JP2003185710A - マルチチップモジュール、半導体チップ及びマルチチップモジュールのチップ間接続テスト方法 - Google Patents

マルチチップモジュール、半導体チップ及びマルチチップモジュールのチップ間接続テスト方法

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JP2003185710A JP2002283210A JP2002283210A JP2003185710A JP 2003185710 A JP2003185710 A JP 2003185710A JP 2002283210 A JP2002283210 A JP 2002283210A JP 2002283210 A JP2002283210 A JP 2002283210A JP 2003185710 A JP2003185710 A JP 2003185710A
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史朗 崎山
Jun Kajiwara
準 梶原
Masayoshi Kinoshita
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 マルチチップモジュールにおける半導体チッ
プ間の接続の良否判定を簡易なテスト回路とテスト方法
により行う。 【解決手段】 半導体チップ1、2間の接続パッド同士
(1−21と2−21、1−22と2−22…)の接続
の良否判定を行うために、複数個の接続部材10−1、
10−2…を電気的に直列状に電通するように、複数個
のスイッチ素子1−31、1−32、2−31、2−3
2…を配置する。そして、接続テスト時には、プロービ
ングパッド1−03により全スイッチ素子1−31、1
−32、2−31、2−32…をオン状態とし、直列状
に電通した両端のインピーダンスを2つのプロービング
パッド1−01、1−02から測定して、半導体チップ
1、2間の接続の良否判定を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数個の接続パッ
ドを有する半導体チップを複数個備え、各半導体チップ
間で接続パッド同士を電気的接続して構成されるマルチ
チップモジュール、及びこのマルチチップモジュールを
構成する半導体チップ、並びにそのようなマルチチップ
モジュールの半導体チップ間の接続テスト方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、複数の機能を共通の基板上に形成
した1チップシステムLSIという概念が提起されてお
り、このようなシステムLSIの設計手法としても、各
種の提案がなされている。特に、1チップシステムLS
Iの利点は、DRAM、SRAMなどのメモリ、ロジッ
ク回路、アナログ回路等の多種多様な機能部品を1つの
半導体チップ内に集積することにより、高性能で多機能
なデバイスを実現できることである。ところが、このよ
うなシステムLSIは、デバイスを形成する上で、以下
に述べるような問題に直面している。
【0003】第1の問題は、システムLSIの大規模化
は、より多くの開発パワーを必要とし、またチップ面積
の増大に伴う製造の歩留まりが低下するため、デバイス
の製造コストが増大することである。
【0004】第2の問題は、DRAMやFLASHメモ
リ等のように異種デバイスを混載する場合の製造プロセ
スは、ピュアCMOSの製造プロセスとの整合が難し
く、ピュアCMOSの製造プロセスと同時期に立ち上げ
ることが非常に困難なことである。従って、異種デバイ
ス混載の製造プロセスは、最先端のピュアCMOSの製
造プロセスの開発よりも1〜2年程度遅れてしまうた
め、市場のニーズにタイムリーな生産供給ができない。
【0005】前記の各問題に対処するように、例えば特
許文献1には、複数の半導体チップをモジュール化して
構成するチップオンチップ型のシステムLSIが提案さ
れている。このチップオンチップ型のマルチチップモジ
ュール技術とは、貼り合わせ用の半導体チップ(以下、
親チップと呼ぶ)の上面に設けられた接続パッド電極
と、被貼り合わせ用の半導体チップ(以下、子チップと
呼ぶ)の上面に設けられた接続パッド電極とをバンプに
形成し、この両チップ間で接続パッド電極同士を貼り合
わせることにより、半導体チップ間の電気的接続を行っ
て、複数個の半導体チップを1つにモジュール化する技
術である。
【0006】このチップオンチップ型のシステムLSI
は、1チップシステムLSIと比較して、機能が複数個
の半導体チップに分散されるので、各半導体チップの小
規模化が可能となり、各半導体チップの歩留まりの向上
が可能となる。更に、プロセス世代の異なる異種デバイ
ス同士であっても簡単にモジュール化できるので、多機
能化も可能となる。加えて、チップオンチップ型のマル
チチップモジュール化技術によるシステムLSIは、他
のマルチモジュール化技術と比較して、親子チップ間の
インターフェースに要する配線長が極めて短いので、高
速なインターフェースが可能であり、従来の1チップシ
ステムLSIでのブロック間インターフェースと同等の
性能を実現することが可能である。
【0007】しかしながら、前述のチップオンチップ型
のマルチチップモジュール化技術は、従来の1チップシ
ステムLSIにとって代わるような重要な技術である
が、以下のような問題がある。
【0008】即ち、今後、チップオンチップ型のマルチ
チップモジュール化技術が普及するに従って、半導体チ
ップの製造業者と、マルチチップモジュール実装を行う
実装業者とが異なることが予想されるが、この場合、従
来のテスト手法、即ち、マルチチップモジュール全体で
良否判定を行うトータルファンクションテストでは、半
導体チップの内部故障なのか、実装工程における半導体
チップ間の接続不良による故障なのかが判定できず、互
いの業者間の責任を明確化することができない。従っ
て、今後は、実装工程での良否判定、即ち、半導体チッ
プ間の接続の良否判定を簡単に且つ安価に行うための接
続テスト構成の提案が望まれる。
【0009】従来、半導体チップ間の接続テストとし
て、特許文献2にはその一例が示されている。尚、本説
明では、その発明内容をより判り易くするために、特許
文献2の図1の一部分のみを図7(a)〜(c)に表し
て掲載し、この図に基づいて動作説明を行う。
【0010】図7(a)は、半導体チップ1の内部回路
1−1の信号端子1−11と半導体チップ2の内部回路
2−1の信号端子2−11とを、接続パッド1−21と
接続パッド2−21との電気的接続を行うことにより、
2個の半導体チップ1、2でマルチチップモジュールを
構成する場合の例を示す。特許文献2では、この接続パ
ッド1−21と接続パッド2−21との間のチップ間接
続テストを行うために、図7(b)に示すように、半導
体チップ1側に接続パッド1−22と、2個のプローブ
検査用パッド1−01、1−02とを新たに設け、半導
体チップ2側には接続パッド2−22を新たに設けてい
る。半導体チップ2側の2個の接続パッド2−21、2
−22は、半導体チップ2の内部で電気的接続がなされ
た構成となっている。同図(b)に示す2個の半導体チ
ップ1、2をチップオンチップ構造でチップ間接続を行
ったとき、これ等半導体チップ間の電気的接続の状態
は、同図(c)に示すようになる。この時、2個のプロ
ーブ検査用パッド1−01、1−02間は、同図(c)
から判るように接続パッド1−22、2−22、2−2
1、1−21を介して電通状態となる。従って、この両
検査用パッド1−01、1−02間のインピーダンスを
測定すれば、2個の接続パッド1−21、2−21間の
電気的接続の良否判定を行うことができる。
【0011】
【特許文献1】特開昭58−92230号公報
【特許文献2】特開2000−258494号公報
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記特
許文献2の構成では、2個の接続パッド1−21、2−
21間という高々1箇所の接続の良否判定を行うため
に、2個の接続パッド1−22、2−22を必要とし、
更にプロービング検査を行うための2個のプローブ検査
用パッド1−01、1−02を必要とする。一般的にプ
ロービングパッドは、チップオンチップ型の接続パッド
の面積と比較すると、極めて大きく、仮に半導体チップ
間の信号数が数百〜数千あった場合に、特許文献2の構
成では、プロービングパッド数はチップ間信号数の2倍
を必要とするため、プロービングパッドの面積の増大と
プロービング検査装置の複雑化との問題から、もはや本
技術を適用することができない。
【0013】本発明は前記従来の課題に鑑み、その目的
は、各半導体チップの面積を増大させることのない簡易
なテスト回路とテスト方法を用いながら、半導体チップ
間の電気的接続の良否判定が可能なマルチチップモジュ
ールの構成と、その半導体チップ間の接続テスト方法を
提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
め、本発明では、マルチチップモジュールを構成する複
数個の半導体チップ間の接続テスト時には、これ等半導
体チップの多数の接続パッドを全て電気的に直列状に接
続して導通テストを行ったり、又は、複数個の接続パッ
ド毎にそれらの接続パッド同士を電気的に直列状に接続
して複数の接続テスト用ラインを形成し、各接続テスト
用ライン毎に導通テストを行うと共に各接続テスト用ラ
イン間で非導通テストを行うこととする。
【0015】即ち、請求項1記載の発明のマルチチップ
モジュールは、複数個の接続パッドを有する半導体チッ
プを複数個備え、前記半導体チップ間で接続パッド同士
を導電性の接続部材を介して接続して構成されるマルチ
チップモジュールであって、前記複数個の半導体チップ
のうち少なくとも1個の半導体チップには、前記マルチ
チップモジュール内において相互に電気的に分離された
複数個の前記接続部材の各ノードを電気的に直列状に電
通する電通手段を有するテスト用制御回路が備えられる
ことを特徴としている。
【0016】請求項2記載の発明は、前記請求項1記載
のマルチチップモジュールにおいて、前記複数個の半導
体チップのうち、接続パッド同士が前記接続部材を介し
て接続される2個の半導体チップは、各々テスト用制御
回路を有し、前記各テスト用制御回路は、前記2個の半
導体チップ間で相互に電気的に分離された複数個の接続
部材の各ノードを電気的に直列状に電通する電通手段を
有することを特徴としている。
【0017】請求項3記載の発明は、前記請求項1記載
のマルチチップモジュールにおいて、前記半導体チップ
の数は2個であり、前記2個の半導体チップのうち第1
の半導体チップは、自己の接続パッド毎に自己の接続パ
ッドと電気的に同一ノードとなる接続パッドを有し、前
記2個の半導体チップのうち第2の半導体チップは、自
己の接続パッドが前記第1の半導体チップの接続パッド
と導電性の接続部材を介して電気的に接続される半導体
チップであって、前記第2の半導体チップには前記テス
ト用制御回路が備えられ、前記テスト用制御回路は、前
記第1及び第2の半導体チップ間で相互に電気的に分離
された複数個の接続部材の各ノードを電気的に直列状に
電通する電通手段を有することを特徴とする。
【0018】請求項4記載の発明は、前記請求項1、2
又は3記載のマルチチップモジュールにおいて、前記テ
スト用制御回路は、複数個のスイッチ素子を含み、前記
複数個のスイッチ素子は、各々、その一端が前記複数個
の接続部材のうち所定の接続部材のノードに接続され、
その他端が前記所定の接続部材とは相互に電気的に分離
された他の接続部材のノードに接続されており、前記複
数個のスイッチ素子が全てオン状態において、前記相互
に電気的に分離された複数個の接続部材の各ノードを電
気的に直列状に電通することを特徴とする。
【0019】請求項5記載の発明は、前記請求項1、
2、3又は4記載のマルチチップモジュールにおいて、
複数個の接続部材のうち、2個の半導体チップ間の信号
伝播に寄与しない少なくとも1個の接続部材のノード
を、前記マルチチップモジュール内の電源端子又は接地
端子に接続する接続手段を有することを特徴とする。
【0020】請求項6記載の発明の半導体チップは、複
数個の接続パッドを有する半導体チップであって、他の
半導体チップとの間で接続パッド同士を導電性の接続部
材を介して接続してマルチチップモジュールを構成する
半導体チップにおいて、前記マルチチップモジュールが
構成された場合に、このマルチチップモジュール内にお
いて相互に電気的に分離された複数個の前記接続部材の
各ノードを電気的に直列状に電通する電通手段を有する
テスト用制御回路を予め備えることを特徴とする。
【0021】請求項7記載の発明のマルチチップモジュ
ールのチップ間接続テスト方法は、複数個の接続パッド
を有する半導体チップを複数個備え、前記半導体チップ
間で接続パッド同士を導電性の接続部材を介して接続し
て構成されるマルチチップモジュールのチップ間接続テ
スト方法であって、チップ間接続テスト時に、前記マル
チチップモジュール内において相互に電気的に分離され
た前記複数個の接続部材の各ノードを電気的に直列状に
電通させ、前記電気的に直列状に電通した回路の両端の
インピーダンスを測定して、チップ間接続の良否判定を
行うことを特徴とする。
【0022】請求項8記載の発明のマルチチップモジュ
ールは、複数個の接続パッドを有する半導体チップを複
数個備え、前記半導体チップ間で接続パッド同士を導電
性の接続部材を介して接続して構成されるマルチチップ
モジュールであって、前記マルチチップモジュール内に
は、相互に電気的に分離された複数個の前記接続部材の
少なくとも2つのノード毎に、これ等のノードを電気的
に直列状に電通して、複数の接続テスト用ラインを形成
する電通手段を有するテスト用制御回路が備えられるこ
とを特徴とする。
【0023】請求項9記載の発明は、前記請求項8記載
のマルチチップモジュールにおいて、前記テスト用制御
回路は、少なくとも2つの接続部材のノードの組合せを
変更して、形成される各接続テスト用ラインを変更する
機能を有することを特徴とする。
【0024】請求項10記載の発明は、前記請求項9記
載のマルチチップモジュールにおいて、前記半導体チッ
プ上の複数個の接続パッドは格子状に配置され、前記テ
スト用制御回路は、形成される各接続テスト用ライン
を、垂直方向の複数の接続テスト用ラインを形成する組
合せと、水平方向の複数の接続テスト用ラインを形成す
る組合せとに変更することを特徴とする。
【0025】請求項11記載の発明のマルチチップモジ
ュールのチップ間接続テスト方法は、請求項8、請求項
9又は請求項10記載のマルチチップモジュールのチッ
プ間接続テスト方法であって、チップ間接続テスト時
に、前記電通手段を用いて複数の接続テスト用ラインを
形成した後、前記各接続テスト用ライン毎に導通テスト
を行うと共に、前記各接続テスト用ライン間の非導通テ
ストを行って、チップ間接続の良否判定を行うことを特
徴とする。
【0026】請求項12記載の発明は、前記請求項11
記載のマルチチップモジュールのチップ間接続テスト方
法において、各接続テスト用ライン毎の導通テストと各
接続テスト用ライン間の非導通テストによるチップ間接
続の良否判定において、チップ間接続が不良と判定され
た際には、同一半導体チップ間で接続パッド同士を導電
性の接続部材を介して接続する工程に戻ることを特徴と
する。
【0027】請求項13記載の発明のマルチチップモジ
ュールは、複数個の接続パッドを有する半導体チップを
複数個備え、前記半導体チップ間で接続パッド同士を導
電性の接続部材を介して接続して構成されるマルチチッ
プモジュールであって、所定の2個の前記接続部材間に
配置され、且つ直列に接続された第1及び第2のスイッ
チ回路と、前記第1のスイッチ回路と第2のスイッチ回
路との接続点のノードと接地との間に配置された第3の
スイッチ回路とを備えたことを特徴とする。
【0028】請求項14記載の発明のマルチチップモジ
ュールのチップ間接続テスト方法は、前記請求項13記
載のマルチチップモジュールのチップ間接続テスト方法
であって、チップ間接続テスト時には、前記第1及び第
2のスイッチ回路をオン状態とすると共に、前記第3の
スイッチ回路をオフ状態とし、通常動作時には、前記第
1及び第2のスイッチ回路をオフ状態とすると共に、前
記第3のスイッチ回路をオン状態とすることを特徴とし
ている。
【0029】以上により、請求項1〜7記載の発明で
は、複数個の半導体チップを有するマルチチップモジュ
ールにおいて、半導体チップ間の接続テスト時には、そ
の接続の良否判定を行いたい複数の接続部材を電通手段
により電気的に直列状に電通させて、その電気的に直列
状に電通された両端のインピーダンスを測定することに
より、その半導体チップ間接続の良否判定が可能とな
る。
【0030】ここで、複数の接続部材が直列状に電通さ
れた両端のインピーダンスを測定するだけの簡単なテス
ト方法であるので、半導体チップ間の接続テストに要す
る時間とテストコストは極めて小さくなる。しかも、イ
ンピーダンス測定に必要なプロービングパッドとして
は、接続部材の数が多くても、これ等を直列状に電通し
た両端の2個の電極があれば良いので、半導体チップの
面積の増加は極めて小さい。
【0031】特に、請求項3記載の発明では、テスト用
制御回路は第2の半導体チップのみが持つので、マルチ
チップモジュールの一部となる第1の半導体チップに対
して本発明を適用する際の修正は、配線修正のみで良
く、第1の半導体チップの短期開発が可能となる。特
に、第1の半導体チップがメモリ等の場合には、メモリ
用のトランジスタが密集していて、電通手段をこの第1
の半導体チップの最適な位置に配置できない場合がある
が、配線修正のみで対応できる本発明の効果は大きい。
更に、第1の半導体チップが配線のみの基板チップ、即
ち、トランジスタデバイスが存在しないチップである場
合には、第1の半導体チップには電通手段を構成するデ
バイスを配置できないが、本発明では接続テストが可能
となる。
【0032】更に、請求項5記載の発明では、電通手段
がMOSスイッチ等のスイッチ素子を持つ場合に、この
スイッチ素子がデジタル信号配線とアナログ信号配線の
各接続部材のノード間に配置された状態では、このスイ
ッチ素子がオフ状態にある通常時に、このスイッチ素子
のゲート- ソース間寄生容量によってこの両信号配線同
士のクロストークが生じ、デジタル信号の電気的変化が
アナログ信号配線のハイインピーダンスノードに影響を
及ぼす可能性がある。しかし、本発明では、デジタル信
号配線とアナログ信号配線の間に位置する配線のうち、
半導体チップ間の信号伝播に寄与しない配線の接続部材
のノードが、電源端子又は接地端子に接続されて、ロー
インピーダンスノードとなるので、前記クロストーク問
題を回避することができる。
【0033】また、請求項8〜12記載の発明では、所
定の複数個の接続部材毎にこれ等を電気的に直列状に接
続した接続テスト用ラインが形成されるので、各接続テ
スト用ライン毎に導通テストを行えば、半導体チップ間
接続の良否判定が可能であり、更には、各接続テスト用
ライン間で非導通テストを行えば、2つの接続テスト用
ライン間での接続部材同士のショート不良を検査するこ
とが可能である。
【0034】特に、請求項9、10記載の発明では、形
成される複数の接続テスト用ラインが任意に変更可能で
あるので、例えば接続テスト用ラインを垂直方向に複数
形成したり、水平方向に複数形成すれば、全ての接続部
材について、各々、その周囲に位置する他の接続部材と
のショート不良を容易に判定することが可能である。
【0035】更に、請求項12記載の発明では、チップ
間接続の良否判定の結果が不良である場合には、再度、
同一半導体チップ間で接続パッド同士を導電性の接続部
材で接続する工程に戻るので、再度のチップ間接続の良
否判定を繰り返して、製造されるマルチチップモジュー
ルの全てを良品にできる。
【0036】加えて、請求項13及び14記載の発明で
は、通常動作時には、例えばデジタル信号配線とアナロ
グ信号配線との間に位置する配線の接続部材のノードが
第3のスイッチ回路のオンにより接地に接続されて、ロ
ーインピーダンスノードとなるので、請求項5記載の発
明と同様に、クロストーク問題を回避することができ
る。しかも、請求項5記載の発明のように半導体チップ
間の信号伝搬に寄与しない配線の接続部材を設ける必要
がないので、接続パッドのトータルサイズが半導体チッ
プの面積を律速している場合には、小面積化の効果が顕
著である。
【0037】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。
【0038】(第1の実施の形態)図1は、本発明の第
1の実施の形態のチップオンチップ(以下COCと略
す)型マルチチップモジュールの全体構成を示す。同図
は、半導体チップ1の内部回路1−1の信号端子1−1
1〜1−16と、半導体チップ2の内部回路2−1の信
号端子2−11〜2−16とをそれぞれ接続して、マル
チチップモジュール化を行った場合に対し本発明を適用
した場合の構成例を示す。
【0039】同図において、信号端子1−11は半導体
チップ1上に設けられた接続パッド1−21と電気的接
続が行われており、信号端子2−11は半導体チップ2
上に設けられた接続パッド2−21と電気的接続が行わ
れている。これ等の2個の接続パッド1−21、2−2
1は、接続部材10−1を介して電気的接続を行うこと
により、信号端子1−11と信号端子2−11との電気
的接続が可能となる。2個の半導体チップ1、2間の他
の信号端子、即ち、信号端子1−12と信号端子2−1
2、信号端子1−13と信号端子2−13、信号端子1
−14と信号端子2−14、信号端子1−15と信号端
子2−15、信号端子1−16と信号端子2−16も同
様に、それぞれ半導体チップ1上の接続パッド1−2
2、1−23、1−24、1−25、1−26、接続部
材10−2、10−3、10−4、10−5、10−
6、及び半導体チップ2上の接続パッド2−22、2−
23、2−24、2−25、2−26を介して電気的接
続が行われる。
【0040】本実施の形態では、こうして構成されたマ
ルチチップモジュールに対し、以下のテスト用部品が追
加される。即ち、半導体チップ(子チップ)2には、電
気的に分離された2個の接続パッド2−21、2−22
間に設けられたスイッチ素子2−31、同様に2個の接
続パッド2−23、2−24間に設けられたスイッチ素
子2−32、他の2個の接続パッド2−25、2−26
間に設けられたスイッチ素子2−33より成る電通手段
2−40を備えたテスト用制御回路2−41が別途設け
られる。
【0041】一方、半導体チップ(親チップ)1には、
電気的に分離された2個の接続パッド1−22、1−2
3間に設けられたスイッチ素子1−31、同様に2個の
接続パッド1−24、1−25間に設けられたスイッチ
素子1−32よりなる電通手段1−40が設けられると
共に、親及び子チップ1、2に備えた前記5個のスイッ
チ素子2−31、1−31、2−32、1−32、2−
33をオンオフ制御する電気的信号を与えるプロービン
グパッド1−03と、図中左端に位置する接続パッド1
−21に接続されたプローピングパッド1−01と、図
中右端に位置する接続パッド1−26に接続されたプロ
ーピングパッド1−02とが別途配置される。これ等に
より、親チップ1に設けるテスト用制御回路1−41を
構成する。
【0042】尚、図1中、1−27、2−27は親及び
子チップ1、2に別途設けた接続パッド、10−7はこ
の両パッド1−27、2−27を接続する接続部材であ
って、親チップ1のプロービングパッド1−03からの
電気的信号を子チップ2の3個のスイッチ素子2−3
1、2−32、2−33に与えるものである。
【0043】次に、本実施の形態の動作説明を行う。マ
ルチチップモジュールの通常動作を行う場合は、前記5
個のスイッチ素子1−31、1−32、2−31〜2−
33はプロービングパッド1−03からの電気的信号に
よりオフ状態に制御される。これにより、2個の半導体
チップ1、2では、内部回路1−1、2−1間を接続す
る6本の信号配線は電気的に分離されるので、通常通
り、対応する2個の信号端子1−11、2−11間、信
号端子1−12、2−12間、信号端子1−13、2−
13間、信号端子1−14、2−14間、信号端子1−
15、2−15間、信号端子1−16、2−16間のイ
ンターフェースが可能となる。
【0044】前記2個の半導体チップ1、2の各接続パ
ッド間(1−21と2−21、1−22と2−22、1
−23と2−23、1−24と2−24、1−25と2
−25、1−26と2−26)の電気的接続が良好かど
うかを判断するための半導体チップ間接続テストは、以
下のようにして行う。先ず、半導体チップ1、2の電源
ラインをフローティング状態とすることにより、各信号
端子1−11〜1−16、2−11〜2−16の出力を
ハイインピーダンス状態とする。次に、前記5個のスイ
ッチ素子1−31、1−32、2−31〜2−33をプ
ロービングパッド1−03からの電気的信号によりオン
状態に制御する。これにより、2個のプロービングパッ
ド1−01、1−02間は、接続部材10−1〜10−
6及びスイッチ素子2−31、1−31、2−32、1
−32、2−33を介して電気的に直列状に電通させる
ことができる。従って、2個のプロービングパッド1−
01、1−02間のインピーダンスを測定することによ
り、各接続部材10−1〜10−6の接続状態の良否判
定を行うことができる。
【0045】このように、半導体チップ1、2間の接続
の良否判定を行いたい接続箇所の接続部材を電気的に直
列状に電通させることにより、それ等半導体チップ1、
2間の接続の良否判定は、その電気的に直列状に電通さ
れた両端のインピーダンスを測定することで可能とな
る。その測定に必要なプロービングパッドの数は、接続
部材の数が多くても、その電通された回路の両端の2個
のプロービングパッド1−01、1−02と、スイッチ
素子のオンオフ制御用の1個プロービングパッド1−0
3とのトータル3個と極めて少ない。また、その両端の
インピーダンスを測定するという簡単なテスト方法で実
施可能であるので、半導体チップ1、2間の接続テスト
に要する時間とテストコストは極めて小さくなる。しか
も、一般的に、半導体チップ内の素子数は数百万〜数千
万であるのに対し、本発明で新たに設けるスイッチ素子
の数は数十〜数千のオーダーであるので、スイッチ素子
等のテスト回路による各半導体チップの面積増大はほと
んど無視できる。
【0046】(第2の実施の形態)図2は、本発明の第
2の実施の形態のマルチチップモジュールを示す図であ
る。前記第1の実施の形態では、親子両方の半導体チッ
プ1、2に各々テスト用制御回路1−41、2−41を
設けることが可能な場合の実施の形態であるのに対し、
本実施の形態は、半導体チップ1のみにテスト用制御回
路を設けた場合の実施の形態である。尚、図2おいて、
各構成部品の番号は図1と同じ番号を付している。
【0047】図2は、半導体チップ1の内部回路1−1
の信号端子1−11〜1−14と、半導体チップ2の内
部回路2−1の信号端子2−11〜2−14をそれぞれ
電気的接続し、マルチチップモジュール化を行った場合
を示す。
【0048】本実施の形態の特徴的な点は、子チップ
(第1の半導体チップ)2において、第1の実施の形態
のようにテスト用制御回路1−40を設けず、各信号端
子2−11〜2−14は、電気的に同一ノードである2
個の接続パッドを持つ点にある。即ち、信号端子2−1
1は電気的に同一ノードである2個の接続パッド2−2
1、2−22を持つ。以下同様に、信号端子2−12は
2個の接続パッド2−23、2−24を、信号端子2−
13は2個の接続パッド2−25、2−26を、信号端
子2−14は2個の接続パッド2−27、2−28を持
つ。
【0049】一方、親チップ(第2の半導体チップ)1
側では、半導体チップ2の接続パッド2−21〜2−2
8に対応する接続パッド1−21〜1−28を持ち、こ
れ等接続パッド1−21〜1−28は接続部材10−1
〜10−8を介して半導体チップ2の接続パッド2−2
1〜2−28と接続されている。半導体チップ1の信号
端子1−11〜1−14は、それぞれ接続パッド1−2
2、1−24、1−26、1−28に接続されている。
【0050】更に、半導体チップ1側では、第1の実施
の形態と同様に、電気的に分離された2個の接続パッド
1−22、1−23間に設けられたスイッチ素子1−3
1、同様に2個の接続パッド1−24、1−25間に設
けられたスイッチ素子1−32、他の2個の接続パッド
1−26、1−27間に設けられたスイッチ素子1−3
3より成る電通手段1−40が設けられている。前記3
個のスイッチ素子1−31〜1−33は、プロービング
パッド1−03より与えられる電気的信号によりオンオ
フ制御が可能となっている。前記電通手段1−40と第
1の実施の形態で説明した3個のプロービングパッド1
−01、1−02、1−03によりテスト用制御回路1
−41を構成する。
【0051】本実施の形態の動作は前記第1の実施の形
態と同様である。即ち、マルチチップモジュールの通常
動作を行う場合には、前記スイッチ素子1−31〜1−
33は、プロービングパッド1−03からの電気的信号
によりオフ状態に制御される。これにより、2個の半導
体チップ1、2では各内部回路1−1、2−1間を接続
する4本の信号配線が電気的に分離されるので、通常通
り、対応する2個の信号端子1−11と2−11間、1
−12と2−12間、1−13と2−13間、1−14
と2−14間のインターフェースが可能となる。
【0052】また、半導体チップ1、2の各接続パッド
間(1−22と2−22、1−24と2−24、1−2
6と2−26、1−28と2−28)の電気的接続が良
好かどうかを判断するための半導体チップ間の接続テス
トは、以下のようにして行う。先ず、半導体チップ1、
2の電源ラインをフローティング状態とすることによ
り、各信号端子1−11〜1−14、2−11〜2−1
4の出力をハイインピーダンス状態とする。次に、前記
3個のスイッチ素子1−31〜1−33をプロービング
パッド1−03からの電気的信号によりオン状態に制御
する。これにより、2個のプロービングパッド1−0
1、1−02間は接続部材10−1〜10−8及び前記
3個のスイッチ素子1−31〜1−33を介して電気的
に直列状に電通する。従って、この2個のプロービング
パッド1−01、1−02間のインピーダンスを測定す
ることにより、各接続部材10−2、10−4、10−
6、10−8の良否判定を行うことができる。
【0053】このように、電気的に直列状に電通する電
通手段1−40を半導体チップ1側のみに持たせること
により、本実施の形態では前記第1の実施の形態の効果
に加えて、更に次の3つの効果を有する。第1に、半導
体チップ2に本実施の形態を適用する際の修正は配線修
正のみで良くなるので、半導体チップ2の短期開発が可
能となる。第2に、半導体チップ2がメモリ等のトラン
ジスタが密集した半導体チップである場合には、スイッ
チ素子を最適な任意の位置に配置できない場合があり得
るが、このような場合に対しても、本実施の形態を用い
れば、半導体チップ2は配線のみで対応できるので、本
発明を容易に適用することができる。第3に、半導体チ
ップ2が配線のみの基板チップ、即ち半導体チップ2に
はスイッチ素子等のデバイスが配置できない場合には、
この半導体チップに対しても本発明の接続テストを適用
することが可能となる。
【0054】(第3の実施の形態)図3は、本発明の第
3の実施の形態のマルチチップモジュールを示す図であ
る。前記第2の実施の形態では半導体チップ1側にテス
ト用制御回路を設けた場合、即ち、スイッチ素子の挿入
場所を半導体チップ1側に限定したのに対し、本実施の
形態では半導体チップ2側のみにスイッチ素子を設けた
場合を示す。この点以外は、動作原理及び効果は共に前
記第2の実施の形態と全く同様である。従って、当業者
であれば動作原理を容易に理解できるので、その詳細な
説明は省略する。
【0055】(第4の実施の形態)図4は、本発明の第
4の実施の形態のマルチチップモジュールを示す図であ
る。前記第1〜第3の実施の形態において本発明の動作
原理及び効果について述べたが、以下、本発明を用いる
ことによる課題とその対策について、図4及び図5を参
照しながら説明する。
【0056】本発明において、新たに設けるスイッチ素
子としてMOSスイッチを用いた場合、このスイッチ素
子がオフしている際のゲート- ソース間寄生容量によっ
て半導体チップ間の信号配線同士のクロストークが問題
となる可能性がある。このクロストークの発生原理につ
いて図5を用いて簡単に説明する。
【0057】図5において、2−31、1−31はMO
Sスイッチであって、一般にゲート- ソース間に寄生容
量(スイッチ素子2−31ではゲート- ソース間寄生容
量2−31−C1及び2−31−C2、スイッチ素子1
−31ではゲート- ソース間寄生容量1−31−C1及
び1−31−C2)が存在する。もし、半導体チップ間
の信号配線11−1に電気的変化が生じると、この寄生
容量によって電力が伝搬され、チップ間信号配線11−
2に対してクロストークノイズが発生する。これ等のチ
ップ間信号配線がデジタル信号配線同士では、特に問題
とはならないが、デジタル信号配線とアナログ信号配線
間では前記クロストーク問題により、デジタル信号の電
気的変化がアナログ信号配線のハイインピーダンスノー
ドに影響を及ぼす可能性がある。しかし、このチップ間
信号配線11−2が電気的変化を起こさないロウインピ
ーダンスノードであった場合には、チップ間信号配線1
1−1での電気的変化はチップ間信号配線11−3に対
してクロストークノイズの影響を与えない。
【0058】本実施の形態は、前記原理を応用したもの
であり、チップ間信号配線と他のチップ間信号配線との
間にダミーの電源ノード又は接地ノードを設けて、互い
のクロストークノイズを抑制することを目的としてい
る。
【0059】図4に示した本実施の形態のマルチチップ
モジュールでは、各構成部品の番号は図1と同じ番号を
付している。図1と異なる特徴的な点は、半導体チップ
1、2間の信号伝播に寄与しない半導体チップ間の配線
を、電気的変化を起こさないロウインピーダンスノード
とすることである。具体的に説明すると、半導体チップ
1、2間の信号伝播に寄与しない半導体チップ間接続部
材10−2、10−4、10−6は、半導体チップ1に
設けたプロービングパッド1−04に接続される。この
プロービングパッド(接続手段)1−04は、マルチチ
ップモジュールの通常動作を行う際には、このマルチチ
ップモジュール内の電源端子又は接地端子に接続され
て、ローインピーダンスに固定される。
【0060】本実施の形態のマルチチップモジュールに
おいて、マルチチップモジュールの通常動作を行う場合
には、スイッチ素子1−31〜1−33、2−31〜2
−34、は、プロービングパッド1−03からの電気的
信号によりオフ状態に制御され、且つプロービングパッ
ド1−04の電位をローインピーダンスに固定する。こ
れにより、2個の半導体チップ1、2間の内部回路1−
1、2−1間を接続する4本の信号配線は電気的に分離
されるので、通常通り、2個の半導体チップ1、2間の
対応する信号端子同士(1−11と2−11、1−12
と2−12、1−13と2−13、1−14と2−1
4)間のインターフェースが可能となる。しかも、各ス
イッチ素子1−31〜1−33、2−31〜2−33の
他端は、プロービングパッド1−04により電位が固定
されているので、2個の信号端子(1−11と2−1
1、1−12と2−12、1−13と2−13、1−1
4と2−14)間の信号配線間のクロストークノイズの
影響は生じない。
【0061】また、半導体チップ1、2間の各接続パッ
ド間(1−21と2−21、1−23と2−23、1−
25と2−25、1−27と2−27)の電気的接続が
良好かどうかを判断するためのチップ間接続テストは、
以下のようにして行う。先ず、半導体チップ1、2の電
源ラインをフローティング状態とすることにより、各信
号端子1−11〜1−14、2−11〜2−14の出力
をハイインピーダンス状態とする。次に、前記7個のス
イッチ素子1−31〜1−33、2−31〜2−34を
プロービングパッド1−03からの電気的信号によりオ
ン状態に制御し、且つプロービングパッド1−04をフ
ローティングノードとする。これにより、第1の実施の
形態で説明したと同様に、2個のプロービングパッド1
−01、1−02間は電気的に直列状に電通するので、
この2個のプロービングパッド1−01、1−02間の
インピーダンスを測定することにより、各接続部材10
−1、10−3、10−5、10−7の接続状態の良否
判定を行うことができる。
【0062】本実施の形態は、デジタル信号配線とアナ
ログ信号配線とが混載される場合に特に有効となり、通
常動作時に互いの信号配線間のクロスカップリングノイ
ズの影響をなくしたい場合に、その信号配線間に位置す
る配線を電気的に変化を起こさないローインピーダンス
ノードとすることにより、そのクロスカップリングノイ
ズの影響をなくすことができる。従って、信号伝播に寄
与しない4個のチップ間接続部材10−2、10−4、
10−6、10−8のうち左右に位置する信号配線がデ
ジタル信号配線とアナログ信号配線との組合せである場
合、例えば信号端子1−12、2−12間の信号配線が
アナログ信号配線であって他の信号配線がデジタル信号
配線である場合には、チップ間接続部材10−2、10
−4のみをローインピーダンスノードとすれば良い。
【0063】(第5の実施の形態)図6は、本発明の第
5の実施の形態のマルチチップモジュールを示す図であ
る。本実施の形態は、3個以上の半導体チップのチップ
間接続の良否判定に対し本発明を適用した場合の例を示
す。尚、図6は3個の半導体チップを用いてマルチチッ
プモジュールを構成した場合を示す。
【0064】図6において、半導体チップ1の内部回路
1−1の信号端子1−11、1−12は半導体チップ2
の内部回路2−1の信号端子2−11、2−14と接続
パッド1−21、1−24、2−21、2−24及び接
続部材10−1、10−4を介して電気的接続が行われ
る。半導体チップ2の内部回路2−1の信号端子2−1
2、2−13は半導体チップ3の内部回路3−1の信号
端子3−11、3−12と接続パッド2−22、2−2
3、1−22、1−23、1−26、1−27、3−3
1、3−32及び接続部材10−2、10−3、10−
6、10−7を介して半導体チップ1を介在して電気的
接続が行われる。
【0065】また、半導体チップ2には、電気的に分離
された2個の接続パッド2−21、2−22を接続する
スイッチ素子2−31と、他の2個の接続パッド2−2
3、2−24を接続するスイッチ素子2−32とを持つ
電通手段2−40を備えたテスト用制御回路2−41が
配置される。同様に、半導体チップ3にも、電気的に分
離された2個の接続パッド3−31、3−32を接続す
るスイッチ素子3−31を持つ電通手段3−40を備え
たテスト用制御回路3−41が配置される。また、半導
体チップ1には、既述したようにインピーダンス測定用
の2個のプローピングパッド1−01、1−02が配置
されると共に、スイッチ素子のオンオフ制御用のプロー
ピングパッド1−03が配置される。このパッド1−0
3は、接続パッド1−25、1−28、2−25、3−
33及び接続部材10−5、10−8を介して前記3個
のスイッチ素子2−31、2−32、3−31に電気的
信号を与える。半導体チップ1にはスイッチ素子は配置
されていない。
【0066】本実施の形態の動作は、第1の実施の形態
と同様である。即ち、マルチチップモジュールの通常動
作を行うときは、各スイッチ素子2−31、2−32、
3−31は、プロービングパッド1−03からの電気的
信号によりオフ状態に制御される。これにより、3個の
半導体チップ1〜3の各信号配線は電気的に分離される
ので、通常通り、2個の信号端子2−11、1−11
間、信号端子2−12、3−12間、信号端子2−1
3、3−11間、信号端子2−14、1−12間のイン
ターフェースが可能となる。
【0067】3個の半導体チップ1、2、3の各接続パ
ッド間(1−21と2−21、1−22と2−22、1
−23と2−23、1−24と2−24、1−26と3
−31、1−27と3−32)の電気的接続が良好かど
うかを判断するためのチップ間接続テストは、以下のよ
うにして行う。先ず、半導体チップ1、2、3の各電源
ラインをフローティング状態とすることにより、各信号
端子の出力をハイインピーダンス状態とする。次に、3
個のスイッチ素子2−31、2−32、3−31をプロ
ービングパッド1−03からの電気的信号によりオン状
態に制御する。これにより、2個のプロービングパッド
1−01、1−02間は、接続部材10−1〜10−7
及びスイッチ素子2−31、2−32、3−31を介し
て電気的に直列状に電通する。従って、2個のプロービ
ングパッド1−01、1−02間のインピーダンスを測
定することにより、これ等の接続部材10−1〜10−
7の接続状態の良否判定を行うことができる。
【0068】このように、3個以上の半導体チップに対
しても、接続テストを行いたい接続部材を全て電気的に
直列状に電通する電通手段を設けることにより、2個の
半導体チップに対する接続テストと同様に本発明を適用
することが可能である。
【0069】尚、本実施の形態では、3個の半導体チッ
プでマルチチップモジュールを構成したが、3個以上の
半導体チップを用いて構成しても良いのは勿論のこと、
第2の実施の形態で説明したように何れかの半導体チッ
プのみにテスト用制御回路を持たせる構成を採用するこ
とも可能である。また、第4の実施の形態で説明したよ
うに、信号配線間相互のクロストークノイズを回避する
構成を複数個の半導体チップで構成する本実施の形態の
マルチチップモジュールに適用することも可能である。
【0070】(第6の実施の形態)図8は、本発明の第
6の実施の形態のCOC型マルチチップモジュールの全
体概略構成を示す図である。本実施の形態は、半導体チ
ップ間接続の良否判定に加えて、各接続部材間のショー
ト不良をも検査可能とする場合の例を示す。
【0071】図8(a)はCOC型マルチチップモジュ
ールを上面から見た概念図を示し、同図(b)は同図
(a)のb−b線断面図を示す。8は親の半導体チッ
プ、9は親チップ8の上方に配置される子の半導体チッ
プである。前記親及び子の半導体チップ8、9には、図
1に示した親及び子の半導体チップ1、2と同様に内部
に内部回路を備えるが、簡単のため、図示を省略してい
る。
【0072】図8(b)において、親チップ8には、そ
の上部に内部回路と接続された接続パッド20−01が
設けられ、子チップ9にもその上部に内部回路と接続さ
れた接続パッド30−01が設けられている。この両接
続パッド20−01、30−01は導電性の接続部材4
0−01を介して電気的に接続されていて、親チップ8
の内部回路と子チップ9の内部回路との電気的接続を可
能にしている。また、親チップ8には、他の接続パッド
20−02、20−03、20−04が設けられ、子チ
ップ9にも接続パッド30−02、30−03、30−
04が設けられ、これ等親子の半導体チップ8、9間の
接続パッド同士、すなわち接続パッド20−02と接続
パッド30−02、接続パッド20−03と接続パッド
30−03、接続パッド20−04と接続パッド30−
04も同様に、導電性の接続部材40−02、40−0
3、40−04を介して電気的に接続される。
【0073】そして、本実施の形態では、更に、次のテ
スト用部品が追加されている。即ち、子チップ9には、
電気的に分離された2個の接続パッド30−01、30
−02同士を接続するスイッチ素子50−01と、電気
的に分離された他の2個の接続パッド30−03、30
−04同士を接続するスイッチ素子50−03とが別途
設けられる。
【0074】一方、親チップ8には、電気的に分離され
た中央側の2個の接続パッド20−02、20−03同
士を接続するスイッチ素子50−02と、図8(b)中
で左端に位置する接続パッド20−01に接続されたプ
ロービングパッドAと、右端に位置する接続パッド20
−04に接続されたプロービングパッドBとが設けられ
る。
【0075】図8(a)に示すように、親チップ8に
は、前記1組のプロービングパッドA、Bと同様に、左
右端部に位置する他の3組のプロービングパッド(C、
D)、(E、F)及び(G、H)が備えられ、これ等各
組のプロービングパッド間での親子チップ8、9の構造
も、既述した1組のプロービングパッドA、B間の構造
と同一である。即ち、概述すると、子チップ9におい
て、プロービングパッドC、D間には2個のスイッチ素
子50−04、50−06が設けられ、プロービングパ
ッドE、F間には2個のスイッチ素子50−07、50
−09が、プロービングパッドG、H間には2個のスイ
ッチ素子50−10、50−12が各々設けられる。一
方、親チップ8において、プロービングパッドC、D間
にはスイッチ素子50−05が設けられ、プロービング
パッドE、F間にはスイッチ素子50−08が、プロー
ビングパッドG、H間にはスイッチ素子50−11が各
々設けられる。尚、前記親子の半導体チップ8、9が備
える12個のスイッチ素子50−01〜50−12をオ
ンオフ制御するプロービングパッドも、図示しないが、
親チップ8に設けられる。
【0076】以上により、図8に示したマルチチップモ
ジュールには、親子の半導体チップ8、9が備える12
個のスイッチ素子50−01〜50−12により構成さ
れる電通手段60が備えられると共に、プロービングパ
ッドA、B間の3個のスイッチ素子50−01〜50−
03を用いて4個の接続部材40−01〜40−04の
各ノードを電気的に直列状に電通して接続テスト用ライ
ン(AB)を形成し、同様に、プロービングパッドC、
D間の3個のスイッチ素子50−04〜50−06を用
いて接続テスト用ライン(CD)を形成し、プロービン
グパッドE、F間の3個のスイッチ素子50−07〜5
0−09を用いて接続テスト用ライン(EF)を形成
し、プロービングパッドG、H間の3個のスイッチ素子
50−10〜50−12を用いて接続テスト用ライン
(GH)を形成するテスト用制御回路80が備えられ
る。
【0077】次に、本実施の形態のマルチチップモジュ
ールのチップ間接続テスト方法を説明する。
【0078】先ず、通常動作時には、図9に示すよう
に、全てのスイッチ素子50−01〜50−12をオフ
状態に制御して、本来は電気的に分離されるべき接続パ
ッド同士を電気的に分離する。
【0079】一方、チップ間接続テスト時には、図10
に示すように、全てのスイッチ素子50−01〜50−
12をオン状態に制御して、4つの接続テスト用ライン
(AB)、(CD)、(EF)及び(GH)を形成す
る。そして、この状態において、先ず、各接続テスト用
ライン(AB)〜(GH)別に導通テストを行う。次い
で、各接続テスト用ライン(AB)〜(GH)につい
て、隣接する他の接続テスト用ラインとの間の非導通テ
ストを行う。これにより、前記接続テスト用ライン毎の
導通テストにより、親子チップ8、9間での接続パッド
同士を接続部材を介して接続した全てのチップ間接続の
良否判定が可能である。また、接続テスト用ライン間の
非導通テストでは、例えば図11に示すように、接続パ
ッド30−11とこれとは垂直方向に隣接する接続パッ
ド30−15との間でショート不良が生じている場合に
は、2つの接続テスト用ライン(EF)、(GH)間が
導通となるので、このショート不良を容易に判断、検出
することが可能である。図11に示したショート不良と
同様のショート不良は、前記第1の実施の形態では、図
22(a)、(b)に示すように、全ての接続部材のノ
ードを直列に接続するために、2個の接続パッド30−
10、30−14間のショート不良は検出できないが、
本実施の形態では既述の通り検出可能であるので、本実
施の形態はこの点で第1の実施の形態よりも優れる。
【0080】(第7の実施の形態)次に、本発明の第7
の実施の形態を説明する。本実施の形態は、前記第6の
実施の形態のチップ間接続テスト方法を更に改良したも
のである。
【0081】すなわち、前記第6の実施の形態では、図
12に示すように、例えば接続パッド30−15とこれ
と同図中水平方向(接続テスト用ラインの方向)に隣接
する接続パッド30−16との間でショート故障が生じ
ている場合には、この両接続パッド間に配置したスイッ
チ素子50−12がオン状態であるために、そのショー
ト故障を検出できず、良品と誤判定することになる。本
実施の形態は、これを改良するものである。
【0082】図13は、本実施の形態のマルチチップモ
ジュールの全体構成を示す。同図(a)は上面から見た
概念図を、同図(b)は同図(a)のb−b線断面図で
ある。図13(a)及び(b)では、前記図8に示した
構成に加えて、垂直方向にも複数個のスイッチ素子と複
数組のプロービングパッドとが追加配置される。
【0083】以下、図8に示した水平方向の接続テスト
用ライン(AB)、(CD)、(EF)及び(GH)を
形成する構成と同様の構成については説明を省略し、垂
直方向の構成について詳細に説明する。
【0084】即ち、図13(a)及び(b)に示したマ
ルチチップモジュールでは、多数の接続パッド20−0
1…、30−01…が水平及び垂直方向に格子状に配置
されている構成に関連して、垂直方向の両端にも8個の
プロービングパッドa〜hが配置されている。同図
(b)に示すように、1組のプロービングパッドa、b
間において、子チップ9には、垂直方向に並ぶ2個の接
続パッド30−01、30−05を接続するスイッチ素
子70−01と、同様に垂直方向に並ぶ2個の接続パッ
ド30−09、30−13を接続するスイッチ素子70
−03とが配置され、一方、親チップ8には、垂直方向
に並ぶ2個の接続パッド20−05、20−09を接続
するスイッチ素子70−02と、前記1組のプロービン
グパッドa、bとが備えられる。
【0085】更に、図13(a)に示すように、垂直方
向の他の3組のプロービングパッドcd間、ef間、g
h間にも、前記と同様に、プロービングパッドcd間に
は、子チップ9に2個のスイッチ素子70−04、70
−06が、親チップ8にスイッチ素子70−05が各々
配置され、プロービングパッドef間には、子チップ9
に2個のスイッチ素子70−07、70−09が、親チ
ップ8にスイッチ素子70−08が各々配置され、プロ
ービングパッドgh間には、子チップ9に2個のスイッ
チ素子70−10、70−12が、親チップ8にスイッ
チ素子70−11が各々配置される。また、親チップ8
には、前記垂直方向に並ぶ12個のスイッチ素子70−
01〜70−12をオンオフ制御するためのプロービン
グパッド(図示せず)が備えられる。
【0086】以上により、図13に示したマルチチップ
モジュールには、前記水平方向に配置した12個のスイ
ッチ素子50−01〜50−12よりなる電通手段60
に加えて、垂直方向に配置した12個のスイッチ素子7
0−01〜70−12よりなる電通手段61を備える。
更に、このマルチチップモジュールには、図8において
既述したように、水平方向の4組のプロービングパッド
AB間、CD間、EF間及びGH間において各々水平方
向の接続テスト用ライン(AB)(CD)、(EF)及
び(GH)を形成すると共に、1組のプロービングパッ
ドa、b間において3個のスイッチ素子70−01〜7
0−03により垂直方向に並ぶ4つの接続部材40−0
1、40−05、40−09、40−13を電気的に直
列状に電通した垂直方向の接続テスト用ライン(ab)
を形成し、同様に、他の3組のプロービングパッドcd
間、ef間及びgh間において各々垂直方向の接続テスト
用ライン(cd)、(ef)及び(gh)を形成するテ
スト用制御回路81を備える。このテスト用制御回路8
1は、このように接続テスト用ラインを形成する4個の
接続部材のノードの組合せを変更して、接続テスト用ラ
インを水平方向に形成するか垂直方向に形成するかを切
換え、変更する機能を有する。
【0087】従って、本実施の形態では、先ず、通常動
作時には、図14に示すように、全てのスイッチ素子5
0−01〜50−12及び70−01〜70−12をオ
フ状態に制御して、本来は電気的に分離されるべき接続
パッド同士を電気的に分離する。
【0088】一方、チップ間接続テスト時には、水平方
向の接続テスト用ライン(AB)、(CD)、(EF)
及び(GH)に関する接続テストと、垂直方向の接続テ
スト用ライン(ab)、(cd)、(ef)及び(g
h)に関する接続テストとに大別される。ここでは、水
平方向の接続テスト用ラインに関する接続テストを最初
に行う場合を例示して説明する。
【0089】図15に示すように、水平方向に位置する
全てのスイッチ素子50−01〜50−12をオン制御
し、一方、垂直方向に位置する全てのスイッチ素子70
−01〜70−12をオフ制御して、4つの水平方向の
接続テスト用ライン(AB)、(CD)、(EF)及び
(GH)を形成する。そして、この水平方向の接続テス
ト用ライン毎に導通テストを行うと共に、この水平方向
の接続テスト用ライン間の非導通テストを行う。これに
より、水平方向に並ぶ接続部材によるチップ間接続の良
否判定が可能であり、更には、例えば図17に示すよう
に、垂直方向に並ぶ2つの接続パッド30−11、30
−15間にショート不良がある場合には、2つの水平方
向の接続テスト用ライン(EF)、(GH)間の非導通
テストにより導通となるため、このショート不良の判
断、検出が可能である。
【0090】次いで、図16に示すように、垂直方向に
並ぶ全てのスイッチ素子70−01〜70−12をオン
制御し、一方、水平方向に並ぶ全てのスイッチ素子50
−01〜50−12をオフ制御して、4つの垂直方向の
接続テスト用ライン(ab)、(cd)、(ef)及び
(gh)を形成する。そして、この垂直方向の接続テス
ト用ライン毎に導通テストを行うと共に、この垂直方向
の接続テスト用ライン間の非導通テストを行う。これに
より、垂直方向に並ぶ接続部材によるチップ間接続の良
否判定が可能であり、更には、例えば図18に示すよう
に、水平方向に並ぶ2つの接続パッド30−15、30
−16間にショート不良がある場合には、前記第6の実
施の形態ではこのショート不良は既述の通り判断、検出
できなかったものの、本実施の形態では、2つの垂直方
向の接続テスト用ライン(ef)、(gh)間の非導通
テストにより導通となるため、このショート不良の判
断、検出も可能である。
【0091】本実施の形態では、多数の接続パッドが格
子状に並んでいて、複数の接続テスト用ラインを水平方
向と垂直方向とに選択、切換える構成であるので、テス
ト用制御回路81の設計が容易であり、また、そのテス
ト用制御回路81の面積を小面積にできる効果を奏す
る。
【0092】尚、第6及び第7の実施の形態では、水平
又は垂直方向に並ぶ4つの接続部材のノードを直列状に
接続した接続テスト用ラインを形成したが、接続テスト
用ラインを形成する接続部材の数は少なくとも2つであ
れば良く、要は、1つの接続テスト用ラインに1つのス
イッチ素子を含む構成であれば良い。
【0093】(第8の実施の形態)続いて、本発明の第
8の実施の形態を説明する。本実施の形態は、前記第4
の実施の形態に示した半導体チップ間の信号配線同士の
クロストークの抑制に関する構成を改良したものであ
る。
【0094】即ち、前記第4の実施の形態を示す図4で
は、既述の通り、例えば所定の2個の接続パッド2−2
1、2−23同士をスイッチ素子(MOSスイッチ)1
−31、2−31を介して電気的に直列状に接続してチ
ップ間接続テストを可能とする場合に、これらスイッチ
素子のオフ状態でのゲート- ソース間寄生容量に起因し
て2個の接続パッド2−21、2−23を通じる信号配
線同士のクロストークが問題となるために、その両接続
パッド間に位置する信号伝搬に寄与しない接続パッド2
−22を通常動作時に接地しているため、この信号伝搬
に寄与しない接続パッドが必要となる。本実施の形態
は、この信号伝搬に寄与しない接続パッドを不要とした
ものである。
【0095】図19は本実施の形態のマルチチップモジ
ュールの要部構成を示す。同図において、2個の接続パ
ッド2−21、2−23間には、この両接続パッド同士
を直列に接続するための第1及び第2のスイッチ回路9
0、91が配置され、この両スイッチ回路90、91間
のノードは第3のスイッチ回路92を介して接地されて
いる。
【0096】本実施の形態では、チップ間接続テスト時
には、図20(b)に示すように、第1及び第2のスイ
ッチ回路90、91をオン制御し、第3のスイッチ回路
92をオフ制御して、2個の接続パッド2−21、2−
23を電気的に直列状に接続する。一方、通常動作時に
は、同図(a)に示すように、逆に、第1及び第2のス
イッチ回路90、91をオフ制御し、第3のスイッチ回
路92をオン制御して、2個の接続パッド2−21、2
−23間を接地し、ローインピーダンスノードとして、
クロストークの問題を解決している。
【0097】本実施の形態では、前記第4の実施の形態
と比較して、2個の接続パッド2−21、2−23間に
位置する信号伝搬に寄与しない接続パッドを不要にでき
る。本実施の形態では、2個の接続パッド毎のスイッチ
回路の数は3個であって、前記第4の実施の形態で必要
な2個のスイッチ素子と比較して、スイッチ素子が1個
多いが、スイッチ素子のサイズは元々小さいので、問題
はない。本実施の形態は、接続パッドのトータルサイズ
が半導体チップの面積を律速している場合には、接続パ
ッド数の減少により、面積減少の効果は顕著である。
【0098】(第9の実施の形態)続いて、本発明の第
9の実施の形態を説明する。
【0099】図21は、本実施の形態のマルチチップモ
ジュールの製造工程及びチップ間接続テスト工程を示
す。同図では、先ず、ステップS1において、親チップ
と子チップ間で各々の接続パッド同士を導電性の接続部
材により接続するチップ間接続工程が行われる。その
後、ステップS2において、以上で説明した何れかの実
施の形態のチップ間接続テスト方法が実施され、ステッ
プS3において、そのチップ間接続テストの結果に基づ
いてチップ間接続の良否判定が行われ、チップ間接続の
良好な良品である場合には終了するが、不良品である場
合には、ステップS1に戻って、元のチップ間接続を外
し、洗浄した後、再度、同一の親子の半導体チップ間で
接続パッド同士を接続部材により接続するチップ間接続
工程を行うことを繰り返す。
【0100】従って、本実施の形態では、製造された多
数のマルチチップモジュールの全てが良品である効果が
得られる。
【0101】尚、以上の説明では、チップオンチップ型
(COC型)のマルチチップモジュールに関して説明し
たが、本発明はCOC型に限定されず、ワイヤー接続に
よるマルチチップモジュールも含むものである。但し、
ワイヤー接続は、各半導体チップの接続面が何れも上面
に出ているために、目視検査などのより簡単な接続検査
方法が存在する。従って、本発明は、マルチチップモジ
ュール内にCOC型の貼り合わせ接続タイプとワイヤー
接続タイプとが混在する場合には、COC型の貼り合わ
せ接続タイプのみが存在する場合と同等の効果がある。
【0102】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1〜7記載
の発明によれば、マルチチップモジュールを構成する各
半導体チップの面積をほとんど増大させることなく、半
導体チップ間の接続の良否判定を短時間で且つ低コスト
で実現できる。
【0103】特に、請求項3記載の発明によれば、半導
体チップとしてメモリや配線のみの基板チップを持つマ
ルチチップモジュールであっても、配線修正のみで本発
明を容易に適用することが可能である。
【0104】更に、請求項5記載の発明によれば、接続
テスト時に半導体チップ間の複数個の接続部材を直列状
に電通する場合であっても、通常時にはデジタル信号の
電気的変化がアナログ信号配線のハイインピーダンスノ
ードに影響を及ぼすクロストークの問題を回避すること
ができる。
【0105】また、請求項8〜12記載の発明によれ
ば、所定の複数個の接続部材毎に接続テスト用ラインを
形成したので、各接続テスト用ラインについて、ライン
毎の導通テスト及びライン間の非導通テストを行えば、
半導体チップ間接続の良否判定が可能であるのに加え
て、2つの接続部材間のショート不良を検査できる。
【0106】特に、請求項9、10記載の発明によれ
ば、形成される複数の接続テスト用ラインが任意に変更
可能であるので、全ての接続部材について、各々、その
周囲に位置する他の接続部材とのショート不良を容易に
判定することが可能である。
【0107】更に、請求項12記載の発明によれば、チ
ップ間接続の良否判定の結果が不良であっても、再度、
同一半導体チップ間での接続パッド接続工程に戻るの
で、製造されるマルチチップモジュールの良品への完成
率を100%に高めることができる。
【0108】加えて、請求項13及び14記載の発明に
よれば、設ける接続パッド及び接続部材を少なくして、
マルチチップモジュールの小面積化の効果を高めなが
ら、クロストーク問題を回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態のチップオンチップ
型マルチチップモジュールの回路構成を示し、親子両チ
ップにスイッチ素子を配置した構成を示す図である。
【図2】本発明の第2の実施の形態のチップオンチップ
型マルチチップモジュールの回路構成を示し、親チップ
のみにスイッチ素子を配置した構成を示す図である。
【図3】本発明の第3の実施の形態のチップオンチップ
型マルチチップモジュールの回路構成を示し、子チップ
のみにスイッチ素子を配置した構成を示す図である。
【図4】本発明の第4の実施の形態のチップオンチップ
型マルチチップモジュールの回路構成を示し、スイッチ
素子による信号配線間のクロストークを抑制する構成を
示す図である。
【図5】スイッチ素子による信号配線間のクロストーク
の様子を説明する図である。
【図6】本発明の第5の実施の形態のチップオンチップ
型マルチチップモジュールの回路構成を示し、複数個の
半導体チップでマルチチップモジュールを構成する場合
の構成図である。
【図7】従来のチップ間接続テスト手段を備えたチップ
オンチップ型マルチチップモジュールの回路構成を示す
図である。
【図8】(a)は本発明の第6の実施の形態のチップオ
ンチップ型マルチチップモジュールの回路構成を示す上
面から見た概念図、(b)は同側面から見た図である。
【図9】同実施の形態のマルチチップモジュールの通常
動作時のスイッチ素子の状態を示す図である。
【図10】同実施の形態のマルチチップモジュールのチ
ップ間接続テスト時のスイッチ素子の状態を示す図であ
る。
【図11】同実施の形態のマルチチップモジュールのチ
ップ間接続テストによりショート故障を検出できる例を
示す図である。
【図12】同実施の形態のマルチチップモジュールのチ
ップ間接続テストによりショート故障を検出できない例
を示す図である。
【図13】(a)は本発明の第7の実施の形態のチップ
オンチップ型マルチチップモジュールの回路構成を示す
上面から見た概念図、(b)は同側面から見た図であ
る。
【図14】同実施の形態のマルチチップモジュールの通
常動作時のスイッチ素子の状態を示す図である。
【図15】同実施の形態のマルチチップモジュールのチ
ップ間接続テスト時における水平方向の接続テスト用ラ
インを示す図である。
【図16】同実施の形態のマルチチップモジュールのチ
ップ間接続テスト時における垂直方向の接続テスト用ラ
インを示す図である。
【図17】同マルチチップモジュールのチップ間接続テ
スト時における水平方向の接続テスト用ラインの形成時
にショート故障を検出できる例を示す図である。
【図18】同マルチチップモジュールのチップ間接続テ
スト時における垂直方向の接続テスト用ラインの形成時
にショート故障を検出できる例を示す図である。
【図19】本発明の第8の実施の形態のチップオンチッ
プ型マルチチップモジュールの要部回路構成を示す図で
ある。
【図20】(a)は同マルチチップモジュールの通常動
作時の第1〜第3のスイッチ回路の状態を示す図、
(b)は同マルチチップモジュールのチップ間接続テス
ト時の第1〜第3のスイッチ回路の状態を示す図であ
る。
【図21】本発明の第9の実施の形態を示すフローチャ
ート図である。
【図22】(a)は本発明の第1の実施の形態のマルチ
チップモジュールのチップ間接続テスト時においてショ
ート故障を検出できない例を示す図、(b)は同図
(a)の側面図である。
【符号の説明】
1 半導体チッ
プ(第2の半導体チップ) 2 半導体チッ
プ(第1の半導体チップ) 3 半導体チッ
プ 1−11〜1−16、2−11〜2−16 3−11〜3−16 信号端子 1−21〜1−29、2−21〜2−29 3−21〜3−29 接続パッド 1−31〜1−39、2−31〜2−39 3−31〜3−39 スイッチ素子 10−1〜10−9 接続部材 1−01〜1−04 プロービン
グパッド(接続手段) 1−40、2−40、3−40 電通手段 1−41、2−41、3−41 テスト用制
御回路 A〜H、a〜h プローピン
グパッド 8、9 半導体チッ
プ 20−01〜20−05 20−9、20−13 親チップの接続
パッド 30−01〜30−05 30−9、30−13 子チップの接続
パッド 40−01〜40−13 接続部材 50−01〜50−12 70−01〜70−12 スイッチ素子 60、61 電通手段 80、81 テスト用制
御回路 90 第1のスイ
ッチ回路 91 第2のスイ
ッチ回路 92 第3のスイ
ッチ回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木下 雅善 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2G132 AA14 AD15 AK07 AL09 5F038 DF11 DT02 DT04 DT05 DT10 DT15 EZ07 EZ20

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数個の接続パッドを有する半導体チッ
    プを複数個備え、前記半導体チップ間で接続パッド同士
    を導電性の接続部材を介して接続して構成されるマルチ
    チップモジュールであって、 前記複数個の半導体チップのうち少なくとも1個の半導
    体チップには、 前記マルチチップモジュール内において相互に電気的に
    分離された複数個の前記接続部材の各ノードを電気的に
    直列状に電通する電通手段を有するテスト用制御回路が
    備えられることを特徴とするマルチチップモジュール。
  2. 【請求項2】 前記複数個の半導体チップのうち、接続
    パッド同士が前記接続部材を介して接続される2個の半
    導体チップは、各々テスト用制御回路を有し、 前記各テスト用制御回路は、前記2個の半導体チップ間
    で相互に電気的に分離された複数個の接続部材の各ノー
    ドを電気的に直列状に電通する電通手段を有することを
    特徴とする請求項1記載のマルチチップモジュール。
  3. 【請求項3】 前記半導体チップの数は2個であり、 前記2個の半導体チップのうち第1の半導体チップは、
    自己の接続パッド毎に自己の接続パッドと電気的に同一
    ノードとなる接続パッドを有し、 前記2個の半導体チップのうち第2の半導体チップは、
    自己の接続パッドが前記第1の半導体チップの接続パッ
    ドと導電性の接続部材を介して電気的に接続される半導
    体チップであって、 前記第2の半導体チップには前記テスト用制御回路が備
    えられ、 前記テスト用制御回路は、前記第1及び第2の半導体チ
    ップ間で相互に電気的に分離された複数個の接続部材の
    各ノードを電気的に直列状に電通する電通手段を有する
    ことを特徴とする請求項1記載のマルチチップモジュー
    ル。
  4. 【請求項4】 前記テスト用制御回路は、複数個のスイ
    ッチ素子を含み、前記複数個のスイッチ素子は、各々、
    その一端が前記複数個の接続部材のうち 所定の接続部材のノードに接続され、その他端が前記所
    定の接続部材とは相互に電気的に分離された他の接続部
    材のノードに接続されており、 前記複数個のスイッチ素子が全てオン状態において、前
    記相互に電気的に分離された複数個の接続部材の各ノー
    ドを電気的に直列状に電通することを特徴とする請求項
    1、2又は3記載のマルチチップモジュール。
  5. 【請求項5】 複数個の接続部材のうち、2個の半導体
    チップ間の信号伝播に寄与しない少なくとも1個の接続
    部材のノードを、前記マルチチップモジュール内の電源
    端子又は接地端子に接続する接続手段を有することを特
    徴とする請求項1、2、3又は4記載のマルチチップモ
    ジュール。
  6. 【請求項6】 複数個の接続パッドを有する半導体チッ
    プであって、他の半導体チップとの間で接続パッド同士
    を導電性の接続部材を介して接続してマルチチップモジ
    ュールを構成する半導体チップにおいて、 前記マルチチップモジュールが構成された場合に、この
    マルチチップモジュール内において相互に電気的に分離
    された複数個の前記接続部材の各ノードを電気的に直列
    状に電通する電通手段を有するテスト用制御回路を予め
    備えることを特徴とする半導体チップ。
  7. 【請求項7】 複数個の接続パッドを有する半導体チッ
    プを複数個備え、前記半導体チップ間で接続パッド同士
    を導電性の接続部材を介して接続して構成されるマルチ
    チップモジュールのチップ間接続テスト方法であって、 チップ間接続テスト時に、前記マルチチップモジュール
    内において相互に電気的に分離された前記複数個の接続
    部材の各ノードを電気的に直列状に電通させ、前記電気
    的に直列状に電通した回路の両端のインピーダンスを測
    定して、チップ間接続の良否判定を行うことを特徴とす
    るマルチチップモジュールのチップ間接続テスト方法。
  8. 【請求項8】 複数個の接続パッドを有する半導体チッ
    プを複数個備え、前記半導体チップ間で接続パッド同士
    を導電性の接続部材を介して接続して構成されるマルチ
    チップモジュールであって、 前記マルチチップモジュール内には、 相互に電気的に分離された複数個の前記接続部材の少な
    くとも2つのノード毎に、これ等のノードを電気的に直
    列状に電通して、複数の接続テスト用ラインを形成する
    電通手段を有するテスト用制御回路が備えられることを
    特徴とするマルチチップモジュール。
  9. 【請求項9】 前記テスト用制御回路は、 少なくとも2つの接続部材のノードの組合せを変更し
    て、形成される各接続テスト用ラインを変更する機能を
    有することを特徴とする請求項8記載のマルチチップモ
    ジュール。
  10. 【請求項10】 前記半導体チップ上の複数個の接続パ
    ッドは格子状に配置され、 前記テスト用制御回路は、形成される各接続テスト用ラ
    インを、垂直方向の複数の接続テスト用ラインを形成す
    る組合せと、水平方向の複数の接続テスト用ラインを形
    成する組合せとに変更することを特徴とする請求項9記
    載のマルチチップモジュール。
  11. 【請求項11】 請求項8、請求項9又は請求項10記
    載のマルチチップモジュールのチップ間接続テスト方法
    であって、 チップ間接続テスト時に、 前記電通手段を用いて複数の接続テスト用ラインを形成
    した後、 前記各接続テスト用ライン毎に導通テストを行うと共
    に、 前記各接続テスト用ライン間の非導通テストを行って、 チップ間接続の良否判定を行うことを特徴とするマルチ
    チップモジュールのチップ間接続テスト方法。
  12. 【請求項12】 各接続テスト用ライン毎の導通テスト
    と各接続テスト用ライン間の非導通テストによるチップ
    間接続の良否判定において、チップ間接続が不良と判定
    された際には、同一半導体チップ間で接続パッド同士を
    導電性の接続部材を介して接続する工程に戻ることを特
    徴とする請求項11記載のマルチチップモジュールのチ
    ップ間接続テスト方法。
  13. 【請求項13】 複数個の接続パッドを有する半導体チ
    ップを複数個備え、前記半導体チップ間で接続パッド同
    士を導電性の接続部材を介して接続して構成されるマル
    チチップモジュールであって、 所定の2個の前記接続部材間に配置され、且つ直列に接
    続された第1及び第2のスイッチ回路と、 前記第1のスイッチ回路と第2のスイッチ回路との接続
    点のノードと接地との間に配置された第3のスイッチ回
    路とを備えたことを特徴とするマルチチップモジュー
    ル。
  14. 【請求項14】 前記請求項13記載のマルチチップモ
    ジュールのチップ間接続テスト方法であって、 チップ間接続テスト時には、前記第1及び第2のスイッ
    チ回路をオン状態とすると共に、前記第3のスイッチ回
    路をオフ状態とし、 通常動作時には、前記第1及び第2のスイッチ回路をオ
    フ状態とすると共に、前記第3のスイッチ回路をオン状
    態とすることを特徴とするマルチチップモジュールのチ
    ップ間接続テスト方法。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7626411B2 (en) 2006-08-23 2009-12-01 Sony Corporation Semiconductor device, semiconductor integrated circuit and bump resistance measurement method
KR100993238B1 (ko) 2007-03-29 2010-11-10 후지쯔 세미컨덕터 가부시키가이샤 반도체 장치 및 반도체 장치 모듈
JP2011503759A (ja) * 2007-10-16 2011-01-27 マイクロン テクノロジー, インク. 積み重ねられた半導体素子用の再構成可能な接続部
JP2011226996A (ja) * 2010-04-22 2011-11-10 Toyo Electronics Eng Co Ltd 電気的特性測定方法と、その実施に用いる電気的特性装置と、それを構成する半導体素子間接続ソケット
US8080873B2 (en) 2002-06-27 2011-12-20 Fujitsu Semiconductor Limited Semiconductor device, semiconductor package, and method for testing semiconductor device
JP2013083619A (ja) * 2011-09-27 2013-05-09 Elpida Memory Inc 半導体チップ、半導体装置、及びその測定方法
JP2013535113A (ja) * 2010-06-28 2013-09-09 ザイリンクス インコーポレイテッド ダイ間ボンディングをテストするための集積回路および方法
US8729684B2 (en) 2010-08-24 2014-05-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Interposer chip, multi-chip package including the interposer chip, and method of manufacturing the same
JP2015532420A (ja) * 2012-09-28 2015-11-09 ザイリンクス インコーポレイテッドXilinx Incorporated 半導体構造をテストする方法
TWI647467B (zh) * 2018-06-05 2019-01-11 中華精測科技股份有限公司 可同時抑制不同頻段電源阻抗的晶片測試模組
CN113533927A (zh) * 2020-04-16 2021-10-22 第一检测有限公司 芯片测试电路及其测试方法

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4054200B2 (ja) * 2002-02-19 2008-02-27 松下電器産業株式会社 半導体記憶装置
JP4110992B2 (ja) * 2003-02-07 2008-07-02 セイコーエプソン株式会社 半導体装置、電子デバイス、電子機器、半導体装置の製造方法および電子デバイスの製造方法
KR101190657B1 (ko) * 2003-04-21 2012-10-15 삼성전자주식회사 자기 정렬된 나노 채널-어레이의 제조방법 및 이를 이용한 나노 도트의 제조방법
US7071421B2 (en) * 2003-08-29 2006-07-04 Micron Technology, Inc. Stacked microfeature devices and associated methods
JP2005209239A (ja) * 2004-01-20 2005-08-04 Nec Electronics Corp 半導体集積回路装置
JP4063796B2 (ja) * 2004-06-30 2008-03-19 日本電気株式会社 積層型半導体装置
JP4657640B2 (ja) * 2004-07-21 2011-03-23 株式会社日立製作所 半導体装置
US7459772B2 (en) * 2004-09-29 2008-12-02 Actel Corporation Face-to-face bonded I/O circuit die and functional logic circuit die system
US7928591B2 (en) * 2005-02-11 2011-04-19 Wintec Industries, Inc. Apparatus and method for predetermined component placement to a target platform
US20070187844A1 (en) * 2006-02-10 2007-08-16 Wintec Industries, Inc. Electronic assembly with detachable components
US7557597B2 (en) * 2005-06-03 2009-07-07 International Business Machines Corporation Stacked chip security
US7224042B1 (en) 2005-06-29 2007-05-29 Actel Corporation Integrated circuit wafer with inter-die metal interconnect lines traversing scribe-line boundaries
US7786572B2 (en) * 2005-09-13 2010-08-31 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. System in package (SIP) structure
US7352602B2 (en) * 2005-12-30 2008-04-01 Micron Technology, Inc. Configurable inputs and outputs for memory stacking system and method
US7808075B1 (en) 2006-02-07 2010-10-05 Marvell International Ltd. Integrated circuit devices with ESD and I/O protection
US20110222253A1 (en) * 2006-02-10 2011-09-15 Kong-Chen Chen Electronic assembly with detachable components
US20110223695A1 (en) * 2006-02-10 2011-09-15 Kong-Chen Chen Electronic assembly with detachable components
US20110222252A1 (en) * 2006-02-10 2011-09-15 Kong-Chen Chen Electronic assembly with detachable components
US20110228506A1 (en) * 2006-02-10 2011-09-22 Kong-Chen Chen Electronic assembly with detachable components
JP2008002837A (ja) * 2006-06-20 2008-01-10 Denso Corp 半導体容量式センサの製造方法
JP5005321B2 (ja) * 2006-11-08 2012-08-22 パナソニック株式会社 半導体装置
JPWO2008099711A1 (ja) * 2007-02-13 2010-05-27 日本電気株式会社 半導体装置
US7683607B2 (en) * 2007-09-25 2010-03-23 Himax Display, Inc. Connection testing apparatus and method and chip using the same
US20090268513A1 (en) * 2008-04-29 2009-10-29 Luca De Ambroggi Memory device with different types of phase change memory
US7745920B2 (en) 2008-06-10 2010-06-29 Micron Technology, Inc. Packaged microelectronic devices and methods for manufacturing packaged microelectronic devices
US20100117242A1 (en) * 2008-11-10 2010-05-13 Miller Gary L Technique for packaging multiple integrated circuits
EP2302403A1 (en) * 2009-09-28 2011-03-30 Imec Method and device for testing TSVs in a 3D chip stack
JP2011112411A (ja) * 2009-11-25 2011-06-09 Elpida Memory Inc 半導体装置
US20110156739A1 (en) * 2009-12-31 2011-06-30 Hsiao-Chuan Chang Test kit for testing a chip subassembly and a testing method by using the same
JP2012026845A (ja) * 2010-07-22 2012-02-09 Sony Corp 半導体装置、および、積層半導体装置
JP5548060B2 (ja) * 2010-07-28 2014-07-16 株式会社東芝 半導体装置
JP2012064891A (ja) * 2010-09-17 2012-03-29 Toshiba Corp 半導体装置及びその製造方法
US8499187B2 (en) 2011-08-12 2013-07-30 Micron Technology, Inc. Methods and apparatuses for master-slave detection
KR20130022829A (ko) * 2011-08-26 2013-03-07 삼성전자주식회사 칩 적층 반도체 소자의 검사 방법 및 이를 이용한 칩 적층 반도체 소자의 제조 방법
CN103018581A (zh) * 2011-09-23 2013-04-03 丽台科技股份有限公司 模组电路板的测试治具
KR101891163B1 (ko) * 2012-04-04 2018-08-24 에스케이하이닉스 주식회사 테스트 회로 및 이를 포함하는 반도체 장치
KR101977699B1 (ko) 2012-08-20 2019-08-28 에스케이하이닉스 주식회사 멀티 칩 반도체 장치 및 그것의 테스트 방법
KR102085973B1 (ko) * 2013-06-18 2020-03-06 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치의 테스트 회로 및 방법
US10234499B1 (en) * 2016-08-01 2019-03-19 Keysight Technologies, Inc. Integrated circuit testing using on-chip electrical test structure
US10314163B2 (en) * 2017-05-17 2019-06-04 Xilinx, Inc. Low crosstalk vertical connection interface
WO2019143327A1 (en) * 2018-01-17 2019-07-25 Credo Technology Group Limited Ic dies with parallel prbs testing of interposer
FR3082656B1 (fr) 2018-06-18 2022-02-04 Commissariat Energie Atomique Circuit integre comprenant des macros et son procede de fabrication
EP3712630B1 (en) * 2019-03-20 2021-04-28 LEM International SA Magnetic field sensor
KR102657584B1 (ko) 2019-05-20 2024-04-15 삼성전자주식회사 내부 테스트 인에이블 신호를 이용하는 반도체 장치의 웨이퍼 레벨 테스트 방법
US11422155B2 (en) 2019-05-28 2022-08-23 Mellanox Technologies, Ltd. Probe card having dummy traces for testing an integrated circuit to be installed in a multichip-module
US11031308B2 (en) * 2019-05-30 2021-06-08 Sandisk Technologies Llc Connectivity detection for wafer-to-wafer alignment and bonding
CN114414994A (zh) * 2022-01-21 2022-04-29 伟创力电子技术(苏州)有限公司 一种用于电路板测试的通用测量及开关机构
CN115856588B (zh) * 2023-02-22 2023-08-04 长鑫存储技术有限公司 芯片测试板及测试方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5892230A (ja) 1981-11-27 1983-06-01 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US5661330A (en) * 1995-03-14 1997-08-26 International Business Machines Corporation Fabrication, testing and repair of multichip semiconductor structures having connect assemblies with fuses
US6180426B1 (en) * 1999-03-01 2001-01-30 Mou-Shiung Lin High performance sub-system design and assembly
JP4246835B2 (ja) 1999-03-09 2009-04-02 ローム株式会社 半導体集積装置
JP3502033B2 (ja) * 2000-10-20 2004-03-02 沖電気工業株式会社 テスト回路

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8080873B2 (en) 2002-06-27 2011-12-20 Fujitsu Semiconductor Limited Semiconductor device, semiconductor package, and method for testing semiconductor device
US7626411B2 (en) 2006-08-23 2009-12-01 Sony Corporation Semiconductor device, semiconductor integrated circuit and bump resistance measurement method
KR100993238B1 (ko) 2007-03-29 2010-11-10 후지쯔 세미컨덕터 가부시키가이샤 반도체 장치 및 반도체 장치 모듈
US9214449B2 (en) 2007-10-16 2015-12-15 Micron Technology, Inc. Reconfigurable connections for stacked semiconductor devices
JP2011503759A (ja) * 2007-10-16 2011-01-27 マイクロン テクノロジー, インク. 積み重ねられた半導体素子用の再構成可能な接続部
KR101625694B1 (ko) 2007-10-16 2016-05-30 마이크론 테크놀로지, 인크. 스택형 반도체 소자의 재구성가능 커넥션
JP2011226996A (ja) * 2010-04-22 2011-11-10 Toyo Electronics Eng Co Ltd 電気的特性測定方法と、その実施に用いる電気的特性装置と、それを構成する半導体素子間接続ソケット
JP2013535113A (ja) * 2010-06-28 2013-09-09 ザイリンクス インコーポレイテッド ダイ間ボンディングをテストするための集積回路および方法
US8729684B2 (en) 2010-08-24 2014-05-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Interposer chip, multi-chip package including the interposer chip, and method of manufacturing the same
JP2013083619A (ja) * 2011-09-27 2013-05-09 Elpida Memory Inc 半導体チップ、半導体装置、及びその測定方法
JP2015532420A (ja) * 2012-09-28 2015-11-09 ザイリンクス インコーポレイテッドXilinx Incorporated 半導体構造をテストする方法
TWI647467B (zh) * 2018-06-05 2019-01-11 中華精測科技股份有限公司 可同時抑制不同頻段電源阻抗的晶片測試模組
CN113533927A (zh) * 2020-04-16 2021-10-22 第一检测有限公司 芯片测试电路及其测试方法

Also Published As

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