JP2003215487A - タンデム走査光学装置 - Google Patents
タンデム走査光学装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 偏向器の同一面に対する複数のビームの入射
角度と入射位置を容易・高精度に調整できるタンデム走
査光学装置を提供する。 【解決手段】 偏向器(1)の同一偏向反射面(1S)に対し
て４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)を副走査方向に互
いに異なる角度で入射させることにより、主走査方向へ
の偏向走査とともに副走査方向への光路分離を行う。入
射角度を副走査方向に調整するために、反射ミラー(19)
の向きを調整可能に変化させるミラー調整部でレーザビ
ーム(LY,LM,LC,LK)を同時に回転偏芯させる。入射位置
を副走査方向に調整するために、光源部(20)を調整可能
に平行移動させる光源調整部でレーザビーム(LY,LM,LC,
LK)を同時に平行偏芯させる。
角度と入射位置を容易・高精度に調整できるタンデム走
査光学装置を提供する。 【解決手段】 偏向器(1)の同一偏向反射面(1S)に対し
て４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)を副走査方向に互
いに異なる角度で入射させることにより、主走査方向へ
の偏向走査とともに副走査方向への光路分離を行う。入
射角度を副走査方向に調整するために、反射ミラー(19)
の向きを調整可能に変化させるミラー調整部でレーザビ
ーム(LY,LM,LC,LK)を同時に回転偏芯させる。入射位置
を副走査方向に調整するために、光源部(20)を調整可能
に平行移動させる光源調整部でレーザビーム(LY,LM,LC,
LK)を同時に平行偏芯させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はタンデム走査光学装
置に関するものであり、例えば画像形成装置(カラーレ
ーザプリンタ，カラーデジタル複写機等)において、複
数のレーザビームを偏向走査することにより、複数の感
光体のそれぞれに画像を露光記録するタンデム型の走査
光学装置に関するものである。
置に関するものであり、例えば画像形成装置(カラーレ
ーザプリンタ，カラーデジタル複写機等)において、複
数のレーザビームを偏向走査することにより、複数の感
光体のそれぞれに画像を露光記録するタンデム型の走査
光学装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より知られているタンデム走査光学
装置として、複数の色(例えば、Ｙ：イエロー，Ｍ：マ
ゼンタ，Ｃ：シアン，Ｋ：ブラックの４色)に対応した
レーザビームを偏向器の同一面で偏向走査することによ
り、複数の感光体にそれぞれ画像を露光記録するタイプ
が挙げられる。このタイプのタンデム走査光学装置は、
走査の高速化や装置の低コスト化・コンパクト化を図る
上で有利である。
装置として、複数の色(例えば、Ｙ：イエロー，Ｍ：マ
ゼンタ，Ｃ：シアン，Ｋ：ブラックの４色)に対応した
レーザビームを偏向器の同一面で偏向走査することによ
り、複数の感光体にそれぞれ画像を露光記録するタイプ
が挙げられる。このタイプのタンデム走査光学装置は、
走査の高速化や装置の低コスト化・コンパクト化を図る
上で有利である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、偏向器を大型
化することなく複数のレーザビームを偏向器の同一面で
偏向走査するには、偏向器入射前の光路合成と偏向器射
出後の空間的な光路分離とが必要になる(いわゆる合成
・分離方式)。そのため一般的には、偏向器の同一面に
対して複数のレーザビームが副走査方向に互いに異なる
角度で入射するように構成される。その入射角度や入射
位置の調整は通常各色毎に行われるため、偏向器の後に
配置されている走査光学系(ｆθレンズ等)に対する誤差
感度が高く、所定の性能を得るには複雑で高精度の調整
作業が必要になる。
化することなく複数のレーザビームを偏向器の同一面で
偏向走査するには、偏向器入射前の光路合成と偏向器射
出後の空間的な光路分離とが必要になる(いわゆる合成
・分離方式)。そのため一般的には、偏向器の同一面に
対して複数のレーザビームが副走査方向に互いに異なる
角度で入射するように構成される。その入射角度や入射
位置の調整は通常各色毎に行われるため、偏向器の後に
配置されている走査光学系(ｆθレンズ等)に対する誤差
感度が高く、所定の性能を得るには複雑で高精度の調整
作業が必要になる。
【０００４】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであって、その目的は、偏向器の同一面に対する複
数のビームの入射角度及び入射位置の調整を容易かつ高
精度に行うことができるタンデム走査光学装置を提供す
ることにある。
ものであって、その目的は、偏向器の同一面に対する複
数のビームの入射角度及び入射位置の調整を容易かつ高
精度に行うことができるタンデム走査光学装置を提供す
ることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１の発明のタンデム走査光学装置は、偏向器の同
一面に対して複数のビームを副走査方向に互いに異なる
角度で入射させることにより、主走査方向への偏向走査
とともに副走査方向への光路分離を行うタンデム走査光
学装置であって、前記偏向器の同一面に対する複数のビ
ームの入射角度を副走査方向に調整するために、複数の
ビームを同時に回転偏芯させる第１調整手段と、前記偏
向器の同一面に対する複数のビームの入射位置を副走査
方向に調整するために、複数のビームを同時に平行偏芯
させる第２調整手段と、を有することを特徴とする。
に、第１の発明のタンデム走査光学装置は、偏向器の同
一面に対して複数のビームを副走査方向に互いに異なる
角度で入射させることにより、主走査方向への偏向走査
とともに副走査方向への光路分離を行うタンデム走査光
学装置であって、前記偏向器の同一面に対する複数のビ
ームの入射角度を副走査方向に調整するために、複数の
ビームを同時に回転偏芯させる第１調整手段と、前記偏
向器の同一面に対する複数のビームの入射位置を副走査
方向に調整するために、複数のビームを同時に平行偏芯
させる第２調整手段と、を有することを特徴とする。
【０００６】第２の発明のタンデム走査光学装置は、上
記第１の発明の構成において、前記複数のビームを射出
する光源部とその光源部から射出した複数のビームを同
時に反射させる反射ミラーとを更に有し、前記第１調整
手段が前記反射ミラーの向きを調整可能に変化させるミ
ラー調整部で構成され、前記第２調整手段が前記光源部
を調整可能に平行移動させる光源調整部で構成されるこ
とを特徴とする。
記第１の発明の構成において、前記複数のビームを射出
する光源部とその光源部から射出した複数のビームを同
時に反射させる反射ミラーとを更に有し、前記第１調整
手段が前記反射ミラーの向きを調整可能に変化させるミ
ラー調整部で構成され、前記第２調整手段が前記光源部
を調整可能に平行移動させる光源調整部で構成されるこ
とを特徴とする。
【０００７】第３の発明のタンデム走査光学装置は、上
記第１の発明の構成において、前記複数のビームを射出
する光源部とその光源部が固定されるハウジングとを更
に有し、前記光源部には前記ハウジングに対する位置決
めを行うために長さ可変の脚部が複数設けられており、
その一部の脚部が残りの脚部とは異なった量だけ長さを
変化させることにより前記第１調整手段として機能し、
全ての脚部が同じ量だけ長さを変化させることにより前
記第２調整手段として機能することを特徴とする。
記第１の発明の構成において、前記複数のビームを射出
する光源部とその光源部が固定されるハウジングとを更
に有し、前記光源部には前記ハウジングに対する位置決
めを行うために長さ可変の脚部が複数設けられており、
その一部の脚部が残りの脚部とは異なった量だけ長さを
変化させることにより前記第１調整手段として機能し、
全ての脚部が同じ量だけ長さを変化させることにより前
記第２調整手段として機能することを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施したタンデム
走査光学装置を、図面を参照しつつ説明する。図１と図
２に、カラー画像形成装置(カラーレーザプリンタ，カ
ラーデジタル複写機等)に使用されるタンデム走査光学
装置の第１の実施の形態を示す。図１は光路分離部分を
主として示す副走査断面図であり、図２は光路合成部分
を主として示す主走査平面図である。
走査光学装置を、図面を参照しつつ説明する。図１と図
２に、カラー画像形成装置(カラーレーザプリンタ，カ
ラーデジタル複写機等)に使用されるタンデム走査光学
装置の第１の実施の形態を示す。図１は光路分離部分を
主として示す副走査断面図であり、図２は光路合成部分
を主として示す主走査平面図である。
【０００９】図１，図２中、1は偏向器(ここではポリゴ
ンミラーを示すがこれに限らない。)、1Sは偏向反射面
(つまりミラー面から成る偏向面)、2ポリゴンウィンド
ウ、3,4はｆθレンズ、10はハウジング、LY,LM,LC,LKは
レーザビーム、AXはｆθレンズ(3,4)の光軸である。図
１中、5Y,5M,5C,5K;6M,6C,6Kは反射ミラー、7Y,7M,7C,7
Kは長尺シリンドリカルレンズ、8Y,8M,8C,8Kはプリント
ヘッドウィンドウ、9Y,9M,9C,9Kは感光体、40はＳＯＳ
(Start Of Scanning)センサである。また図２中、11Y,1
1M,11C,11Kは半導体レーザ、12Y,12M,12C,12Kはコリメ
ータレンズ、13Y,13M,13C,13Kはスリット、14,15,18は
ハーフミラー、16,17はシリンドリカルレンズ、19は反
射ミラー、20は光源部、30は光源部支持部材、31は取り
付け部、31hは長穴である。なお、ハーフミラー(14,15,
18)を反射ミラーとし、光路を干渉しないように副走査
方向に高さをずらして配置することで空間的に合成する
形態でもよい。
ンミラーを示すがこれに限らない。)、1Sは偏向反射面
(つまりミラー面から成る偏向面)、2ポリゴンウィンド
ウ、3,4はｆθレンズ、10はハウジング、LY,LM,LC,LKは
レーザビーム、AXはｆθレンズ(3,4)の光軸である。図
１中、5Y,5M,5C,5K;6M,6C,6Kは反射ミラー、7Y,7M,7C,7
Kは長尺シリンドリカルレンズ、8Y,8M,8C,8Kはプリント
ヘッドウィンドウ、9Y,9M,9C,9Kは感光体、40はＳＯＳ
(Start Of Scanning)センサである。また図２中、11Y,1
1M,11C,11Kは半導体レーザ、12Y,12M,12C,12Kはコリメ
ータレンズ、13Y,13M,13C,13Kはスリット、14,15,18は
ハーフミラー、16,17はシリンドリカルレンズ、19は反
射ミラー、20は光源部、30は光源部支持部材、31は取り
付け部、31hは長穴である。なお、ハーフミラー(14,15,
18)を反射ミラーとし、光路を干渉しないように副走査
方向に高さをずらして配置することで空間的に合成する
形態でもよい。
【００１０】このタンデム走査光学装置には、回転によ
り偏向走査を行う偏向器(1)の同一偏向反射面(1S)に対
して、ＹＭＣＫの各色に対応した４本のレーザビーム(L
Y,LM,LC,LK)を副走査方向に互いに異なる角度で入射さ
せることにより、主走査方向への偏向走査とともに副走
査方向への光路分離を行う合成・分離方式が採用されて
いる。また、感光体(9Y,9M,9C,9K)以外の部分はハウジ
ング(10)内に位置決めされた状態で取り付けられてお
り、ハウジング(10)に設けられているプリントヘッドウ
ィンドウ(8Y,8M,8C,8K)から射出したレーザビーム(LY,L
M,LC,LK)で、ＹＭＣＫの各色に対応した４つの感光体(9
Y,9M,9C,9K)に対する画像の露光記録を同時に行う構成
になっている。なお、主走査方向はレーザビーム(LY,L
M,LC,LK)が偏向することにより各感光体(9Y,9M,9C,9K)
を走査する方向であり、副走査方向は主走査方向に対し
て垂直な方向(図２の紙面に対して垂直方向)である。
り偏向走査を行う偏向器(1)の同一偏向反射面(1S)に対
して、ＹＭＣＫの各色に対応した４本のレーザビーム(L
Y,LM,LC,LK)を副走査方向に互いに異なる角度で入射さ
せることにより、主走査方向への偏向走査とともに副走
査方向への光路分離を行う合成・分離方式が採用されて
いる。また、感光体(9Y,9M,9C,9K)以外の部分はハウジ
ング(10)内に位置決めされた状態で取り付けられてお
り、ハウジング(10)に設けられているプリントヘッドウ
ィンドウ(8Y,8M,8C,8K)から射出したレーザビーム(LY,L
M,LC,LK)で、ＹＭＣＫの各色に対応した４つの感光体(9
Y,9M,9C,9K)に対する画像の露光記録を同時に行う構成
になっている。なお、主走査方向はレーザビーム(LY,L
M,LC,LK)が偏向することにより各感光体(9Y,9M,9C,9K)
を走査する方向であり、副走査方向は主走査方向に対し
て垂直な方向(図２の紙面に対して垂直方向)である。
【００１１】走査光学装置各部の構成を説明する。図２
に示すように光源部(20)は、半導体レーザ(11Y,11M,11
C,11K)，コリメータレンズ(12Y,12M,12C,12K)，スリッ
ト(13Y,13M,13C,13K)，ハーフミラー(14,15,18)及びシ
リンドリカルレンズ(16,17)と、それらの光学エレメン
トを一体的に支持する光源部支持部材(30)と、で構成さ
れている。そしてこの光源部(20)では、４本のレーザビ
ーム(LY,LM,LC,LK)の光路の相対位置調整がなされてい
る。つまり、偏向器(1)を射出するレーザビーム(LY,LM,
LC,LK)が空間的に光路分離されるように、Ｙのレーザビ
ーム(LY)の光路を基準とした他の色のレーザビーム(LM,
LC,LK)の光路の相対位置調整が、光源部支持部材(30)上
において完了している。
に示すように光源部(20)は、半導体レーザ(11Y,11M,11
C,11K)，コリメータレンズ(12Y,12M,12C,12K)，スリッ
ト(13Y,13M,13C,13K)，ハーフミラー(14,15,18)及びシ
リンドリカルレンズ(16,17)と、それらの光学エレメン
トを一体的に支持する光源部支持部材(30)と、で構成さ
れている。そしてこの光源部(20)では、４本のレーザビ
ーム(LY,LM,LC,LK)の光路の相対位置調整がなされてい
る。つまり、偏向器(1)を射出するレーザビーム(LY,LM,
LC,LK)が空間的に光路分離されるように、Ｙのレーザビ
ーム(LY)の光路を基準とした他の色のレーザビーム(LM,
LC,LK)の光路の相対位置調整が、光源部支持部材(30)上
において完了している。
【００１２】各半導体レーザ(11Y,11M,11C,11K)から
は、ＹＭＣＫの各色に対応したレーザビーム(LY,LM,LC,
LK)が１本ずつ発せられる。各レーザビーム(LY,LM,LC,L
K)は、コリメータレンズ(12Y,12M,12C,12K)で平行光化
された後、ビーム整形用のスリット(13Y,13M,13C,13K)
を通過する。なお、２本以上のレーザビームを射出する
マルチビームタイプの半導体レーザを用いて、１つの感
光体に対する露光走査を２本以上のレーザビームで行う
構成にしても構わない。また、レーザビームの数は４本
に限らず、装置の光学構成に応じて必要となる複数のレ
ーザビームを光源部(20)が射出するように構成すればよ
い。
は、ＹＭＣＫの各色に対応したレーザビーム(LY,LM,LC,
LK)が１本ずつ発せられる。各レーザビーム(LY,LM,LC,L
K)は、コリメータレンズ(12Y,12M,12C,12K)で平行光化
された後、ビーム整形用のスリット(13Y,13M,13C,13K)
を通過する。なお、２本以上のレーザビームを射出する
マルチビームタイプの半導体レーザを用いて、１つの感
光体に対する露光走査を２本以上のレーザビームで行う
構成にしても構わない。また、レーザビームの数は４本
に限らず、装置の光学構成に応じて必要となる複数のレ
ーザビームを光源部(20)が射出するように構成すればよ
い。
【００１３】スリット(13Y,13M,13C,13K)を通過した４
本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)のうち、ＹとＫのレー
ザビーム(LY,LK)はハーフミラー(14)で主走査方向に光
路合成され、シリンドリカルレンズ(16)で副走査方向に
集光される。同様に、ＭとＣのレーザビーム(LM,LC)は
ハーフミラー(15)で主走査方向に光路合成され、シリン
ドリカルレンズ(17)で副走査方向に集光される。シリン
ドリカルレンズ(16,17)を通過したレーザビーム(LY,LM,
LC,LK)は、最終的にハーフミラー(18)で主走査方向に光
路合成され、主走査方向については略平行光となり、副
走査方向については偏向器(1)の偏向反射面(1S)近傍で
集光することになる。
本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)のうち、ＹとＫのレー
ザビーム(LY,LK)はハーフミラー(14)で主走査方向に光
路合成され、シリンドリカルレンズ(16)で副走査方向に
集光される。同様に、ＭとＣのレーザビーム(LM,LC)は
ハーフミラー(15)で主走査方向に光路合成され、シリン
ドリカルレンズ(17)で副走査方向に集光される。シリン
ドリカルレンズ(16,17)を通過したレーザビーム(LY,LM,
LC,LK)は、最終的にハーフミラー(18)で主走査方向に光
路合成され、主走査方向については略平行光となり、副
走査方向については偏向器(1)の偏向反射面(1S)近傍で
集光することになる。
【００１４】光源部(20)から射出した４本のレーザビー
ム(LY,LM,LC,LK)は、反射ミラー(19)で同時に反射され
た後、偏向器(1)において同一位置にある１つの偏向反
射面(S)で同時に偏向反射される。このとき、偏向反射
面(1S)には４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)が副走査
方向に互いに異なる角度で入射し、図１に示すように異
なる角度で偏向反射される。偏向反射された４本のレー
ザビーム(LY,LM,LC,LK)は、空間的に光路分離されなが
ら、ポリゴンウィンドウ(2)とｆθレンズ(3,4)を通過す
る。したがって、ＹＭＣＫの４色同時に結像性能を満足
させるためには、レーザビーム(LY,LM,LC,LK)の光路が
各々ｆθレンズ(3,4)の所定位置を通過すること(つまり
光路分離精度)が重要になる。
ム(LY,LM,LC,LK)は、反射ミラー(19)で同時に反射され
た後、偏向器(1)において同一位置にある１つの偏向反
射面(S)で同時に偏向反射される。このとき、偏向反射
面(1S)には４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)が副走査
方向に互いに異なる角度で入射し、図１に示すように異
なる角度で偏向反射される。偏向反射された４本のレー
ザビーム(LY,LM,LC,LK)は、空間的に光路分離されなが
ら、ポリゴンウィンドウ(2)とｆθレンズ(3,4)を通過す
る。したがって、ＹＭＣＫの４色同時に結像性能を満足
させるためには、レーザビーム(LY,LM,LC,LK)の光路が
各々ｆθレンズ(3,4)の所定位置を通過すること(つまり
光路分離精度)が重要になる。
【００１５】ｆθレンズ(3,4)を通過した４本のレーザ
ビーム(LY,LM,LC,LK)のうち、Ｙのレーザビーム(LY)は
反射ミラー(5Y)で反射された後、長尺シリンドリカルレ
ンズ(7Y)とプリントヘッドウィンドウ(8Y)を通って感光
体(9Y)上で結像する。Ｍのレーザビーム(LM)は反射ミラ
ー(5M,6M)で反射された後、長尺シリンドリカルレンズ
(7M)とプリントヘッドウィンドウ(8M)を通って感光体(9
M)上で結像する。Ｃのレーザビーム(LC)は反射ミラー(5
C,6C)で反射された後、長尺シリンドリカルレンズ(7C)
とプリントヘッドウィンドウ(8C)を通って感光体(9C)上
で結像する。Ｋのレーザビーム(LK)は反射ミラー(5K,6
K)で反射された後、長尺シリンドリカルレンズ(7K)とプ
リントヘッドウィンドウ(8K)を通って感光体(9K)上で結
像する。以上のようにして、４本のレーザビーム(LY,L
M,LC,LK)により４つの感光体(9Y,9M,9C,9K)に対する露
光走査が同時に行われる。なお、ｆθレンズ(3,4)を通
過した４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)は、空間的に
光路分離されながら反射ミラー(5M,5C,5K)の極近傍を通
過することになるため、光路欠損が生じないように、こ
の場合も光路分離精度が重要になる。
ビーム(LY,LM,LC,LK)のうち、Ｙのレーザビーム(LY)は
反射ミラー(5Y)で反射された後、長尺シリンドリカルレ
ンズ(7Y)とプリントヘッドウィンドウ(8Y)を通って感光
体(9Y)上で結像する。Ｍのレーザビーム(LM)は反射ミラ
ー(5M,6M)で反射された後、長尺シリンドリカルレンズ
(7M)とプリントヘッドウィンドウ(8M)を通って感光体(9
M)上で結像する。Ｃのレーザビーム(LC)は反射ミラー(5
C,6C)で反射された後、長尺シリンドリカルレンズ(7C)
とプリントヘッドウィンドウ(8C)を通って感光体(9C)上
で結像する。Ｋのレーザビーム(LK)は反射ミラー(5K,6
K)で反射された後、長尺シリンドリカルレンズ(7K)とプ
リントヘッドウィンドウ(8K)を通って感光体(9K)上で結
像する。以上のようにして、４本のレーザビーム(LY,L
M,LC,LK)により４つの感光体(9Y,9M,9C,9K)に対する露
光走査が同時に行われる。なお、ｆθレンズ(3,4)を通
過した４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)は、空間的に
光路分離されながら反射ミラー(5M,5C,5K)の極近傍を通
過することになるため、光路欠損が生じないように、こ
の場合も光路分離精度が重要になる。
【００１６】４つの長尺シリンドリカルレンズ(7Y,7M,7
C,7K)は、全て同一形状(面形状は副走査方向に非対称)
・同一材料から成る樹脂成型品であるが、Ｙ，Ｍの長尺
シリンドリカルレンズ(7Y,7M)とＣ，Ｋの長尺シリンド
リカルレンズ(7C,7K)とでは配置方向が異なっている。
ただし、ビーム通過位置も変えているため、実際にはＹ
の長尺シリンドリカルレンズ(7Y)とＫの長尺シリンドリ
カルレンズ(7K)とでビーム通過位置が同一になってお
り、Ｍの長尺シリンドリカルレンズ(7M)とＣの長尺シリ
ンドリカルレンズ(7C)とでビーム通過位置が同一になっ
ている。したがって、ｆθレンズ(3,4)の光学的等価位
置{光軸(AX)から遠い対称位置}を通過するＹとＫのレー
ザビーム(LY,LK)がＹとＫの長尺シリンドリカルレンズ
(7Y,7K)の同一位置を通過することになり、一方、ｆθ
レンズ(3,4)の光学的等価位置{光軸(AX)寄りの対称位
置}を通過するＭとＣのレーザビーム(LM,LC)がＭとＣの
長尺シリンドリカルレンズ(7M,7C)の同一位置を通過す
ることになる。
C,7K)は、全て同一形状(面形状は副走査方向に非対称)
・同一材料から成る樹脂成型品であるが、Ｙ，Ｍの長尺
シリンドリカルレンズ(7Y,7M)とＣ，Ｋの長尺シリンド
リカルレンズ(7C,7K)とでは配置方向が異なっている。
ただし、ビーム通過位置も変えているため、実際にはＹ
の長尺シリンドリカルレンズ(7Y)とＫの長尺シリンドリ
カルレンズ(7K)とでビーム通過位置が同一になってお
り、Ｍの長尺シリンドリカルレンズ(7M)とＣの長尺シリ
ンドリカルレンズ(7C)とでビーム通過位置が同一になっ
ている。したがって、ｆθレンズ(3,4)の光学的等価位
置{光軸(AX)から遠い対称位置}を通過するＹとＫのレー
ザビーム(LY,LK)がＹとＫの長尺シリンドリカルレンズ
(7Y,7K)の同一位置を通過することになり、一方、ｆθ
レンズ(3,4)の光学的等価位置{光軸(AX)寄りの対称位
置}を通過するＭとＣのレーザビーム(LM,LC)がＭとＣの
長尺シリンドリカルレンズ(7M,7C)の同一位置を通過す
ることになる。
【００１７】ここで、図２に示す光源部(20)において、
ＹとＫのレーザビーム(LY,LK)の集光にシリンドリカル
レンズ(16)を共通に使用し、ＭとＣのレーザビーム(LM,
LC)の集光にシリンドリカルレンズ(17)を共通に使用し
ている理由を説明する。長尺シリンドリカルレンズ(7Y,
7M,7C,7K)は主に副走査方向のパワーを有しており、Ｙ
とＫのレーザビーム(LY,LK)が長尺シリンドリカルレン
ズ(7Y,7K)を通過する際のビーム通過位置でも、ＭとＣ
のレーザビーム(LM,LC)が長尺シリンドリカルレンズ(7
M,7C)を通過する際のビーム通過位置でも、レンズバッ
クが同一となるように設計されている。しかしながら、
ＹとＫの長尺シリンドリカルレンズ(7Y,7K)とＭとＣの
長尺シリンドリカルレンズ(7M,7C)とでは、実際には加
工誤差等によりレンズバックが若干変化する。
ＹとＫのレーザビーム(LY,LK)の集光にシリンドリカル
レンズ(16)を共通に使用し、ＭとＣのレーザビーム(LM,
LC)の集光にシリンドリカルレンズ(17)を共通に使用し
ている理由を説明する。長尺シリンドリカルレンズ(7Y,
7M,7C,7K)は主に副走査方向のパワーを有しており、Ｙ
とＫのレーザビーム(LY,LK)が長尺シリンドリカルレン
ズ(7Y,7K)を通過する際のビーム通過位置でも、ＭとＣ
のレーザビーム(LM,LC)が長尺シリンドリカルレンズ(7
M,7C)を通過する際のビーム通過位置でも、レンズバッ
クが同一となるように設計されている。しかしながら、
ＹとＫの長尺シリンドリカルレンズ(7Y,7K)とＭとＣの
長尺シリンドリカルレンズ(7M,7C)とでは、実際には加
工誤差等によりレンズバックが若干変化する。
【００１８】そこで本実施の形態では、長尺シリンドリ
カルレンズ(7Y,7K)での通過位置が同一のＹとＫのレー
ザビーム(LY,LK)の組み合わせに、光源部(20)のシリン
ドリカルレンズ(16)を共通に使用し、また、長尺シリン
ドリカルレンズ(7M,7C)での通過位置が同一のＭとＣの
レーザビーム(LM,LC)の組み合わせに、光源部(20)のシ
リンドリカルレンズ(17)を共通に使用している。このよ
うにシリンドリカルレンズ(16,17)を共通に使用するこ
とによって、シリンドリカルレンズ枚数の低減を図るこ
とが可能になるとともに、前記加工誤差等によるレンズ
バック変化の補償(つまりフォーカス調整)を容易に行う
ことが可能になる。なお本実施の形態では、長尺シリン
ドリカルレンズの加工誤差を考慮してシリンドリカルレ
ンズ２枚で補償する構成をとっているが、長尺シリンド
リカルレンズの加工誤差が無視できるレベルであれば、
シリンドリカルレンズは１枚でも差し支えない。
カルレンズ(7Y,7K)での通過位置が同一のＹとＫのレー
ザビーム(LY,LK)の組み合わせに、光源部(20)のシリン
ドリカルレンズ(16)を共通に使用し、また、長尺シリン
ドリカルレンズ(7M,7C)での通過位置が同一のＭとＣの
レーザビーム(LM,LC)の組み合わせに、光源部(20)のシ
リンドリカルレンズ(17)を共通に使用している。このよ
うにシリンドリカルレンズ(16,17)を共通に使用するこ
とによって、シリンドリカルレンズ枚数の低減を図るこ
とが可能になるとともに、前記加工誤差等によるレンズ
バック変化の補償(つまりフォーカス調整)を容易に行う
ことが可能になる。なお本実施の形態では、長尺シリン
ドリカルレンズの加工誤差を考慮してシリンドリカルレ
ンズ２枚で補償する構成をとっているが、長尺シリンド
リカルレンズの加工誤差が無視できるレベルであれば、
シリンドリカルレンズは１枚でも差し支えない。
【００１９】次に、感光体(9Y,9M,9C,9K)上への光路位
置、姿勢の調整について述べる。本実施の形態のような
タンデム走査光学装置においては、各色画像の印字位置
精度が画像品質に大きく影響する。各色における印字位
置バラツキ，印字ライン傾き等のマクロなズレは、特開
平６−５１６０７号公報や特開２０００−２５８９７２
号公報に開示されているようなレジスト補正技術により
補正することができる。しかしながら、主走査方向にお
ける印字ドットの疎密のようなミクロなズレを現在の技
術で補正しようとすると、制御系のコストアップを招い
ていしまう。したがって、この印字ドットの疎密の原因
となる倍率非対称性を低減させておく必要がある。
置、姿勢の調整について述べる。本実施の形態のような
タンデム走査光学装置においては、各色画像の印字位置
精度が画像品質に大きく影響する。各色における印字位
置バラツキ，印字ライン傾き等のマクロなズレは、特開
平６−５１６０７号公報や特開２０００−２５８９７２
号公報に開示されているようなレジスト補正技術により
補正することができる。しかしながら、主走査方向にお
ける印字ドットの疎密のようなミクロなズレを現在の技
術で補正しようとすると、制御系のコストアップを招い
ていしまう。したがって、この印字ドットの疎密の原因
となる倍率非対称性を低減させておく必要がある。
【００２０】本実施の形態のタンデム走査光学装置にお
ける倍率非対称性の調整は、Ｙのレーザビーム(LY)を基
準にして残りのＭＣＫのレーザビーム(LM,LC,LK)を反射
ミラー(5M,5C,5K)で揃えることによって行う。ＭＣＫの
反射ミラー(5M,5C,5K)は１５°以下の入射角(又は反射
角)に設定されており、その反射ミラー(5M,5C,5K)を短
辺軸まわりに回転調整することにより倍率非対称性の調
整を行う。ＭＣＫの反射ミラー(5M,5C,5K)を１５°以下
の入射角(又は反射角)に設定しているのは、調整したと
きに同時に発生するスキューずれを極力抑えるためであ
る。
ける倍率非対称性の調整は、Ｙのレーザビーム(LY)を基
準にして残りのＭＣＫのレーザビーム(LM,LC,LK)を反射
ミラー(5M,5C,5K)で揃えることによって行う。ＭＣＫの
反射ミラー(5M,5C,5K)は１５°以下の入射角(又は反射
角)に設定されており、その反射ミラー(5M,5C,5K)を短
辺軸まわりに回転調整することにより倍率非対称性の調
整を行う。ＭＣＫの反射ミラー(5M,5C,5K)を１５°以下
の入射角(又は反射角)に設定しているのは、調整したと
きに同時に発生するスキューずれを極力抑えるためであ
る。
【００２１】また、主走査方向の印字位置精度を上げる
ためには、ＹＭＣＫの４色のうちのいずれかの光路から
分岐したレーザビーム(LY,LM,LC,LK)をセンサで検知し
て、画像タイミングを合わせる必要がある。本実施の形
態のタンデム走査光学装置においては、ｆθレンズ(3,
4)と反射ミラー(5K)との間の画像有効域外に配置したＳ
ＯＳセンサ(40)でＫのレーザビーム(LK)を検知して、画
像タイミングを合わせている。ＳＯＳの検知にＫのレー
ザビーム(LK)を使用しているのは、ｆθレンズ(4)から
感光体(9Y,9M,9C,9K)までの光路において光学エレメン
トの数が最も多いレーザビーム(LM,LC,LK)の一つがＫの
レーザビーム(LK)だからである。
ためには、ＹＭＣＫの４色のうちのいずれかの光路から
分岐したレーザビーム(LY,LM,LC,LK)をセンサで検知し
て、画像タイミングを合わせる必要がある。本実施の形
態のタンデム走査光学装置においては、ｆθレンズ(3,
4)と反射ミラー(5K)との間の画像有効域外に配置したＳ
ＯＳセンサ(40)でＫのレーザビーム(LK)を検知して、画
像タイミングを合わせている。ＳＯＳの検知にＫのレー
ザビーム(LK)を使用しているのは、ｆθレンズ(4)から
感光体(9Y,9M,9C,9K)までの光路において光学エレメン
トの数が最も多いレーザビーム(LM,LC,LK)の一つがＫの
レーザビーム(LK)だからである。
【００２２】ここでは、光学エレメントの数がＹとＭＣ
Ｋとで異なっていても、感光体(9Y,9M,9C,9K)上での光
量がＹＭＣＫの４色で同一となるようにするために、ｆ
θレンズ(4)射出直後におけるＭＣＫのレーザビーム(L
M,LC,LK)の光量がＹのレーザビーム(LY)の光量よりも高
くなるように調整している。したがって、ＭＣＫのレー
ザビーム(LM,LC,LK)のいずれかをＳＯＳの検知に使用す
れば、ＳＯＳセンサ(40)の受光面での光量を高く設定す
ることができるためＳ／Ｎ比が上がり、ＳＯＳセンサ(4
0)の光増幅率を上げなくても済むことになる。これによ
り、仮に迷光がＳＯＳセンサ(40)に入射したとしてもノ
イズとなり、印字位置精度の低下を防止することができ
る。
Ｋとで異なっていても、感光体(9Y,9M,9C,9K)上での光
量がＹＭＣＫの４色で同一となるようにするために、ｆ
θレンズ(4)射出直後におけるＭＣＫのレーザビーム(L
M,LC,LK)の光量がＹのレーザビーム(LY)の光量よりも高
くなるように調整している。したがって、ＭＣＫのレー
ザビーム(LM,LC,LK)のいずれかをＳＯＳの検知に使用す
れば、ＳＯＳセンサ(40)の受光面での光量を高く設定す
ることができるためＳ／Ｎ比が上がり、ＳＯＳセンサ(4
0)の光増幅率を上げなくても済むことになる。これによ
り、仮に迷光がＳＯＳセンサ(40)に入射したとしてもノ
イズとなり、印字位置精度の低下を防止することができ
る。
【００２３】また、光学エレメントの数がＹとＭＣＫと
で異なっていても、反射率の低い反射ミラー(5Y)を使用
することにより、感光体(9Y,9M,9C,9K)上での光量をＹ
ＭＣＫの４色で同一にすることができる。その場合、ｆ
θレンズ(4)射出直後におけるＭＣＫのレーザビーム(L
M,LC,LK)の光量をＹのレーザビーム(LY)の光量よりも高
くする必要がないので、ＳＯＳの検知に使用するレーザ
ビーム(LY,LM,LC,LK)の選択に制限を受けなくなる。
で異なっていても、反射率の低い反射ミラー(5Y)を使用
することにより、感光体(9Y,9M,9C,9K)上での光量をＹ
ＭＣＫの４色で同一にすることができる。その場合、ｆ
θレンズ(4)射出直後におけるＭＣＫのレーザビーム(L
M,LC,LK)の光量をＹのレーザビーム(LY)の光量よりも高
くする必要がないので、ＳＯＳの検知に使用するレーザ
ビーム(LY,LM,LC,LK)の選択に制限を受けなくなる。
【００２４】各反射ミラー(5Y,5M,5C,5K;6M,6C,6K)は、
入射してくるレーザビーム(LY,LM,LC,LK)の対応色によ
ってその入射角度が異なるため、各反射ミラー(5Y,5M,5
C,5K;6M,6C,6K)の反射率だけでなく入射角度によっても
反射光量に色毎の違いが生じてしまう。したがって、感
光体(9Y,9M,9C,9K)上で最終的に必要となる光量をＹＭ
ＣＫの４色で同一にするために、ｆθレンズ(4)射出直
後のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)に色毎の光量差が生じ
た場合には、最も光量の高いレーザビーム(LY,LM,LC,L
K)をＳＯＳの検知に使用することが望ましく、それによ
りＳＯＳセンサ(40)の受光面での光量を高く設定するこ
とが可能となる。
入射してくるレーザビーム(LY,LM,LC,LK)の対応色によ
ってその入射角度が異なるため、各反射ミラー(5Y,5M,5
C,5K;6M,6C,6K)の反射率だけでなく入射角度によっても
反射光量に色毎の違いが生じてしまう。したがって、感
光体(9Y,9M,9C,9K)上で最終的に必要となる光量をＹＭ
ＣＫの４色で同一にするために、ｆθレンズ(4)射出直
後のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)に色毎の光量差が生じ
た場合には、最も光量の高いレーザビーム(LY,LM,LC,L
K)をＳＯＳの検知に使用することが望ましく、それによ
りＳＯＳセンサ(40)の受光面での光量を高く設定するこ
とが可能となる。
【００２５】次に、偏向器(1)の偏向反射面(1S)に対す
るレーザビーム(LY,LM,LC,LK)の入射角度及び入射位置
を調整するための光路調整機構を説明する。図３と図４
に、光源部(20)及び反射ミラー(19)における光路調整機
構を副走査断面で示す。図３はレーザビーム(LY,LM,LC,
LK)を平行偏芯させるための光路調整機構を示してお
り、図４はレーザビーム(LY,LM,LC,LK)を回転偏芯させ
るための光路調整機構を示している。また図３中、31は
取り付け部、31hは長穴、32は受け部、31S,32Sは傾斜面
であり、図４中、19Aはミラー支持部材、19Bは板バネ、
19Cは調整ネジである。
るレーザビーム(LY,LM,LC,LK)の入射角度及び入射位置
を調整するための光路調整機構を説明する。図３と図４
に、光源部(20)及び反射ミラー(19)における光路調整機
構を副走査断面で示す。図３はレーザビーム(LY,LM,LC,
LK)を平行偏芯させるための光路調整機構を示してお
り、図４はレーザビーム(LY,LM,LC,LK)を回転偏芯させ
るための光路調整機構を示している。また図３中、31は
取り付け部、31hは長穴、32は受け部、31S,32Sは傾斜面
であり、図４中、19Aはミラー支持部材、19Bは板バネ、
19Cは調整ネジである。
【００２６】前述したように、各色の結像性能を向上さ
せたり光路欠損を防止したりするには、光路分離精度が
重要になる。光路分離精度を上げるには、レーザビーム
(LY,LM,LC,LK)の入射角度及び入射位置の調整を容易か
つ高精度に行うことの可能な光路調整機構が必要であ
る。本実施の形態では、偏向器(1)の同一偏向反射面(1
S)に対する４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)の入射角
度を副走査方向に調整するために、４本のレーザビーム
(LY,LM,LC,LK)を同時に回転偏芯させる第１調整手段
と、偏向器(1)の同一偏向反射面(1S)に対する４本のレ
ーザビーム(LY,LM,LC,LK)の入射位置を副走査方向に調
整するために、４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)を同
時に平行偏芯させる第２調整手段と、を光路調整機構と
して有している。
せたり光路欠損を防止したりするには、光路分離精度が
重要になる。光路分離精度を上げるには、レーザビーム
(LY,LM,LC,LK)の入射角度及び入射位置の調整を容易か
つ高精度に行うことの可能な光路調整機構が必要であ
る。本実施の形態では、偏向器(1)の同一偏向反射面(1
S)に対する４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)の入射角
度を副走査方向に調整するために、４本のレーザビーム
(LY,LM,LC,LK)を同時に回転偏芯させる第１調整手段
と、偏向器(1)の同一偏向反射面(1S)に対する４本のレ
ーザビーム(LY,LM,LC,LK)の入射位置を副走査方向に調
整するために、４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)を同
時に平行偏芯させる第２調整手段と、を光路調整機構と
して有している。
【００２７】前記第１調整手段は、反射ミラー(19)の向
きを調整可能に変化させるミラー調整部で構成されてい
る。そのミラー調整部は、図４に示すように、板バネ(1
9B)で押圧されている反射ミラー(19)の上部を矢印D3方
向に移動可能な調整ネジ(19C)で位置決めすることによ
り、反射ミラー(19)を水平面に対してアオリ調整するこ
とが可能な構成になっている。このアオリ調整により、
レーザビーム(LY,LM,LC,LK)を４本同時に副走査方向に
回転偏芯(矢印D4方向)させて、偏向反射面(1S)に対する
レーザビーム(LY,LM,LC,LK)の入射角度を副走査方向に
調整することが可能である。このときの入射角度の変化
に伴って入射位置も変化するが、その入射位置は後述の
光源調整部(図３)により調整可能である。
きを調整可能に変化させるミラー調整部で構成されてい
る。そのミラー調整部は、図４に示すように、板バネ(1
9B)で押圧されている反射ミラー(19)の上部を矢印D3方
向に移動可能な調整ネジ(19C)で位置決めすることによ
り、反射ミラー(19)を水平面に対してアオリ調整するこ
とが可能な構成になっている。このアオリ調整により、
レーザビーム(LY,LM,LC,LK)を４本同時に副走査方向に
回転偏芯(矢印D4方向)させて、偏向反射面(1S)に対する
レーザビーム(LY,LM,LC,LK)の入射角度を副走査方向に
調整することが可能である。このときの入射角度の変化
に伴って入射位置も変化するが、その入射位置は後述の
光源調整部(図３)により調整可能である。
【００２８】前記第２調整手段は、光源部(20)を調整可
能に平行移動させる光源調整部で構成されている。その
光源調整部は、図３に示すように、光源部支持部材(30)
に設けられている取り付け部(31)、ハウジング(10)上に
形成されている受け部(32)等で構成されている。光源部
支持部材(30)側の取り付け部(31)は、水平面に対して一
定の角度だけ傾斜した傾斜面(31S)を有しており、これ
に対向するハウジング(10)側の受け部(32)も同一角度の
傾斜面(32S)を有している。この傾斜面(31S,32S)同士を
接触させながら矢印D2方向にスライドさせると光源部支
持部材(30)が水平面に対して平行偏芯するため、レーザ
ビーム(LY,LM,LC,LK)を４本同時に副走査方向に平行偏
芯(矢印D1方向)させて、偏向反射面(1S)に対するレーザ
ビーム(LY,LM,LC,LK)の入射位置を副走査方向に調整す
ることが可能である。このときの入射位置の変化に伴っ
てフォーカス位置も変化するが、微小であるため問題は
ない(ただし、必要に応じてフォーカス調整を行っても
よい。)。なお、ハウジング(10)と光源部支持部材(30)
との固定は、取り付け部(31)に形成されている長穴(31
h)でのネジ止めにより行われる。
能に平行移動させる光源調整部で構成されている。その
光源調整部は、図３に示すように、光源部支持部材(30)
に設けられている取り付け部(31)、ハウジング(10)上に
形成されている受け部(32)等で構成されている。光源部
支持部材(30)側の取り付け部(31)は、水平面に対して一
定の角度だけ傾斜した傾斜面(31S)を有しており、これ
に対向するハウジング(10)側の受け部(32)も同一角度の
傾斜面(32S)を有している。この傾斜面(31S,32S)同士を
接触させながら矢印D2方向にスライドさせると光源部支
持部材(30)が水平面に対して平行偏芯するため、レーザ
ビーム(LY,LM,LC,LK)を４本同時に副走査方向に平行偏
芯(矢印D1方向)させて、偏向反射面(1S)に対するレーザ
ビーム(LY,LM,LC,LK)の入射位置を副走査方向に調整す
ることが可能である。このときの入射位置の変化に伴っ
てフォーカス位置も変化するが、微小であるため問題は
ない(ただし、必要に応じてフォーカス調整を行っても
よい。)。なお、ハウジング(10)と光源部支持部材(30)
との固定は、取り付け部(31)に形成されている長穴(31
h)でのネジ止めにより行われる。
【００２９】前述したように光源部(20)では４本のレー
ザビーム(LY,LM,LC,LK)の光路の相対位置調整が完了し
ているため、上記ミラー調整部(図４)と光源調整部(図
３)で４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)を同時一体的に
光路調整すれば、偏向反射面(1S)に対するレーザビーム
(LY,LM,LC,LK)の入射角度及び入射位置を容易かつ高精
度で調整することができる。その結果、偏向器(1)で反
射された４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)は、その相
対的な光路関係を保ったまま、偏向器(1)から所望の位
置・角度で射出することになり、その高い光路分離精度
により、反射ミラー(5M,5C,5K)で光路をケラレることな
く、ｆθレンズ(3,4)の所定位置を通過することができ
る。
ザビーム(LY,LM,LC,LK)の光路の相対位置調整が完了し
ているため、上記ミラー調整部(図４)と光源調整部(図
３)で４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)を同時一体的に
光路調整すれば、偏向反射面(1S)に対するレーザビーム
(LY,LM,LC,LK)の入射角度及び入射位置を容易かつ高精
度で調整することができる。その結果、偏向器(1)で反
射された４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)は、その相
対的な光路関係を保ったまま、偏向器(1)から所望の位
置・角度で射出することになり、その高い光路分離精度
により、反射ミラー(5M,5C,5K)で光路をケラレることな
く、ｆθレンズ(3,4)の所定位置を通過することができ
る。
【００３０】以上説明した第１実施の形態(図１〜図４)
では、レーザビーム(LY,LM,LC,LK)を回転偏芯させるミ
ラー調整部(図４)と、レーザビーム(LY,LM,LC,LK)を平
行偏芯させる光源調整部(図３)とが、反射ミラー(19)側
と光源部(20)側とに機能分離されているが、その両方の
機能を光源部(20)側に搭載しても同様の結果が得られる
ことは言うまでもない。そのように構成されたタンデム
走査光学装置を以下に説明する。
では、レーザビーム(LY,LM,LC,LK)を回転偏芯させるミ
ラー調整部(図４)と、レーザビーム(LY,LM,LC,LK)を平
行偏芯させる光源調整部(図３)とが、反射ミラー(19)側
と光源部(20)側とに機能分離されているが、その両方の
機能を光源部(20)側に搭載しても同様の結果が得られる
ことは言うまでもない。そのように構成されたタンデム
走査光学装置を以下に説明する。
【００３１】図５と図６に、第２の実施の形態のタンデ
ム走査光学装置を示す。図５，図６は、前述した第１の
実施の形態の構成を示す図２，図３にそれぞれ対応して
おり、第１の実施の形態と同一の部分や相当する部分に
は同一の符号を付してある。第２の実施の形態では、光
源部(20)を構成している光源部支持部材(30)に、光路調
整機構として長さ可変の脚部(33)が３つ設けられてお
り、３つの脚部(33)でハウジング(10)に対する光源部(2
0)の位置決め及び固定が行われる。脚部(33)はいずれも
ネジ構造を有しており、回転させると長さが変化して、
その位置でのハウジング(10)と光源部支持部材(30)との
間隔を変化させる。したがって、１つ又は２つの脚部(3
3)が残りの脚部(33)とは異なった量だけ長さを変化させ
ることにより、前記第１調整手段として機能することに
なり、また、全ての脚部(33)が同じ量だけ長さを変化さ
せることにより、前記第２調整手段として機能すること
になる。
ム走査光学装置を示す。図５，図６は、前述した第１の
実施の形態の構成を示す図２，図３にそれぞれ対応して
おり、第１の実施の形態と同一の部分や相当する部分に
は同一の符号を付してある。第２の実施の形態では、光
源部(20)を構成している光源部支持部材(30)に、光路調
整機構として長さ可変の脚部(33)が３つ設けられてお
り、３つの脚部(33)でハウジング(10)に対する光源部(2
0)の位置決め及び固定が行われる。脚部(33)はいずれも
ネジ構造を有しており、回転させると長さが変化して、
その位置でのハウジング(10)と光源部支持部材(30)との
間隔を変化させる。したがって、１つ又は２つの脚部(3
3)が残りの脚部(33)とは異なった量だけ長さを変化させ
ることにより、前記第１調整手段として機能することに
なり、また、全ての脚部(33)が同じ量だけ長さを変化さ
せることにより、前記第２調整手段として機能すること
になる。
【００３２】例えば、３つの脚部(33)の長さを同じ量だ
け変化させれば、光源部支持部材(30)が水平面に対して
平行偏芯する。したがって、レーザビーム(LY,LM,LC,L
K)を４本同時に副走査方向に平行偏芯(図６中の矢印D1
方向)させて、偏向反射面(1S)に対するレーザビーム(L
Y,LM,LC,LK)の入射位置を副走査方向に調整することが
可能である。少なくとも１つの脚部(33)の長さを他とは
異なった量だけ変化させれば、光源部支持部材(30)が脚
部(33)の配置と変化量の差に応じて傾斜する。したがっ
て、レーザビーム(LY,LM,LC,LK)を４本同時に副走査方
向に回転偏芯させて、偏向反射面(1S)に対するレーザビ
ーム(LY,LM,LC,LK)の入射角度を副走査方向に調整する
ことが可能である。なお、脚部(33)の数は３つに限ら
ず、２つ又は４つ以上であっても構わない。装置の光学
構成に応じた配置で複数の脚部(33)を設けることによ
り、効果的な光路調整が可能となる。
け変化させれば、光源部支持部材(30)が水平面に対して
平行偏芯する。したがって、レーザビーム(LY,LM,LC,L
K)を４本同時に副走査方向に平行偏芯(図６中の矢印D1
方向)させて、偏向反射面(1S)に対するレーザビーム(L
Y,LM,LC,LK)の入射位置を副走査方向に調整することが
可能である。少なくとも１つの脚部(33)の長さを他とは
異なった量だけ変化させれば、光源部支持部材(30)が脚
部(33)の配置と変化量の差に応じて傾斜する。したがっ
て、レーザビーム(LY,LM,LC,LK)を４本同時に副走査方
向に回転偏芯させて、偏向反射面(1S)に対するレーザビ
ーム(LY,LM,LC,LK)の入射角度を副走査方向に調整する
ことが可能である。なお、脚部(33)の数は３つに限ら
ず、２つ又は４つ以上であっても構わない。装置の光学
構成に応じた配置で複数の脚部(33)を設けることによ
り、効果的な光路調整が可能となる。
【００３３】本実施の形態では脚部(33)が第１調整手段
として機能するため、レーザビーム(LY,LM,LC,LK)を回
転偏芯させるミラー調整部(図４)を反射ミラー(19)に設
ける必要はなく、光源部支持部材(30)上の所定位置に反
射ミラー(19)を直接固定すればよい。ただし、光源部支
持部材(30)上にミラー調整部(図４)を設けて、反射ミラ
ー(19)の向きを調整可能にすれば、前記入射角度の調整
を更に高精度で行うことが可能である。また、装置の光
学構成において反射ミラー(19)を設ける必要がなけれ
ば、光源部(20)から偏向器(1)へ直接レーザビーム(LY,L
M,LC,LK)を入射させるように構成してもよい。
として機能するため、レーザビーム(LY,LM,LC,LK)を回
転偏芯させるミラー調整部(図４)を反射ミラー(19)に設
ける必要はなく、光源部支持部材(30)上の所定位置に反
射ミラー(19)を直接固定すればよい。ただし、光源部支
持部材(30)上にミラー調整部(図４)を設けて、反射ミラ
ー(19)の向きを調整可能にすれば、前記入射角度の調整
を更に高精度で行うことが可能である。また、装置の光
学構成において反射ミラー(19)を設ける必要がなけれ
ば、光源部(20)から偏向器(1)へ直接レーザビーム(LY,L
M,LC,LK)を入射させるように構成してもよい。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るタンデ
ム走査光学装置によれば、第１調整手段により複数のビ
ームが同時に回転偏芯し、第２調整手段により複数のビ
ームが同時に平行偏芯する構成になっているため、偏向
器の同一面に対する複数のビームの入射角度及び入射位
置の調整を容易かつ高精度に行うことができる。
ム走査光学装置によれば、第１調整手段により複数のビ
ームが同時に回転偏芯し、第２調整手段により複数のビ
ームが同時に平行偏芯する構成になっているため、偏向
器の同一面に対する複数のビームの入射角度及び入射位
置の調整を容易かつ高精度に行うことができる。
【図１】第１の実施の形態の光路分離部分を主として示
す副走査断面図。
す副走査断面図。
【図２】第１の実施の形態の光路合成部分を主として示
す主走査平面図。
す主走査平面図。
【図３】第１の実施の形態においてレーザビームを平行
偏芯させるための光路調整機構を示す副走査断面図。
偏芯させるための光路調整機構を示す副走査断面図。
【図４】第１の実施の形態においてレーザビームを回転
偏芯させるための光路調整機構を示す副走査断面図。
偏芯させるための光路調整機構を示す副走査断面図。
【図５】第２の実施の形態の光路合成部分を主として示
す主走査平面図。
す主走査平面図。
【図６】第２の実施の形態においてレーザビームを平行
偏芯及び回転偏芯させるための光路調整機構を示す副走
査断面図。
偏芯及び回転偏芯させるための光路調整機構を示す副走
査断面図。
1 …偏向器
1S …偏向反射面
10 …ハウジング
19 …反射ミラー
19A …ミラー支持部材
19B …板バネ
19C …調整ネジ(ミラー調整部，第１調整手段)
20 …光源部
31 …取り付け部(光源調整部，第２調整手段)
32 …受け部(光源調整部，第２調整手段)
31S,32S …傾斜面
33 …脚部(第１，第２調整手段)
LY,LM,LC,LK …レーザビーム
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 杉浦 司
大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪
国際ビル ミノルタ株式会社内
(72)発明者 谷口 元
大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪
国際ビル ミノルタ株式会社内
(72)発明者 立部 秀成
大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪
国際ビル ミノルタ株式会社内
Ｆターム(参考） 2C362 AA07 AA43 AA47 BA04 BA50
BA51 BA54 BA57 BA71 BA82
2H045 BA22 BA34 DA02 DA04 DA41
5C051 AA02 CA07 DA02 DB30 DC04
DE23 DE24
5C072 AA03 DA02 DA04 HA02 HA06
HA09 HA12 HA20 QA14 XA05
Claims (3)
- 【請求項１】 偏向器の同一面に対して複数のビームを
副走査方向に互いに異なる角度で入射させることによ
り、主走査方向への偏向走査とともに副走査方向への光
路分離を行うタンデム走査光学装置であって、 前記偏向器の同一面に対する複数のビームの入射角度を
副走査方向に調整するために、複数のビームを同時に回
転偏芯させる第１調整手段と、前記偏向器の同一面に対
する複数のビームの入射位置を副走査方向に調整するた
めに、複数のビームを同時に平行偏芯させる第２調整手
段と、を有することを特徴とするタンデム走査光学装
置。 - 【請求項２】 前記複数のビームを射出する光源部とそ
の光源部から射出した複数のビームを同時に反射させる
反射ミラーとを更に有し、前記第１調整手段が前記反射
ミラーの向きを調整可能に変化させるミラー調整部で構
成され、前記第２調整手段が前記光源部を調整可能に平
行移動させる光源調整部で構成されることを特徴とする
請求項１記載のタンデム走査光学装置。 - 【請求項３】 前記複数のビームを射出する光源部とそ
の光源部が固定されるハウジングとを更に有し、前記光
源部には前記ハウジングに対する位置決めを行うために
長さ可変の脚部が複数設けられており、その一部の脚部
が残りの脚部とは異なった量だけ長さを変化させること
により前記第１調整手段として機能し、全ての脚部が同
じ量だけ長さを変化させることにより前記第２調整手段
として機能することを特徴とする請求項１記載のタンデ
ム走査光学装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002010978A JP2003215487A (ja) | 2002-01-21 | 2002-01-21 | タンデム走査光学装置 |
| US10/347,450 US6710905B2 (en) | 2002-01-21 | 2003-01-21 | Tandem scanning optical device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002010978A JP2003215487A (ja) | 2002-01-21 | 2002-01-21 | タンデム走査光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003215487A true JP2003215487A (ja) | 2003-07-30 |
Family
ID=19191633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002010978A Pending JP2003215487A (ja) | 2002-01-21 | 2002-01-21 | タンデム走査光学装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6710905B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003215487A (ja) |
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| JP2005195926A (ja) * | 2004-01-08 | 2005-07-21 | Kyocera Mita Corp | 走査光学装置 |
| JP2006323157A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Sharp Corp | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2006323159A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Sharp Corp | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2007133320A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Sharp Corp | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2008026708A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Konica Minolta Business Technologies Inc | レーザ走査光学装置 |
| KR100855079B1 (ko) | 2007-05-03 | 2008-08-29 | 사이닉스주식회사 | 레이저빔 입사 조절 장치 |
| JP2010002866A (ja) * | 2008-06-23 | 2010-01-07 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置、画像形成装置及び光量調整方法 |
| JP2014066817A (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-17 | Sharp Corp | 光走査装置および画像形成装置 |
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| US20060139715A1 (en) * | 2004-12-24 | 2006-06-29 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical scanning device and image forming apparatus |
| JP4695901B2 (ja) * | 2005-03-15 | 2011-06-08 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置及びそれを用いたカラー画像形成装置 |
| US20060209171A1 (en) * | 2005-03-15 | 2006-09-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical beam scanning device and image forming apparatus |
| JP4736935B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2011-07-27 | ブラザー工業株式会社 | 走査光学装置 |
| JP5896215B2 (ja) * | 2012-01-24 | 2016-03-30 | 株式会社リコー | 光走査装置及び画像形成装置 |
| US20150330054A1 (en) * | 2014-05-16 | 2015-11-19 | Topcon Positioning Systems, Inc. | Optical Sensing a Distance from a Range Sensing Apparatus and Method |
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|---|---|---|---|---|
| JP3124741B2 (ja) * | 1996-07-22 | 2001-01-15 | 株式会社リコー | 多色画像形成装置の光走査装置 |
| JPH1078554A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-03-24 | Asahi Optical Co Ltd | カスケード走査光学系の調整機構 |
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| JP2000334998A (ja) | 1999-05-26 | 2000-12-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 画像形成装置 |
-
2002
- 2002-01-21 JP JP2002010978A patent/JP2003215487A/ja active Pending
-
2003
- 2003-01-21 US US10/347,450 patent/US6710905B2/en not_active Expired - Lifetime
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| JP2005195926A (ja) * | 2004-01-08 | 2005-07-21 | Kyocera Mita Corp | 走査光学装置 |
| JP2006323157A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Sharp Corp | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2006323159A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Sharp Corp | 光走査装置及び画像形成装置 |
| US7791633B2 (en) | 2005-05-19 | 2010-09-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical scanning unit and image forming apparatus |
| JP2007133320A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Sharp Corp | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2008026708A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Konica Minolta Business Technologies Inc | レーザ走査光学装置 |
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| JP2010002866A (ja) * | 2008-06-23 | 2010-01-07 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置、画像形成装置及び光量調整方法 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030137710A1 (en) | 2003-07-24 |
| US6710905B2 (en) | 2004-03-23 |
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