JP2003173997A - 超臨界流体洗浄装置 - Google Patents
超臨界流体洗浄装置Info
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- JP2003173997A JP2003173997A JP2001370046A JP2001370046A JP2003173997A JP 2003173997 A JP2003173997 A JP 2003173997A JP 2001370046 A JP2001370046 A JP 2001370046A JP 2001370046 A JP2001370046 A JP 2001370046A JP 2003173997 A JP2003173997 A JP 2003173997A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 微細構造被洗浄物の高効率かつ安定した洗浄
処理が可能な超臨界流体洗浄装置を提供する。 【解決手段】 洗浄処理チャンバーと、該洗浄処理チャ
ンバーの上流側にあって、流体加圧手段を介して洗浄流
体を供給する洗浄流体供給手段と、上記洗浄処理チャン
バーの下流側にあって、流体圧力調整手段を介して流体
圧力を調整しながら不要物を排出する流体排出手段と、
上記洗浄処理チャンバー内を超臨界状態に維持すること
によって、当該洗浄処理チャンバー内の被洗浄物の洗浄
処理を行うようにしてなる超臨界流体洗浄装置におい
て、上記洗浄流体供給手段の上記加圧手段と洗浄処理チ
ャンバーとの間の流体供給系路に、供給される洗浄流体
の温度を調節する流体温度調整手段を設け、上記洗浄処
理チャンバー内で、上記洗浄流体が、液相状態を経るこ
となく気体から超臨界流体に、そして気体へと相変化し
て被洗浄物の洗浄を行うことができるようにした。
処理が可能な超臨界流体洗浄装置を提供する。 【解決手段】 洗浄処理チャンバーと、該洗浄処理チャ
ンバーの上流側にあって、流体加圧手段を介して洗浄流
体を供給する洗浄流体供給手段と、上記洗浄処理チャン
バーの下流側にあって、流体圧力調整手段を介して流体
圧力を調整しながら不要物を排出する流体排出手段と、
上記洗浄処理チャンバー内を超臨界状態に維持すること
によって、当該洗浄処理チャンバー内の被洗浄物の洗浄
処理を行うようにしてなる超臨界流体洗浄装置におい
て、上記洗浄流体供給手段の上記加圧手段と洗浄処理チ
ャンバーとの間の流体供給系路に、供給される洗浄流体
の温度を調節する流体温度調整手段を設け、上記洗浄処
理チャンバー内で、上記洗浄流体が、液相状態を経るこ
となく気体から超臨界流体に、そして気体へと相変化し
て被洗浄物の洗浄を行うことができるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本願発明は、超臨界流体洗浄
装置に関するものである。
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えばＩＣチップ等の微細構造物は、フ
ッ酸等を使用したウェットエッチング後に水洗いしてフ
ッ酸を除去する工程がある。
ッ酸等を使用したウェットエッチング後に水洗いしてフ
ッ酸を除去する工程がある。
【０００３】そして、この水洗い後に、さらにアルコー
ル等の液体溶媒を使って水分と置換し、その後、該水分
と置換された溶媒を除去排出するのに超臨界流体洗浄装
置が使用される。
ル等の液体溶媒を使って水分と置換し、その後、該水分
と置換された溶媒を除去排出するのに超臨界流体洗浄装
置が使用される。
【０００４】このような超臨界流体洗浄装置は、例えば
電気ヒータ等の温度調整機能をもった所定の洗浄処理チ
ャンバーを備え、該洗浄処理チャンバーの洗浄処理空間
内に上記微細構造物を入れた後に、外部の液化状態で二
酸化炭素を収納した二酸化炭素ボンベ等洗浄流体ボンベ
から、加圧ポンプ等の加圧手段を介して同洗浄流体を供
給し、その温度および圧力を各々所定の値に調整するこ
とによって超臨界状態を実現する。
電気ヒータ等の温度調整機能をもった所定の洗浄処理チ
ャンバーを備え、該洗浄処理チャンバーの洗浄処理空間
内に上記微細構造物を入れた後に、外部の液化状態で二
酸化炭素を収納した二酸化炭素ボンベ等洗浄流体ボンベ
から、加圧ポンプ等の加圧手段を介して同洗浄流体を供
給し、その温度および圧力を各々所定の値に調整するこ
とによって超臨界状態を実現する。
【０００５】そして、同超臨界状態において上記微細構
造物に付着している液体溶媒を上記洗浄流体で置換し、
その後、同洗浄流体を外部に排出することを複数回繰り
返すことにより、溶媒を除去して確実に乾燥させる。
造物に付着している液体溶媒を上記洗浄流体で置換し、
その後、同洗浄流体を外部に排出することを複数回繰り
返すことにより、溶媒を除去して確実に乾燥させる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、上記従
来の超臨界流体洗浄装置では、洗浄処理チャンバー内の
空気を一旦超臨界状態前の洗浄流体で置換した後に、洗
浄処理チャンバー内の圧力と温度を所定の値に上げて超
臨界状態を実現し、今度は溶媒等不要物を当該超臨界状
態の洗浄流体で置換することによって、被洗浄物の洗浄
を行うようになっている。
来の超臨界流体洗浄装置では、洗浄処理チャンバー内の
空気を一旦超臨界状態前の洗浄流体で置換した後に、洗
浄処理チャンバー内の圧力と温度を所定の値に上げて超
臨界状態を実現し、今度は溶媒等不要物を当該超臨界状
態の洗浄流体で置換することによって、被洗浄物の洗浄
を行うようになっている。
【０００７】したがって、洗浄処理チャンバー内を超臨
界状態にするまでに相当に時間がかかり、結局洗浄処理
工程のサイクルタイムを長くする問題がある。また、洗
浄処理に際して、予じめ液体の状態でチャンバー内の空
気を抜くようにしているので、空気が残りやすく、その
後形成される超臨界状態が不安定になる問題もあった。
界状態にするまでに相当に時間がかかり、結局洗浄処理
工程のサイクルタイムを長くする問題がある。また、洗
浄処理に際して、予じめ液体の状態でチャンバー内の空
気を抜くようにしているので、空気が残りやすく、その
後形成される超臨界状態が不安定になる問題もあった。
【０００８】さらに、被洗浄物として、例えば微少圧力
の測定などに使用されるマイクロレベル又はナノレベル
の太さのセンサーワイヤーを設けたシリコン基板等の所
謂マイクロマシンの洗浄を行う場合、上記洗浄処理チャ
ンバー内に液相状態の洗浄流体が入ると、その粘性でシ
リコン基板等が躍動し、損傷を招く恐れがある。
の測定などに使用されるマイクロレベル又はナノレベル
の太さのセンサーワイヤーを設けたシリコン基板等の所
謂マイクロマシンの洗浄を行う場合、上記洗浄処理チャ
ンバー内に液相状態の洗浄流体が入ると、その粘性でシ
リコン基板等が躍動し、損傷を招く恐れがある。
【０００９】本願発明は、洗浄流体を予じめ気体ないし
超臨界流体の状態にして洗浄処理チャンバー内に供給す
るようにすることにより、確実な空気の排出可能にする
とともに、以後の超臨界状態における洗浄流体の密度を
溶媒等液体の密度と等しくすることにより、密度差によ
って生じる界面の作用による微細構造物の破壊損傷等を
防ぐことができるようにした超臨界流体洗浄装置を提供
することを目的とするものである。
超臨界流体の状態にして洗浄処理チャンバー内に供給す
るようにすることにより、確実な空気の排出可能にする
とともに、以後の超臨界状態における洗浄流体の密度を
溶媒等液体の密度と等しくすることにより、密度差によ
って生じる界面の作用による微細構造物の破壊損傷等を
防ぐことができるようにした超臨界流体洗浄装置を提供
することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本願発明は、上記の目的
を達成するために、次のような課題解決手段を備えて構
成されている。
を達成するために、次のような課題解決手段を備えて構
成されている。
【００１１】（１） 請求項１の発明
この発明の超臨界流体洗浄装置は、洗浄処理チャンバー
と、該洗浄処理チャンバーの上流側にあって、流体加圧
手段を介して洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、
上記洗浄処理チャンバーの下流側にあって、流体圧力調
整手段を介して流体圧力を調整しながら不要物を排出す
る流体排出手段と、上記洗浄処理チャンバー内を超臨界
状態に維持することによって、当該洗浄処理チャンバー
内の被洗浄物の洗浄処理を行うようにしてなる超臨界流
体洗浄装置において、上記洗浄流体供給手段の上記加圧
手段と洗浄処理チャンバーとの間の流体供給系路に、供
給される洗浄流体の温度を調節する流体温度調整手段を
設け、上記洗浄処理チャンバー内で、上記洗浄流体が、
液相状態を経ることなく気体から超臨界流体に、そして
気体へと相変化して被洗浄物の洗浄を行うようにしたこ
とを特徴としている。
と、該洗浄処理チャンバーの上流側にあって、流体加圧
手段を介して洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、
上記洗浄処理チャンバーの下流側にあって、流体圧力調
整手段を介して流体圧力を調整しながら不要物を排出す
る流体排出手段と、上記洗浄処理チャンバー内を超臨界
状態に維持することによって、当該洗浄処理チャンバー
内の被洗浄物の洗浄処理を行うようにしてなる超臨界流
体洗浄装置において、上記洗浄流体供給手段の上記加圧
手段と洗浄処理チャンバーとの間の流体供給系路に、供
給される洗浄流体の温度を調節する流体温度調整手段を
設け、上記洗浄処理チャンバー内で、上記洗浄流体が、
液相状態を経ることなく気体から超臨界流体に、そして
気体へと相変化して被洗浄物の洗浄を行うようにしたこ
とを特徴としている。
【００１２】したがって、該構成の場合、上記洗浄処理
チャンバー内に供給される洗浄流体は、上記圧力調整手
段および流体温度調整手段により、最初から気体ないし
超臨界状態にして導入されるので、速かに洗浄処理チャ
ンバー内を超臨界状態にすることができ、かつ同気体な
いし超臨界状態の高圧の洗浄流体によって確実に空気が
排出される。
チャンバー内に供給される洗浄流体は、上記圧力調整手
段および流体温度調整手段により、最初から気体ないし
超臨界状態にして導入されるので、速かに洗浄処理チャ
ンバー内を超臨界状態にすることができ、かつ同気体な
いし超臨界状態の高圧の洗浄流体によって確実に空気が
排出される。
【００１３】そして、その結果、液相状態の洗浄流体の
作用による被洗浄物損傷の問題も解消される。
作用による被洗浄物損傷の問題も解消される。
【００１４】（２） 請求項２の発明
この発明の超臨界流体洗浄装置は、洗浄処理チャンバー
と、該洗浄処理チャンバーの上流側にあって、流体加圧
手段を介して洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、
上記洗浄処理チャンバーの下流側にあって、流体圧力調
整手段を介して流体圧力を調整しながら不要物を排出す
る流体排出手段と、上記洗浄処理チャンバー内に液体溶
媒を供給する溶媒供給手段とを備え、上記洗浄処理チャ
ンバー内を超臨界状態に維持することによって、当該洗
浄処理チャンバー内の被洗浄物の洗浄処理を行うように
してなる超臨界流体洗浄装置において、上記洗浄流体供
給手段の上記加圧手段と洗浄処理チャンバーとの間の流
体供給系路に、供給される洗浄流体の温度を調節する流
体温度調整手段を設け、上記圧力調整手段と該流体温度
調整手段とにより、上記洗浄処理チャンバー内の上記洗
浄流体の密度を上記液体溶媒の密度と略等しくし、上記
液体溶媒を上記洗浄流体に置換することにより、上記被
洗浄物の洗浄を行うようにしたことを特徴としている。
と、該洗浄処理チャンバーの上流側にあって、流体加圧
手段を介して洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、
上記洗浄処理チャンバーの下流側にあって、流体圧力調
整手段を介して流体圧力を調整しながら不要物を排出す
る流体排出手段と、上記洗浄処理チャンバー内に液体溶
媒を供給する溶媒供給手段とを備え、上記洗浄処理チャ
ンバー内を超臨界状態に維持することによって、当該洗
浄処理チャンバー内の被洗浄物の洗浄処理を行うように
してなる超臨界流体洗浄装置において、上記洗浄流体供
給手段の上記加圧手段と洗浄処理チャンバーとの間の流
体供給系路に、供給される洗浄流体の温度を調節する流
体温度調整手段を設け、上記圧力調整手段と該流体温度
調整手段とにより、上記洗浄処理チャンバー内の上記洗
浄流体の密度を上記液体溶媒の密度と略等しくし、上記
液体溶媒を上記洗浄流体に置換することにより、上記被
洗浄物の洗浄を行うようにしたことを特徴としている。
【００１５】したがって、該構成の場合、上記洗浄処理
チャンバー内に供給される洗浄流体は、上記圧力調整手
段および流体温度調整手段により、最初から気体ないし
超臨界状態にして導入されるので、速かに洗浄処理チャ
ンバー内を超臨界状態にすることができ、かつ同気体な
いし超臨界状態の洗浄流体によって確実に空気が排出さ
れ、かつ液体溶媒が効率良く混合置換されて排出され
る。
チャンバー内に供給される洗浄流体は、上記圧力調整手
段および流体温度調整手段により、最初から気体ないし
超臨界状態にして導入されるので、速かに洗浄処理チャ
ンバー内を超臨界状態にすることができ、かつ同気体な
いし超臨界状態の洗浄流体によって確実に空気が排出さ
れ、かつ液体溶媒が効率良く混合置換されて排出され
る。
【００１６】そして、その結果、液相状態の洗浄流体の
作用による被洗浄物損傷の問題も解消され、また洗浄乾
燥効果も向上する。
作用による被洗浄物損傷の問題も解消され、また洗浄乾
燥効果も向上する。
【００１７】（３） 請求項３の発明
この発明の超臨界流体洗浄装置は、上記請求項２の発明
の構成において、上記液体溶媒は、上記洗浄流体との親
和性が高く、かつ液体密度が上記洗浄流体の調節可能な
密度範囲に対応したものであることを特徴としている。
の構成において、上記液体溶媒は、上記洗浄流体との親
和性が高く、かつ液体密度が上記洗浄流体の調節可能な
密度範囲に対応したものであることを特徴としている。
【００１８】このように、液体溶媒として上記洗浄流体
との親和性が高く、その液体密度が上記洗浄流体の調節
可能な密度範囲に対応したものを選ぶと、上記請求項２
の発明の作用が、より有効に発揮されるようになる。
との親和性が高く、その液体密度が上記洗浄流体の調節
可能な密度範囲に対応したものを選ぶと、上記請求項２
の発明の作用が、より有効に発揮されるようになる。
【００１９】（４） 請求項４の発明
この発明の超臨界流体洗浄装置は、上記請求項２又は３
の発明の構成において、上記洗浄処理チャンバーの下部
側からも上記洗浄流体排出手段下流側への流体排出流路
を設けたことを特徴としている。
の発明の構成において、上記洗浄処理チャンバーの下部
側からも上記洗浄流体排出手段下流側への流体排出流路
を設けたことを特徴としている。
【００２０】一般に液体溶媒は、上記洗浄処理チャンバ
ーの底部に供給されて貯留される。従って、洗浄が進行
した後も、同洗浄処理チャンバー内の底部に所定量留っ
ている。
ーの底部に供給されて貯留される。従って、洗浄が進行
した後も、同洗浄処理チャンバー内の底部に所定量留っ
ている。
【００２１】したがって、該構成では、当該洗浄処理チ
ャンバー内底部の溶媒が、特に効果的に排出置換される
ようになる。
ャンバー内底部の溶媒が、特に効果的に排出置換される
ようになる。
【００２２】
【発明の効果】以上の結果、本願発明の超臨界流体洗浄
装置によると、次のような効果を得ることができる。
装置によると、次のような効果を得ることができる。
【００２３】（１） 確実な空気の排出が可能となり、
安定した超臨界状態を実現することができる。
安定した超臨界状態を実現することができる。
【００２４】（２） 洗浄処理工程のサイクルタイムが
短縮される。
短縮される。
【００２５】（３） マイクロマシン等微細構造物の洗
浄乾燥に適したものとなる。
浄乾燥に適したものとなる。
【００２６】
【発明の実施の形態】（実施の形態１）図１は、例えば
洗浄流体として二酸化炭素（ＣＯ2）を採用し、アルコ
ール等所定の液体溶媒と併用して洗浄を行うようにした
本願発明の実施の形態１に係る超臨界流体洗浄装置の構
成を示している。
洗浄流体として二酸化炭素（ＣＯ2）を採用し、アルコ
ール等所定の液体溶媒と併用して洗浄を行うようにした
本願発明の実施の形態１に係る超臨界流体洗浄装置の構
成を示している。
【００２７】この実施の形態の超臨界流体洗浄装置は、
所定の洗浄処理チャンバー内で、洗浄流体である二酸化
炭素（ＣＯ2）が全く液相状態を経ることなく、気体→
超臨界流体→気体の相変化を伴って所定の被洗浄物の洗
浄を行うことができるようにしたことを特徴とするもの
である。
所定の洗浄処理チャンバー内で、洗浄流体である二酸化
炭素（ＣＯ2）が全く液相状態を経ることなく、気体→
超臨界流体→気体の相変化を伴って所定の被洗浄物の洗
浄を行うことができるようにしたことを特徴とするもの
である。
【００２８】先にも述べたように、従来の構成では、洗
浄処理チャンバー内を超臨界状態にするまでに相当に時
間がかかり、結局洗浄処理工程のサイクルタイムを長く
する問題があった。また、液体の状態で空気を抜くの
で、空気が残りやすく、形成される超臨界状態が不安定
になる問題もあった。
浄処理チャンバー内を超臨界状態にするまでに相当に時
間がかかり、結局洗浄処理工程のサイクルタイムを長く
する問題があった。また、液体の状態で空気を抜くの
で、空気が残りやすく、形成される超臨界状態が不安定
になる問題もあった。
【００２９】さらに、例えば微少圧力の測定などに使用
されるマイクロレベルないしナノレベルの太さのセンサ
ーワイヤーを設けたシリコン基板等の所謂マイクロマシ
ンの洗浄を行う場合、上記洗浄処理チャンバー内に液相
状態の洗浄流体が入ると、その粘性でシリコン基板等が
躍動し、確実な洗浄を行えなくなるとともに、損傷を招
く恐れがあった。
されるマイクロレベルないしナノレベルの太さのセンサ
ーワイヤーを設けたシリコン基板等の所謂マイクロマシ
ンの洗浄を行う場合、上記洗浄処理チャンバー内に液相
状態の洗浄流体が入ると、その粘性でシリコン基板等が
躍動し、確実な洗浄を行えなくなるとともに、損傷を招
く恐れがあった。
【００３０】したがって、このような問題を解決するた
めには、上記洗浄流体が液相を呈する状態を避けること
が必要となる。
めには、上記洗浄流体が液相を呈する状態を避けること
が必要となる。
【００３１】そこで、この実施の形態の超臨界流体洗浄
装置では、そのために上記洗浄処理チャンバーへの洗浄
流体供給系路に、供給される洗浄流体の温度を調節する
流体温度調整手段を設け、圧力調整手段の圧力調整作用
と組合わせて洗浄流体を予じめ気体又は超臨界流体の状
態にして洗浄処理チャンバー内に供給することにより、
上記洗浄処理チャンバー内において洗浄流体が液相状態
を経ることなく、気体→超臨界流体→気体の相変化を伴
って、迅速かつ確実に被洗浄物の洗浄を行うことができ
るようにしている。
装置では、そのために上記洗浄処理チャンバーへの洗浄
流体供給系路に、供給される洗浄流体の温度を調節する
流体温度調整手段を設け、圧力調整手段の圧力調整作用
と組合わせて洗浄流体を予じめ気体又は超臨界流体の状
態にして洗浄処理チャンバー内に供給することにより、
上記洗浄処理チャンバー内において洗浄流体が液相状態
を経ることなく、気体→超臨界流体→気体の相変化を伴
って、迅速かつ確実に被洗浄物の洗浄を行うことができ
るようにしている。
【００３２】先ず図中、符号１４は洗浄処理チャンバー
であり、該洗浄処理チャンバー１４は、上部が開口した
有底筒状の耐圧性のある内容器１４ａと、該内容器１４
ａの外周をカバーするとともに加熱保温用の電気ヒータ
１４ｃを備えた同形状の外カバー１４ｂとからなり、こ
れら内容器１４ａと外カバー１４ｂとを一体化してチャ
ンバー本体が形成されている。そして、該チャンバー本
体の上部側開口部にはチャンバー内の洗浄処理空間１６
シール用の蓋１５が着脱可能に設けられている。
であり、該洗浄処理チャンバー１４は、上部が開口した
有底筒状の耐圧性のある内容器１４ａと、該内容器１４
ａの外周をカバーするとともに加熱保温用の電気ヒータ
１４ｃを備えた同形状の外カバー１４ｂとからなり、こ
れら内容器１４ａと外カバー１４ｂとを一体化してチャ
ンバー本体が形成されている。そして、該チャンバー本
体の上部側開口部にはチャンバー内の洗浄処理空間１６
シール用の蓋１５が着脱可能に設けられている。
【００３３】そして、該洗浄処理チャンバー１４の内容
器１４ａ内洗浄処理空間１６に、例えば上述したナノレ
ベルの太さのセンサーワイヤーを設置したシリコン基板
等の被洗浄物（マイクロマシン）４が、図示のように納
入されて、蓋１５が閉められる。
器１４ａ内洗浄処理空間１６に、例えば上述したナノレ
ベルの太さのセンサーワイヤーを設置したシリコン基板
等の被洗浄物（マイクロマシン）４が、図示のように納
入されて、蓋１５が閉められる。
【００３４】一方、符号１は洗浄流体としての液化され
た二酸化炭素（ＣＯ2）を所望の量保存している二酸化
炭素ボンベ、１０は同二酸化炭素ボンベ１からの二酸化
炭素（ＣＯ2）の供給状態を開閉する流体開閉バルブ、
２は同流体開閉バルブ１０の開状態において供給される
二酸化炭素（ＣＯ2）流体を所定の圧力に加圧する加圧
ポンプ（加圧手段）、３は同加圧ポンプ２によって加圧
された二酸化炭素（ＣＯ2）流体の温度を液相状態から
気相状態となるに十分な所定の温度に加熱調節する電気
ヒータを備えた流体温度調節手段であり、上記流体開閉
バルブ１０、加圧ポンプ２、流体温度調節手段３は、そ
れぞれ上記二酸化炭素ボンベ１から、上記洗浄処理チャ
ンバー１４内洗浄処理空間１６の上方部への洗浄流体供
給配管Ｌ 1上に設けられている。そして、上記二酸化炭
素ボンベ１、流体開閉バルブ１０、加圧ポンプ２、流体
温度調節手段３、流体供給配管Ｌ1により、洗浄流体供
給手段が形成されている。
た二酸化炭素（ＣＯ2）を所望の量保存している二酸化
炭素ボンベ、１０は同二酸化炭素ボンベ１からの二酸化
炭素（ＣＯ2）の供給状態を開閉する流体開閉バルブ、
２は同流体開閉バルブ１０の開状態において供給される
二酸化炭素（ＣＯ2）流体を所定の圧力に加圧する加圧
ポンプ（加圧手段）、３は同加圧ポンプ２によって加圧
された二酸化炭素（ＣＯ2）流体の温度を液相状態から
気相状態となるに十分な所定の温度に加熱調節する電気
ヒータを備えた流体温度調節手段であり、上記流体開閉
バルブ１０、加圧ポンプ２、流体温度調節手段３は、そ
れぞれ上記二酸化炭素ボンベ１から、上記洗浄処理チャ
ンバー１４内洗浄処理空間１６の上方部への洗浄流体供
給配管Ｌ 1上に設けられている。そして、上記二酸化炭
素ボンベ１、流体開閉バルブ１０、加圧ポンプ２、流体
温度調節手段３、流体供給配管Ｌ1により、洗浄流体供
給手段が形成されている。
【００３５】他方、符号６は、上記二酸化炭素（Ｃ
Ｏ2）流体との親和性が高く、その液体密度が同二酸化
炭素（ＣＯ2）流体の調節可能な密度範囲に対応した例
えばアルコール等の液体溶媒を所望の量保存している溶
媒タンク、５は同溶媒タンク６からの液体溶媒を供給す
る溶媒供給ポンプ、１２は同液体溶媒の供給状態を開閉
する溶媒開閉バルブであり、同溶媒供給ポンプ５、溶媒
開閉バルブ１２は、上記溶媒タンク６から上記洗浄処理
チャンバー１４内洗浄処理空間１６底部への溶媒供給配
管Ｌ2上に設けられている。そして、それら溶媒タンク
６、溶媒供給ポンプ５、溶媒開閉バルブ１２、溶媒供給
配管Ｌ2により、溶媒供給手段が形成されている。該溶
媒供給手段により供給された溶媒は、上記洗浄処理チャ
ンバー１４内の洗浄処理空間１６の底部に所定量貯留さ
れ、上記被洗浄物を浸漬した状態に保持する。
Ｏ2）流体との親和性が高く、その液体密度が同二酸化
炭素（ＣＯ2）流体の調節可能な密度範囲に対応した例
えばアルコール等の液体溶媒を所望の量保存している溶
媒タンク、５は同溶媒タンク６からの液体溶媒を供給す
る溶媒供給ポンプ、１２は同液体溶媒の供給状態を開閉
する溶媒開閉バルブであり、同溶媒供給ポンプ５、溶媒
開閉バルブ１２は、上記溶媒タンク６から上記洗浄処理
チャンバー１４内洗浄処理空間１６底部への溶媒供給配
管Ｌ2上に設けられている。そして、それら溶媒タンク
６、溶媒供給ポンプ５、溶媒開閉バルブ１２、溶媒供給
配管Ｌ2により、溶媒供給手段が形成されている。該溶
媒供給手段により供給された溶媒は、上記洗浄処理チャ
ンバー１４内の洗浄処理空間１６の底部に所定量貯留さ
れ、上記被洗浄物を浸漬した状態に保持する。
【００３６】さらに、符号７は上記洗浄処理チャンバー
１４内の洗浄処理空間１６での洗浄により取り出された
溶媒その他の廃液等を収納する廃液等収納容器、８は上
記洗浄処理チャンバー１４内洗浄処理空間１６の圧力を
検出する圧力センサ、９は同排出流体の流量を可変する
ことによって上記洗浄処理空間１６内の圧力を調整する
圧力調節バルブであり、同圧力センサ８、圧力調整バル
ブ９は、上記洗浄処理チャンバー１４内の洗浄処理空間
１６の上方部から上記廃液等収納容器７への流体排出配
管Ｌ3上に設けられている。そして、これら流体排出配
管Ｌ3、圧力センサ８、圧力調節バルブ９、廃液等収納
容器により、流体排出手段が形成されている。
１４内の洗浄処理空間１６での洗浄により取り出された
溶媒その他の廃液等を収納する廃液等収納容器、８は上
記洗浄処理チャンバー１４内洗浄処理空間１６の圧力を
検出する圧力センサ、９は同排出流体の流量を可変する
ことによって上記洗浄処理空間１６内の圧力を調整する
圧力調節バルブであり、同圧力センサ８、圧力調整バル
ブ９は、上記洗浄処理チャンバー１４内の洗浄処理空間
１６の上方部から上記廃液等収納容器７への流体排出配
管Ｌ3上に設けられている。そして、これら流体排出配
管Ｌ3、圧力センサ８、圧力調節バルブ９、廃液等収納
容器により、流体排出手段が形成されている。
【００３７】以上の構成において、被洗浄物４は、例え
ば次のようにして洗浄処理される。
ば次のようにして洗浄処理される。
【００３８】（１） 先ず溶媒開閉バルブ１２を開くと
ともに溶媒供給ポンプ５を作動させて、溶媒タンク６内
の溶媒を上記洗浄処理チャンバー１４の洗浄処理空間１
６内底部に所定量貯留する。同溶媒が所定量入ると、上
記溶媒開閉バルブ１２を閉じる。
ともに溶媒供給ポンプ５を作動させて、溶媒タンク６内
の溶媒を上記洗浄処理チャンバー１４の洗浄処理空間１
６内底部に所定量貯留する。同溶媒が所定量入ると、上
記溶媒開閉バルブ１２を閉じる。
【００３９】（２） 次に、被洗浄物４を、洗浄処理チ
ャンバー１４の洗浄処理空間１６内の底部に入れて上記
溶媒中に浸漬させて、蓋１５をする。
ャンバー１４の洗浄処理空間１６内の底部に入れて上記
溶媒中に浸漬させて、蓋１５をする。
【００４０】（３） 次に、流体温度調節手段３および
チャンバー温度調整手段１６を調整操作して、洗浄処理
チャンバー１４内に供給される二酸化炭素流体の温度お
よび洗浄処理チャンバー１４の洗浄処理空間１６内の温
度を超臨界状態を形成するのに適した所定の温度となる
ように調整設定する。
チャンバー温度調整手段１６を調整操作して、洗浄処理
チャンバー１４内に供給される二酸化炭素流体の温度お
よび洗浄処理チャンバー１４の洗浄処理空間１６内の温
度を超臨界状態を形成するのに適した所定の温度となる
ように調整設定する。
【００４１】また、それと同時に、上記圧力センサ８の
圧力検出値を入力し、その検出値が超臨界状態を形成す
るのに適した所定の圧力値になるように上記圧力調節バ
ルブ９の開度を調節制御する。
圧力検出値を入力し、その検出値が超臨界状態を形成す
るのに適した所定の圧力値になるように上記圧力調節バ
ルブ９の開度を調節制御する。
【００４２】（４） 次に、その上で上記二酸化炭素ボ
ンベ１側の洗浄流体開閉バルブ１０を開き、かつ加圧ポ
ンプ２を作動させて、洗浄流体である二酸化炭素流体を
洗浄流体供給配管Ｌ1を介して洗浄処理チャンバー１４
の洗浄処理空間１６内上方部に供給する。
ンベ１側の洗浄流体開閉バルブ１０を開き、かつ加圧ポ
ンプ２を作動させて、洗浄流体である二酸化炭素流体を
洗浄流体供給配管Ｌ1を介して洗浄処理チャンバー１４
の洗浄処理空間１６内上方部に供給する。
【００４３】この場合、該洗浄流体供給配管Ｌ1の下流
領域の、上記加圧ポンプ２と洗浄処理チャンバー１４
（の洗浄流体導入口）との間には、流体温度調節手段３
が設けられているために、予じめ洗浄処理チャンバー１
４に入る前の段階で、上記液相状態の二酸化炭素流体が
気体ないし超臨界状態になるに適した温度に加熱、加圧
され、気体ないし超臨界状態になり、その上で洗浄処理
チャンバー１４の洗浄処理空間１６内に導入される。
領域の、上記加圧ポンプ２と洗浄処理チャンバー１４
（の洗浄流体導入口）との間には、流体温度調節手段３
が設けられているために、予じめ洗浄処理チャンバー１
４に入る前の段階で、上記液相状態の二酸化炭素流体が
気体ないし超臨界状態になるに適した温度に加熱、加圧
され、気体ないし超臨界状態になり、その上で洗浄処理
チャンバー１４の洗浄処理空間１６内に導入される。
【００４４】（５） その結果、上記洗浄流体である二
酸化炭素流体が全く液相状態を経ることなく、気体→超
臨界流体→気体の相変化を伴って被洗浄物４の洗浄を行
う。
酸化炭素流体が全く液相状態を経ることなく、気体→超
臨界流体→気体の相変化を伴って被洗浄物４の洗浄を行
う。
【００４５】すなわち、該構成の場合、上記洗浄処理チ
ャンバー１４の洗浄処理空間１６内に供給される洗浄流
体である二酸化炭素流体は、上記圧力調節バルブ９およ
び流体温度調整手段３により、最初から気体又は超臨界
状態にして導入されるので、速に洗浄処理チャンバー１
４の洗浄処理空間１６内を超臨界状態にすることがで
き、かつ同気体ないし超臨界状態の高圧の洗浄流体によ
って洗浄初期に確実に空気が排出される。。
ャンバー１４の洗浄処理空間１６内に供給される洗浄流
体である二酸化炭素流体は、上記圧力調節バルブ９およ
び流体温度調整手段３により、最初から気体又は超臨界
状態にして導入されるので、速に洗浄処理チャンバー１
４の洗浄処理空間１６内を超臨界状態にすることがで
き、かつ同気体ないし超臨界状態の高圧の洗浄流体によ
って洗浄初期に確実に空気が排出される。。
【００４６】そして、その結果、液相状態の洗浄流体の
作用による被洗浄物損傷の問題も解消される。従って、
前述したようなマイクロマシンでも安心して洗浄処理す
ることができる （６） 以上のようにして洗浄された後の、被洗浄物４
からの汚れ等不要物や溶媒を含む二酸化炭素流体は、上
記圧力調節バルブ９の下流側で、二酸化炭素流体から溶
媒および不要物が分離され、分離された同溶媒および不
要物が廃液物収納容器７中に収納される。
作用による被洗浄物損傷の問題も解消される。従って、
前述したようなマイクロマシンでも安心して洗浄処理す
ることができる （６） 以上のようにして洗浄された後の、被洗浄物４
からの汚れ等不要物や溶媒を含む二酸化炭素流体は、上
記圧力調節バルブ９の下流側で、二酸化炭素流体から溶
媒および不要物が分離され、分離された同溶媒および不
要物が廃液物収納容器７中に収納される。
【００４７】（実施の形態２）図２は、例えば洗浄流体
として二酸化炭素（ＣＯ2）を採用し、アルコール等所
定の液体溶媒と併用して洗浄を行うようにした本願発明
の実施の形態２に係る超臨界流体洗浄装置の構成を示し
ている。
として二酸化炭素（ＣＯ2）を採用し、アルコール等所
定の液体溶媒と併用して洗浄を行うようにした本願発明
の実施の形態２に係る超臨界流体洗浄装置の構成を示し
ている。
【００４８】この実施の形態の超臨界流体洗浄装置も、
基本的には上記実施の形態１のものと同様に所定の洗浄
処理チャンバー内で、洗浄流体である二酸化炭素（ＣＯ
2）が全く液相状態を経ることなく、気体→超臨界流体
→気体の相変化を伴って所定の被洗浄物の洗浄を行うこ
とができるようにしたものである。
基本的には上記実施の形態１のものと同様に所定の洗浄
処理チャンバー内で、洗浄流体である二酸化炭素（ＣＯ
2）が全く液相状態を経ることなく、気体→超臨界流体
→気体の相変化を伴って所定の被洗浄物の洗浄を行うこ
とができるようにしたものである。
【００４９】しかも、この実施の形態の場合には、その
場合において、特に上記圧力調節バルブ９と流体温度調
整手段３とを使用して、上記洗浄処理チャンバー１４の
洗浄処理空間１６内における上記洗浄流体である二酸化
炭素流体Ａの密度を上記溶媒タンク６から供給される液
体溶媒Ｂの密度と略等しくし、上記液体溶媒Ｂを上記洗
浄流体である超臨界状態の二酸化炭素流体Ａに置換しや
すくすることにより、上記被洗浄物４の洗浄乾燥効果を
向上させるようにしたことを特徴としている。
場合において、特に上記圧力調節バルブ９と流体温度調
整手段３とを使用して、上記洗浄処理チャンバー１４の
洗浄処理空間１６内における上記洗浄流体である二酸化
炭素流体Ａの密度を上記溶媒タンク６から供給される液
体溶媒Ｂの密度と略等しくし、上記液体溶媒Ｂを上記洗
浄流体である超臨界状態の二酸化炭素流体Ａに置換しや
すくすることにより、上記被洗浄物４の洗浄乾燥効果を
向上させるようにしたことを特徴としている。
【００５０】そして、もちろん本実施の形態でも、上記
液体溶媒Ｂにも、上記二酸化炭素（ＣＯ2）流体との親
和性が高く、その液体密度が同二酸化炭素（ＣＯ2）流
体の調節可能な密度範囲に対応した例えばアルコール等
が選ばれている。
液体溶媒Ｂにも、上記二酸化炭素（ＣＯ2）流体との親
和性が高く、その液体密度が同二酸化炭素（ＣＯ2）流
体の調節可能な密度範囲に対応した例えばアルコール等
が選ばれている。
【００５１】したがって、該構成の場合、上記洗浄処理
チャンバー１４の洗浄処理空間１６内に供給される二酸
化炭素流体は、上記のように圧力調整バルブ９および流
体温度調整手段３により、最初から気体ないし超臨界状
態にして導入され、極めて効率良く液体溶媒Ｂと混合置
換して排出されるようになり、洗浄乾燥効果が向上す
る。
チャンバー１４の洗浄処理空間１６内に供給される二酸
化炭素流体は、上記のように圧力調整バルブ９および流
体温度調整手段３により、最初から気体ないし超臨界状
態にして導入され、極めて効率良く液体溶媒Ｂと混合置
換して排出されるようになり、洗浄乾燥効果が向上す
る。
【００５２】また、この場合、上記のように液体溶媒Ｂ
の方も、特に上記二酸化炭素流体Ａとの親和性が高く、
かつ、その液体密度が上記二酸化炭素流体Ａの調節可能
な密度範囲に対応したものとしている。
の方も、特に上記二酸化炭素流体Ａとの親和性が高く、
かつ、その液体密度が上記二酸化炭素流体Ａの調節可能
な密度範囲に対応したものとしている。
【００５３】したがって、上記二酸化炭素流体との混合
置換の作用が、より有効に発揮されるようになる。
置換の作用が、より有効に発揮されるようになる。
【００５４】（実施の形態３）図３は、例えば洗浄流体
として二酸化炭素（ＣＯ2）を採用し、アルコール等所
定の液体溶媒と併用して洗浄を行うようにした本願発明
の実施の形態３に係る超臨界流体洗浄装置の構成を示し
ている。
として二酸化炭素（ＣＯ2）を採用し、アルコール等所
定の液体溶媒と併用して洗浄を行うようにした本願発明
の実施の形態３に係る超臨界流体洗浄装置の構成を示し
ている。
【００５５】この実施の形態の超臨界流体洗浄装置も、
上記実施の形態１，２のものと同様に所定の洗浄処理チ
ャンバー内で、洗浄流体である二酸化炭素（ＣＯ2）が
全く液相状態を経ることなく、気体→超臨界流体→気体
の相変化を伴って所定の被洗浄物の洗浄を行うことがで
きるようにしたこものである。
上記実施の形態１，２のものと同様に所定の洗浄処理チ
ャンバー内で、洗浄流体である二酸化炭素（ＣＯ2）が
全く液相状態を経ることなく、気体→超臨界流体→気体
の相変化を伴って所定の被洗浄物の洗浄を行うことがで
きるようにしたこものである。
【００５６】ただし、この実施の形態のものは、特に上
記実施の形態２のものと同様の液体溶媒を採用した構成
において、さらに図３に示すように、洗浄処理チャンバ
ー１４の底部寄り側溶媒供給配管Ｌ2と流体排出配管Ｌ3
の圧力調節バルブ９上流側との間に、上記洗浄処理チャ
ンバー１４の洗浄処理空間１６内底部を上記流体排出配
管Ｌ3側にバイパスさせた混合流体排出用バイパス配管
Ｌ4が連通状態で設けられている。そして、同混合流体
排出用バイパス配管Ｌ4の途中には混合流体開閉バルブ
１３が設けられ、また上記流体排出配管Ｌ3の該混合流
体排出用バイパス配管Ｌ4との接続部より上流側には、
排出流体開閉バルブ１１が設けられている。
記実施の形態２のものと同様の液体溶媒を採用した構成
において、さらに図３に示すように、洗浄処理チャンバ
ー１４の底部寄り側溶媒供給配管Ｌ2と流体排出配管Ｌ3
の圧力調節バルブ９上流側との間に、上記洗浄処理チャ
ンバー１４の洗浄処理空間１６内底部を上記流体排出配
管Ｌ3側にバイパスさせた混合流体排出用バイパス配管
Ｌ4が連通状態で設けられている。そして、同混合流体
排出用バイパス配管Ｌ4の途中には混合流体開閉バルブ
１３が設けられ、また上記流体排出配管Ｌ3の該混合流
体排出用バイパス配管Ｌ4との接続部より上流側には、
排出流体開閉バルブ１１が設けられている。
【００５７】そして、これら各開閉バルブ１１，１３の
内、排出流体開閉バルブ１１は、例えば洗浄工程初期の
上記洗浄処理チャンバー１４内の空気排出時に開かれて
空気および水分と置換された二酸化炭素流体を効率良く
排出させる一方、混合流体開閉バルブ１３は、その後、
同排出流体開閉バルブ１１を閉じて、溶媒開閉バルブ１
２が閉じられた状態において、上記洗浄処理チャンバー
１４内洗浄処理空間１６底部の液体側溶媒と混合置換し
た二酸化炭素流体を効率良く排出させる。
内、排出流体開閉バルブ１１は、例えば洗浄工程初期の
上記洗浄処理チャンバー１４内の空気排出時に開かれて
空気および水分と置換された二酸化炭素流体を効率良く
排出させる一方、混合流体開閉バルブ１３は、その後、
同排出流体開閉バルブ１１を閉じて、溶媒開閉バルブ１
２が閉じられた状態において、上記洗浄処理チャンバー
１４内洗浄処理空間１６底部の液体側溶媒と混合置換し
た二酸化炭素流体を効率良く排出させる。
【００５８】この結果、底部側液体溶媒Ｂの確実な排出
が可能となり、洗浄乾燥効果が大きく向上する。
が可能となり、洗浄乾燥効果が大きく向上する。
【図１】本願発明の実施の形態１に係る超臨界流体洗浄
装置の構成を示す図である。
装置の構成を示す図である。
【図２】本願発明の実施の形態２に係る超臨界流体洗浄
装置の構成を示す図である。
装置の構成を示す図である。
【図３】本願発明の実施の形態３に係る超臨界流体洗浄
装置の構成を示す図である。
装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
１は二酸化炭素ボンベ、２は流体加圧ポンプ、３は流体
温度調節手段、４は被洗浄物、５は溶媒供給ポンプ、６
は溶媒タンク、７は廃液等収納容器、８は圧力センサ、
９は圧力調節バルブ、１０は流体開閉バルブ、１１は排
出流体開閉バルブ、１２は溶媒開閉バルブ、１３は混合
流体開閉バルブ、１４は洗浄処理チャンバー、１４ａは
内容器、１４ｂは外カバー、１４ｃはチャンバー温度調
整手段、１５は蓋、Ｌ1は流体供給配管、Ｌ2は溶媒供給
配管、Ｌ3は流体排出配管、Ｌ4は混合流体排出配管であ
る。
温度調節手段、４は被洗浄物、５は溶媒供給ポンプ、６
は溶媒タンク、７は廃液等収納容器、８は圧力センサ、
９は圧力調節バルブ、１０は流体開閉バルブ、１１は排
出流体開閉バルブ、１２は溶媒開閉バルブ、１３は混合
流体開閉バルブ、１４は洗浄処理チャンバー、１４ａは
内容器、１４ｂは外カバー、１４ｃはチャンバー温度調
整手段、１５は蓋、Ｌ1は流体供給配管、Ｌ2は溶媒供給
配管、Ｌ3は流体排出配管、Ｌ4は混合流体排出配管であ
る。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 角陸 悟
香川県高松市林町2217番地２ 隆祥産業株
式会社研究情報センター内
Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB03 BB02 BB82 BB90
BB95
Claims (4)
- 【請求項１】 洗浄処理チャンバーと、該洗浄処理チャ
ンバーの上流側にあって、流体加圧手段を介して洗浄流
体を供給する洗浄流体供給手段と、上記洗浄処理チャン
バーの下流側にあって、流体圧力調整手段を介して流体
圧力を調整しながら不要物を排出する流体排出手段と、
上記洗浄処理チャンバー内を超臨界状態に維持すること
によって、当該洗浄処理チャンバー内の被洗浄物の洗浄
処理を行うようにしてなる超臨界流体洗浄装置におい
て、上記洗浄流体供給手段の上記加圧手段と洗浄処理チ
ャンバーとの間の流体供給系路に、供給される洗浄流体
の温度を調節する流体温度調整手段を設け、上記洗浄処
理チャンバー内で、上記洗浄流体が、液相状態を経るこ
となく気体から超臨界流体に、そして気体へと相変化し
て被洗浄物の洗浄を行うようにしたことを特徴とする超
臨界流体洗浄装置。 - 【請求項２】 洗浄処理チャンバーと、該洗浄処理チャ
ンバーの上流側にあって、流体加圧手段を介して洗浄流
体を供給する洗浄流体供給手段と、上記洗浄処理チャン
バーの下流側にあって、流体圧力調整手段を介して流体
圧力を調整しながら不要物を排出する流体排出手段と、
上記洗浄処理チャンバー内に液体溶媒を供給する溶媒供
給手段とを備え、上記洗浄処理チャンバー内を超臨界状
態に維持することによって、当該洗浄処理チャンバー内
の被洗浄物の洗浄処理を行うようにしてなる超臨界流体
洗浄装置において、上記洗浄流体供給手段の上記加圧手
段と洗浄処理チャンバーとの間の流体供給系路に、供給
される洗浄流体の温度を調節する流体温度調整手段を設
け、上記圧力調整手段と該流体温度調整手段とにより、
上記洗浄処理チャンバー内の上記洗浄流体の密度を上記
液体溶媒の密度と略等しくし、上記液体溶媒を上記洗浄
流体に置換することにより、上記被洗浄物の洗浄を行う
ようにしたことを特徴とする超臨界流体洗浄装置。 - 【請求項３】 上記液体溶媒は、上記洗浄流体との親和
性が高く、かつ液体密度が上記洗浄流体の調節可能な密
度範囲に対応したものであることを特徴とする請求項２
記載の超臨界流体洗浄装置。 - 【請求項４】 上記洗浄処理チャンバーの下部側からも
上記洗浄流体排出手段下流側への流体排出流路を設けた
ことを特徴とする請求項２又は３記載の超臨界流体洗浄
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001370046A JP3978025B2 (ja) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | 超臨界流体洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001370046A JP3978025B2 (ja) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | 超臨界流体洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003173997A true JP2003173997A (ja) | 2003-06-20 |
| JP3978025B2 JP3978025B2 (ja) | 2007-09-19 |
Family
ID=19179340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001370046A Expired - Fee Related JP3978025B2 (ja) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | 超臨界流体洗浄装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3978025B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005010954A1 (en) * | 2003-07-22 | 2005-02-03 | Blue29 Corporation | Multi-staged heating system for fabricating microelectronic devices |
| JP2007152195A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-21 | Ryusyo Industrial Co Ltd | 超臨界流体洗浄装置 |
| WO2007083791A1 (ja) * | 2006-01-23 | 2007-07-26 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | リフトオフ加工方法及びリフトオフ加工装置 |
| KR100948680B1 (ko) | 2007-11-23 | 2010-03-18 | 세메스 주식회사 | 열평형 순환 장치 |
| WO2021199565A1 (ja) * | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
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|---|---|---|---|---|
| JPH03127832A (ja) * | 1989-10-13 | 1991-05-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法及び乾燥装置 |
| JP2001121094A (ja) * | 1999-10-27 | 2001-05-08 | Sharp Corp | 電子写真感光体用導電性基体の洗浄方法および洗浄装置ならびに電子写真感光体の製造方法 |
| JP2001176837A (ja) * | 1999-12-17 | 2001-06-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 超臨界乾燥方法および装置 |
-
2001
- 2001-12-04 JP JP2001370046A patent/JP3978025B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2007152195A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-21 | Ryusyo Industrial Co Ltd | 超臨界流体洗浄装置 |
| JP4649322B2 (ja) * | 2005-12-02 | 2011-03-09 | 株式会社レクザム | 超臨界流体洗浄装置 |
| WO2007083791A1 (ja) * | 2006-01-23 | 2007-07-26 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | リフトオフ加工方法及びリフトオフ加工装置 |
| JP2007221096A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-30 | Ryusyo Industrial Co Ltd | リフトオフ加工方法およびリフトオフ加工装置 |
| KR100948680B1 (ko) | 2007-11-23 | 2010-03-18 | 세메스 주식회사 | 열평형 순환 장치 |
| WO2021199565A1 (ja) * | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
| JP2021158295A (ja) * | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理方法 |
| TWI757077B (zh) * | 2020-03-30 | 2022-03-01 | 日商斯庫林集團股份有限公司 | 基板處理方法及基板處理裝置 |
| JP7353227B2 (ja) | 2020-03-30 | 2023-09-29 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3978025B2 (ja) | 2007-09-19 |
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