JP2003197583A - 保護テープの貼付・剥離方法 - Google Patents
保護テープの貼付・剥離方法Info
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Abstract
多重に貼り付けるとともに、この多重に貼り付けた保護
テープを確実に剥離する保護テープの貼付・剥離方法を
提供する。 【解決手段】 チャックテーブルに吸着保持されたウエ
ハWの表面にテープ貼付機構によって貼り付けた保護テ
ープT1をカッターユニットでウエハ形状に切断する。
次いで1枚目の保護テープT1より粘着力の強い保護テ
ープT3が保護テープT1の上に貼り付けられる。この
多重の保護テープT1,T3は、テープ剥離装置15の
1回の剥離動作でウエハWの表面から一体となって剥離
される。
Description
された半導体ウエハの表面に保護テープを貼り付けると
ともに、その保護テープを剥離する技術に関する。
て、研削方法や研磨方法などの機械的方法、またはエッ
チングを利用した化学的方法などを利用して半導体ウエ
ハ(以下、単に「ウエハ」という)の裏面を加工し、そ
の厚みを薄くしている。これらの方法を利用してウエハ
を加工する際、配線パターンの形成された表面を保護す
るために、その表面に保護テープが貼り付けられてい
る。
たウエハは、その表面(パターン面)をチャックテーブ
ルで吸着保持され、裏面を砥石で研削される。このと
き、ウエハの表面には研削によるストレスが加わりパタ
ーンが破損したり、汚れたりする恐れがあるので、その
表面に保護テープを貼り付けている。
ハは加工時や搬送時に破損しやすく、またウエハの撓み
や反りのために取り扱いが不便であるので、ウエハ表面
に種類の異なった2枚の保護テープを予め貼り付けてウ
エハの破損や反りを防止するようにした保護テープも提
案されている(特開2000−331968号公報参
照)。
た2枚の保護テープは、剥離工程で2枚を纏めて一度の
剥離する方法が提案実施されている。
た特開2000−331968号公報に記載の2枚重ね
の保護テープを用いることは、ウエハを補強する点で有
益ではあるが、保護テープの剥離工程において次のよう
な問題がある。
する場合、ウエハの表面に貼り付けられた1枚目の保護
テープと、その上に貼り付けられた2枚目の保護テープ
との粘着力との関係で、一度に剥離することができない
ときがある。つまり、1枚目の保護テープがウエハ表面
に残ってしまう場合がある。
エハ表面に残っているかどうかを認識することが困難で
あるといった問題がある。
数を確実に認識できない場合、次のような問題が起こ
る。2枚の保護テープを纏めて剥離したにも関わらず、
1枚しか剥離していないと判断された場合、ウエハの表
面に剥離テープが再度貼り付けられてしまい、ウエハの
表面を汚染したり、破損させたりしてしまう。
と、剥離する工程を2回繰り返さなければならず、作業
効率の低下をまねくといった不都合も生じる。
れたものであって、半導体ウエハに剛性を付与して半導
体ウエハを補強することができるとともに、半導体ウエ
ハへの保護テープの貼り付けや、半導体ウエハからの保
護テープの剥離を容易に行なうことができる保護テープ
の貼付・剥離方法を提供することを主たる目的とする。
目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の発明は、パターンが形成された半
導体ウエハの表面に保護テープを貼り付けるとともに、
この保護テープを半導体ウエハの表面から剥離する保護
テープの貼付・剥離方法において、前記半導体ウエハの
表面に複数枚の保護テープを、上側に粘着力の強い保護
テープがくるように多重に貼り付ける貼付工程と、前記
多重に貼り付けられた保護テープの上に剥離テープを貼
り付け、この剥離テープを介して前記半導体ウエハの表
面から、多重の保護テープを一体にして一度に剥離する
剥離工程とを備えたことを特徴とするものである。
テープがきて多重となる保護テープが、半導体ウエハの
表面に貼り付けられる。したがって、上の方の保護テー
プが、その下の方にある保護テープの粘着力よりも強い
ので、一番下の保護テープ、すなわち、半導体ウエハの
表面に直接に貼り付けられている保護テープが半導体ウ
エハの表面から先に剥離する結果、多重の保護テープが
一体となって半導体ウエハの表面から剥離される。
に記載の保護テープの貼付・剥離方法において、前記多
重の保護テープは、2枚の保護テープを予め多重に貼り
付けたものを単位として半導体ウエハの表面に貼り付け
ることを特徴とするものである。
に記載の保護テープの貼付・剥離方法において、前記多
重の保護テープは、2枚の保護テープを個別に繰り返し
て貼り付けることを特徴とするものである。
テープが予め多重に貼り付けられたものを単位として
(請求項2)、または2枚の保護テープが個別に繰り返
して半導体ウエハの表面に貼り付け(請求項3)られ
る。これら半導体ウエハの表面に多重に貼り付けられた
保護テープは、1回の剥離動作で一体となって半導体ウ
エハの表面から一度に剥離される。すなわち、請求項1
に記載の方法を好適に実施することができる。
ないし請求項3のいずれかに記載の保護テープの貼付・
剥離方法において、前記多重に貼り付ける保護テープの
うち少なくとも上側の保護テープが紫外線硬化型の保護
テープであることを特徴とするものである。
に貼り付けつけた保護テープのうち少なくとも上側の保
護テープに紫外線硬化型の保護テープが貼り付けられ
る。多重に貼り付けられた保護テープに紫外線照射処理
を施すことによって、紫外線硬化型の保護テープの粘着
剤が硬化し、下側の保護テープの表面に強固に接着す
る。この状態で保護テープを上側から剥離すると、請求
項1ないし請求項3の方法を好適に実施することができ
る。
に記載の保護テープの貼付・剥離方法において、前記半
導体ウエハの表面に多重に保護テープを貼り付けた後
に、紫外線を照射することを特徴とするものである。
に記載の保護テープの貼付・剥離方法において、前記半
導体ウエハの表面に保護テープを貼り付ける前の供給過
程で、保護テープ同士を多重に貼り付けて紫外線を照射
することを特徴とするものである。
に貼り付けられる保護テープは、半導体ウエハの表面に
保護テープが多重に貼り付けられた後(請求項5)、ま
たは保護テープが半導体ウエハの表面に貼り付けられる
前の供給過程で保護テープ同士が予め多重に貼り付けら
れた(請求項6)後に、保護テープに向けて紫外線が照
射される。紫外線が照射されると紫外線硬化型の保護テ
ープの粘着剤が硬化し、保護テープ同士を強固に接着す
る。したがって、多重の保護テープを1回の剥離動作で
半導体ウエハの表面から一度に剥離することができる。
ないし請求項6のいずれかに記載の保護テープの貼付・
剥離方法において前記多重に貼り付けた保護テープのう
ち下側の保護テープの表面が粗面であることを特徴とす
るものである。
粗面であるので、その上に貼り付けられる保護テープの
粘着剤が、下側の保護テープの表面の凹凸に入り込む。
したがって、粘着面積が拡大され、上側の保護テープが
下側の保護テープの表面に一層強固に接着する。
ないし請求項3のいずれかに記載の保護テープの貼付・
剥離方法において、前記多重の保護テープのうち、上側
が非紫外線硬化型の保護テープであることを特徴とする
ものである。
ないし請求項3のいずれかに記載の保護テープの貼付・
剥離方法において、前記多重の保護テープのうち、下側
が非紫外線硬化型の保護テープであることを特徴とする
ものである。
に貼り付けられた保護テープのうち、上側に非紫外線硬
化型の保護テープ(請求項8)を、下側に非紫外線硬化
型の保護テープ(請求項9)を貼り付けることによっ
て、請求項1ないし請求項3の方法を好適に実施するこ
とができる。
1ないし請求項3のいずれかに記載の保護テープの貼付
・剥離方法において、前記多重の保護テープのうち、下
側が紫外線硬化型の保護テープであり、前記半導体ウエ
ハから保護テープを剥離する前に紫外線を照射すること
を特徴とするものである。
に貼り付けられた保護テープのうち、半導体ウエハの表
面に紫外線硬化型の保護テープが直接貼り付けられる。
半導体ウエハの表面に保護テープを多重に貼り付けた
後、これら多重の保護テープを剥離する前に紫外線を照
射して保護テープを剥離する。したがって、半導体ウエ
ハの表面に直接貼り付けられた紫外線硬化型の保護テー
プは硬化して接着力が低下するので、半導体ウエハから
の剥離が容易となる。
いる。
の表面に多重に貼り付けられた種類の異なった紫外線硬
化型の保護テープを剥離する剥離方法において、前記紫
外線硬化型の保護テープの種類に応じて波長を変更した
紫外線を照射する紫外線照射過程と、前記紫外線照射処
理を施した多重の保護テープを剥離する剥離過程とを備
えたことを特徴とする保護テープの剥離方法。
性を持たせるために、半導体ウエハの表面に種類の異な
った保護テープを多重に貼りつけている。この多重に貼
り付けられた保護テープは、一度の剥離動作で全ての保
護テープを半導体ウエハから剥離するようにしている。
しかしながら、保護テープにおける粘着剤の強度の違い
によって、1回の剥離動作で全ての保護テープを半導体
ウエハの表面から剥離できない場合がある。
た紫外線硬化型の保護テープが半導体ウエハの表面に多
重に貼り付けられるとともに、保護テープの種類に応じ
て波長を変更した紫外線が個別に照射される。各紫外線
硬化型の保護テープは、それぞれに応じた波長の紫外線
の照射を受けて硬化する。したがって、保護テープ同士
の接着面は粘着剤の硬化により強固に接着するが、ウエ
ハの表面に貼り付けられた保護テープは硬化することに
よって、ウエハ表面から剥離しやすくなる、結果、1回
の剥離動作で多重の保護テープを一体として一度に半導
体ウエハの表面から剥離することができる。
本実施例で使用する一実施例のテープ貼付装置につい
て、図面を参照して説明する。図1はテープ貼付装置の
概略構成を示す正面図、図2ないし図4はテープ貼付工
程を示した正面図である。
付装置1は、セパレータS付きの保護テープT1を供給
するテープ供給部2と、そのセパレータS付きの保護テ
ープT1からセパレータSを剥離回収するセパレータ回
収部5と、半導体ウエハW(以下、単に「ウエハW」と
いう)を吸着載置するチャックテーブル7と、保護テー
プT1をウエハW上に押圧しながら貼り付けるテープ貼
付機構8と、ウエハWに貼付けられた保護テープT1を
ウエハWの外周形状に沿って切り抜くカッターユニット
10と、切り抜かれた後の残存テープT2を剥離するテ
ープ剥離機構11と、剥離されたテープを回収するテー
プ回収部13とを装備している。
する。テープ供給部2は、テープボビン3から繰り出さ
れたセパレータS付きの保護テープT1をガイドローラ
群4に巻回案内する。なお、テープボビン3は図示しな
い縦壁に軸支され、ブレーキ機構などを介して回転規制
されている。
回収ボビン6が軸支されており、モータなどの駆動機構
に連動連結されている。
備えており、移載されたウエハWのオリエンテーション
フラットなどを基準に位置合わせを行なうとともに、裏
面を吸着保持するようになっている。
プ走行方向にスライド可能となるように装置本体のレー
ルに把持され、図示しないモータなどの駆動部を介して
連動連結されている。また、フレームには貼付けローラ
9が回転可能に軸支されているとともに、この貼付けロ
ーラ9が図示しないシリンダなどによって上下揺動駆動
するようになっている。つまり、貼付けローラ9が保護
テープT1の表面を押圧して転動しながらウエハWの表
面に保護テープT1を貼り付けてゆくようになってい
る。
機構によって待機位置と、保護テープT1を切り抜く切
断作用位置とにわたって昇降移動するとともに、ウエハ
Wの周縁に沿って保護テープT1を切り抜くようになっ
ている。
ープ走行方向にスライド可能となるように装置本体のレ
ールに把持され、図示しないモータなどの駆動部を介し
て連動連結されている。また、フレームには剥離ローラ
12が回転可能に軸支されているとともに、この剥離ロ
ーラ12が図示しないシリンダなどによって上下揺動駆
動するようになっている。剥離ローラ12はウエハWの
外周縁に沿って切り抜かれた残存テープT2をウエハW
から剥離するためのものである。
収ボビン14が軸支され、モータなどの駆動機構に連動
連結されている。つまり、テープ供給部2から所定量の
保護テープT1が繰り出されてウエハW上に供給される
とともに、駆動部が作動することにより後述する切り抜
き後の残存テープT2が回収ボビン14に巻き取られる
ようになっている。
貼り付けてゆく方法を、上述の構成を有するテープ貼付
装置を用いて図を参照しながら説明する。なお、本実施
例ではテープ貼付装置を2台使い、ウエハ表面に種類の
異なった2枚の保護テープを多重に貼り付ける場合を例
に採って説明する。
テープは、以下のものとする。ウエハWの表面に直接貼
り付ける1枚目の保護テープT1には、その基材の表面
が粗い(粗面)非紫外線硬化型のものを使用する。表面
の粗さは、触針式表面粗さ計を用いて中心線表面粗を測
定したとき、100Å(オングストローム)以上であるこ
とが好ましい。
あると、その上に貼り付けられる保護テープの粘着剤が
基材表面の凹凸に入り込んで接着面積が大きくなる。つ
まり、保護テープ同士が強固に接着するようになる。
あると、その上に貼り付けられる保護テープの粘着剤の
接着面積が小さくなる。したがって、保護テープ同士の
貼り付け粘着強度が低下して剥離時に上側の2枚目のみ
が剥離され、1枚目の保護テープT1はウエハWの表面
に残ってしまうといった恐れがある。
型の保護テープを使用する。なお、2種類の保護テープ
T1およびT3のそれぞれは、セパレータSと貼り合わ
されたロール状のものとなっている。
よびテープ貼付装置1を用いてウエハWに保護テープを
多重に貼り付けつける一巡の動作について説明する。先
ず、第1および第2テープ貼付装置が並設されており、
第1テープ貼付装置のテープボビン3には非紫外線硬化
型の保護テープT1がセットされ、他方の第2テープ貼
付装置のテープボビン3には紫外線硬化型の保護テープ
T3がセットされている。
にウエハWが載置されて位置合わせが行なわれ、吸着保
持される。このとき、図1に示すように、テープ貼付け
機構8とテープ剥離機構11とは左側の初期位置に、お
よびカッターユニット10は上方の待機位置にそれぞれ
位置する。
すように、テープ貼付け機構8の貼付けローラ9が揺動
降下し、この貼付けローラ9が保護テープT1を押圧し
ながらウエハW上をテープ走行方向とは逆方向(図2で
は左から右方向)に転動し、保護テープT1をウエハW
の表面全体に均一に貼り付ける。テープ貼付け機構8が
終了位置に達すると貼付けローラ9が上昇する。
ット10が切断作用位置に下降し、カッターユニット1
0がウエハWの周縁を一周することで、保護テープT1
がウエハWに沿って切り抜かれる。
ーユニット10は、図4に示すように、上昇して待機位
置に戻る。
ように、ウエハW上をテープ走行方向とは逆方向へ移動
しながらウエハW上で切り抜かれた残存テープT2を巻
き上げて剥離する。
に達すると、テープ剥離機構11とテープ貼付け機構8
とがテープ走行方向に移動して、図1に示す初期位置に
復帰する。このとき、残存テープT2が回収ボビン14
に巻き取られるとともに、一定量の保護テープT1がテ
ープ供給部2から繰り出される。これで第1テープ貼付
装置でのウエハW表面への保護テープT1の貼り付け動
作が終了する。
1が貼り付けられたウエハWは、第2テープ貼付装置へ
移載される。
ル上でウエハWの位置合わせを行なった後、上述の第1
テープ貼付装置と同じ動作が繰り返され、2枚目の保護
テープT3が1枚目の保護テープT1上に重ね合わせて
貼り付けられる。
プの表面を押圧しながら転動することによって、2枚目
の保護テープT3の粘着剤が1枚目の保護テープT1の
基材表面の凹凸に入り込んで密着し、接着面積が大きく
なる。
基材K1表面の凹凸に保護テープT3の粘着剤N3が入
り込んで密着している。したがって、保護テープT1と
T3とが多重に貼り付けられ、剛性を有するウエハWが
形成される。
ウエハWは、カセットに収納されてウエハマウント装置
などに搬送される。
装填されると、ロボットアームによってカセットからウ
エハWが1枚ずつ取り出されてアライメントステージへ
と移載される。
Wは、オリエンテーションフラットなどに基づいて位置
合わせが行なわれる。位置合わせが終了すると、図6に
示すように、アライメントステージASの上方の待機位
置にある紫外線照射ユニットUが降下し、ウエハWに向
けて紫外線を照射する。
粘着剤が硬化し、アンカー効果によって1枚目の保護テ
ープT1の表面に保護テープT3が強固に接着する。つ
まり、保護テープT1およびT3がより一層強固に接着
する。
ウントフレーム作成部に搬送され、図7に示す剥離工程
にウエハWが載置されるときの状態、つまり裏面から粘
着テープTnを介してリング状フレームfに支持され
る。このリング状フレームfに支持されたウエハW(以
下、単に「マウントフレームF」という)は、剥離工程
へと搬送され、後述する図7のチャックテーブル19に
載置される。
が粗面である1枚目の保護テープT1を貼り付け、その
上に紫外線硬化型の保護テープT3を貼り付けることに
よって、保護テープT3の粘着剤が保護テープT1の基
材K1表面の凹凸に入り込んで、接着面積が拡大され
る。この状態でウエハWに紫外線を照射すると、保護テ
ープT3の粘着剤が硬化し、アンカー効果により保護テ
ープT1の上に確りと貼り付けられる。
る。先ず、本実施例の保護テープ剥離方法に使用する一
実施例の保護テープ剥離装置について、図面を参照して
説明する。図7はテープ剥離装置の概略構成を示した正
面図、図8ないし図10は保護テープを剥離する工程を
示した説明図である。
離装置15は、剥離テープTsを供給するテープ供給部
16と、マウントフレームFを吸着載置するチャックテ
ーブル19と、ウエハWの表面に貼り付けられた保護テ
ープT3に押圧しながら剥離テープTsを貼り付けると
ともに、その剥離テープTsを保護テープT3と一緒に
剥離する剥離機構20と、ウエハWから剥離した両テー
プを回収するテープ回収部22とを装備している。
する。テープ供給部16は、テープボビン17から繰り
出された剥離テープTsをガイドローラ18で案内し、
剥離機構20に案内する。なお、テープボビン17は図
示しない縦壁に軸支されている。
を備えており、移載されたマウントフレームFの位置合
わせを行なうとともに、裏面を吸着保持するようになっ
ている。また、チャックテーブル19は、そのフレーム
が剥離テープTsの走行方向にスライド可能となるよう
に装置本体のレールに把持され、図示しない駆動部に連
動連結されている。
ラ21が回転可能に軸支されているとともに、この剥離
ローラ21が図示しないシリンダなどによって上下揺動
駆動するようになっている。つまり、剥離テープTsを
保護テープT3の表面に押圧しながら貼り付けるように
なっている。
壁に回収ボビン23が軸支され、この回収ボビン23が
モータなどの駆動部に連動連結されている。つまり、テ
ープ供給部16から所定量の剥離テープTsが繰り出さ
れて、ウエハW上に供給されるとともに、駆動部が作動
することにより保護テープT3と一体になった剥離テー
プTsが回収ボビン23に巻き取られるようになってい
る。
た保護テープを剥離する方法を、上述の構成を有するテ
ープ剥離装置を用いて図を参照しながら説明する。
の表面が粗面である保護テープが、2枚目に紫外線硬化
型の保護テープが貼り付けられた半導体ウエハWと、リ
ング状フレームfとが、裏面から粘着テープTnによっ
て貼り合わされて一体化されたマウントフレームFとさ
れる。このマウントフレームFは、チャックテーブル1
9に載置される。
せが行なわれ、吸着保持される。このとき、チャックテ
ーブル19は、図8に示すように、剥離ローラ21がウ
エハWの周縁部に当接する位置(図8では左側)に移動
する。
と、図9に示すように、剥離ローラ21が揺動下降する
とともに、チャックテーブル19が剥離テープTsの走
行方向に移動する。このチャックテーブル19の移動に
ともなって、剥離ローラ21が剥離テープTsを押圧し
ながらウエハW上を転動する。つまり一番上に貼り付け
られた保護テープT3上に剥離テープTsが貼り付けら
れてゆくとともに、剥離テープTsが貼り付けられたそ
の保護テープT3は剥離テープTsと一緒に巻き上げら
れて剥離される。
テープ1の粘着力よりも強いので、保護テープT1が先
にウエハWの表面から剥離される、結果、2枚の保護テ
ープT1,T3が一体となってウエハWから剥離され
る。
うに、終了位置に達すると剥離ローラ21が上昇し、チ
ャックテーブル19はテープ走行方向とは逆方向に移動
し初期位置に復帰する。このとき、剥離されて剥離テー
プTsと一体となった保護テープT3は回収ボビン23
に巻き取られるとともに、一定量の剥離テープTsがテ
ープ供給部16から繰り出される。これで、ウエハWの
表面に多重に貼り付けられた一番上の保護テープT3の
剥離動作が終了する。
の表面に多重に貼り付けられた保護テープを一体化して
剥離することができる。
1実施例で使用した2種類の保護テープ(1枚目が粗面
である非紫外線硬化型、2枚面が紫外線硬化型の保護テ
ープ)を1台のテープ貼付装置を用いて一度に貼り付け
つる場合を例に採って説明する。なお、第1実施例装置
の構成と同一部分には同一符号を付すに留め、異なる部
分について説明する。
テープ供給部2aと2bの2組を備えるとともに、テー
プ供給部2a,2bから繰り出される保護テープT1,
T3を多重に貼り付ける貼付部4c、および貼付部4c
からウエハWの上方に保護テープを供給する過程で紫外
線を照射する紫外線照射ユニットUを備えている。
ら繰り出されるセパレータS付きの保護テープT1をガ
イドローラ4aに巻回案内する。
ら繰り出されるセパレータ無しの保護テープT3を貼付
部4cに案内する。
は、図示しない縦壁に軸支され、ブレーキ機構などを介
して回転規制されている。
れており、テープ供給部2a,2bから繰り出されてく
る2つの保護テープを挟み込んで保護テープT1の上に
保護テープT2を押圧して貼り付けるようになってい
る。
り出されてくる保護テープT1のセパレータSをローラ
4bを介して回収するようになっている。
繰り出され、セパレータSが剥離されて回収された2枚
重ねの保護テープT1,T3に向けて紫外線を照射する
ようになっている。
bから繰り出された2枚の保護テープは、ウエハWの上
方に供給されるまでに多重に貼り付けられる。この多重
となった保護テープT1,T3は、1回の貼り付け動作
でウエハWの表面に貼り付けられる。
プT1,T3は、剥離工程で1回の剥離動作によって一
体となってウエハWの表面から剥離される。
置を1台使用するだけで2枚の保護テープをウエハWに
貼り付けることができるので、作業効率の向上を図るこ
とができる。
線硬化型の保護テープを使用していたが、非紫外線硬化
型の保護テープを使用してもよい。この場合、紫外線照
射ユニットUの構成がなくてもよい。
うに変形実施することもできる。 (1)上記保護テープの貼付方法では、原反ロールから
シート状の保護テープを供給してウエハWに貼り付け、
ウエハWの周縁に沿って切り抜きながら多重に貼り付け
ていたが、予めウエハの形状にカットされたものを個別
に1枚ずつ繰り返して貼り付けてもよいし、予め2枚の
保護テープが重ね合わさったものを貼り付けてゆくよう
にしてもよい。
枚目に基材の表面が粗面である非紫外線硬化型の保護テ
ープ、2枚目の保護テープに紫外線硬化型の保護テープ
を使用していたが、保護テープの組み合わせは、以下の
ような組み合わせであってもよい。
化型の保護テープ、2枚目に非紫外線硬化型の保護テー
プの組み合わせや、1枚目に基材表面が粗面である紫外
線硬化型の保護テープ、2枚目に通常の基材表面に背面
処理が施されている紫外線硬化型の保護テープの組み合
わせや、通常の非紫外線硬化型の保護テープ同士や、通
常の紫外線硬化型の保護テープの組み合わせや、同一ま
たは種類の異なった保護テープを複数枚貼り付ける組み
合わせであってもよい。
ャックテーブル19がテープ走行方向に移動する形態で
あったが、剥離機構20自体がテープ走行方向に移動す
る形態であってもよい。
ウント剥離を例に採って説明したが、このマウント剥離
に限定されるものではなく、マウントフレームに支持さ
れていないウエハの表面に多重に貼り付けられた保護テ
ープを剥離するようにしてもよい。
1に記載の発明によれば、半導体ウエハの表面に多重に
貼り付けられた保護テープは、上方の保護テープが下方
の保護テープの粘着力よりも強いので、これら多重の保
護テープを上方から剥離すると、一番下の保護テープが
半導体ウエハの表面から先に剥離される。したがって、
1回の剥離動作で全ての保護テープを半導体ウエハの表
面から剥離することができ、作業効率の向上を図ること
ができる。
示す正面図である。
断面図である。
る。
る。
を示す正面図である。
Claims (10)
- 【請求項1】 パターンが形成された半導体ウエハの表
面に保護テープを貼り付けるとともに、この保護テープ
を半導体ウエハの表面から剥離する保護テープの貼付・
剥離方法において、 前記半導体ウエハの表面に複数枚の保護テープを、上側
に粘着力の強い保護テープがくるように多重に貼り付け
る貼付工程と、 前記多重に貼り付けられた保護テープの上に剥離テープ
を貼り付け、この剥離テープを介して前記半導体ウエハ
の表面から、多重の保護テープを一体にして一度に剥離
する剥離工程とを備えたことを特徴とする保護テープの
貼付・剥離方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載の保護テープの貼付・剥
離方法において、 前記多重の保護テープは、2枚の保護テープを予め多重
に貼り付けたものを単位として半導体ウエハの表面に貼
り付けることを特徴とする保護テープの貼付・剥離方
法。 - 【請求項3】 請求項1に記載の保護テープの貼付・剥
離方法において、 前記多重の保護テープは、2枚の保護テープを個別に繰
り返して貼り付けることを特徴とする保護テープの貼付
・剥離方法。 - 【請求項4】 請求項1ないし請求項3のいずれかに記
載の保護テープの貼付・剥離方法において、 前記多重に貼り付ける保護テープのうち少なくとも上側
の保護テープが紫外線硬化型の保護テープであることを
特徴とする保護テープの貼付・剥離方法。 - 【請求項5】 請求項4に記載の保護テープの貼付・剥
離方法において、 前記半導体ウエハの表面に多重に保護テープを貼り付け
た後に、紫外線を照射することを特徴とする保護テープ
の貼付・剥離方法。 - 【請求項6】 請求項4に記載の保護テープの貼付・剥
離方法において、 前記半導体ウエハの表面に保護テープを貼り付ける前の
供給過程で、保護テープ同士を多重に貼り付けて紫外線
を照射することを特徴とする保護テープの貼付・剥離方
法。 - 【請求項7】 請求項1ないし請求項6のいずれかに記
載の保護テープの貼付・剥離方法において、 前記多重に貼り付けた保護テープのうち下側の保護テー
プの表面が粗面であることを特徴とする保護テープの貼
付・剥離方法。 - 【請求項8】 請求項1ないし請求項3のいずれかに記
載の保護テープの貼付・剥離方法において、 前記多重の保護テープのうち、上側が非紫外線硬化型の
保護テープであることを特徴とする保護テープの貼付・
剥離方法。 - 【請求項9】 請求項1ないし請求項3のいずれかに記
載の保護テープの貼付・剥離方法において、 前記多重の保護テープのうち、下側が非紫外線硬化型の
保護テープであることを特徴とする保護テープの貼付・
剥離方法。 - 【請求項10】 請求項1ないし請求項3のいずれかに
記載の保護テープの貼付・剥離方法において、 前記多重の保護テープのうち、下側が紫外線硬化型の保
護テープであり、前記半導体ウエハから保護テープを剥
離する前に紫外線を照射することを特徴とする保護テー
プの貼付・剥離方法。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003338477A (ja) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | テープ剥離方法 |
JP2005175253A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Nitto Denko Corp | 保護テープ剥離方法およびこれを用いた装置 |
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JP2010141356A (ja) * | 2010-03-12 | 2010-06-24 | Lintec Corp | シート剥離装置及び剥離方法 |
JP2011086772A (ja) * | 2009-10-15 | 2011-04-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 保護テープ剥離装置 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4088070B2 (ja) * | 2000-03-24 | 2008-05-21 | 富士通株式会社 | 自動取引システム、自動取引方法および金融サーバ装置 |
JP2003209082A (ja) * | 2002-01-15 | 2003-07-25 | Nitto Denko Corp | 保護テープの貼付方法およびその装置並びに保護テープの剥離方法 |
JP4444619B2 (ja) * | 2003-10-10 | 2010-03-31 | リンテック株式会社 | マウント装置及びマウント方法 |
JP2005175384A (ja) * | 2003-12-15 | 2005-06-30 | Nitto Denko Corp | 保護テープの貼付方法及び剥離方法 |
JP4326418B2 (ja) * | 2004-07-16 | 2009-09-09 | 株式会社東京精密 | フィルム剥離方法およびフィルム剥離装置 |
JP2006100728A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Nitto Denko Corp | 保護テープ剥離方法およびこれを用いた装置 |
US7348216B2 (en) * | 2005-10-04 | 2008-03-25 | International Business Machines Corporation | Rework process for removing residual UV adhesive from C4 wafer surfaces |
TW200743146A (en) * | 2006-05-02 | 2007-11-16 | Touch Micro System Tech | Method of thinning a wafer |
JP4376250B2 (ja) | 2006-06-21 | 2009-12-02 | テイコクテーピングシステム株式会社 | 多層構造体の形成方法 |
JP5111938B2 (ja) * | 2007-05-25 | 2013-01-09 | 日東電工株式会社 | 半導体ウエハの保持方法 |
KR100888920B1 (ko) * | 2007-08-31 | 2009-03-16 | 에스티에스반도체통신 주식회사 | 반도체 다이 적층용 접착테이프 이송 및 절단 장치 |
JP5442288B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2014-03-12 | 日東電工株式会社 | 保護テープ剥離方法およびこれを用いた保護テープ剥離装置 |
US8574398B2 (en) * | 2010-05-27 | 2013-11-05 | Suss Microtec Lithography, Gmbh | Apparatus and method for detaping an adhesive layer from the surface of ultra thin wafers |
CN109920774A (zh) * | 2012-03-26 | 2019-06-21 | 先进封装技术私人有限公司 | 用于半导体封装的多层基底 |
KR20140142026A (ko) * | 2013-06-03 | 2014-12-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 기판 합착용 하부 필름, 기판 밀봉체 및 이들을 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
TWI618131B (zh) * | 2013-08-30 | 2018-03-11 | 半導體能源研究所股份有限公司 | 剝離起點形成裝置及形成方法、疊層體製造裝置 |
US20150147850A1 (en) * | 2013-11-25 | 2015-05-28 | Infineon Technologies Ag | Methods for processing a semiconductor workpiece |
KR102374162B1 (ko) * | 2015-03-02 | 2022-03-11 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 적층형 반도체 소자용 층간 접착 부재의 인장 모드 접착력의 정량화 방법 및 이의 정량화를 위한 측정 장치 |
TWI738049B (zh) * | 2019-09-04 | 2021-09-01 | 志聖工業股份有限公司 | 層膜裁切裝置、層膜裁切方法、晶圓貼膜機以及晶圓貼膜方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3181988A (en) * | 1961-01-03 | 1965-05-04 | Kleen Stik Products Inc | Tape applying machine |
JPH07105433B2 (ja) | 1986-05-20 | 1995-11-13 | 三井東圧化学株式会社 | ウエハ加工用フイルムの貼付け方法 |
JPS6469013A (en) * | 1987-09-10 | 1989-03-15 | Fujitsu Ltd | Grinding method |
US5203143A (en) * | 1992-03-28 | 1993-04-20 | Tempo G | Multiple and split pressure sensitive adhesive stratums for carrier tape packaging system |
WO1997008745A1 (fr) * | 1995-08-31 | 1997-03-06 | Nitto Denko Corporation | Procede et appareil de decollage de la bande de protection adhesive d'une tranche de semi-conducteurs |
US6342434B1 (en) * | 1995-12-04 | 2002-01-29 | Hitachi, Ltd. | Methods of processing semiconductor wafer, and producing IC card, and carrier |
JP3535318B2 (ja) * | 1996-09-30 | 2004-06-07 | 富士通株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2000331968A (ja) | 1999-05-21 | 2000-11-30 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ保護テープ |
-
2001
- 2001-12-27 JP JP2001396919A patent/JP3880397B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003338477A (ja) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | テープ剥離方法 |
US7686916B2 (en) | 2003-10-27 | 2010-03-30 | Lintec Corporation | Sheet peeling apparatus and peeling method |
JP2005175253A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Nitto Denko Corp | 保護テープ剥離方法およびこれを用いた装置 |
JP2011086772A (ja) * | 2009-10-15 | 2011-04-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 保護テープ剥離装置 |
JP2010141356A (ja) * | 2010-03-12 | 2010-06-24 | Lintec Corp | シート剥離装置及び剥離方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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