層12を得た。
の部分が露光されるようにマスク13を介して5J/c
m2強度で紫外線を露光し、80℃ホットプレート4分
のベークを行い、キシレンを用いて現像を行い、被覆樹
脂層12を硬化させるとともに、吐出口14を形成し
た。更に、deepUV光を照射してから、MIBKに
より型材であるODUR1010を除去し、200℃、
1時間のベークを行い3インチのインクジェット記録ヘ
ットを完成させた。
てBJF8500(キヤノン(株)製)用黒インクでの
60℃、1週間の浸漬テストをおこなった結果、本実施
例で得られた記録ヘッドでは、剥離等の変化は何も見ら
れなかった。
成物2を用いる以外は、実施例1と同様にしてインクジ
ェット記録ヘッドの形成を行い、インクに対する浸漬テ
ストを行った。その結果、本実施例で得られた記録ヘッ
ドでも、剥離等の変化は何も見られなかった。
を用いる以外は、実施例1と同様にしてインクジェット
記録ヘッドの形成を行い、インクに対する浸漬テストを
行った。その結果、本比較例は、インクへの浸漬後に流
路部材の一部に硬化による応力が原因と考えられる剥が
れがみられた。
成物4を用いる以外は、実施例1と同様にしてインクジ
ェット記録ヘッドの形成を行い、インクに対する浸漬テ
ストを行った。その結果、本比較例は、インクへの浸漬
後に流路部材の一部に硬化による応力が原因と考えられ
る剥がれがみられた。
いてそれぞれ作成したところ本願実施例のものは、ヘッ
ド製造後に観察したところ、吐出口のパターニング精度
が良好で剥離が見受けられなかったが、比較例のもの
は、一部に剥離が見受けられた
硬化収縮が少ない為に応力が少なく、耐薬品性に優れた
流路を形成することができる。その為に、長期にわたっ
て信頼性の高いインクジェット記録ヘッドが得られた。
ッドの形成工程の一例を示す図である。
ッドの形成工程の一例を示す図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 一分子中に少なくともエポキシ基を2個
以上含有するとともに下記一般式(1)で表わされる単
位を有するエポキシ樹脂と、カチオン重合開始剤、アミ
ン及び酸無水物から選択された1種と、を含有するエポ
キシ樹脂組成物により形成されたインクジェット記録ヘ
ッドの流路構成部材。 【化1】 (上記一般式中、R1は−Hまたは−CH3を表わし、R
2は、−CH2−、−(CH2)2−または 【化2】 を表わし、R3は 【化3】 を表わす。) - 【請求項2】 前記エポキシ樹脂の該数平均分子量が
2,000〜10,000である請求項1記載のインク
ジェット記録ヘッドの流路構成部材。 - 【請求項3】 前記エポキシ樹脂組成物はパターニング
されたものである請求項1に記載のインクジェット記録
ヘッドの流路構成部材。 - 【請求項4】 請求項1〜3の何れかに記載のインクジ
ェット記録ヘッドの流路構成部材と、インク吐出圧力発
生素子が形成された基体と、を有することを特徴とする
インクジェット記録ヘッド。 - 【請求項5】 インク吐出圧力発生素子が形成された基
体上に、 溶解可能な樹脂にてインク流路パターンを形成する工
程と、 一分子中に少なくともエポキシ基を2個以上含有する
とともに下記一般式(1)で表わされる単位を有するエ
ポキシ樹脂と、カチオン重合開始剤、アミン及び酸無水
物から選択された1種と、を含有するエポキシ樹脂組成
物からなる被覆樹脂を溶媒に溶解し、これを前記溶解可
能な樹脂層上にソルベントコートすることによって、前
記溶解可能な樹脂層上にインク流路壁となる被覆樹脂層
を形成する工程と、 前記インク吐出圧力発生素子上方の前記被覆樹脂層に
インク吐出口を形成する工程と、 前記溶解可能な樹脂層を溶出する工程と、 を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの
製造方法。 【化4】 (上記一般式中、R1は−Hまたは−CH3を表わし、R
2は、−CH2−、−(CH2)2−または 【化5】 を表わし、R3は 【化6】 を表わす。) - 【請求項6】 前記インク吐出口がフォトリソグラフィ
ーによって形成されることを特徴とする請求項5に記載
のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/329,829 US6793326B2 (en) | 2001-12-28 | 2002-12-27 | Flow path constituting member for ink jet recording head, ink jet recording head having flow path constituting member and method for producing ink jet recording head |
JP2002379563A JP3986060B2 (ja) | 2001-12-28 | 2002-12-27 | インクジェット記録ヘッドの流路構成部材及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001-399337 | 2001-12-28 | ||
JP2001399337 | 2001-12-28 | ||
JP2002379563A JP3986060B2 (ja) | 2001-12-28 | 2002-12-27 | インクジェット記録ヘッドの流路構成部材及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003251808A true JP2003251808A (ja) | 2003-09-09 |
JP3986060B2 JP3986060B2 (ja) | 2007-10-03 |
Family
ID=27759618
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002379563A Expired - Fee Related JP3986060B2 (ja) | 2001-12-28 | 2002-12-27 | インクジェット記録ヘッドの流路構成部材及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6793326B2 (ja) |
JP (1) | JP3986060B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014519427A (ja) * | 2011-06-06 | 2014-08-14 | シクパ ホルディング ソシエテ アノニム | 硬化性樹脂組成物により製造された層を含むインクジェットプリントヘッド |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7931352B2 (en) * | 2005-04-04 | 2011-04-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and method for manufacturing the same |
US7425057B2 (en) * | 2005-04-04 | 2008-09-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and method for manufacturing the same |
US7437820B2 (en) * | 2006-05-11 | 2008-10-21 | Eastman Kodak Company | Method of manufacturing a charge plate and orifice plate for continuous ink jet printers |
WO2008006390A1 (en) * | 2006-07-13 | 2008-01-17 | Telecom Italia S.P.A. | Ink jet cartridge comprising a layer made by a curable resin composition |
JP4953930B2 (ja) * | 2007-06-13 | 2012-06-13 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
PL2276632T3 (pl) | 2008-04-18 | 2014-02-28 | Sicpa Holding Sa | Sposób wytwarzania atramentowej głowicy drukującej o adhezji zwiększonej z upływem czasu i jej zastosowanie w kombinacji z tuszem na bazie wody zawierającym substancje kwasowe |
US10850512B2 (en) | 2018-02-23 | 2020-12-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head and method of manufacturing same |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55108655A (en) * | 1979-02-14 | 1980-08-21 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Resin composition for resist |
JPS61108624A (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-27 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エポキシ樹脂組成物 |
JPH0647917A (ja) * | 1992-07-30 | 1994-02-22 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッドの製造方法 |
JPH06286149A (ja) * | 1993-02-03 | 1994-10-11 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JPH08276591A (ja) * | 1995-04-05 | 1996-10-22 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッド、その製造方法、及び記録装置 |
JPH0952938A (ja) * | 1995-08-09 | 1997-02-25 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 硬化性組成物 |
JPH0957985A (ja) * | 1995-06-14 | 1997-03-04 | Canon Inc | インクジェットヘッドとその製造方法 |
JPH1053639A (ja) * | 1995-06-13 | 1998-02-24 | Canon Inc | 溶剤易溶性のフッ素含有エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた表面処理方法 |
JPH10142992A (ja) * | 1996-09-12 | 1998-05-29 | Ushio Inc | 加熱ローラ |
JPH11216794A (ja) * | 1998-02-02 | 1999-08-10 | Teijin Ltd | 透明導電性フィルム用基板 |
JPH11291382A (ja) * | 1998-04-10 | 1999-10-26 | Teijin Ltd | 透明導電性基板 |
JP2000064357A (ja) * | 1998-08-25 | 2000-02-29 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | 建設機械のキャブ |
JP2000239309A (ja) * | 1999-02-19 | 2000-09-05 | Jsr Corp | 光硬化性液状樹脂組成物及び光造形硬化物 |
JP2000302964A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Jsr Corp | 立体造形用光硬化性樹脂組成物およびこれを硬化してなる造形物 |
JP2001002757A (ja) * | 1999-06-18 | 2001-01-09 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 液状感光性樹脂組成物 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3143308B2 (ja) * | 1994-01-31 | 2001-03-07 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
-
2002
- 2002-12-27 JP JP2002379563A patent/JP3986060B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-12-27 US US10/329,829 patent/US6793326B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55108655A (en) * | 1979-02-14 | 1980-08-21 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Resin composition for resist |
JPS61108624A (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-27 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エポキシ樹脂組成物 |
JPH0647917A (ja) * | 1992-07-30 | 1994-02-22 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッドの製造方法 |
JPH06286149A (ja) * | 1993-02-03 | 1994-10-11 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JPH08276591A (ja) * | 1995-04-05 | 1996-10-22 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッド、その製造方法、及び記録装置 |
JPH1053639A (ja) * | 1995-06-13 | 1998-02-24 | Canon Inc | 溶剤易溶性のフッ素含有エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた表面処理方法 |
JPH0957985A (ja) * | 1995-06-14 | 1997-03-04 | Canon Inc | インクジェットヘッドとその製造方法 |
JPH0952938A (ja) * | 1995-08-09 | 1997-02-25 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 硬化性組成物 |
JPH10142992A (ja) * | 1996-09-12 | 1998-05-29 | Ushio Inc | 加熱ローラ |
JPH11216794A (ja) * | 1998-02-02 | 1999-08-10 | Teijin Ltd | 透明導電性フィルム用基板 |
JPH11291382A (ja) * | 1998-04-10 | 1999-10-26 | Teijin Ltd | 透明導電性基板 |
JP2000064357A (ja) * | 1998-08-25 | 2000-02-29 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | 建設機械のキャブ |
JP2000239309A (ja) * | 1999-02-19 | 2000-09-05 | Jsr Corp | 光硬化性液状樹脂組成物及び光造形硬化物 |
JP2000302964A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Jsr Corp | 立体造形用光硬化性樹脂組成物およびこれを硬化してなる造形物 |
JP2001002757A (ja) * | 1999-06-18 | 2001-01-09 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 液状感光性樹脂組成物 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014519427A (ja) * | 2011-06-06 | 2014-08-14 | シクパ ホルディング ソシエテ アノニム | 硬化性樹脂組成物により製造された層を含むインクジェットプリントヘッド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20030159287A1 (en) | 2003-08-28 |
JP3986060B2 (ja) | 2007-10-03 |
US6793326B2 (en) | 2004-09-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3143307B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
JP4497633B2 (ja) | 撥液体層の形成方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP3143308B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
US8109608B2 (en) | Micro-fluid ejection head and stress relieved orifice plate therefor | |
JP3368094B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
US20090155729A1 (en) | Photoimageable Nozzle Members and Methods Relating Thereto | |
KR19980080815A (ko) | 방사선 경화성 수지층을 함유하는 잉크젯 프린트 헤드 | |
JP2009137155A (ja) | 溶液吐出ヘッド及びその製造方法 | |
JP2012158189A (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
JP5653181B2 (ja) | 親水被膜の形成方法および親水被膜、ならびにインクジェット記録ヘッドの製造方法およびインクジェット記録ヘッド | |
JP3524258B2 (ja) | インクジェットヘッドの製造方法 | |
JP5153276B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
JP4713269B2 (ja) | 液体吐出型記録ヘッドの製造方法 | |
JP3986060B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの流路構成部材及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
JP2925816B2 (ja) | 液体噴射記録ヘッド、その製造方法、及び同ヘッドを具備した記録装置 | |
JP2001179990A (ja) | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 | |
JP2005125619A (ja) | 液体噴射記録ヘッド及びその製造方法 | |
JP2020059146A (ja) | 微細構造体の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
US20050255409A1 (en) | Photo-curable resin composition, method of patterning the same, and ink jet head and method of fabricating the same | |
JP2021024276A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法及び液体吐出ヘッド | |
JP2006110910A (ja) | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 | |
JP2001179979A (ja) | 液体噴射記録ヘッド及びその製造方法 | |
JP2005125577A (ja) | 液体噴射記録ヘッド及びその製造方法 | |
JP4646610B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド | |
JP4702784B2 (ja) | 液体吐出型記録ヘッドの流路構成材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050531 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050608 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050808 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061011 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070704 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070709 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100720 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100720 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110720 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120720 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120720 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130720 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |