JP4419775B2 - 光源装置、光走査装置、光源装置の調整方法及び、光走査装置の調整方法 - Google Patents

Description

本発明は、光源装置、光走査装置、光源装置の調整方法及び、光走査装置の調整方法に関し、特に、複数の発光点が二次元配列されたマルチビーム光源を有する光源装置と、この光源装置を備えた光走査装置、及びこの光源装置、光走査装置の調整方法に関する。

近年、レーザプリンタやデジタル複合機の画像形成装置では、発光点を二次元配列した面発光レーザ技術の実用化により、たとえば３０本程度の光ビームを同時走査することで、高速化と高解像度化の両立、たとえば２４００ｄｐｉで毎分１００枚出力することが可能となった。

このような面発光レーザから射出された光ビームは、たとえば特許文献１に記載されたコリメータレンズ等によって平行光又は略平行光とされた後、偏向走査され被露光面を露光する。

しかし、このようなビーム数の増加により、複数光ビーム間で光路、具体的には光学系の光軸からの離れ量の差が大きくなり、複数光ビームの光学特性の均一性を維持するのが難しくなった。

そのひとつに面発光レーザの光源面の傾き誤差による被走査面上のビーム径不揃いがある。ビーム径差は、露光エネルギの集中度の差から現像濃度むらにつながるため、多ビームで同時走査する構成で複数ビーム間にビーム径差（現像濃度差）があると、周期的な濃度変動が視認されることになる。
特開平９−６４４８２号公報

本発明は上記事実を考慮し、複数の発光点が二次元配列されたマルチビーム光源を有する光源装置において結像面での結像特性が所定の値を満足するように、特に複数ビームの結像面でのビーム径を均一に調整可能な光源装置と、この光源装置を備えた光走査装置、及びこの光源装置、光走査装置の調整方法を得ることを課題とする。

請求項１に記載の発明では、複数の発光点が二次元配列されたマルチビーム光源と、前記マルチビーム光源から射出された光ビームを平行な光束に収束させるコリメータレンズと、前記コリメータレンズを組み付けるときの基準となる組立基準と、前記コリメータレンズの光軸の傾きを調整する傾き調整手段と、を有し、前記傾き調整手段が、チルト偏芯された前記コリメータレンズを光軸周りに回転させる回転機構、を含んで構成されていることを特徴とする。
請求項３に記載の発明では、複数の発光点が二次元配列されたマルチビーム光源と、前記マルチビーム光源から射出された光ビームを平行な光束に収束させるコリメータレンズと、前記コリメータレンズを組み付けるときの基準となる組立基準と、前記コリメータレンズの光軸の傾きを調整する傾き調整手段と、を有し、前記傾き調整手段が、前記コリメータレンズの鏡筒を保持する保持部材と、前記鏡筒と前記保持部材との間に介在され、鏡筒との接触位置が光軸に対して進退するように調整可能な当接位置調整機構と、を含んで構成されていることを特徴とする。

これらの光源装置では、マルチビーム光源の複数の発光点から射出された複数の光ビームが、コリメータレンズによって平行な光束に収束される。ここでいう「平行」とは、完全に平行になっている場合の他、たとえばこの光源装置が備えられる光走査装置等において、実質的に平行とみなせる程度になっているもの（略平行）も含む。

また、この光源装置はコリメータレンズを組み付けるときの基準である組立基準を有しており、コリメーターレンズの主走査断面方向、副走査断面方向位置が光学設計上でのノミナル位置となる位置を組立基準としている。この組立基準を利用してコリメータレンズを組み付けることで、多くの場合には特に調整等を要せずに、結像面で所定の値を満足する光学特性（結像特性）を得ることが可能となる。

なお、この「組立基準」には、光源装置の構成要素と一体化されているものが含まれるのはもちろんであるが、この他にも、たとえば、この光源装置が組み付けられる光走査装置に備えられているものであっても、コリメータレンズを組み付けるときの基準となるものであれば、含まれる。

但し、マルチビーム光源の光源面の傾き等によって、コリメータレンズから射出される光ビームの光学特性が所定の値を満足しない場合も想定される。この場合には、たとえば請求項１４に記載のように、傾き調整手段によってコリメータレンズの光軸の傾きを調整する。これにより、光ビームの光学特性が所定の値を満足するように調整できる。特に、請求項１に記載の発明では、傾き調整手段が、チルト偏芯された前記コリメータレンズを光軸周りに回転させる回転機構、を含んで構成されている。マルチビーム光源の光源面は、主走査対応方向及び副走査対応方向とは関係なく任意の方向に傾くおそれがある。チルト偏芯されたコリメータレンズを光軸周りに回転させることで、これに対応してコリメータレンズの光軸の傾きを調整できる。また、請求項３に記載の発明では、傾き調整手段が、前記コリメータレンズの鏡筒を保持する保持部材と、前記鏡筒と前記保持部材との間に介在され、鏡筒との接触位置が光軸に対して進退するように調整可能な当接位置調整機構と、を含んで構成されている。したがって、コリメータレンズの鏡筒を保持部材で保持して、この保持部材を介して、光源装置を光走査装置本体などに取り付けできる。保持部材を、光走査装置に対する光源装置の組立基準とすることも可能となる。また、当接位置調整機構により鏡筒との接触位置を光軸に対して進退させることで、コリメータレンズの光軸の傾きを調整することができる。

なお、傾き調整手段としては、単一のコリメータレンズに対し、その光軸の傾きを変更する手段が含まれるのはもちろんであるが、これ以外にも、たとえば、光軸の傾きが異なる複数のコリメータレンズをあらかじめ用意し、光ビームの光学特性が所定の値を満足するような光軸の傾きを持つコリメータレンズを選択的に使用する場合も、ここでいう「傾き調整手段」に含まれる。

この光源装置を光走査装置等に組み付ける場合には、上記の調整を行った後に組み付けることで、光走査装置の組み立てを無調整とすることもできる。

請求項２に記載の発明では、請求項１に記載の発明において、前記回転機構が、前記コリメータレンズのチルト偏芯量を調整可能とされていることを特徴とする。このようにチルト偏芯量を調整することで、マルチビーム光源の光源面の傾き量に応じた、コリメータレンズの光軸の傾き量を得ることができる。
請求項４に記載の発明では、請求項３に記載の発明において、前記当接位置調整機構が、前記鏡筒と前記保持部材との間で、光軸と直交する平面内で移動可能とされた楔部材と、を含んで構成されていることを特徴とする。楔部材を、光軸と直交する平面内で移動させることで、楔部材と鏡筒との当接位置が光軸に対して進退して、コリメータレンズの光軸の傾きを調整できる。
請求項５に記載の発明では、請求項３に記載の発明において、前記当接位置調整機構が、前記鏡筒を保持する保持部材と、前記保持部材に螺合されたスクリューと、を含んで構成されることを特徴とする。スクリューを回転させて突き出し量を調整することで、鏡筒に接触したスクリューの先端を移動させて、コリメータレンズの光軸の傾きを調整できる。
請求項６に記載の発明では、請求項３〜請求項５のいずれか１項に記載の発明において、前記傾き調整手段が、光源装置が取り付けられる光走査装置の主走査方向に対応する主走査対応方向と、副走査方向に対応する副走査対応方向のそれぞれに設けられていることを特徴とする。主走査対応方向及び副走査対応方向の２方向に傾き調整手段を設けることで、調整量の組み合わせにより任意の方向にコリメータレンズの光軸を傾けることが可能となる。
請求項７に記載の発明では、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の発明において、前記傾き調整手段が、前記コリメータレンズから射出された複数の光ビームの収束状態を均一化するようにコリメータレンズの光軸の傾きを調整することを特徴とする。

このように、コリメータレンズの光軸の傾きの調整を行うことで、複数の光ビームの収束状態を均一化することができる。

請求項８に記載の発明では、請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の光源装置であって、前記発光点によって、この光源装置を含んで構成される光走査装置の主走査方向に近接する複数の発光点群が構成され、この発光点群が副走査方向には離間して配列されていることを特徴とする。

発光点群ごとに異なる被露光面を露光することが容易になるので、いわゆるタンデム型の光走査装置への適用が容易になる。

請求項９に記載の発明では、請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の光源装置であって、この光源装置を含んで構成される光走査装置に対して位置決めの基準となる位置決め部材、を有することを特徴とする。

したがって、光源装置の傾き調整手段によりコリメータレンズの光軸の傾きを光走査装置への組み付け前に調整しておけば、光走査装置への組み付け時には位置決め部により光源装置が光走査装置に位置決めされるので、無調整で組み付け可能となる。

請求項１０に記載の発明では、請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の光源装置と、前記光源装置から射出された光ビームを偏向して走査する偏向器と、前記偏向器で偏向走査された光ビームにより露光される被露光面と、を有することを特徴とする。

この光走査装置では、光源装置から射出された光ビームが偏向器で偏向走査され、この光ビームによって被露光面が露光される。

請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の光源装置を備えているので、光ビームの光学特性が所定の値を満足するように調整できる。

また、この光走査装置を構成する光源装置は、コリメータレンズを組み付けるときの組立基準を備えているので、多くの場合、光走査装置の組み立てを無調整とし、効率的に組み立てできる。ただし、この場合でも、コリメータレンズから射出される光ビームの光学特性をさらに調整することが好ましい場合がある。この場合には、請求項１５に記載のように、傾き調整手段によって前記コリメータレンズの光軸の傾きを調整し、これによって結像面における光ビームの光学特性を調整することができる。

請求項１１に記載の発明では、請求項１０に記載の光走査装置であって、前記傾き調整手段が、前記被露光面における複数の光ビーム間のビーム径を均一化することを特徴とする。

一般に、発光点が二次元配列されたマルチビーム光源の光源面が光軸に対して傾くと、光軸に直交する平面に対する物点位置が発光点ごとに異なるため、被走査面上のビーム径が不揃いとなる。このとき結像面全体が傾いているため、コリメータレンズを移動させてフォーカス調整をしても、ビーム径を均一化することはできない。しかし、本発明では、コリメータレンズの光軸の傾きを調整することで、結像状態を変化させ、被結像面でのビーム径を均一化する（ビーム径差を小さくする）ことができる。

請求項１２に記載の発明では、請求項１０又は請求項１１に記載の光走査装置であって、前記コリメータレンズの焦点位置近傍に配置された光学絞りと、前記マルチビーム光源と前記コリメータレンズとを一体で前記光学絞りに対して移動可能とする移動手段と、を有することを特徴とする。

マルチビーム光源の光源面の傾きによる結像特性の劣化をコリメータレンズの傾き調整で補正する場合、誤差発生原因と異なる位置で補償調整を実施するため、調整による新たな誤差が発生する。しかし、本発明のように、マルチビーム光源とコリメータレンズを一体として光学絞りに対して移動させることで、光学絞り以降の光路をほぼ理想の状態にすることができ、上記の誤差の影響を補償できる。

請求項１３に記載の発明では、請求項８に記載の光源装置を備えた請求項１０〜請求項１２のいずれか１項に記載の光走査装置であって、前記被露光面が、前記発光点群のそれぞれから射出された光ビーム群のそれぞれに対応して複数設けられていることを特徴とする。

単一のマルチビーム光源から射出された光ビームを走査光学系の途中で光路分割して異なる被露光面（被走査面）を走査するタンデム用光走査装置の場合、光路を分割する位置では光ビーム群間の間隙が大きくなり、且つ、同一の被露光面を走査するビーム群内のビーム間隔は小さくなるような発光点配置にすることが好ましい。このときの発光点配列は、複数の発光点群が副走査方向に離間した配置となり、発光点の広がりが、単一の被露光面を同時走査する構成よりも大きくなりやすく、光源面の傾きによるビーム径の不揃いがより発生しやすい。このようなタンデム用光走査装置で、本発明のようにコリメータレンズの光軸を傾けて結像状態を調整することにより、異なる被走査面間のビーム径差を解消することができる。

本発明は上記構成としたので、複数の発光点が二次元配列されたマルチビーム光源を有する光源装置において結像面での結像特性が所定の値を満足するように、特に複数ビームの結像面でのビーム径を均一に調整可能となる。

図１−１及び図１−２には、本発明の第１実施形態の光走査装置１０２の全体構成が示されている。また、図６及び図７には、光走査装置１０２を構成する第１実施形態の光源装置１０４が、それぞれ主走査方向の断面及び副走査方向の断面で示されている。なお、以下の図面では、主走査方向を矢印Ｍで、副走査方向を矢印Ｓでそれぞれ示す。

この光走査装置１０２は、単一の被走査面（図５参照）をマルチビームで同時走査する構成を示しているが、必要に応じて発光点を副走査方向に離間した発光点群配列とし、図２に示すように、光ビームの光路を途中で分割し、複数（図２では４つ）の感光体１０８上の被走査面を走査する、いわゆるタンデム型の光走査装置とすることも可能である。

光走査装置１０２を構成する光源装置１０４のＶＣＳＥＬ制御基板１０６上にはマルチビーム光源１１０が２次元配列により実装されており、このマルチビーム光源１１０から射出された光ビームが、筐体１５２の壁に設けられた貫通穴を通ってコリメータレンズ１１２に入射する。コリメータレンズ１１２により平行な光ビームとされ、複数ビームが光軸上で交わる位置に設けられたアパチャー１１４により所定のビーム幅に整形される。アパチャー１１４から射出した光ビームは、ハーフミラー１１６を透過してシリンドリカルレンズ１１８に入射して集束され、それぞれの光ビームはポリゴンミラー１２０の偏向面１２０Ｓで副走査方向に焦点を結び、主走査対応方向に長い線状に結像される。

ポリゴンミラー１２０により偏向された複数のビームは、副走査方向において主光線が平行な状態で２枚組のｆθレンズ１２６に入射し、等速走査する光ビームとされたのち、第１のシリンドリカルミラー１２８、折り返しミラー１３０、第２のシリンドリカルミラー１３２により反射され、さらに図示しない防塵ウインドウを透過して、感光体１０８上を走査する。ここで、偏向面１２０Ｓと複数の感光体１０８とを共役関係とすることで、面倒れ補正光学系が構成されている。

ハーフミラー１１６は、主走査断面が台形形状のウエッジプリズムであり、アパチャー１１４を通過した光の一部を反射する。反射された光ビームは、集光レンズ１３４により集光されて光量検知センサ１３６に入射する。光量検知センサ１３６の出力によりマルチビーム光源１１０の光量出力制御を行う。

折り返しミラー１３０で反射された光ビームのうち、ＳＯＳ（Ｓｔａｒｔ Ｏｆ Ｓｃａｎ）ミラー１３８に入射した光ビームは、ＳＯＳレンズ１３９により副走査対応方向に集束されて同期検知センサ１４１に入射する。マルチビーム光源１１０は、一例として図４に示すように、８行×４列に配列された３２個の発光点１１０Ｌが備えられた面発光レーザとされている。

なお、本発明として、図２に示すように、タンデム型光走査装置としてもよい。この例では、図１−１及び図１−２に示した例と同一の構成要素は同一の符号を付しているが、偏向器の偏向面１２０Ｓで偏向され、共通の結像レンズ１２２を通過した光ビームの光路を分割して複数の異なる感光体１０８を同時に走査する点が、図１−１及び図１−２に示した例と異なっている。

図３は、タンデム用光走査装置に適用されるマルチビーム光源１１０の発光点１１０Ｌの配置の一例が示されている。マルチビーム光源１１０から射出した光ビームで単一の被走査面を同時走査する場合は、図４に示すように発光点が副走査方向に均一な間隔で配列される。一方、単一のマルチビーム光源１１０から射出された光ビームを走査光学系の途中で光路分割して異なる被走査面を走査するタンデム用光走査装置の場合、光路を分割する位置ではビーム群間の間隙を大きくし、且つ、同一の被走査面を走査するビーム群内のビーム間隔を小さくする発光点配置にすることが好ましい。すなわち、図３に示すように発光点を副走査方向に離間して配置し、副走査方向において各ビーム群が占める距離をＡ、ビーム群間の離間距離をＢとしたとき、
Ａ＜Ｂ
なる関係を満足することで、光路分割を実現し、単一のマルチビーム光源による複数の感光体１０８上の走査が可能となる。特に、本実施形態の発光点配列により、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックに対応する４つの感光体をそれぞれ８本の光ビームで走査し、フルカラー画像を形成可能なタンデム用光走査装置を実現できる。なお、図２に示した副走査断面における４本の光路は、それぞれの感光体１０８へ至る光ビーム群を代表して示しており、この代表ビーム光路を中心に８本の近接した光ビームが走査する。

図５（Ａ）には、光源面に傾きが生じたときの被走査面での結像状態が示されている。光源面が光軸に対して傾いた（太い実線）場合に、結像光学系には何ら変更等を加えない（ノミナル光学系）と、結像面も傾き（太い実線を参照）、被走査面（細い実線で示す）ではビーム径が不均一になる。発光点の配置幅は光軸からの離れ量に関係し、光軸から離れた発光点間では結像状態の差、すなわち光学特性の劣化を生じやすい。特に、図３に示したような発光点１１０Ｌの配列では、複数の発光点群が副走査方向に離間した配置となり、発光点１１０Ｌの広がりは上記した同時走査の場合（図４参照）よりも大きくなりやすく、光源面の傾きによるビーム径の不揃いがより発生しやすい。

図５（Ｂ）には、結像光学系の傾き（チルト光学系）と結像面の倒れの関係が示されている。光軸に対して結像光学系を傾けると、物点から結像光学系までの距離が変化し、像点の位置も変化する。変化の割合は結像光学系の倍率により決まる。このように、結像光学系をチルト偏芯させることで、光源面の傾きによる結像面の傾きを補正できる。特に、図３に示すような発光点１１０Ｌの配置であっても、結像光学系をチルト偏芯させて結像状態を調整することにより、異なる被走査面間のビーム径差を小さくする等、光源面の傾きによる結像特性の劣化を抑制することができる。

なお、一般に結像光学系は複数のレンズで構成されているため、これら複数のレンズのうち、光路上の任意のレンズをチルト偏芯させことで結像面の傾きを変化させられる。しかし、レンズ径が小さく、光軸中心の回転対称面で構成されるコリメータレンズ１１２（図５参照）の傾きを調整する方法が、実施が容易であり好ましい。

図６及び図７に示すように、マルチビーム光源１１０はＶＣＳＥＬチップ１４０をパッケージ１４２に実装して構成されている。さらに、マルチビーム光源１１０は、ＶＣＳＥＬ制御基板１０６に実装され、ブラケット１４４に設けられた三箇所の凸部１４６にパッケージ１４２の表面を当接して位置決めされている。なお、ＶＣＳＥＬ制御基板１０６とブラケット１４４はスクリュー１４８により締結されている。

ブラケット１４４は、スクリュー１５０により光走査装置１０２の筐体１５２と締結されており、ブラケット１４４の先端には、コリメータホルダ１５４と嵌合する円筒部１４４Ｐが設けられている。第１実施形態では、この円筒部１４４Ｐがコリメータレンズ１１２の組立基準となっている。なお、コリメータホルダ１５４はコリメータレンズ１１２を内部に保持する鏡筒となっており、コリメータホルダ１５４とコリメータレンズ１１２とで、本実施形態のコリメータレンズアッセイ１５６が構成されている。

次に本実施形態における光学調整の手順について、図８に示すフローを参照しつつ説明する。

まず、ステップＳ１０２において、ブラケット１４４を筐体１５２にスクリュー１５０で締結する。そして、ステップＳ１０４で、マルチビーム光源１１０を実装したＶＣＳＥＬ制御基板１０６をブラケット１４４に仮組みし、さらに、ステップＳ１０６でコリメータレンズアッセイ１５６をブラケット１４４に組み付ける。この段階ではチルト偏芯していないコリメータレンズ１１２を組み付ける。

次に、ステップＳ１０８で、ＶＣＳＥＬ制御基板１０６を光軸と直交する面内で、ＸＹ調整し（図６及び図７参照）、スクリュー１４８により締結する。なお、ＸＹ調整とは、図６に示すＸ方向、及び図７に示すＹ方向において、それぞれ調整の対象となっている部品の位置を調整することをいう。Ｘ方向とは、光走査装置における主走査対応方向であり、Ｙ方向とは、同じく、光走査装置における副走査対応方向である。

次に、ステップＳ１１０で、コリメータホルダ１５４を前後に動かしてフォーカス調整（Ｚ方向への移動）を行う。ここで、ステップＳ１１２において、被走査面上における複数ビームのビーム径を測定し、所定のビーム径差に収まっていれば、コリメータホルダ１５４とブラケット１４４を接着して調整を終了する。本実施形態では、ブラケット１４４の円筒部１４４Ｐが組立基準となっており、コリメータレンズアッセイ１５６、すなわちコリメータレンズ１１２が、所定の基準位置で位置決めされるので、多くの場合には、被走査面上における複数ビームが所定のビーム径差に収まり、以後の調整は不要となる。なお、ビーム径の測定は、たとえば図３や図４に示す３２の発光点のうちから、４隅または対角の２点など、光源面の傾きによる特性差が顕著に現れる組合せを適宜選択して行うことが好ましい。

測定の結果、ビーム径差が所定の値を超えた場合は、ステップＳ１１４において、コリメータホルダ１５４を外し、コリメータレンズ１１２がチルト偏芯して取り付けられた補正用のコリメータホルダ１５４に変更（交換）する。この状態で、ステップＳ１１６において、再度ＸＹ調整すると共に、ＶＣＳＥＬ制御基板１０６をブラケット１４４に締結する。さらに、ステップＳ１１８によるフォーカス調整（Ｚ方向）を実施したのち、ステップＳ１２０において、被走査面上における複数ビームのビーム径差を見ながら光軸の周りにコリメータレンズアッセイ１５６（コリメータレンズ１１２）を回転させる。

図９には、チルト偏芯したコリメータレンズ１１２の光軸周りの回転による結像特性の変化が示されている。

コリメータレンズ１１２の回転により光源面とコリメータレンズ１１２の相対的な傾き関係が変化すると、相互の傾きによる結像特性の変化が、（Ａ）キャンセルされた補正状態、（Ｃ）重畳された悪化状態、及び（Ｂ）その中間の誤差状態が出現する。この特性を利用し、図９（Ａ）に示したようにビーム径差が最小となる位置へとコリメータレンズ１１２を回転させることで、被走査面上のビーム径を均一化できる。この補正を行って、回転調整は終了となる。

図１０には、このようにして、光源面の傾きをコリメータレンズ１１２の傾き調整で補正した場合の一般的な結像状態の変化が示されている。図１０（Ａ）は誤差のない理想状態であり、複数の発光点から射出した光ビームは全て平行ビームとなり、かつ主光線はレンズの焦点位置で交わっている。これに対し、図１０（Ｂ）に示すように光源面が傾くと、光ビームの結像状態（収束状態）と光線の経路が変動する。この例では、発散して焦点位置が奥へと移動した光束や、逆に収束して焦点位置が手前に移動した光束が存在している。これに対し、図１０（Ｃ）に示すように、コリメータレンズ１１２の傾きを調整することにより光ビームの集束状態を補正すると、主光線の位置は理想状態からずれた状態となる。したがって、図１０（Ｃ）に示す状態のままであると、光学絞りによるけられが発生し、複数ビーム間の光量分布が不均一になる。

そこで、次のステップＳ１２２において、被走査面上における複数ビームの光量差を測定し、所定の値以内であれば、上記のけられによる影響は少ないと考えられるので、コリメータホルダ１５４とブラケット１４４を接着して調整を終了する。光量差が所定の値を超えた場合は、ステップＳ１２４において、ブラケット１４４と筐体１５２を締結しているスクリュー１５０を緩め、マルチビーム光源１１０とコリメータレンズ１１２の位置関係を維持したまま、ＸＹ方向に調整する（たとえば図１０（Ｃ）に示した例では下方向に移動させる）。そして、複数ビーム間の光量差が所定の値に収まったところでスクリュー１５０を固定し、ステップＳ１２６においてコリメータホルダ１５４を接着し、調整を終了する。

以上の手順により、光源面に傾きがある場合でも、被走査面におけるビーム径を均一化することができる。求める結像特性（ビーム径差）が所定の範囲を満足しない場合にのみ、コリメータレンズ１１２のチルト偏芯したものへの交換と、回転による傾き調整を行い、結像特性が所定の範囲に収まっている場合には、調整を行わないので、光走査装置の製造工程を効率化できる。

なお、上記では、コリメータレンズ１１２として２種類（チルト偏芯していないものと、チルト偏芯しているもの）を使用したが、チルト偏芯量が異なる複数のコリメータレンズを使用して、チルト偏芯量と多段階で調整できるようにしてもよい。一般に、光源面の傾きに対するコリメータレンズ１１２の光軸の傾きによる補正効果は、この光軸の傾き量（すなわちチルト偏芯量）にも依存する。したがって、多段階（好ましくは連続的）にチルト偏芯量を調整可能とすれば、光源面の傾きに応じた最適な補正を行うことができ、好ましい。

図１１及び図１２には、本発明に適用可能なコリメータレンズアッセイを備えた光源装置の一例が示されている。この光源装置１６２を構成するコリメータレンズアッセイ１６４は、単一のコリメータレンズアッセイでコリメータレンズのチルト偏芯量を変更できる例である。

この例では、コリメータレンズ１１２を保持するコリメータホルダ１６６は、その長手方向略中央部からわずかに一端側に変位した位置で屈曲されており、長筒部１６６Ｌと短筒部１６６Ｓとが構成されている。コリメータレンズ１１２は、長筒部１６６Ｌ内に装着されている。

このコリメータホルダ１６６を、図１１に示すように長筒部１６６Ｌ側でブラケット１４４に取り付けると、チルト偏芯していない状態となり、逆に、図１２に示すように短筒部１６６Ｓ側でブラケット１４４に取り付けるとチルト偏芯している状態になる。

したがって、実際の調整工程では、まずチルト編芯をしていない状態（図１１）でコリメータレンズアッセイ１６４をブラケット１４４に取り付ける。そして、マルチビーム光源１１０のＸＹ調整、コリメータレンズ１１２のフォーカス調整を実施した後、被走査面上での複数ビームのビーム径差を測定し、所定の値を越えた場合はコリメータホルダ１６６を外し、前後を反転させて組付け、光軸回りに回転させて被走査面上でのビーム径差が最小となる位置にチルト編芯したコリメータレンズ１１２を調整する。

このように、同一のコリメータレンズアッセイ１６４を、その前後を反転させて付け替えることで、部品交換をすることなく、チルト偏芯の有無を変更し、所望の調整を実施することができる。なお、上記では、長筒部１６６Ｌ内にコリメータレンズ１１２を装着した例を挙げたが、短筒部１６６Ｓ内に装着してもよい。

図１３には、本発明の第１実施形態に適用可能な光源装置の別の例が示されている。

この光源装置１７４では、ブラケット１４４に光走査装置１０２との嵌合部１７６を設けた点が図６及び図７に示す光源装置１０４と異なっているが、他は同一の構成とされている。そしてこの光源装置１７４では、光学調整用の調整治具１７８を用意し、この調整治具１７８上でＶＣＳＥＬ制御基板１０６と、コリメータレンズ１１２の光学調整を行うことが可能とされている。調整治具１７８には、光走査装置の結像光学系と同一な構成、または光学的に等価な光学系があらかじめ実装されている。

光学調整を行う場合には、嵌合部１７６を調整治具１７８の穴１７８Ｈに挿入し、治具ピン１８０でブラケット１４４を押し付けた状態で、ＸＹ調整及びフォーカス調整（Ｚ方向）を実施する。

そして、調整治具１７８上の被走査面相当位置で計測手段によりビーム径差を測定し、所定の値を越えていれば、チルト偏芯したコリメータに交換し、光軸回りに回転してビーム径を均一に調整する。

最後に、調整を終えた光源装置１７４の嵌合部１７６を光走査装置の筐体１５２（図１参照）に設けられた穴（図示省略）に挿入し、ブラケット１４４と光走査装置の筐体１５２をスクリューで締結する。このとき、すでに光源装置１７４の光学調整は終わっているので、あらためて光学調整をする必要はなく、調整が容易になる。

次にチルト偏芯量を調整可能なコリメータレンズレンズについて説明する。

図１４には、チルト偏芯量を調整可能なコリメータレンズアッセイ１８４が示されている。

このコリメータレンズアッセイ１８４のコリメータホルダ１８６には、コリメータホルダ１８６のＺ方向の位置決めを行う複数（本実施形態では３つ）の凸部１８８が設けられている。また、コリメータレンズ１１２を挟んで凸部１８８と反対側には、環状のバネ１９０が装着され、掛け部１９０Ｈがコリメータホルダ１８６のフック１９２に係止されて固定されている。バネ１９０の所定位置には、凸部１８８に対応する複数のレバー１９４が片持ち状に突設されており、このレバー１９４でコリメータレンズ１１２をＺ方向に押圧して、凸部１８８に押し付けている。これにより、コリメータレンズ１１２がコリメータホルダ１８６内で傾き無い状態で弾性固定される。

コリメータホルダ１８６には、内面から保持片１９６が突設されており、保持片１９６の雌ねじに調整スクリュー１９８が螺合されている。調整スクリュー１９８の先端はコリメータレンズ１１２に接触しており、調整スクリュー１９８をレンズの出射側から繰り出しすることでコリメータレンズ１１２の傾きを調整可能となる。なお、この調整スクリュー１９８は、コリメータレンズ１１２の傾き調整前は、凸部１８８よりも低い位置（コリメータレンズ１１２に向かう突き出し量が少ない位置）で待機させることができる。すなわち、調整スクリュー１９８が凸部１８８よりも低い位置にあるときは、コリメータレンズ１１２はチルト偏芯していない。

上記の構成のコリメータレンズ１１２において光学調整を行う場合、まず、図１５に示すように、コリメータレンズ１１２がチルト偏芯していない状態、すなわち、調整スクリュー１９８が凸部１８８よりも低い位置で待機した状態（若しくは、調整スクリュー１９８を取付けない状態）でコリメータレンズアッセイ１８４をブラケット１４４に取り付ける。そして、マルチビーム光源１１０のＸＹ調整、コリメータレンズアッセイ１８４のフォーカス調整を実施した後、被走査面上での複数ビームのビーム径差を測定し、所望の性能を満足するならば、コリメータレンズアッセイ１８４と、ブラケット１４４を接着して、調整完了となる。また、所定の値を越えた場合は、コリメータホルダ１８６内に調整スクリュー１９８を繰り出してコリメータレンズ１１２を必要量傾け、さらに光軸回りに回転させて被走査面上でのビーム径差が最小となる位置にチルト編芯させる。このようにしてコリメータレンズアッセイ１８４を調整し所望の性能を満足するならば、コリメータレンズアッセイ１８４と、ブラケット１４４を接着して、調整完了となる。

このように、基準面に対して調整スクリュー１９８を付加的に用いることで、調整時間を短縮できる。また、機械的に精度を高めていくことができるので、光走査装置自体は傾き調整を行わなくて済み、コストダウンできる。

なお、図１４に示すコリメータレンズアッセイ１８４を、図１３に示す光源装置１７４に適用してもよい。この場合、光源装置１７４として前述の調整治具１７８上で調整を行った後、光走査装置に組み付ければ、すでに光学調整既の光源装置１７４を組み付けるので再度の光学調整が不要になると共に、付加的に調整スクリュー１９８を付加的に用いることによる調整時間の短縮という効果も得られる。

次に、本発明に係る当接位置調整機構によるコリメータレンズの光軸の傾きを調整する構成を、第２〜第４実施形態として説明する。なお、以下において、同一の構成要素、部材等には同一符号を付して、その詳細な説明を省略する。また、光走査装置の全体構成は第１実施形態と同一とされているので、その説明を省略する。

図１６には、本発明の第２実施形態の光源装置２０４が光走査装置への実装状態で示されている。

第２実施形態では、光走査装置の筐体１５２に、マルチビーム光源１１０をＺ方向に位置決めする凸部２０６が複数（本実施形態では３箇所）形成されており、Ｚ方向の設計基準となっている。マルチビーム光源１１０は、Ｚ方向に押し付けられながら、Ｘ１方向及びＹ１方向でアライメント調整が行われ、所望位置になった状態で、固定スクリュー２０８により筐体１５２に固定される。

更に筐体１５２には、コリメータレンズアッセイ１８４をＸ２方向及びＹ２方向に位置決めする位置決め基準部材２１０が取り付けられている。位置決め基準部材２１０は、Ｚ方向に見て略Ｌ字状に形成されており、Ｘ２方向基準部２１０ＸおよびＹ２方向基準部２１０Ｙが設けられている。さらに位置決め基準部材２１０には、板バネ部材２１２が取り付けられており、コリメータレンズアッセイ１８４をＸ２方向基準部２１０ＸおよびＹ２方向基準部２１０Ｙに弾性的に押し付けて固定することで、コリメータレンズアッセイ１８４のＸ２、Ｙ２方向の位置が決定されるようになっている。なお、コリメータホルダ１８６は、Ｚ方向には移動可能とされており、被露光面で所望のビーム径となるようにその位置を調整することができる。被走査面でのビーム径差がなければ、コリメータホルダ１８６のＸ２方向基準部２１０Ｘ、Ｙ２方向基準部２１０Ｙに接着剤を塗布して、調整は完了となる。

被露光面においてビーム径差が生じた場合には、以下の調整を行う。

まず、ＸＹアライメント調整及びフォーカス調整を済ませた状態で、コリメータホルダ１８６内に調整スクリュー１９８（図１４及び図１５参照）を繰り出し、コリメータレンズ１１２を必要量傾ける。さらに、コリメータレンズ１１２を光軸回りに回転させて被走査面上でのビーム径差が最小となる位置に、チルト編芯したコリメータレンズアッセイ１８４を調整する。この調整によって所望の性能を満足するならば、コリメータホルダ１８６と、Ｘ２方向基準部２１０ＸおよびＹ２方向基準部２１０Ｙを接着して、調整完了となる。尚、コリメータレンズ１１２の傾き調整を行うと光軸Ｓがずれるため、マルチビーム光源のＸ１方向及びＹ１方向のアライメントが所望の値（例えば、被走査面上では光量差）を満足しなくなることがある。その場合は、ＶＣＳＥＬ制御基板１０６の固定スクリュー２０８を緩めて、再度Ｘ１方向及びＹ１方向の調整を行えばよい。

図１７には、第２実施形態の変形例の光源装置２１８が示されている。

この変形例の光源装置２１８では、コリメータレンズアッセイ１８４をＸ２方向及びＹ２方向に位置決めする位置決め基準部材２１０がブラケット１４４と一体に形成されている。さらに、ブラケット１４４にマルチビーム光源１１０をＺ方向に位置決めする凸部２１６が複数（この例では３箇所）形成されている。そして、ＶＣＳＥＬ制御基板１０６と筐体１５２の間に、ブラケット１４４が部分的に挟まれた状態で、筐体１５２にブラケット１４４がスクリュー１５０で固定されている。
図１６に示す構成では、コリメータレンズ１１２の傾き調整後、ＸＹアライメントが満足せず、被走査体上の光量差が生じる場合にＸＹアライメントを再調整する必要がある。これに対し、図１７に示す構成では、光量差が所定の値を超えた場合は、ブラケット１４４と筐体１５２を締結しているスクリュー１５０を緩め、マルチビーム光源１１０とコリメータレンズアッセイ１８４の位置関係を維持したまま、ＸＹ方向に調整して複数ビーム間の光量差を所定の値に収めることができる。この状態でスクリュー１５０を再度締めこんで調整を終了する。以上の手順により、光源面に傾きがある場合でも、被走査面におけるビーム径を均一化することができる。

図１８には、第２実施形態の図１７とは異なる変形例の光源装置２２０が示されている。

この変形例の光源装置２２０では、図１７に示す変形例と略同一の構成とされているが、さらに、ブラケット１４４に、筐体１５２の嵌合孔２１４に嵌合する嵌合凸部２２２が形成されている。

したがって、この変形例では、ブラケット１４４に、マルチビーム光源１１０を実装したＶＣＳＥＬ制御基板１０６とコリメータレンズアッセイ１８４とを、図１３に示した例と同様に光走査装置の結像光学系と同一な構成、または光学的に等価な光学系が実装された調整治具上で光学調整することができる。

すなわち、嵌合部２２２を図示しない調整治具の穴に挿入し、同じく図示しない治具ピン等でブラケット１４４を押し付けた状態で、ＸＹ調整、フォーカス調整を実施する。そして、調整治具上の被走査面相当位置で計測手段によりビーム径差を測定し、所定の値を越えていれば、前述の方法でコリメータレンズを傾き調整し、さらに光軸回りに回転調整を行って、ビーム径を均一に調整する。調整を終えた光源装置２２０の嵌合部２２２を光走査装置の筐体１５２に設けられた嵌合孔２１４に挿入し、ブラケット１４４と光走査装置の筐体１５２をスクリュー１５０で締結する。このときは、光源装置２２０の調整を実施する必要はない。

以上、第２実施形態では、コリメータホルダ１８６内にコリメータレンズ１１２の傾きを調整する機構を設けた例を挙げたが、以下の第３実施形態及び第４実施形態では、このような調整機構をコリメータホルダ１８６内に有しない一般的なコリメータレンズアッセイを用いた場合の、コリメータレンズの傾きを調整する構成、及び被走査面にビーム径差が生じた場合の調整について説明する。なお、第３実施形態及び第４実施形態においても、第１実施形態や第２実施形態と同一の構成要素、部材等については同一符号を付して、その詳細な説明を省略する。また、第３実施形態及び第４実施形態においても、光走査装置の全体構成は第１実施形態と同一とされているので、その詳細な説明を省略する。なお、図１９及び図２０では、第１実施形態と同様のコリメータレンズアッセイ１５６が、第２実施形態と同様に、位置決め基準部材２１０によって位置決めされるが、図示の便宜上、このコリメータレンズアッセイ１５６を省略している。

図１９には、第３実施形態の光源装置３０４が示されている。

第３実施形態では、第２実施形態と略同様のＸ２方向基準部２１０ＸおよびＹ２方向基準部２１０Ｙを備えた位置決め基準部材３１０が配置されているが、これらのＸ２方向基準部２１０ＸおよびＹ２方向基準部２１０Ｙに調整スクリュー３０６が螺合されている。また、第２実施形態と同様に、板バネ部材２１２（図１９では図示省略）によって、コリメータレンズアッセイ１８４をＸ２方向基準部２１０ＸおよびＹ２方向基準部２１０Ｙに弾性的に押し付けて固定し、Ｘ２、Ｙ２方向の位置が決定されるようになっている。

調整スクリュー３０６の先端はコリメータホルダ１８６に接触できる位置にあり、調整スクリュー３０６の繰り出し量を増減することで、コリメータレンズアッセイ１８４の傾きを調整し、被走査面のビーム径差を調整することができる。ここで、傾き調整を行う際、Ｘ２方向基準部２１０Ｘ及びＹ２方向基準部２１０Ｙにコリメータレンズアッセイ１８４が搭載された状態（スクリュー先端がコリメーターホルダ１８６に接触していない状態）、すなわち、設計位置から調整を開始するので、調整を短時間で済ませることができる。

図２０には、第４実施形態の光源装置４０４が示されている。

第４実施形態では、Ｘ２方向基準部２１０ＸおよびＹ２方向基準部２１０Ｙを備えた位置決め基準部材４１０に案内溝４１２が形成されており、この案内溝４１２に沿って楔部材４１４が移動可能とされている。Ｘ２方向基準部２１０ＸおよびＹ２方向基準部２１０Ｙには固定スクリュー４１８によって、２つの楔部材４１４に共通でプレート４１６が取り付けられている。

プレート４１６には、調整スクリュー４１８のネジ部が螺合されており、調整スクリュー４１８の先端は楔部材４１４に接触している。調整スクリュー４１８を回転させることで、案内溝４１２内に配置されたスプリング４２０の弾性力に抗して楔部材４１４をスライドさせることができる。

楔部材４１４のテーパー面４１４Ｔは、コリメータホルダ１８６に対して所定の角度で接触できる位置にあり、楔部材４１４のスライドにより、テーパー面４１４Ｔがコリメータホルダ１８６に接触又は離間する。さらに接触状態で楔部材４１４が移動すると、テーパー面４１４Ｔのコリメータホルダ１８６に対する押圧量が変化する。

したがって、第４実施形態においては、楔は、コリメータレンズ１１２の傾き調整を必要としないときには、楔部材４１４をテーパー面４１４Ｔがコリメータホルダ１８６から離間する位置としておく。この状態では、スプリング４２０の弾性力を楔部材が受けているので。テーパー面４１４Ｔがコリメータホルダ１８６から離れた状態に維持される。

コリメータレンズ１１２の傾きを調整するときは、調整スクリュー４１８を繰り出して楔部材４１４を移動させ、テーパー面４１４Ｔがコリメータホルダ１８６の接触させる。そして、調整スクリュー４１８の繰り出し量を調整して楔部材４１４を移動させることで、コリメータホルダ１８６の傾きを変化させ、被走査面のビーム径差を調整する。この調整は、Ｘ２方向基準部２１０Ｘ及びＹ２方向基準部２１０Ｙにコリメータホルダ１８６が搭載された状態（楔部材がコリメーターホルダ１８６に接触していない状態）、すなわち、設計位置から、調整を開始するので、調整を短時間で実施できる。また、楔部材４１４のテーパー面４１４Ｔにより、調整スクリュー４１８の繰り出し量よりもテーパー面４１４Ｔの押圧量が少なくなっているので、実質的に調整感度が緩まり、ビーム径差をいっそう精度よく調整することができる。

なお、第３実施形態及び第４実施形態において、コリメータレンズ１１２の傾き調整を行うと、光軸Ｓがずれるため、マルチビーム光源１１０のＸ１、Ｙ１方向のアライメントが所望の範囲を満足しなくなることがある。その場合は、ＶＣＳＥＬ制御基板１０６の固定スクリュー２０８を緩めて、再度Ｘ１、Ｙ１方向調整を行えばよい。

なお、第３実施形態及び第４実施形態においても、第２実施形態のように、コリメータレンズ調整部を含んだコリメータレンズ基準部を図１７、図１８のように、ブラケット１４４に一体形成してもよい。

本発明の第１実施形態の光走査装置の全体構成を示す概略斜視図である。 本発明の第１実施形態の光走査装置の全体構成を示す副走査断面の光路展開図である。 本発明の光走査装置装置を特にタンデム型光走査装置とした場合の全体構成の一例を示す副走査断面図である。 タンデム用光走査装置に適用可能なマルチビーム光源の発光点配置の一例を示す説明図である。 発光点が二次元に配列されたマルチビーム光源の発光点配置の一例を示す説明図である。 光源面の傾きと被走査面での結像状態との関係を説明する説明図であり、（Ａ）はノミナル光学系の場合、（Ｂ）は光学系をチルトさせた場合である。 本発明の第１実施形態の光走査装置を構成する光源装置を示す主走査断面図である。 本発明の第１実施形態の光走査装置を構成する光源装置を示す副走査断面図である。 本発明の第１実施形態の光走査装置装置における調整手順を示すフローチャートである。 チルト偏芯したコリメータレンズの光軸周りの回転による結像特性の変化を説明する説明図であり、（Ａ）は補正状態、（Ｂ）は誤差状態、（Ｃ）は悪化状態をそれぞれ示す。 光源面の傾きをコリメータレンズの傾き調整で補正した場合の結像状態の変化を示す説明図であり、（Ａ）は理想状態、（Ｂ）は誤差状態、（Ｃ）は補正状態である。 本発明に適用可能なコリメータレンズアッセイを備えた光源装置の一例を、チルト偏芯がない状態で取り付けた副走査断面図である。 本発明に適用可能なコリメータレンズアッセイを備えた光源装置の一例を、チルト偏芯させた状態で取り付けた副走査断面図である。 本発明の第１実施形態の光走査装置に適用可能な光源装置の別の例を示す主走査断面図である。 本発明の光走査装置に適用可能な、チルト偏芯量を調整可能なコリメータレンズアッセイを示す分解斜視図である。 図１４に示すコリメータレンズアッセイを備えた光源装置を示す主走査断面図である。 本発明の第２実施形態の光走査装置を構成する光源装置を一部破断して示す分解斜視図である。 本発明の第２実施形態の変形例の光走査装置を構成する光源装置を一部破断して示す分解斜視図である。 本発明の第２実施形態の図１７とは異なる変形例の光走査装置を構成する光源装置を一部破断して示す分解斜視図である。 本発明の第３実施形態の光走査装置を構成する光源装置を一部破断して示す分解斜視図である。 本発明の第４実施形態の光走査装置を構成する光源装置を一部破断して示す分解斜視図である。

符号の説明

１０２ 光走査装置
１０４ 光源装置
１０６ 制御基板
１０８ 感光体
１１０ マルチビーム光源
１１０Ｌ 発光点
１１２ コリメータレンズ
１１４ アパチャー
１１６ ハーフミラー
１１８ シリンドリカルレンズ
１２０ ポリゴンミラー
１２０Ｓ 偏向面
１２２ 結像レンズ
１２６ ｆθレンズ
１２８ シリンドリカルミラー
１３０ 折り返しミラー
１３２ シリンドリカルミラー
１３４ 集光レンズ
１３６ 光量検知センサ
１３８ ＳＯＳミラー
１３９ ＳＯＳレンズ
１４０ チップ
１４１ 同期検知センサ
１４２ パッケージ
１４４ ブラケット
１４４Ｐ 円筒部
１４６ 凸部
１４８ スクリュー
１４８ 固定スクリュー
１５０ スクリュー
１５２ 筐体
１５４ コリメータホルダ
１５６ コリメータレンズアッセイ
１６２ 光源装置
１６４ コリメータレンズアッセイ
１６６ コリメータホルダ
１６６Ｓ 短筒部
１６６Ｌ 長筒部
１７４ 光源装置
１７６ 嵌合部
１７８Ｈ 穴
１７８ 調整治具
１８０ 治具ピン
１８４ コリメータレンズアッセイ
１８６ コリメータホルダ
１８８ 凸部
１９０ バネ
１９０Ｈ 掛け部
１９２ フック
１９４ レバー
１９６ 保持片
１９８ 調整スクリュー
２０４ 光源装置
２０６ 凸部
２０８ 固定スクリュー
２１０ 基準部材
２１０Ｘ Ｘ２方向基準部
２１０Ｙ Ｙ２方向基準部
２１２ 板バネ部材
２１４ 嵌合孔
２１６ 凸部
２１８ 光源装置
２２０ 光源装置
２２２ 嵌合凸部
３０４ 光源装置
３０６ 調整スクリュー
３１０ 基準部材
４０４ 光源装置
４１０ 基準部材
４１２ 案内溝
４１４Ｔ テーパー面
４１４ 楔部材
４１６ プレート
４１８ 固定スクリュー
４１８ 調整スクリュー
４２０ スプリング

Claims (15)

1. 複数の発光点が二次元配列されたマルチビーム光源と、
   前記マルチビーム光源から射出された光ビームを平行な光束に収束させるコリメータレンズと、
   前記コリメータレンズを組み付けるときの基準となる組立基準と、
   前記コリメータレンズの光軸の傾きを調整する傾き調整手段と、
   を有し、
   前記傾き調整手段が、チルト偏芯された前記コリメータレンズを光軸周りに回転させる回転機構、
   を含んで構成されていることを特徴とする光源装置。
2. 前記回転機構が、前記コリメータレンズのチルト偏芯量を調整可能とされていることを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
3. 複数の発光点が二次元配列されたマルチビーム光源と、
   前記マルチビーム光源から射出された光ビームを平行な光束に収束させるコリメータレンズと、
   前記コリメータレンズを組み付けるときの基準となる組立基準と、
   前記コリメータレンズの光軸の傾きを調整する傾き調整手段と、
   を有し、
   前記傾き調整手段が、
   前記コリメータレンズの鏡筒を保持する保持部材と、
   前記鏡筒と前記保持部材との間に介在され、鏡筒との接触位置が光軸に対して進退するように調整可能な当接位置調整機構と、
   を含んで構成されていることを特徴とする光源装置。
4. 前記当接位置調整機構が、
   前記鏡筒と前記保持部材との間で、光軸と直交する平面内で移動可能とされた楔部材と、
   を含んで構成されていることを特徴とする請求項３に記載の光源装置。
5. 前記当接位置調整機構が、
   前記鏡筒を保持する保持部材と、
   前記保持部材に螺合されたスクリューと、
   を含んで構成されることを特徴とする請求項３に記載の光源装置。
6. 前記傾き調整手段が、
   光源装置が取り付けられる光走査装置の主走査方向に対応する主走査対応方向と、副走査方向に対応する副走査対応方向のそれぞれに設けられていることを特徴とする請求項３〜請求項５のいずれか１項に記載の光源装置。
7. 前記傾き調整手段が、前記コリメータレンズから射出された複数の光ビームの収束状態を均一化するようにコリメータレンズの光軸の傾きを調整することを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の光源装置。
8. 請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の光源装置であって、
   前記発光点によって、この光源装置を含んで構成される光走査装置の主走査方向に近接する複数の発光点群が構成され、この発光点群が副走査方向には離間して配列されていることを特徴とする光源装置。
9. 請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の光源装置であって、
   この光源装置を含んで構成される光走査装置に対して位置決めの基準となる位置決め部材、
   を有することを特徴とする光源装置。
10. 請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の光源装置と、
    前記光源装置から射出された光ビームを偏向して走査する偏向器と、
    前記偏向器で偏向走査された光ビームにより露光される被露光面と、
    を有することを特徴とする光走査装置。
11. 請求項１０に記載の光走査装置であって、
    前記傾き調整手段が、前記被露光面における複数の光ビーム間のビーム径を均一化することを特徴とする光走査装置。
12. 請求項１０又は請求項１１に記載の光走査装置であって、
    前記コリメータレンズの焦点位置近傍に配置された光学絞りと、
    前記マルチビーム光源と前記コリメータレンズとを一体で前記光学絞りに対して移動可能とする移動手段と、
    を有することを特徴とする光走査装置。
13. 請求項８に記載の光源装置を備えた請求項１０〜請求項１２のいずれか１項に記載の光走査装置であって、
    前記被露光面が、前記発光点群のそれぞれから射出された光ビーム群のそれぞれに対応して複数設けられていることを特徴とする光走査装置。
14. 請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の光源装置の調整方法であって、
    結像面における光ビームが所定の光学特性を満足しない場合に前記傾き調整手段によって前記コリメータレンズの光軸の傾きを調整することを特徴とする光源装置の調整方法。
15. 請求項１０〜請求項１３のいずれか１項に記載の光走査装置の調整方法であって、
    前記傾き調整手段によって前記コリメータレンズの光軸の傾きを調整し結像面における光ビームの光学特性を調整することを特徴とする光走査装置の調整方法。

Images