JP2011503759A - 積み重ねられた半導体素子用の再構成可能な接続部 - Google Patents

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Abstract

いくつかの実施の形態には、スタックで配置された半導体ダイと、ダイ間に通信をもたらすように構成された多数の接続部と、接続部中の欠陥を確認するとともに接続部中の欠陥を修復するように構成されたモジュールと、を含み、接続部の少なくとも一部は、ダイの少なくとも1つを通る、装置、システムおよび方法が含まれている。

Description

(本文中に技術分野に該当する記載なし。)
<関連出願>
この特許出願は、2007年10月16日に出願された米国出願第11/873,118号に基づく優先権主張を伴い、これは参照されることにより本明細書に含めるものとする。
<背景>
半導体素子はメモリを含み、コンピューターや他の電子製品、例えば、デジタルテレビ、デジタルカメラ、携帯電話で使用されることが多く、データや他の情報を記憶する。メモリ素子などの半導体素子は、通常多くの部品および関連する回路接続部を有し、部品間で情報を伝達する。メモリ素子によっては多数の半導体ダイ上に形成されていてもよい。
図1は、本発明の実施の形態による素子および接続部を含む装置のブロック図を示す。 図2は、本発明の実施の形態による接続部を備えたメモリ素子のブロック図を示す。 図3は、本発明の実施の形態によるダイおよび接続部を有するメモリ素子の部分断面図を示す。 図4は、本発明の実施の形態によるスタックで配置されたダイおよびダイを通る接続部を有するICパッケージの部分断面図を示す。 図5は、本発明の実施の形態による接続部中の欠陥を確認するために接続部および回路を備えたメモリ素子の部分断面図を示す。 図6は、図5のメモリ素子の接続部中の欠陥を確認する間に使用されるビットの例の値を示す表である。 図7は、本発明の実施の形態による接続部中の欠陥を修復するために接続部720および回路を備えたメモリ素子の図を示す。 図8は、本発明の実施の形態によるシステムのブロック図を示す。 図9は、本発明の実施の形態によるダイのスタック中の接続部中の欠陥を確認および修復する方法のフローチャートである。
図1は、本発明の実施の形態による素子101、102、103、104および接続部120、121を含む装置100のブロック図を示す。接続部120、121は導電性接続部を含んでいてもよい。素子101、102、103、104は、接続部120を介して互いに通信してもよく、インターフェース回路110を介して他の外部素子(例えば、プロセッサ、メモリコントローラーなど)と通信してもよい。
図1は、ブロック図において素子101、102、103、104を示す。これらの素子は、実際には物理的にスタックで配置されていてもよく、接続部120、121は、これらの素子を通る導電性パスに相当していてもよい。発明者は、機械的欠陥、電気的欠陥、またはそれらの両方などの要因が接続部120、121の1つまたは複数の部分を役に立たなくする可能性があることに気づいた。したがって、発明者は、以下に説明するように、スタック全体の廃棄が回避され歩留まりが改善されうるように欠陥を確認するとともに欠陥を修復するために、様々な装置、システムおよび方法を発明した。
図1では、装置100は、データ、アドレス、制御および他の情報などの情報を伝達するために接続部120、121を使用してもよい。接続部121は、部分131、132、133、134、141、142、151、152、161、162、171、172、173、197、198、199などの多くの部分を含んでいてもよい。これらの各部分は導電性パスを含んでいてもよい。接続部121は接続部120および増設部分123を含んでいてもよい。装置100は、素子101、102、103、104間で情報を伝達するために接続部120を使用することに加えて、インターフェース回路110と外部素子(例えば、プロセッサ、メモリコントローラー等)との間で追加情報(例えば、追加データ、制御情報等)を伝達するために増設部分123を使用してもよい。
各部分131、132、133、134、141、142、151、152、161、162、171、172、173、197、198、199は、情報を伝達するために導電性パスを含んでいてもよい。これらの部分は、異なるタイプの情報を伝達するために異なるバスを形成していてもよい。例えば、部分131、132、133、134は、素子101、102、103、104に記憶されるデータまたは素子101、102、103、104から読み出されるデータを表わす情報を伝達するためにデータバスを形成していてもよい。部分141、142は、データが記憶されうる素子101、102、103、104中における位置のアドレスを表わす情報を伝達するためにアドレスバスを形成していてもよい。部分151、152は、制御情報を伝達して装置100の操作を制御するために制御バスを形成していてもよい。部分161、162は、素子101、102、103、104に電力(例えば、電圧VccおよびVss、Vssは接地を含んでいてもよい)を供給するために電力供給バスを形成していてもよい。部分171、172、173は、装置100における接続部120、121中の欠陥を確認するために情報(例えば、テストビット)を供給するためのバスを形成していてもよい。
部分197、198、199は予備部分に相当していてもよい。装置100は、接続部120、121中で1つまたは複数の欠陥がある部分を修復するために部分197、198、199を使用してもよい。装置100は、接続部120、121中の欠陥を確認するとともに欠陥を修復するために回路およびアクティビティ(図2〜図9を参照して以下に説明されるものに類似または同一)を含んでいてもよい。
図1は、特定の数の部分を一例として接続部120、121を示す。接続部120、121の部分の数は変化してもよい。例えば、接続部120がスタックのダイを通る何百または何千の導電性パスを含むように、接続部120は何十、何百または何千の部分を含んでいてもよい。図1は、部分197、198、199(予備部分として使用されてもよい)が他の部分間に散在している一例を示す。しかし、部分197、198、199の位置は、接続部120、121内のいかなる場所にあってもよい。
図1では、単一メモリ素子の一部のみ(全体ではない)を含む各素子101、102、103、104間に単一メモリ素子の様々な部品が分布されるように、装置100は単一メモリ素子のみを含んでいてもよい。装置100は、また、各素子101、102、103、104が単独でメモリ素子を含むよう、多数のメモリ素子を含んでいてもよい。したがって、装置100は、例えば、4つのメモリ素子を含んでいてもよく、1つのメモリ素子が各素子101、102、103、104中にある。
装置100の各素子101、102、103、104は、以下の図2〜図9に示すメモリ素子などのメモリ素子の一部またはメモリ素子全体を含んでいてもよい。
図2は、本発明の実施の形態による接続部220を備えたメモリ素子222のブロック図を示す。メモリ素子222は、図1の素子101、102、103、104の1つまたは複数と協働してもよい。図2の接続部220は、図1の接続部120と協働してもよい。図2に示すように、メモリ素子222は、情報を記憶するためのメモリセルのアレイ235、メモリセルのアレイ235にアクセスするためのデコード回路236、メモリセルのメモリアレイ235間で情報を伝達するためのI/O(入力/出力)回路237、読み書き操作などのメモリ素子222の操作を制御するための制御回路238を含んでいてもよい。メモリ素子222は、ダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)素子、スタティックランダムアクセスメモリ(SRAM)素子、フラッシュメモリ素子、または他のメモリ素子、またはこれらのメモリ素子の組み合わせを含んでいてもよい。当業者は、メモリ素子222が他の部品を含んでいてもよいことを容易に認識し、それら部品は、本明細書に記載された実施の形態に重点をおくことを促進するように示されていない。場合によっては、メモリ素子222のいくつかの部品は、ダイの同じスタックの多数の半導体ダイ間に分布されていてもよい。例えば、メモリセルのアレイ235およびデコード回路236は、1つのダイのみで分布されてもよく、I/O回路237および制御回路238のうちの少なくとも一部は、1つまたは複数のさらなるダイで分布されていてもよい。
メモリ素子222は、図3に示されるダイおよび接続部などの少なくとも1つのダイおよび接続部を含んでいてもよい。
図3は、本発明の実施の形態によるダイ305および接続部320を有するメモリ素子333の部分断面図を示す。メモリ素子333は回路311を含んでいてもよい。明確にするために、図3は、接続部320を断面説明図で示し、回路311をブロック図の説明図で示す。この開示における図面の特徴は、誇張された寸法で示されていてもよい。図面で示されるいくつかまたはすべての特徴は、特徴を断面図で示す場合、切断線記号(クロスハッチング線)を有していなくてもよい。
図3において、接続部320は、図1の接続部120および図2の接続部220に相当していてもよい。図3のダイ305は回路311が形成された半導体材料(例えば、シリコン)306を含んでいてもよい。回路311は回路部品312を含んでいてもよく、回路部品312はメモリ素子333のメモリセルのアレイ、デコード回路、制御回路および他の回路部品を含んでいてもよい。メモリ素子333は、回路部品312間で情報を伝達するために接続部320を使用していてもよい。接続部320は、図3に示すようにダイ305を通って延在する多くのビア325(スルーホールと呼ばれることもある)を含んでいてもよい。ビア325は、部分331、332、341、342、399などの接続部320の多くの部分を形成するために、導電性材料326で満たされていてもよい。メモリ素子333は当業者に公知の技術を使用して形成されてもよい。例えば、ビア325を含む接続部120は、ダイ305をエッチングすることによって、またはダイ305にレーザーを印加することによって形成されてもよい。ビア325が形成された後、ポリシリコン、金属(例えば、銅)または金属合金などの導電性材料が接続部320を形成するようビア325を満たしていてもよい。
図3は、1つのダイ、例えば一例としてダイ305を有するメモリ素子333を示す。メモリ素子333は、多数のダイを含んでいてもよく、例えば、図4に示すメモリ素子などのように、多数のダイはスタックで配置されるとともに集積回路(IC)パッケージによって被覆されている。
図4は、本発明の実施の形態によるスタック407で配置されたダイ401、402、403、404およびダイを通る接続部420を有するICパッケージ400の部分断面図を示す。ICパッケージ400は、ICチップと呼ばれてもよく、ダイ401、402、403、404がICチップ内部にある。ダイ401、402、403、404はメモリ素子444を形成していてもよい。各ダイ401、402、403、404は図3のダイ305に類似または同一のダイを含んでいてもよい。したがって、各ダイ401、402、403、404は、図3のメモリ素子333の回路311および回路部品312、または図2のメモリ素子222の回路および回路部品に類似または同一のメモリセル、デコード回路、制御回路等の回路部品を備えた回路を含んでいてもよい。明確にするために、図4では、メモリ素子444の回路および回路部品を省略している。
ICパッケージ400はメモリ素子444に結合された支持体440を含んでいてもよい。支持体440はセラミックまたは有機パッケージ基板を含んでいてもよい。接点421は、メモリ素子444がプロセッサやメモリコントローラーなどの他の素子と通信することを可能にするために支持体440に結合されていてもよい。接点421は図1の接続部121などの接続部の一部であってもよい。図4では、ICパッケージ400は筺体460を含んでいてもよく、筺体460は内部462で支持体440の少なくとも一部およびメモリ素子444を包囲していてもよい。内部462は、充填材、ガス、液体またはそれらの組み合わせで満たされていてもよい。充填材は高分子材料を含んでいてもよい。
図4に示すように、接続部420は多くの部分431、432、441、442,499を含んでいてもよい。例示の目的のために、図4に示すように、接続部420の各部分は、スタック407のダイ401、402、403、404を通る導電性パス(図4に破線で示す)を有する部分を含んでいてもよい。
上記のように、メモリ素子444は、メモリセル、デコード回路、制御回路等の回路部品を含んでいてもよく、回路部品は、図4に示さないが、図2のものに類似または同一であってもよい。メモリ素子444のそれら回路部品はダイ401、402、403、404間に分布していてもよい。例えば、メモリ素子444のメモリセルは、ダイ401、402、403にのみ位置し、ダイ404には位置しなくてもよい。したがって、ダイ404は、ダイ401、402、403のようにメモリセルを含んでいなくてもよい。しかし、ダイ404は、制御回路の一部、インターフェース回路の一部、またはメモリ素子444の制御回路全体およびインターフェース回路を含んでいてもよい。インターフェース回路は、ダイ404に位置してもよく、図1のインターフェース回路110に類似または同一であってもよい。インターフェース回路は、メモリ素子444とプロセッサやメモリコントローラーなどの他の素子との間で適切なデータ転送速度で情報の伝達をもたらすために回路部品(例えば、バッファおよびI/Oドライバ)を含んでいてもよい。
ダイ401、402、403、404は個別に形成されていてもよく、そのとき、個別のダイは図4に示すようにスタック407で配置されていてもよい。接合部438は接続部420の各部分中に形成されていてもよい。図4に示すように、ダイ401、402、403、404は、等しいサイズまたは実質的に等しいサイズを有していてもよく、支持体440に垂直に、すなわち支持体440に対して積み重ねられてもよい。言いかえれば、ダイ401、402、403、404は、支持体440に垂直な方向に積み重ねられていてもよい。各接合部438は2つのダイ間に位置していてもよい。接合部438は2つの結合パッド412および導電性材料414を含んでいてもよい。導電性材料414はハンダ、銅または導電接着剤を含んでいてもよい。ダイ401、402、403、404のスタック407は、当業者に公知の技術を使用して形成されてもよい。例えば、スタック407は、ダイ401が基部として使用されるフリップチップ方法で形成されてもよく、次いで、ダイ402がダイ401上に積み重ねられてもよく、次いで、ダイ403がダイ403上に積み重ねられてもよく、最後に、ダイ404がダイ403上に積み重ねられてもよい。導電性材料(例えば、ハンダ)、例えば、導電性材料414は、ダイが積み重ねられる間に、1つのダイの結合パッド(例えば、結合パッド412など)を他のダイの結合パッドに結合するために使用されてもよい。ダイが積み重ねられた後、ダイはひっくり返され、次いで、支持体440などの支持体に取り付けられてもよい(例えば、ダイ404を取り付ける)。図4は、メモリ素子444がいわゆる「フリップチップ」配置で配置されているICパッケージ400の一例を示す。しかし、ICパッケージ400は、メモリ素子444のための他の配置をしていてもよい。
場合によっては、少なくとも接続部420の部分に欠陥がある可能性がある。例えば、部分431、432、441、442、499の少なくとも1つは、比較的高抵抗性である(例えば、ビアを完全に満たすために不適当な充填導電性材料を有する)、隙間がある(例えば、導電性材料のいくつかの部分内のギャップ)、接地(例えば、Vss)に短絡している、または供給電力(例えばVcc)に短絡しており、これらの部分の少なくとも1つを欠陥がある状態にする可能性がある。実施の形態では、ICパッケージ400は、(例え欠陥がある部分が修復後にさらに存在していても)スタック407がさらに使用可能で廃棄されることを回避するように欠陥を確認するとともに欠陥を修復するための回路を含む。したがって、ICパッケージ400は、接続部420中の欠陥を確認するとともに欠陥を修復するための回路を含んでいてもよいので、メモリ素子444の1つまたは複数の回路部品(例えば、メモリセル、デコード回路、制御回路等)が作動中である場合、接続部420のうち欠陥がある部分はさらに接続部420中に残存していてもよい(しかし、欠陥がない部分と置換されてもよい)。ICパッケージ400では、欠陥を確認するとともに欠陥を修復する回路は、図5〜図7のものに類似または同一であってもよい。
図5は、本発明の実施の形態による、接続部520中の欠陥を確認するために、接続部520および回路511、512を備えたメモリ素子555の部分断面図を示す。明確にするために、図5は、断面の説明図における接続部520、およびブロック図の説明図における回路511および回路512を示す。
メモリ素子555は、図4のメモリ素子444と協働してもよく、またはメモリ素子444の一部を形成していてもよい。したがって、メモリ素子555は、図4のメモリ素子444のスタック407に類似または同一のスタックで配置されたダイを含んでいてもよい。図5は、一例として2つのダイ505、506のみを備えたメモリ素子555を示す。接続部520の少なくともいくつかの部分および回路511は、ダイ505上に形成されていてもよく、接続部520の少なくとも他のいくつかの部分および回路512は、ダイ506上に形成されていてもよい。各ダイ505、506は、図3のダイ305、または図4のダイ401、402、403、404のうちの1つと協働してもよい。図5の接続部520は、図1〜図4に示された接続部120、220、320または420の少なくともいくつかの部分に相当していてもよい。図5は、接続部520が部分531、532、571、572、573、599を含む実施例を示し、ダイ305を通る部分331、341、342、399(図3)に類似または同一であるようにダイ505を通っていてもよい。明確にするために、図5は、各部分531、532、571、572、573、599の一部のみを示す。接続部520は部分541、542、581、582、583、589を含んでいてもよく、ダイ305を通る部分331、341、342,399(図3)に類似または同一であるようにダイ506を通っていてもよい。明確にするために、図5は、各部分541、542、581、582、583、589の一部のみを示す。部分531、532、571、572、573、599は、ダイ505、506を通る多くの導電性パスを形成するために、対応する部分541、542、581、582、583、589にそれぞれ結合されていてもよい。例えば、部分571は、図4のダイ401、402、403、404を通る導電性パス(図4に破線で示されている)のうちの2つに類似または同一の導電性パスを形成するために、部分581に結合されていてもよい(図5の部分571、581間を結合するラインとして象徴的に示されている)。他の例において、部分531は、図4のダイ401、402、403、404を通る導電性パス(図4に破線で示されている)に類似する導電性パスを形成するために部分541に結合されていてもよい。明確にするために、図5は、部分571と、対応する部分581との間の1つの結合(例えば、ライン)のみを示す。図5の他の部分間の結合(例えば、ライン)は明確にするために示されていない。接続部520は、ダイ505の部分531、532、571、572、573、599およびダイ506の部分541、542、581、582、583、589に類似または同一の多くの増設部分を含んでいてもよく、それらは明確にするために図5から省略されている。
図5に示すように、部分571は複製部分を含んでいてもよく、互いにおよび同じ回路部品に接続された同じ部分の2つの例である。同様に、部分572、部分573、部分581、部分582、部分583は、複製部分を含んでいてもよい。メモリ素子555は、テストを開始するために(またはテストの間に)、接続部520のいくつかの所定部分を使用してもよい。したがって、テストが開始される前に、所定部分の1つまたは複数に欠陥があるなら、そのときテストはそれ自体開始することが困難である可能性がある。図5では、メモリ素子555は、接続部520の他の部分中の欠陥を確認するために、テストの間に(例えば、所定部分として使用された)部分571、572、573、581、582、583を使用してもよい。したがって、部分571、572、573、581、582、583の複製を作製することは、部分571の1つ、部分572の1つ、部分573の1つ、部分581の1つ、部分582の1つ、および/または部分583の1つが、例えテストが開始される前に欠陥があっても、テストが行なわれることを可能にする。
図5では、欠陥がある部分を修復するために(例えば、再ルーティングに使用されるために)、部分599が予備部分として使用されてもよい。例えば、部分599は、部分531または532に欠陥がある場合に、部分531または532の置換のために使用されてもよい。欠陥の修復について、図7を参照してより詳細に以下に説明する。図5では、回路511、512は、接続部520中の欠陥を以下のように確認してもよい。
ダイ505の回路511は、走査セル551、552、559を含んでいてもよい。回路512は、走査セル551、552、559に類似または同一の走査セルを含んでいてもよい。回路511の各走査セル551、552、559は、部分531、532、559のうちの1つに結合されていてもよい。図5は、3つの対応する走査セル551、552、559を備えた3つの部分531、532、559のみを有するメモリ素子555の一例を示す。しかし、メモリ素子555は、図5に示されるものに類似または同一の多数の他の部分および対応する走査セルを含んでいてもよい。
ダイ506の回路512は走査ロジック514を含んでいてもよい。図5は、走査ロジック514が一例としてダイ506内に位置することを示す。走査ロジック514の一部または走査ロジック514全体は、ダイ505内、またはダイ505およびメモリ素子555の1つまたは複数の他のダイ内に位置していてもよい。したがって、走査ロジック514はメモリ素子555の1つまたは複数のダイ内に位置していてもよい。さらに、走査ロジック514の少なくとも一部は、メモリ素子555内に完全に位置する代わりに、メモリ素子555の外側の試験装置内に位置していてもよい。本明細書の説明では、「部品の少なくとも一部」は、部品の一部のみまたは部品全体のいずれかを意味する。例えば、走査ロジック514などの「走査ロジックの少なくとも一部」は、走査ロジックの一部のみ、または走査ロジック全体のいずれかを意味する。したがって、図5において、走査ロジック514はメモリ素子555内に位置されて示されているが、走査ロジック514の少なくとも一部(走査ロジック514の一部のみまたは走査ロジック514全体)は、メモリ素子555および試験装置の少なくとも1つ内に位置していてもよく、走査ロジック514の一部がメモリ素子555内に位置していてもよく、走査ロジック514の他の部分が試験装置内に位置してもよく、または走査ロジック514全体がメモリ素子555または試験装置のいずれかの内に位置していてもよい。
走査ロジック514は、欠陥を確認するために接続部520を走査してもよい。走査ロジック514は走査の間に走査情報517を使用してもよい。走査情報517は、走査ビットが1つまたは複数のパターンのビットを形成する走査ビット(例えば、テストビット)などの情報を含んでいてもよい。走査情報517中の走査ビットは、走査ロジック514に一時的または不変に記憶されてもよい。走査ロジック514は、欠陥の確認の間に、入力データビットとして走査情報517中の走査ビットのうちの少なくとも一部を使用し、接続部520の1つまたは複数の部分を介して入力データビットを伝達してもよい。走査ロジック514は接続部520の他の部分で(入力データビットに基づいて)出力データビットを得て、次いで、接続部520の1つまたは複数の部分に欠陥があるかどうかを判断するために入出力データビットの値を比較してもよい。
走査セル551、552、559は、部分531、532、559で入力データビットD1、D2、D3を受けるためのロードモード、および、シフトレジスタから部分573にビットD1、D2、D3を移すためのシフトモードを有するパラレル−ロードシフトレジスタを形成してもよい。部分573での信号SDoutは出力データビットD1OUT、D2OUTおよびD3OUTを表わしてもよい。走査ロジック514は信号SCLKおよびSENを含んでいてもよい。
EN信号は、これらの走査セルを部分531、532、599中の欠陥を確認する間にロードモードまたはシフトモードのいずれかとすることを可能とするために、各イネーブル走査セル551、552、559の負荷端子LOAD/SHIFTに供給されてもよい。例えば、走査セル551、552、559は、SEN信号が第1の信号レベル(例えば、ロー)を有する場合に、ロードモードであってもよい。走査セル551、552、559は、SEN信号が第2の信号レベル(例えば、ハイ)を有する場合に、シフトモードであってもよい。ロードモードでは、ビットD1、D2、D3は、各走査セルの対応する入力Dinで走査セル551、552、559と平行に供給され(例えば、ロードされ)てもよい。したがって、ロードモードでは、走査セル551、552、559はビットD1、D2、D3をそれぞれ含んでいてもよい。次いで、シフトモードでは、走査セル551、552、559は、ビットD1OUT、D2OUT、D3OUTが得られる(例えば、走査ロジック514によって得られる)部分573にビットD1、D2、D3を一つずつ(例えば、図5の左から右に)移してもよい。
図5のSCLK信号はクロック信号を表わしてもよく、各走査セル551、552、559のクロック端子CKに供給されてもよい。SCLK信号は、これらの走査セルが部分573にビットD1、D2、D3を一つずつ移すことを可能にするために、繰り返し切り替えてもよい。例えば、走査セル551、552、559がシフトモードである場合、SCLK信号は、走査セル551、552、559が走査セル551、552、559の端子SIN、SOUTを介し、次いで部分573に3ビットを連続的に移すことを可能とするために、三度切り替えてもよい。
走査ロジック514が、部分531、532、599のうちのいずれか1つに欠陥があるかどうかを判断するために、ビットD1OUT、D2OUT、D3OUTの値をビットD1、D2、D3の値と比較するように、部分573でSDout信号(ビットD1OUT、D2OUT、D3OUTを表わす)は、走査ロジック514を供給してもよい。例えば、ビットD1OUT、D2OUT、D3OUTの値が、ビットD1、D2、D3の値と一致するなら、そのとき、部分531、532、599のどれにも欠陥はない。ビットD1OUT、D2OUT、D3OUTの値が、ビットD1、D2、D3の値と一致しないなら、そのとき、部分531、532、599の1つまたは複数に欠陥がある可能性がある。
図6は、図5のメモリ素子555の接続部520中の欠陥を確認する間に使用される、ビットD1、D2、D3およびビットD1OUT、D2OUT、D3OUTの例としての値を示す表600である。表600に示すように、ビットD1、D2、D3(入力ビット)は、2つの異なる走査例に対応して2つの異なる時間に、接続部520(図5)の部分531、532、599に供給する2つの異なる例としての値610、620(入力値)を有していてもよい。各値610、620は、多く(例えば、3つ)の2進数を含んでいてもよく、各2進数は「0」または「1」ビット値のいずれかを含む。1走査中に、「1」、「0」、「1」の値の3ビットの値610は、部分531、532、599にそれぞれ供給されてもよい。他の走査中に、「0」、「1」、「0」の値の3ビットの値620は、部分531、532、599にそれぞれ供給されてもよい。
表600は、また、走査中に得られることができるビットD1OUT、D2OUT、D3OUT(出力ビット)の様々の可能な値を示す。例えば、値611、612、613または614(出力値)は、値610を有するビットD1、D2、D3が接続部520に供給される走査中に得られてもよい。他の例において、値620を有するビットD1、D2、D3が接続部520に供給される他の走査の間に、値621、622、623または624が得られてもよい。表600では、ビットD1OUTの値はビットD1の値に基づいて得られ、ビットD2OUTの値はビットD1の値に基づいて得られ、ビットD3OUTの値はビットD3の値に基づいて得られる。
回路511(図5)は、接続部520のどの部分が、値610と、対応する値611、612、613または614とのビットトゥービット比較に基づいて欠陥があるかを判断することができる(もしあれば)。同様に、回路511は、また、接続部520のどの部分に欠陥があるかを値620の各ビットと値621、622、623または624の対応するビットとのビットトゥービット比較に基づいて判断することができる(もしあれば)。
例えば、図6の値610が走査中に部分531、532、599に供給され、値611が得られるなら、そのとき、値610、611が一致するので、部分531、532、599のどれにも欠陥がない。しかし、値610が走査の間に部分531、532、599に供給され、値612、613または614が得られるなら、そのとき、値610と各値612、613、614とが一致しないので、部分531、532、599のうちの1つに欠陥がある可能性がある。例えば、値610が部分531、532、599に供給され、値612が得られるなら、そのとき、(部分531に供給された)ビットD1の値が「1」であるが、ビットD1OUTの値が「0」であり、それはビットD1の値「0」に一致しないので、部分531には欠陥がある可能性がある。他の例において、値610が部分531、532、599に供給され、値613が得られるなら、そのとき、(部分599に供給された)ビットD3の値が「1」であるが、ビットD3OUTの値が「0」であり、それはビットD3の値「1」に一致しないので、部分599には欠陥がある可能性がある。他の例において、値610が部分531、532、599に供給され、値614が得られるなら、そのとき、(部分532に供給された)ビットD2の値が「0」であるが、ビットD2OUTの値が「1」であり、それはビットD2の値「0」に一致しないので、部分532には欠陥がある可能性がある。
上記例と同様に、走査の間に値620が部分531、532、599に供給され、値621が得られるなら、そのとき、値620、621が一致するので、部分531、532、599のどれにも欠陥がない。しかし、値612、613または614が得られるなら、そのとき、値620(「0」、「1」、「0」)と各値622(「1」、「1」、「0」)、623(「0」、「1」、「1」、624(「1」、「0」、「1」)が一致しないので、部分531、599または532のうちの1つに欠陥がある可能性がある。
上記例において、表600は、D1、D2、D3のいくつかの値およびD1OUT、D2OUT、D3OUTのいくつかの値のみを示す。D1、D2、D3の他の値(例えば、他の2進法の組み合わせ)が使用されてもよく、D1OUT、D2OUT、D3OUTの他の値が得られてもよい。他の値は、表600に上記例で使用された他の数のビット(例えば、3ビットと異なる)を含んでいてもよい。他の値が使用されるなら、走査ロジック514は、また、上記例に記載されたものに類似するアクティビティを使用して、接続部520の1つまたは複数に欠陥がある可能性があるかどうかを判断してもよい。
接続部520の部分に欠陥があると判断された後、素子555がさらに使用され廃棄されることを回避するように、回路511は欠陥がある部分を欠陥がない部分(例えば、予備部分)に置換してもよい。例えば、部分531に欠陥があり、部分599に欠陥がないと判断されるなら、回路511は部分531を部分599と置換してもよい。この例において、メモリ素子555が作動中である場合、部分531(それは欠陥がある部分であるが)は、部分599(欠陥がない部分)と置換されるので、接続部520中に残存する。
回路511は、接続部520の欠陥がある部分を修復するために回路部品(明確にするために図5に示されない)を含んでいてもよい。これらの回路部品は、図7を参照して以下に記載されるものに類似または同一であってもよい。
図7は、本発明の実施の形態による接続部720中の欠陥を修復するために接続部720および回路711を備えたメモリ素子777の図を示す。明確にするために、図7は、断面の説明図における接続部720およびブロック図の説明図における回路711を示す。
メモリ素子777は、図4のメモリ素子444と協働してもよく、または図4のメモリ素子444の一部を形成していてもよい。したがって、メモリ素子777は、図4のメモリ素子444のスタック407に類似または同一のスタックで配置されたダイを含んでいてもよい。メモリ素子777は、また、図5のメモリ素子555と協働してもよい。
メモリ素子777は、また、接続部720の少なくともいくつかの部分および回路711が形成されたダイ705を含んでいてもよい。ダイ705は、図3のダイ305、図4のダイ401、402、403、404のうちの1つ、または図5のダイ505と協働してもよい。図7の接続部720は、図1〜図5に示された接続部120、220、320、420または520の少なくともいくつかの部分に相当していてもよい。図7は、ダイ305を通る部分331、341、342、399(図3)に類似または同一であるように接続部720がダイ705を通る部分731、732、799を含む一例を示す。明確にするために、図7は、各部分731、732、799の一部のみを示す。さらに、接続部720は多くの他の部分を含んでいてもよく、それらは、明確にするために図7から省略されている。
メモリ素子777は、図5のものに類似または同一であるように、接続部720中の欠陥を確認するために回路部品を含んでいてもよい。例えば、メモリ素子777は走査セルおよび走査ロジック(図5の走査セル551、552、559および走査ロジック514に類似または同一)を含んでおり、それらは明確にするために図7に示されていない。図7に示すように、メモリ素子777は、接続部720中の欠陥を修復するために修復ロジック712および再ルーティングロジック713を含んでいてもよい。
修復ロジック712は、部分731、732、799のどれか1つがメモリ素子777の部品(例えば、走査ロジック及び走査セル)によってまたはメモリ素子777外の試験装置によって既に行なった欠陥の確認結果に基づいて欠陥がある部分であるかを示すための表示を設定してもよい。
再ルーティングロジック713は、部分731、732、799のどれか1つが欠陥のある部分である可能性があることを認識し、接続部720の欠陥部分を伝わる情報を、接続部720の欠陥がない(例えば置換)部分に適切に再ルーティングしてもよい(例えば、信号を再ルーティングする)。
メモリ素子777は、回路ユニット741、742、749および接続部720の部分731、732、799と協働する信号経路751、752、759を含んでいてもよい。図7に示すように、信号経路751は2つのセグメントを含んでいてもよい。信号経路751の第1のセグメントは、対応する回路ユニット741を介して部分731と再ルーティングロジック713との間で結合されていてもよい。信号経路751の第2のセグメントは、再ルーティングロジック713と回路部品715との間で結合されていてもよい。同様に、図7に示すように、各信号経路752、759は、部分732、799、再ルーティングロジック713および回路部品715に結合されたセグメントを含んでいてもよい。
回路部品715は、図2のメモリ素子200のメモリセル235、デコード回路236および制御回路238などの部品に類似または同一のメモリ素子のメモリセル、デコード回路、制御回路または他の部品を含んでいてもよい。メモリ素子777は、接続部720と回路部品715との間で情報を伝達するために信号経路751、752、759を使用してもよい。情報は、メモリセルに書き込まれるまたはメモリセルから読み出されるデータ、デコード回路に供給されるアドレス情報、またはメモリ素子777の制御回路への制御情報などの情報を含んでいてもよい。したがって、各信号経路751、752、759は、接続部720から回路部品715、または回路部品715から接続部720への一方向に情報を伝達するための一方向信号経路であってもよい。各信号経路751、752、759は、また、接続部720から回路部品715、および回路部品715から接続部720への両方向に情報を伝達する双方向信号経路であってもよい。
各回路ユニット741、742、749は、受信機、発信機、または受信機と発信機の両方の組み合わせを含んでいてもよい。例えば、各回路ユニット741、742、749は、再ルーティングロジック713によって次いで回路部品715に情報が伝達される接続部720の対応する部分(例えば、部分731、732、799のうちの1つ)から情報(例えば、データ、アドレスまたは制御情報)を受けるための受信機を含んでいてもよい。他の例において、各回路ユニット741、742、749は、また、情報が回路部品715からもたらされ、次いで再ルーティングロジック713によって対応する部分に伝達される、接続部720の対応する部分に情報(例えば、データまたは制御情報)を送るための発信機を含んでいてもよい。他の例において、各回路ユニット741、742、749は、対応する部分から情報を受け、または対応する部分に情報を送るための受信機および発信機の両方(例えば、送受信機)を含んでいてもよい。以下に説明するように、メモリ素子777は、対応する部分(部分731、732、799のうちの1つ)に欠陥があるまたは欠陥がないかどうかに基づいて、回路ユニット741、742、749の1つまたは複数を有効または無効にしてもよい。
修復ロジック712は、レジスタ761、762、769を使用して、部分731、732、799のうちのどれか1つに欠陥があるか、どれか1つに欠陥がないかを示すための表示を設定してもよい。図7に示すように、各レジスタ761、762、769は、回路ユニット741、742、749のうちの1つ、および接続部720の部分731、732、799のうちの1つと協働してもよい。各レジスタ761、762、769は、値(例えば、状態)を記憶してもよい。修復ロジック712は、各レジスタ761、762、769において、接続部720のどの部分に欠陥があるか、どの部分が欠陥がないかを示すための表示を設定してもよい。例えば、各レジスタ761、762、769は、「0」または「1」のいずれかの値でシングルビットを記憶することによって表示を設定してもよい。この例において、修復ロジック712は、そのレジスタと協働する接続部720の部分(部分731、732、799のうちの1つ)に欠陥があるなら、各レジスタ761、762、769の値(例えば、状態)を第1の値(例えば、「0」)に設定してもよく、そのレジスタと協働する接続部720の部分に欠陥がないなら、値を第2の値(例えば、「1」)に設定してもよい。修復ロジック712は、欠陥の確認の結果に基づいてレジスタ761、762、769の値を設定するために、欠陥を確認する走査ロジック(例えば、図5の走査ロジック514に類似または同一の走査ロジック)と通信してもよい。
再ルーティングロジック713は、レジスタ761、762、769の値に基づいて、欠陥がある部分を伝わる情報を欠陥がない部分に再ルーティングしてもよい。例えば、再ルーティングロジック713は、一方の部分731または732に欠陥があり、部分799に欠陥がないなら、部分731または732を伝わる情報を部分799に再ルーティングするように構成されていてもよい。再ルーティングロジック713は、端子CTL1、CTL2、CTL3で制御信号(例えば、多重化制御信号)に基づいて、その端子DATA1、DATA2、DATA3で情報を再ルーティングする多重化ネットワークを含んでいてもよい。図7に示すように、端子CTL1、CTL2、CTL3は、ライン781、782、789に結合されていてもよく、これらのラインは、レジスタ761、762、769の値に対応する信号値を有していてもよい。したがって、端子CTL1、CTL2、CTL3は、また、レジスタ761、762、769の値に相当する信号値を有していてもよい。レジスタ761、762、769の値は、接続部のどの部分に欠陥があるか、および接続部のどの部分に欠陥がないかを示してもよいので、端子CTL1、CTL2、CTL3での信号値は、再ルーティングロジック713に、欠陥がある部分を伝わる情報を欠陥がない部分に適切に再ルーティングするように、どの部分に欠陥があるか、およびどの部分に欠陥がないかを認識させることを可能にし得る。
各レジスタ761、762、769は、レジスタに記憶された情報の値に基づいて、回路ユニット741、742、743(例えば、回路ユニットの端子EN上の信号を介して)の対応する1つを有効にするまたは無効にしてもよい。例えば、レジスタの値が「0」である場合、レジスタ761は、回路ユニット741を有効にし、レジスタの値が「1」である場合、回路ユニット741を無効にしてもよい。レジスタ761、762、769のうちの1つが、対応する回路ユニットを有効にする場合、レジスタは、対応する回路ユニットが回路ユニットのDATAa端子とDATAb端子間で情報(例えば、データ)を伝達させることを可能にしてもよい。再ルーティングロジック713は、対応する信号経路(信号経路751、752、759のうちの1つ)を使用して、対応する有効にされた回路ユニットを介して、部分731、732、799のうちの1つと回路部品715との間で情報を伝達させてもよい。例えば、レジスタ761が回路ユニット741を有効にする(例えば、レジスタ761が「1」である)場合、レジスタ761は、回路ユニット741がそのDATAa端子とDATAb端子との間で情報を伝達させることを可能にしてもよい。したがって、再ルーティングロジック713は、信号経路751を使用して、(有効にされた回路ユニット741を介して)部分731と回路部品715との間で情報を伝達させてもよい。レジスタ761、762、769のうちの1つが、対応する回路ユニットを無効にする場合、レジスタは、対応する回路ユニットがDATAa端子とDATAb端子との間で情報(例えば、データ)を伝達させることを防止でき、その結果、(再ルーティングロジック713を介して)接続部の対応する部分(欠陥がある部分)と回路部品715との間で情報を伝達させることを防止できる。例えば、レジスタ761が回路ユニット741(例えば、レジスタが「0」である)を無効にする場合、レジスタ761は、回路ユニット741がそのDATAa端子とDATAb端子との間で情報を伝達させることを防止できる。したがって、回路ユニット741が無効とされるので、部分731と回路部品715との間で再ルーティングロジック713が情報を伝達させることを防止することもできる。回路ユニット741、742、743のうちの1つが無効とされる場合、メモリ素子777は、DATAa端子とDATAb端子のうちの1つまたは両方が“浮動”することを防ぐために、無効にされた回路ユニットのDATAa端子とDATAb端子のうちの1つまたは両方を固定状態に(例えば、供給電圧Vccまたは接地に)結合してもよい。メモリ素子777は、また電力をセーブするために、無効にされた回路ユニットへの電力を中断することができる。
以下の例では、接続部720の欠陥がある部分を修復するために、メモリ素子777が行うアクティビティについて説明する。この例において、(例えば、欠陥を確認するために、図5を参照して上記したものに類似または同一の回路およびアクティビティを使用することによって)部分731は、メモリ素子777に既に欠陥があると判断された欠陥部分であると仮定される。この例に基づいて、部分731に欠陥があり(値「0」のレジスタ761に対応する)、部分732,799に欠陥がない(値「1」のレジスタ761、769に対応する)ことを示すために、修復ロジック712は、値「0」、「1」、「1」のレジスタ761、762、769をそれぞれ設定してもよい。したがって、この例において、レジスタ761は、回路ユニット741が情報を伝達することを防止するために回路ユニット741を無効にしてもよい。レジスタ762、769は、回路ユニット742、769が情報を伝達することを可能にするために回路ユニット742、769を有効にしてもよい。再ルーティングロジック713は、部分731または732のどちらか一方に欠陥があるなら、部分731または732を伝わる情報を部分799に再ルーティングするように構成されていてもよい。この例では、部分731に欠陥があるので、再ルーティングロジック713は、端子CLT1、CLT2、CLT3で制御値に基づいて、部分731を伝わる情報を部分799に再ルーティングしてもよい。この例において、制御値は、レジスタ761、762、769の値(例えば、値「0」、「1」、「1」)を示してもよい。端子CLT1、CLT2、CLT3が値「0」、「1」、「1」を有しているので、再ルーティングロジック713は、(欠陥がある部分731と協働する)信号経路751を伝わることを目的とする情報を、(置換部分と協働する)信号経路759に再ルーティングしてもよい。
上記するように、メモリ素子777は、図4のメモリ素子444のスタック407に類似または同一のスタックで配置されたダイを含んでいてもよい。したがって、図7のメモリ素子777は、他のダイを含んでいてもよく、他の各ダイは、ダイ705の修復ロジック712および再ルーティングロジック713に類似または同一の修復ロジックおよび再ルーティングロジックを含む回路を有しうる。図7の接続部720は、また、図4のダイ401、402、403、404を通る導電性パス(図4に破線で示されている)に類似または同一の導電性パスを形成するために、(図7のダイ705に加えて)メモリ素子777の他のダイに結合されていてもよい。例えば、図7の部分731、732、799は、また、メモリ素子777のダイを通る導電性パスを形成するために、メモリ素子777の他のダイの他の対応する部分(部分731、732、799に類似または同一の部分)に結合されていてもよい。特有の導電性パスを形成する部分のうちの1つの部分(例えば、図7のダイの部分731)に欠陥があるなら、そのとき、欠陥がある部分だけでなくその特有の導電性パスを形成するすべての部分は、ダイメモリ素子777間での信号の伝達の連続性を可能とするために置換されなければならない可能性がある。欠陥がある部分を有するダイのみが、その欠陥がある部分(他のダイと同じ導電性パスを形成する部分のうちの部分)を置換するなら、導電性パスを形成する同じ部分を使用して、他のダイがさらに信号をルーティングする間に、欠陥がある部分を有するダイが新しい部分(例えば、置換部分)に信号を再ルーティングしてもよいので、そのとき、ダイ間での信号の伝達の不連続性が生じる可能性があり、さらに欠陥がある部分を有する。したがって、図7において、接続部720の部分に欠陥があることをダイ705が示す場合(例えば、ダイ705の部分731)、メモリ素子777の他の各ダイは、また、例え他の各ダイの対応する部分に欠陥がないとしても、対応する部分(ダイ705の欠陥がある部分、例えば、部分731に結合された部分)に欠陥があることを示すことができる。メモリ素子777のダイ間の対応する部分(同じ導電性パスを形成する欠陥がある部分および欠陥がない部分)に同じ表示を付与することにより、ダイが、同様に対応する部分に伝達される信号を再ルーティングする(同じ配置部分に再ルーティングする)ことを可能にしてもよく、それによって、信号の伝達の連続性およびダイ間の適切な通信を維持することができる。
図7を参照して接続部720中の欠陥を修復することに関する上記説明では、修復ロジック712は、接続部720が欠陥がある部分を有するなら、接続部720の部分に欠陥があることを示すために、メモリ素子777の電源を入れる(例えば、初期化プロセスを行う)たびに、レジスタ761、762、769の値を設定してもよい。したがって、レジスタ761、767、769は、接続部720のどの部分に欠陥があるか(例えば、メモリ素子777からの電力を切る場合、「1」の値などのデフォルト値にリセットされたレジスタ761、767、769の値)を示すために、不変に値を記憶しなくてもよい。修復ロジック712は、また、接続部720のどの部分(単数または複数)に欠陥があるかを不変に示すために、回路素子716を含んでいてもよい。回路素子716は、アンチヒューズ、フラッシュメモリセルまたは他の素子などの素子を含んでいてもよい。各回路素子716は、回路ユニット741、742、749のうちの1つおよび接続部720の部分731、732、799のうちの1つと協働してもよい。欠陥の確認の結果(例えば、走査ロジックによって行なわれた)に基づいて、修復ロジック712は、接続部720のどの部分に欠陥があるかを示すために、選択的に表示を設定してもよい(例えば、フラッシュメモリセルに値を記憶する、または2つの異なる位置のうちの1つにアンチヒューズを取り付けるためにアンチヒューズを「焼き付ける」)。
例えば、選択したフラッシュメモリセルと協働する接続部720の部分に欠陥があることを示すために、修復ロジック712は、選択したフラッシュメモリセルに値を記憶してもよい。他の例において、修復ロジック712は、選択したアンチヒューズと協働する接続部720の部分に欠陥があることを示すために、選択したアンチヒューズを閉鎖位置に設定してもよい(その部分に欠陥がないことを示すために、選択したアンチヒューズは、開放位置(例えば、デフォルト位置)にあってもよい)。当業者に公知なように、アンチヒューズは、通常開放位置にあってもよく、例えば、アンチヒューズの端子に比較的高電圧(例えば、メモリ素子777の供給電圧より高い)を加えることによって、閉鎖位置に設定されていてもよい。再ルーティングロジック713は、回路素子716(例えば、アンチヒューズ、フラッシュメモリセル、または両方)の表示に基づいて、接続部720の欠陥がある部分を伝わる情報を、接続部720の欠陥がない(置換)部分に適切に再ルーティングしてもよい。上記のように、再ルーティングロジック713は、端子CTL1、CTL2、CTL3での制御信号に基づいて、その端子DATA1、DATA2、DATA3で情報を再ルーティングしてもよい。CTL1、CTL2、CTL3での制御信号の値は、再ルーティングロジック713が上記のものに類似するように接続部720の適切な部分に情報を再ルーティングするように、回路素子716の表示(例えば、フラッシュメモリセルの値またはアンチヒューズの位置)を示してもよい。
修復ロジック712は、接続部720のどの部分(単数または複数)に欠陥があるかを不変に示すために、欠陥の確認の結果に基づいて、回路素子716の表示を一度だけ設定してもよい(例えば、メモリ素子777が作製される工場で)。修復ロジック712は、また、メモリ素子777の電源を入れるたびに接続部720のどの部分(単数または複数)に欠陥があるか示すために、レジスタ761、762、769の値を設定してもよい。例えば、メモリ素子777がコンピューターまたは携帯電話などのシステムにインストールされた後、メモリ素子777は、その電源を入れるすなわちオンするたびに接続部720中の欠陥を確認することができる。したがって、メモリ素子777の電源を入れるたびに、修復ロジック712は、また、接続部720のどの部分(単数または複数)に欠陥があるかを示すために、(欠陥の確認の結果に基づいて)レジスタ761、762、769の値を設定することができる。
図1〜図7を参照した上記説明は、装置100、メモリ素子222、333、444、555、777などの装置およびメモリ素子中の欠陥を確認するとともに修復するために、回路およびアクティビティについて説明する。装置およびメモリ素子は、図8のシステムなどのシステムの一部であってもよい。
図8は、本発明の実施の形態によるシステム800を示す。システム800は、プロセッサ810、第1のメモリ素子888、イメージセンサ素子820、第2のメモリ素子825、メモリコントローラー830、グラフィックスコントローラー840、増設回路845、入出力(I/O)コントローラー850、ディスプレイ852、キーボード854、ポインティングデバイス856、周辺機器858、およびシステム送受信機859を含んでいてもよい。システム800は、また、システム800の部品間で情報を伝達するとともにこれらの部品のうちの少なくともいくつかに電力を供給するためのバス860と、システムの部品のうちのいくつかが装着された回路基板802と、システム800間で情報を無線で送受信するアンテナ870と、を含んでいてもよい。システム送受信機859は、システム800の1つまたは複数の部品(例えば、プロセッサ810およびメモリ素子825のうちの少なくとも1つ)から情報を伝達するために作動してもよい。システム送受信機859は、また、アンテナ870で受けた情報をプロセッサ810と、メモリ素子825、888の少なくとも1つと、のうちの少なくとも1つに伝達するために作動してもよい。アンテナ870で受けた情報は、システム800に対する外部電源によって、システム800に送信されてもよい。
システム800は、また、システム800をオンするために、バス860および供給電源847に結合されたスイッチ846(例えば、プッシュボタンスイッチ)を含んでいてもよい。スイッチ846がシステムをオンするたびに、スイッチ846は、プロセッサ810、メモリ素子888またはそれらの両方、などのシステム800の部品の少なくとも1つに電源847から電力を加えてもよい。
プロセッサ810は、汎用プロセッサまたは特定用途向け集積回路(ASIC)を含んでいてもよい。プロセッサ810は、シングルコアプロセッサまたはマルチコアプロセッサを含んでいてもよい。プロセッサ810は、プロセス情報に対して1つまたは複数のプログラミングコマンドを実行してもよい。情報は、イメージセンサ素子820またはメモリ素子825などのシステム800の他の部品によって供給されるデジタル出力情報を含んでいてもよい。
各メモリ素子825、888は、揮発性メモリ素子、不揮発性メモリ素子、またはそれら両方の組み合わせを含んでいてもよい。例えば、メモリ素子825は、ダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)素子、スタティックランダムアクセスメモリ(SRAM)素子、フラッシュメモリ素子、またはこれらのメモリ素子の組み合わせを含んでいてもよい。各メモリ素子825、888は、図1〜図7を参照して、上記装置100およびメモリ素子222、333、444、555、777などの、本明細書で説明した1つまたは複数の様々な実施の形態を含んでいてもよい。したがって、各メモリ素子825、888は、メモリ素子825または888の接続部中の欠陥を確認するとともに欠陥を修復するために、(図1〜図7を参照して、上記のものに類似または同一の)回路および回路部品を含んでいる。メモリ素子825、888は、電源を入れるまたは初期化プロセスを完了するたびに、欠陥を確認するとともに欠陥を修復することができる。例えば、メモリ素子825、888は、スイッチ846がシステム800をオンするたびに欠陥を確認することができる。
システム800がいわゆるシステムインパッケージ(SIP)を含むように、システム800のいくつかの部品が集められていてもよい。例えば、少なくともメモリ素子888およびプロセッサ810は、SIP801の一部またはSIP801全体であってもよく、メモリ素子888は、プロセッサ810のキャッシュメモリとして使用されてもよい(例えば、レベルL1キャッシュ、レベルL2キャッシュ、レベルL3キャッシュ、またはそれらの組み合わせ)。プロセッサ810およびメモリ素子888は、接続部821を介して互いに通信していてもよく、図2の接続部121に類似または同一であってもよい。図8の接続部821は、図1〜図7の接続部120、220、320、420、520、720に類似または同一の接続部を含んでいてもよい。
イメージセンサ素子820は、相補型金属酸化物半導体(CMOS)ピクセル配列を有するCMOSイメージセンサまたは電荷結合素子(CCD)ピクセル配列を有するCCDイメージセンサを含んでいてもよい。
ディスプレイ852は、アナログディスプレイまたはデジタルディスプレイを含んでいてもよい。ディスプレイ852は、他の部品から情報を受けてもよい。例えば、ディスプレイ852は、テキストまたはイメージなどの情報を表示するために、イメージセンサ素子820、メモリ素子825、グラフィックスコントローラー840およびプロセッサ810の1つまたは複数によって処理される情報を受けてもよい。
増設回路845は、車両で使用される回路部品を含んでいてもよい。増設回路845は、車両の1つまたは複数のサブシステムを始動するために、他の部品から情報を受けてもよい。例えば、増設回路845は、車両のエアバッグシステム、車両警報機および障害物警告システムの1つまたは複数を始動するために、イメージセンサ素子820、メモリ素子825およびプロセッサ810の1つまたは複数によって処理される情報を受けてもよい。
装置(例えば、装置100、メモリ素子222、333、444、555、777)およびシステム(例えば、システム800)の説明図は、様々な実施の形態の構造についての一般的な理解をもたらすように意図され、すべての部品および本明細書に記載された構造を使用する装置およびシステムの特徴の完全な説明をもたらすようには意図されない。
上記部品のうちのいずれかは、ソフトウェアによるシミュレーションを含む複数の方法で実行することができる。したがって、上記装置(例えば、図4の走査ロジック514および図7の修復および再ルーティングロジック712、713などの回路、回路部品およびロジックを含む装置100およびメモリ素子222、333、444、555、777)および上記システム(例えば、システム800の一部またはシステム800全体)は、すべて、本明細書で「モジュール(単数または複数)」として見なされてもよい。そのようなモジュールは、装置(例えば、装置100およびメモリ素子222、333、444、555、777)およびシステム(例えば、システム800)の設計者によって望まれるように、および様々な実施の形態の特有の実施に適切なように、ハードウェア回路、シングルおよび/またはマルチプロセッサ回路、メモリ回路、ソフトウェアプログラムモジュールおよびオブジェクトおよび/またはファームウェア、およびそれらの組み合わせを含んでいてもよい。例えば、そのようなモジュールは、様々な可能性のある実施の形態の動作を操作またはシミュレートするために使用される、ソフトウェア電気信号シミュレーションパッケージ、電力消費および分布シミュレーションパッケージ、キャパシタンス−インダクタンスシミュレーションパッケージ、電力/熱消費シミュレーションパッケージ、信号送受信シミュレーションパッケージ、および/またはソフトウェアおよびハードウェアの組み合わせなどのシステムオペレーションシミュレーションパッケージに含まれていてもよい。
様々な実施の形態の新しい装置およびシステムは、高速コンピューターで使用される電子回路、通信および信号処理回路、シングルまたはマルチプロセッサモジュール、単一または多重埋め込みプロセッサ、マルチコアプロセッサ、データスイッチ、および多層マルチチップモジュールを含む特定用途向けモジュールを含んでいてもよいし、またはそれらに含まれていてもよい。そのような装置およびシステムは、さらに、テレビ、携帯電話、パソコン(例えば、ラップトップコンピューター、デスクトップコンピューター、ハンドヘルドコンピューター、タブレットコンピューターなど)、ワークステーション、ラジオ、ビデオプレーヤ、オーディオプレイヤー(例えば、MP3(モーションピクチャーエキスパートグループ、オーディオレイヤー3)プレーヤー)、車両、医療機器(例えば、心臓モニタ、血圧モニターなど)、セットトップボックス等の様々な電子システム内で従属部品として含まれていてもよい。
図9は、本発明の実施の形態による半導体ダイのスタックにおける接続部中の欠陥を確認するとともに置換する方法900のフローチャートである。方法900は、図1〜図8を参照して、上記装置100、メモリ素子222、333、444、555、777、825、888で使用されてもよい。したがって、方法900で使用される部品は、図1〜図8を参照して、上記装置100およびメモリ素子222、333、444、555、777、825、888の部品を含んでいてもよい。方法900は、また、図1〜図8を参照して、上記のものに類似または同一の欠陥を確認するとともに修復するなどのアクティビティを含んでいてもよい。
方法900のアクティビティ910は、スタックで配置されたダイに結合された欠陥がある接続部を確認することを含んでいてもよい。ダイの少なくとも1つがメモリセルのアレイを含むように、ダイは、メモリ素子などの素子の部品を含んでいてもよい。方法900におけるダイに結合された接続部は、図1〜図7を参照して、上記接続部120、220、320、420、520、720に類似または同一であってもよい。アクティビティ910において欠陥を確認することは、接続部に結合された走査セルを使用するとともに接続部の欠陥がある部分および欠陥がない部分を識別することによって、少なくとも接続部を走査することを含んでいてもよい。アクティビティ910において欠陥を確認することは、図5および図6を参照して、上記アクティビティのものに類似または同一であってもよい。
方法900のアクティビティ920は、第1の部分に欠陥があるなら、接続部の第1の部分を接続部の第2の部分と置換することを含んでいてもよい。アクティビティ920において第1の部分を置換することは、欠陥があると判断された接続部の部分を示すこと、および欠陥がある部分を伝わる信号を、欠陥がないと判断される他の部分に再ルーティングすることを含んでいてもよい。方法900において再ルーティングすることは、接続部の第1の部分(例えば、図1〜図8の接続部120、220、320、420、520、720、821の第1の部分)に情報を伝達すること、第1の部分に欠陥があることにより接続部の第2の部分(例えば、図1〜図8の接続部120、220、320、420、520、720、821の第2の部分)に情報を再ルーティングすることを含んでいてもよい。
スタック中のダイがICパッケージによって被覆される前に(例えば、図4のICパッケージ400中のスタック507)、スタック中のダイがICパッケージによって被覆された後に、またはダイがICパッケージによって被覆される前後の両方に、アクティビティ920は、1つまたは複数の欠陥がある部分を1つまたは複数の欠陥がない部分で置換してもよい。例えば、スタック中のダイがICパッケージによって被覆される前に、アクティビティ920は、工場で1つまたは複数の欠陥がある部分を1つまたは複数の欠陥がない部分で置換してもよい。他の例において、スタック中のダイがICパッケージによって被覆された後に、アクティビティ920は、1つまたは複数の欠陥がある部分を1つまたは複数の欠陥がない部分で置換してもよい。この実施例において、ICパッケージは、コンピューターや携帯電話などのシステムに予め取り付けられていてもよい。アクティビティ920は、図7を参照して、上記アクティビティのものに類似または同一のアクティビティを含んでいてもよい。
本明細書に記載された1つまたは複数の実施の形態は、スタックで配置された半導体ダイ、ダイ間の通信をもたらすように構成された多くの接続部、少なくとも1つのダイを通る接続部の少なくとも部分、および接続部中の欠陥を確認するとともに接続部中の欠陥を修復するように構成されたモジュールを含む装置、システムおよび方法を含んでいてもよい。追加装置、システムおよび方法を含む他の実施の形態は、図1〜図9を参照して上記のように説明される。
上記説明および図面は、当業者が本発明の実施の形態を実行することを可能にするために、本発明のいくつかの実施の形態を説明する。他の実施の形態は、構造的、論理的、電気的プロセスおよび他の変更を組み込んでいてもよい。図面において、同じ特徴または同じ数字は、いくつかの図面全体にわたって実質的に同じ特徴を説明する。単に可能な変形物が代表例となる。いくつかの実施の形態の部分および特徴は、他のものに含まれていてもよく、または他のものと置換されてもよい。他の多くの実施の形態は、当業者が上記説明を読み、理解した際に明らかとなる。したがって、本発明の様々な実施の形態の範囲は、添付の請求項が与える均等物の全範囲とともに、そのような請求項によって判断される。
要約書は、読者が技術的な開示の性質および要点を確認することを可能にする要約書を要求する37C.F.R.セクション1.72(b)に適合するために提供される。要約書は、請求項の範囲または意味を解釈または制限するために使用されないという理解の下に提出される。

Claims (25)

  1. スタックで配置されたダイと、
    ダイ間に通信をもたらすように構成された接続部と、
    接続部中の欠陥を確認するとともに、接続部中の欠陥を修復するように構成されたモジュールと、
    を含み、
    接続部の少なくとも一部はダイの少なくとも1つを通る、装置。
  2. モジュールは、接続部の第1の部分に欠陥があるなら、接続部の第1の部分を伝わる情報を接続部の第2の部分に再ルーティングするように構成されている、請求項1の装置。
  3. モジュールは、
    接続部の第1の部分から情報を受けて接続部中の欠陥を確認するように構成された第1の走査セルと、
    接続部の第2の部分から情報を受けて接続部中の欠陥を確認するように構成された第2の走査セルと、
    を含む、請求項1の装置。
  4. モジュールは、第1の部分に欠陥があるなら、第1の部分に欠陥があることを示すとともに、第2の部分に欠陥があるなら、第2の部分に欠陥があることを示すように構成されたロジックを含む、請求項3の装置。
  5. 装置は、ダイの少なくとも1つを通って延在する少なくとも1つのビアを含み、
    接続部の少なくとも一部は、導体材料を含み、
    導体材料は、少なくとも1つのビアの少なくとも一部を満たす、請求項1の装置。
  6. 接続部の第1の選択部分が、接続部の第2の部分の複製物であり、第1の選択部分は、第2の部分に直接に接続されている、請求項1の装置。
  7. ダイは、第1のダイと、第2のダイと、を含み、
    ダイは、接続部に結合されたメモリセルのアレイを含み、
    メモリセルのアレイは、第1のダイおよび第2のダイうちの1つのみに位置する、請求項1の装置。
  8. 装置は、接続部の少なくとも一部を走査して接続部中の欠陥を確認するように構成された走査ロジックを含み、
    モジュールは、ダイの少なくとも1つ内に位置し、
    走査ロジックの少なくとも一部は、モジュールおよび試験装置の少なくとも1つ内に位置する、請求項1の装置。
  9. スタックで配置され、少なくとも1つは回路を含むダイと、
    ダイ間に通信をもたらし、少なくとも一部はダイの少なくとも1つを通るように構成された接続部と、
    を含み、
    接続部の少なくとも一部は、欠陥がある部分であるとともに回路に結合されており、
    欠陥がある部分は、回路が作動中である場合に接続部中に残存する、装置。
  10. 接続部は、欠陥がある部分を置換するように構成された少なくとも1つの部分を含む、請求項9の装置。
  11. 欠陥がある部分を特定するとともに、欠陥がある部分を伝わる情報を、接続部の欠陥がない部分に再ルーティングするように構成されたモジュールを含む、請求項9の装置。
  12. モジュールは、欠陥がある部分と協働する第1の回路部品と、欠陥がない部分と協働する第2の回路部品と、を含み、
    第1の部品および第2の部品の各々は、欠陥がある部分および欠陥がない部分のうちの1つを表わす表示を設定するように構成されている、請求項11の装置。
  13. 第1の回路部品および第2の回路部品のうちの少なくとも1つは、値を記憶して表示を設定するように構成されたレジスタを含む、請求項12の装置。
  14. 第1の回路部品および第2の回路部品のうちの少なくとも1つは、表示を設定するように構成された少なくとも1つのアンチヒューズを含む、請求項12の装置。
  15. 接続部の少なくとも1つの部分は、第1のビアおよび第2のビアの内部に導体材料を含んでおり、
    第1のビアは、ダイのうちの第1のダイを通って延在し、第2のビアは、ダイのうちの第2のダイを通って延在する、請求項9の装置。
  16. スタックで配置されたダイを含むメモリ素子と、
    ダイ間に通信をもたらすように構成された接続部と、
    接続部に結合され、メモリ素子で情報を伝達するように構成されたプロセッサと、
    を含み、
    接続部の少なくとも一部は、ダイの少なくとも1つを通り、
    ダイの少なくとも1つは回路を含み、
    接続部の少なくとも一部は、欠陥がある部分であり、回路に結合されており、
    回路が作動中である場合に欠陥がある部分は接続部中に残存する、システム。
  17. 接続部中の欠陥を確認するとともに、欠陥がある部分を伝わる情報を、接続部の他の部分に再ルーティングするように構成されたモジュールを含む、請求項16のシステム。
  18. スイッチを含み、スイッチがシステムをオンするごとにメモリ素子およびプロセッサに電力を加えるように構成されており、
    モジュールは、スイッチがシステムをオンするごとに欠陥を確認するように構成されている、請求項17のシステム。
  19. スタックで配置されたダイに結合された接続部中の欠陥を確認すること、
    接続部の第1の部分に欠陥があるなら、接続部の第1の部分を接続部の第2の部分と置換すること、
    を含み、
    接続部の少なくとも一部はダイの少なくとも1つを通る、方法。
  20. 確認することは、接続部の第1の部分から接続部の他の部分にビットを伝達すること、
    第1の部分からのビットの値を他の部分から得られたビットの値と比較すること、
    を含む、請求項19の方法。
  21. 置換は、第1の部分に欠陥があるなら、第1の部分を伝わる情報が第2の部分に再ルーティングすることを示すことを含む、請求項19の方法。
  22. ダイが集積回路パッケージによって被覆された後に、欠陥を確認することが行なわれる、請求項19の方法。
  23. スタックで配置されたダイ間で結合された接続部の第1の部分に情報を伝達すること、
    第1の部分に欠陥があることにより接続部の第2の部分に情報を再ルーティングすること、
    を含み、
    接続部の少なくとも一部はダイの少なくとも1つを通る、方法。
  24. 第1の部分に情報を伝達する前に接続部中の欠陥を確認すること、
    欠陥を確認した結果に基づいて、第1の部分に欠陥があることを示すこと、
    を含む、請求項23の方法。
  25. 欠陥を確認することは、第1の部分と協働する走査セルから第2の部分と協働する走査セルにビットを移すことを含む、請求項24の方法。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011253607A (ja) * 2010-06-01 2011-12-15 Samsung Electronics Co Ltd 積層半導体メモリ装置、これを含むメモリシステム及び貫通電極の欠陥リペア方法
JP2013088426A (ja) * 2011-10-18 2013-05-13 Sk Hynix Inc 半導体装置
JP2013535113A (ja) * 2010-06-28 2013-09-09 ザイリンクス インコーポレイテッド ダイ間ボンディングをテストするための集積回路および方法
JP2013541122A (ja) * 2010-08-24 2013-11-07 クアルコム,インコーポレイテッド 低密度低レイテンシブロックおよび高密度高レイテンシブロックを有する広入出力メモリ
WO2013179594A1 (ja) * 2012-05-29 2013-12-05 パナソニック株式会社 半導体記憶装置
JP2014225676A (ja) * 2014-06-16 2014-12-04 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルPS4 Luxco S.a.r.l. 積層型半導体装置
JP2015507812A (ja) * 2011-12-23 2015-03-12 インテル・コーポレーション 積層メモリアーキテクチャのための自己修復論理

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7352602B2 (en) * 2005-12-30 2008-04-01 Micron Technology, Inc. Configurable inputs and outputs for memory stacking system and method
US7816934B2 (en) * 2007-10-16 2010-10-19 Micron Technology, Inc. Reconfigurable connections for stacked semiconductor devices
JP2009139273A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Elpida Memory Inc 積層型半導体装置および導通テスト方法
US8063491B2 (en) * 2008-09-30 2011-11-22 Micron Technology, Inc. Stacked device conductive path connectivity
US9779057B2 (en) * 2009-09-11 2017-10-03 Micron Technology, Inc. Autonomous memory architecture
US8604593B2 (en) * 2009-10-19 2013-12-10 Mosaid Technologies Incorporated Reconfiguring through silicon vias in stacked multi-die packages
US8996836B2 (en) 2009-12-18 2015-03-31 Micron Technology, Inc. Stacked device detection and identification
KR101751045B1 (ko) * 2010-05-25 2017-06-27 삼성전자 주식회사 3d 반도체 장치
JP2012064891A (ja) * 2010-09-17 2012-03-29 Toshiba Corp 半導体装置及びその製造方法
KR101190682B1 (ko) * 2010-09-30 2012-10-12 에스케이하이닉스 주식회사 3차원 적층 반도체 집적회로
KR20120045366A (ko) * 2010-10-29 2012-05-09 에스케이하이닉스 주식회사 3차원 적층 반도체 집적회로 및 그 tsv 리패어 방법
US8930647B1 (en) 2011-04-06 2015-01-06 P4tents1, LLC Multiple class memory systems
US9158546B1 (en) 2011-04-06 2015-10-13 P4tents1, LLC Computer program product for fetching from a first physical memory between an execution of a plurality of threads associated with a second physical memory
US9170744B1 (en) 2011-04-06 2015-10-27 P4tents1, LLC Computer program product for controlling a flash/DRAM/embedded DRAM-equipped system
US9176671B1 (en) 2011-04-06 2015-11-03 P4tents1, LLC Fetching data between thread execution in a flash/DRAM/embedded DRAM-equipped system
US9432298B1 (en) 2011-12-09 2016-08-30 P4tents1, LLC System, method, and computer program product for improving memory systems
US9164679B2 (en) 2011-04-06 2015-10-20 Patents1, Llc System, method and computer program product for multi-thread operation involving first memory of a first memory class and second memory of a second memory class
US9417754B2 (en) 2011-08-05 2016-08-16 P4tents1, LLC User interface system, method, and computer program product
JP2013083619A (ja) * 2011-09-27 2013-05-09 Elpida Memory Inc 半導体チップ、半導体装置、及びその測定方法
KR20130095044A (ko) * 2012-02-17 2013-08-27 에스케이하이닉스 주식회사 집적회로 시스템
DE112012006171B4 (de) 2012-03-30 2020-06-18 Intel Corporation On-Chip-Redundanzreparatur für Speichergeräte
US9478502B2 (en) * 2012-07-26 2016-10-25 Micron Technology, Inc. Device identification assignment and total device number detection
US10003675B2 (en) 2013-12-02 2018-06-19 Micron Technology, Inc. Packet processor receiving packets containing instructions, data, and starting location and generating packets containing instructions and data
US9727409B2 (en) 2014-06-17 2017-08-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Device and system including adaptive repair circuit
USRE50078E1 (en) 2014-06-17 2024-08-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Device and system including adaptive repair circuit
JP2015025809A (ja) * 2014-08-19 2015-02-05 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルPS4 Luxco S.a.r.l. 半導体装置及びその試験方法
JP2016058596A (ja) * 2014-09-11 2016-04-21 ソニー株式会社 電子デバイス、部品実装基板及び電子機器
KR102313949B1 (ko) * 2014-11-11 2021-10-18 삼성전자주식회사 스택 반도체 장치 및 이를 포함하는 메모리 장치
US9741403B2 (en) * 2014-11-12 2017-08-22 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods to perform post package trim
US9905315B1 (en) * 2017-01-24 2018-02-27 Nxp B.V. Error-resilient memory device with row and/or column folding with redundant resources and repair method thereof
FR3082656B1 (fr) 2018-06-18 2022-02-04 Commissariat Energie Atomique Circuit integre comprenant des macros et son procede de fabrication
US11587641B2 (en) 2021-03-01 2023-02-21 Changxin Memory Technologies, Inc. Fuse fault repair circuit
TWI817355B (zh) * 2021-12-02 2023-10-01 南亞科技股份有限公司 確定熔絲元件之狀態的半導體電路及半導體元件及狀態確定方法
US11946984B2 (en) 2021-12-06 2024-04-02 Nanya Technology Corporation Semiconductor circuit and semiconductor device for determining a status of a fuse element

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59153183A (ja) * 1983-02-22 1984-09-01 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 集積回路
JPH02174185A (ja) * 1988-12-26 1990-07-05 Hitachi Ltd メモリ・モジュール
JPH098420A (ja) * 1995-06-15 1997-01-10 Fujitsu Ltd プリント板およびプリント板基板
JPH09191074A (ja) * 1997-01-27 1997-07-22 Hitachi Ltd メモリ・モジュール
JPH1063804A (ja) * 1996-07-15 1998-03-06 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Pcカード及び周辺機器
JP2000251499A (ja) * 1999-03-03 2000-09-14 Asahi Kasei Microsystems Kk 不揮発性メモリ及び不揮発性メモリの検査方法
JP2003185710A (ja) * 2001-10-03 2003-07-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd マルチチップモジュール、半導体チップ及びマルチチップモジュールのチップ間接続テスト方法
JP2006019328A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Nec Corp 積層型半導体装置
JP2007158237A (ja) * 2005-12-08 2007-06-21 Elpida Memory Inc 積層型半導体装置
JP2007188620A (ja) * 2006-11-06 2007-07-26 Epson Toyocom Corp 記憶回路の検査方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0391074A (ja) 1989-09-04 1991-04-16 Zuumu:Kk 演算装置
US5255227A (en) * 1991-02-06 1993-10-19 Hewlett-Packard Company Switched row/column memory redundancy
US5448511A (en) * 1994-06-01 1995-09-05 Storage Technology Corporation Memory stack with an integrated interconnect and mounting structure
US5724365A (en) * 1996-05-24 1998-03-03 Advanced Micro Devices, Inc. Method of utilizing redundancy testing to substitute for main array programming and AC speed reads
US5815427A (en) * 1997-04-02 1998-09-29 Micron Technology, Inc. Modular memory circuit and method for forming same
US6052287A (en) * 1997-12-09 2000-04-18 Sandia Corporation Silicon ball grid array chip carrier
US6081463A (en) 1998-02-25 2000-06-27 Micron Technology, Inc. Semiconductor memory remapping
US6367042B1 (en) * 1998-12-11 2002-04-02 Lsi Logic Corporation Testing methodology for embedded memories using built-in self repair and identification circuitry
US6651202B1 (en) * 1999-01-26 2003-11-18 Lsi Logic Corporation Built-in self repair circuitry utilizing permanent record of defects
JP3502033B2 (ja) * 2000-10-20 2004-03-02 沖電気工業株式会社 テスト回路
US6545497B2 (en) * 2001-03-15 2003-04-08 Micron Technology, Inc. Method and apparatus of testing memory device power and ground pins in an array assembly platform
US6590409B1 (en) * 2001-12-13 2003-07-08 Lsi Logic Corporation Systems and methods for package defect detection
JP2003309183A (ja) * 2002-04-17 2003-10-31 Toshiba Corp 半導体システム、半導体システムの接続テスト方法及び半導体システムの製造方法
US6682955B2 (en) * 2002-05-08 2004-01-27 Micron Technology, Inc. Stacked die module and techniques for forming a stacked die module
US7171596B2 (en) * 2002-09-11 2007-01-30 Infineon Technologies Ag Circuit and method for testing embedded DRAM circuits through direct access mode
JP3884374B2 (ja) * 2002-12-06 2007-02-21 株式会社東芝 半導体装置
TW591372B (en) * 2003-05-15 2004-06-11 High Tech Comp Corp Power control method of portable electronic device, portable electronic device and electronic system
US7557597B2 (en) * 2005-06-03 2009-07-07 International Business Machines Corporation Stacked chip security
US7526698B2 (en) * 2006-03-23 2009-04-28 International Business Machines Corporation Error detection and correction in semiconductor structures
US7514773B2 (en) * 2006-08-31 2009-04-07 Intel Corporation Systems and arrangements for interconnecting integrated circuit dies
US7494846B2 (en) * 2007-03-09 2009-02-24 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Design techniques for stacking identical memory dies
US7816934B2 (en) 2007-10-16 2010-10-19 Micron Technology, Inc. Reconfigurable connections for stacked semiconductor devices
US8645777B2 (en) * 2011-12-29 2014-02-04 Intel Corporation Boundary scan chain for stacked memory

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59153183A (ja) * 1983-02-22 1984-09-01 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 集積回路
JPH02174185A (ja) * 1988-12-26 1990-07-05 Hitachi Ltd メモリ・モジュール
JPH098420A (ja) * 1995-06-15 1997-01-10 Fujitsu Ltd プリント板およびプリント板基板
JPH1063804A (ja) * 1996-07-15 1998-03-06 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Pcカード及び周辺機器
JPH09191074A (ja) * 1997-01-27 1997-07-22 Hitachi Ltd メモリ・モジュール
JP2000251499A (ja) * 1999-03-03 2000-09-14 Asahi Kasei Microsystems Kk 不揮発性メモリ及び不揮発性メモリの検査方法
JP2003185710A (ja) * 2001-10-03 2003-07-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd マルチチップモジュール、半導体チップ及びマルチチップモジュールのチップ間接続テスト方法
JP2006019328A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Nec Corp 積層型半導体装置
JP2007158237A (ja) * 2005-12-08 2007-06-21 Elpida Memory Inc 積層型半導体装置
JP2007188620A (ja) * 2006-11-06 2007-07-26 Epson Toyocom Corp 記憶回路の検査方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011253607A (ja) * 2010-06-01 2011-12-15 Samsung Electronics Co Ltd 積層半導体メモリ装置、これを含むメモリシステム及び貫通電極の欠陥リペア方法
JP2013535113A (ja) * 2010-06-28 2013-09-09 ザイリンクス インコーポレイテッド ダイ間ボンディングをテストするための集積回路および方法
JP2013541122A (ja) * 2010-08-24 2013-11-07 クアルコム,インコーポレイテッド 低密度低レイテンシブロックおよび高密度高レイテンシブロックを有する広入出力メモリ
JP2013088426A (ja) * 2011-10-18 2013-05-13 Sk Hynix Inc 半導体装置
JP2015507812A (ja) * 2011-12-23 2015-03-12 インテル・コーポレーション 積層メモリアーキテクチャのための自己修復論理
WO2013179594A1 (ja) * 2012-05-29 2013-12-05 パナソニック株式会社 半導体記憶装置
JP2014225676A (ja) * 2014-06-16 2014-12-04 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルPS4 Luxco S.a.r.l. 積層型半導体装置

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