JP2003151968A - 薄膜形成装置、フィルム供給機構、フィルム収容カセット、搬送機構および搬送方法 - Google Patents
薄膜形成装置、フィルム供給機構、フィルム収容カセット、搬送機構および搬送方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 シートフィルムを用いた基板への薄膜形成を
効率良く行うことができる、コンパクトな薄膜形成装置
を提供する。 【解決手段】 プロセス部ＰＰにおいて、センターロボ
ット２がシートフィルムＦおよび／または基板Ｗを塗布
ユニット３、乾燥ユニット４、転写ユニット５およびフ
ィルム供給ユニット７の間で搬送し、シートフィルムＦ
を用いた基板Ｗへの薄膜形成を行うように構成している
ので、オペレータを介することなく、シートフィルムＦ
を用いた薄膜形成が可能となっている。また、フィルム
供給ユニット７をプロセス部ＰＰに設けてシートフィル
ムＦをプロセス部ＰＰに直接的に供給しているので、シ
ートフィルムＦの搬送効率を高めることができ、装置の
スループットを向上させることができる。
効率良く行うことができる、コンパクトな薄膜形成装置
を提供する。 【解決手段】 プロセス部ＰＰにおいて、センターロボ
ット２がシートフィルムＦおよび／または基板Ｗを塗布
ユニット３、乾燥ユニット４、転写ユニット５およびフ
ィルム供給ユニット７の間で搬送し、シートフィルムＦ
を用いた基板Ｗへの薄膜形成を行うように構成している
ので、オペレータを介することなく、シートフィルムＦ
を用いた薄膜形成が可能となっている。また、フィルム
供給ユニット７をプロセス部ＰＰに設けてシートフィル
ムＦをプロセス部ＰＰに直接的に供給しているので、シ
ートフィルムＦの搬送効率を高めることができ、装置の
スループットを向上させることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、シートフィルム
を用いて基板に薄膜を形成する薄膜形成装置、その装置
に使用可能なフィルム供給機構、フィルム収容カセッ
ト、搬送機構および搬送方法に関するものである。
を用いて基板に薄膜を形成する薄膜形成装置、その装置
に使用可能なフィルム供給機構、フィルム収容カセッ
ト、搬送機構および搬送方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＬＳＩの製造に用いるウエハの大
口径化や液晶パネルなどの大面積化に伴い、大面積に適
合した薄膜形成方法が必要となってきた。また、ＬＳＩ
製造技術における多層配線技術の分野においては、多層
配線を実現するために絶縁膜の表面を高い精度で平坦化
する必要があり、大面積化に加えて、薄膜形成における
表面の平坦化技術への要求も高まってきている。そこ
で、これらの要求を満足すべく、加圧転写方法によって
基板に薄膜を形成する薄膜形成技術が提案されている。
口径化や液晶パネルなどの大面積化に伴い、大面積に適
合した薄膜形成方法が必要となってきた。また、ＬＳＩ
製造技術における多層配線技術の分野においては、多層
配線を実現するために絶縁膜の表面を高い精度で平坦化
する必要があり、大面積化に加えて、薄膜形成における
表面の平坦化技術への要求も高まってきている。そこ
で、これらの要求を満足すべく、加圧転写方法によって
基板に薄膜を形成する薄膜形成技術が提案されている。
【０００３】この薄膜形成装置としては、例えば特開２
００１−１３５６３４号公報に記載された装置がある。
この装置では、図１８に示す薄膜形成手順で基板への薄
膜形成を行っている。まず、同図（ａ）に示すように、
半導体ウエハや液晶パネル用ガラス基板などの基板Ｗの
表面に形成された電極配線１１１が上を向くように試料
台に載置する。ここでは、電極配線１１１が形成された
表面１１２が以下に説明する手順で薄膜を形成すべき薄
膜形成面となっている。
００１−１３５６３４号公報に記載された装置がある。
この装置では、図１８に示す薄膜形成手順で基板への薄
膜形成を行っている。まず、同図（ａ）に示すように、
半導体ウエハや液晶パネル用ガラス基板などの基板Ｗの
表面に形成された電極配線１１１が上を向くように試料
台に載置する。ここでは、電極配線１１１が形成された
表面１１２が以下に説明する手順で薄膜を形成すべき薄
膜形成面となっている。
【０００４】次に、同図（ｂ）に示すように、試料台の
上方に対向配置された転写板に、その表面に絶縁膜１２
１が予め形成されたシートフィルムＦを装着する。ここ
では、絶縁膜１２１が基板Ｗに転写すべき薄膜であり、
この絶縁膜１２１が試料台に載置された基板Ｗの薄膜形
成面１１２に対向配置されている。そして、試料台を転
写板に向かって移動させ、基板ＷとシートフィルムＦと
を相互に当接させた後、さらに一定時間、同図（ｂ）中
の矢印で示すように相互に加重を加えるとともに、基板
Ｗが所定の温度となるように加熱する。こうすること
で、絶縁膜１２１を挟んでシートフィルムＦと基板Ｗと
が密着して密着物が形成される。
上方に対向配置された転写板に、その表面に絶縁膜１２
１が予め形成されたシートフィルムＦを装着する。ここ
では、絶縁膜１２１が基板Ｗに転写すべき薄膜であり、
この絶縁膜１２１が試料台に載置された基板Ｗの薄膜形
成面１１２に対向配置されている。そして、試料台を転
写板に向かって移動させ、基板ＷとシートフィルムＦと
を相互に当接させた後、さらに一定時間、同図（ｂ）中
の矢印で示すように相互に加重を加えるとともに、基板
Ｗが所定の温度となるように加熱する。こうすること
で、絶縁膜１２１を挟んでシートフィルムＦと基板Ｗと
が密着して密着物が形成される。
【０００５】こうして形成された密着物を薄膜形成室か
ら取り出し、同図（ｃ）に示すようにシートフィルムＦ
を剥離することによって、同図（ｄ）に示すような絶縁
膜１２１が形成された基板Ｗを得る。
ら取り出し、同図（ｃ）に示すようにシートフィルムＦ
を剥離することによって、同図（ｄ）に示すような絶縁
膜１２１が形成された基板Ｗを得る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した装
置によって薄膜形成を行うためには、転写処理前の基板
を基板用カセットから取り出して試料台に載置させる一
方、未使用のシートフィルムＦをフィルム用カセットか
ら取り出し、塗布装置によってそのシートフィルムＦの
表面に絶縁膜１２１を塗布形成した後、該シートフィル
ムＦを薄膜形成装置の転写台に載置する必要がある。ま
た、転写処理後においては薄膜転写された密着物（絶縁
膜１２１を介して基板ＷとシートフィルムＦとを貼り合
わせたもの）を薄膜形成装置から取り出し、その剥離装
置によって密着物からシートフィルムＦのみを剥離させ
る必要がある。このように各装置の間でシートフィルム
Ｆおよび／または基板Ｗを搬送するのであるが、従来で
は、シートフィルムＦや基板Ｗの搬送をオペレータの手
作業で行っていた。このため、処理効率が悪く、このこ
とがスループット低下の主要因の一つとなっており、効
率的なシートフィルム供給やハンドリング（保持・搬
送）技術が強く要望されていた。
置によって薄膜形成を行うためには、転写処理前の基板
を基板用カセットから取り出して試料台に載置させる一
方、未使用のシートフィルムＦをフィルム用カセットか
ら取り出し、塗布装置によってそのシートフィルムＦの
表面に絶縁膜１２１を塗布形成した後、該シートフィル
ムＦを薄膜形成装置の転写台に載置する必要がある。ま
た、転写処理後においては薄膜転写された密着物（絶縁
膜１２１を介して基板ＷとシートフィルムＦとを貼り合
わせたもの）を薄膜形成装置から取り出し、その剥離装
置によって密着物からシートフィルムＦのみを剥離させ
る必要がある。このように各装置の間でシートフィルム
Ｆおよび／または基板Ｗを搬送するのであるが、従来で
は、シートフィルムＦや基板Ｗの搬送をオペレータの手
作業で行っていた。このため、処理効率が悪く、このこ
とがスループット低下の主要因の一つとなっており、効
率的なシートフィルム供給やハンドリング（保持・搬
送）技術が強く要望されていた。
【０００７】また、シートフィルムの搬送に人手が介在
すると、シートフィルムにパーティクルが付着したり、
シートフィルムの熱が放熱されて熱履歴を管理し難くな
るという問題が生じて薄膜品質の低下、さらには製品歩
留りの低下を招いてしまう。さらに、装置を設置するの
に広い床面積が必要になるという問題点もある。これら
の問題を解消するためには、シートフィルム搬送の自動
化が不可欠であるが、従来、この自動化に適したハンド
リング技術は存在していなかった。
すると、シートフィルムにパーティクルが付着したり、
シートフィルムの熱が放熱されて熱履歴を管理し難くな
るという問題が生じて薄膜品質の低下、さらには製品歩
留りの低下を招いてしまう。さらに、装置を設置するの
に広い床面積が必要になるという問題点もある。これら
の問題を解消するためには、シートフィルム搬送の自動
化が不可欠であるが、従来、この自動化に適したハンド
リング技術は存在していなかった。
【０００８】この発明は上記課題に鑑みなされたもので
あり、シートフィルムを用いた基板への薄膜形成を効率
良く行うことができる、コンパクトな薄膜形成装置を提
供することを第１の目的とする。
あり、シートフィルムを用いた基板への薄膜形成を効率
良く行うことができる、コンパクトな薄膜形成装置を提
供することを第１の目的とする。
【０００９】また、この発明は、シートフィルムを用い
て基板に薄膜を形成する薄膜形成装置において、シート
フィルムをオペレータを介することなく効率良く供給す
ることができるフィルム供給機構およびフィルム収容カ
セットを提供することを第２の目的とする。
て基板に薄膜を形成する薄膜形成装置において、シート
フィルムをオペレータを介することなく効率良く供給す
ることができるフィルム供給機構およびフィルム収容カ
セットを提供することを第２の目的とする。
【００１０】また、この発明は、シートフィルムを用い
て薄膜を形成する薄膜形成装置において基板やシートフ
ィルムを効率良く搬送することができる搬送機構および
搬送方法を提供することを第３の目的とする。
て薄膜を形成する薄膜形成装置において基板やシートフ
ィルムを効率良く搬送することができる搬送機構および
搬送方法を提供することを第３の目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この発明は、シートフィ
ルムを用いて基板に薄膜を形成するプロセス部と、プロ
セス部に基板を供給するインデクサ部とを備えた薄膜形
成装置であって、上記第１の目的を達成するため、プロ
セス部は、シートフィルムを供給するフィルム供給手段
と、フィルム供給手段から供給されるシートフィルムの
表面に薄膜用塗布液を塗布して薄膜を形成する塗布手段
と、薄膜が形成されたシートフィルムと、インデクサ部
から供給された基板とを密着させて密着物を形成して薄
膜を基板に転写する転写手段と、密着物からシートフィ
ルムを剥離する剥離手段と、フィルム供給手段、塗布手
段、転写手段および剥離手段の間でシートフィルムおよ
び／または基板を搬送する搬送手段とを備えている（請
求項１）。
ルムを用いて基板に薄膜を形成するプロセス部と、プロ
セス部に基板を供給するインデクサ部とを備えた薄膜形
成装置であって、上記第１の目的を達成するため、プロ
セス部は、シートフィルムを供給するフィルム供給手段
と、フィルム供給手段から供給されるシートフィルムの
表面に薄膜用塗布液を塗布して薄膜を形成する塗布手段
と、薄膜が形成されたシートフィルムと、インデクサ部
から供給された基板とを密着させて密着物を形成して薄
膜を基板に転写する転写手段と、密着物からシートフィ
ルムを剥離する剥離手段と、フィルム供給手段、塗布手
段、転写手段および剥離手段の間でシートフィルムおよ
び／または基板を搬送する搬送手段とを備えている（請
求項１）。
【００１２】このように構成された発明では、インデク
サ部からプロセス部に対して基板が供給される一方、プ
ロセス部に設けられたフィルム供給手段からシートフィ
ルムが搬送手段によって供給される。そして、プロセス
部において、シートフィルムおよび／または基板が搬送
手段によって塗布手段、転写手段および剥離手段の間で
搬送されてシートフィルムを用いた基板への薄膜形成が
行われる。すなわち、シートフィルムが塗布手段に搬送
され、シートフィルムの表面に薄膜が形成された後、転
写手段に搬送される。この転写手段には、シートフィル
ムのほか基板が搬送され、基板への薄膜の転写が行われ
る。そして、最後に剥離手段によってシートフィルムが
剥離されて基板への薄膜形成が完了する。このように、
この発明では、オペレータを介することなく、シートフ
ィルムを用いた薄膜形成が可能となっている。また、こ
の発明では、フィルム供給手段がプロセス部に設けられ
ており、シートフィルムがプロセス部に直接的に供給さ
れるので、搬送効率が高まり、スループットの向上が可
能となる。
サ部からプロセス部に対して基板が供給される一方、プ
ロセス部に設けられたフィルム供給手段からシートフィ
ルムが搬送手段によって供給される。そして、プロセス
部において、シートフィルムおよび／または基板が搬送
手段によって塗布手段、転写手段および剥離手段の間で
搬送されてシートフィルムを用いた基板への薄膜形成が
行われる。すなわち、シートフィルムが塗布手段に搬送
され、シートフィルムの表面に薄膜が形成された後、転
写手段に搬送される。この転写手段には、シートフィル
ムのほか基板が搬送され、基板への薄膜の転写が行われ
る。そして、最後に剥離手段によってシートフィルムが
剥離されて基板への薄膜形成が完了する。このように、
この発明では、オペレータを介することなく、シートフ
ィルムを用いた薄膜形成が可能となっている。また、こ
の発明では、フィルム供給手段がプロセス部に設けられ
ており、シートフィルムがプロセス部に直接的に供給さ
れるので、搬送効率が高まり、スループットの向上が可
能となる。
【００１３】ここで、プロセス部におけるフィルム供給
手段、塗布手段、転写手段および剥離手段の配設レイア
ウトは任意であり、例えば上記処理手段（フィルム供給
手段、塗布手段、転写手段および剥離手段）を搬送手段
の周囲に配設したり（請求項２）、上記処理手段を搬送
手段の搬送経路に沿って搬送経路の両側や片側に配設す
る（請求項３，４）ことができる。これらの配設レイア
ウトのうち上記処理手段を搬送手段の周囲に配設する
と、搬送経路を設ける必要がなくなり、装置がよりコン
パクトとなる。
手段、塗布手段、転写手段および剥離手段の配設レイア
ウトは任意であり、例えば上記処理手段（フィルム供給
手段、塗布手段、転写手段および剥離手段）を搬送手段
の周囲に配設したり（請求項２）、上記処理手段を搬送
手段の搬送経路に沿って搬送経路の両側や片側に配設す
る（請求項３，４）ことができる。これらの配設レイア
ウトのうち上記処理手段を搬送手段の周囲に配設する
と、搬送経路を設ける必要がなくなり、装置がよりコン
パクトとなる。
【００１４】また、基板を搬送するために搬送手段に基
板用保持部を設けることがあるが、この基板用保持部
を、ハンド本体と、ハンド本体の上面側で基板を保持す
る上方側保持機構と、ハンド本体の下面側で基板を保持
する下方側保持機構とで構成してもよい。この場合、搬
送手段は基板を２つの保持態様で保持しながら基板を搬
送することが可能となり、基板の状態に応じて保持態様
を切替えることができ、その基板の状態に適応し、しか
も効率的に基板搬送を行うことが可能となる（請求項
５）。
板用保持部を設けることがあるが、この基板用保持部
を、ハンド本体と、ハンド本体の上面側で基板を保持す
る上方側保持機構と、ハンド本体の下面側で基板を保持
する下方側保持機構とで構成してもよい。この場合、搬
送手段は基板を２つの保持態様で保持しながら基板を搬
送することが可能となり、基板の状態に応じて保持態様
を切替えることができ、その基板の状態に適応し、しか
も効率的に基板搬送を行うことが可能となる（請求項
５）。
【００１５】また、シートフィルムの表面に塗布された
薄膜用塗布液を乾燥させるために乾燥手段をさらに設け
る場合、その乾燥手段を塗布手段、転写手段および剥離
手段のうちの一に対して上下方向に重ね合わせて配置す
るのが望ましい。このように乾燥手段を配設すること
で、装置を設置するために必要となる占有床面積、つま
りフットプリントの低減が可能となる（請求項６）。
薄膜用塗布液を乾燥させるために乾燥手段をさらに設け
る場合、その乾燥手段を塗布手段、転写手段および剥離
手段のうちの一に対して上下方向に重ね合わせて配置す
るのが望ましい。このように乾燥手段を配設すること
で、装置を設置するために必要となる占有床面積、つま
りフットプリントの低減が可能となる（請求項６）。
【００１６】ここで、転写手段が次のように構成されて
いる場合には、上下方向における転写手段のサイズを小
型化することができるため、装置のコンパクト化を図る
上で乾燥手段を該転写手段と上下方向に重ね合わせて配
置するのが望ましい（請求項７）。すなわち、このよう
な要望を満足する転写手段は、上下方向に沿って互いに
相対移動自在に対向して配設され、いずれか一方のプレ
ートの対向面に基板が装着されるとともに、薄膜を有す
るシートフィルムが他方のプレートの対向面に装着され
る第１および第２プレートと、第１および第２プレート
うちの少なくとも一方を移動方向に沿って他方側に移動
させて基板とシートフィルムを所定の時間押し付けて薄
膜を基板に転写する加重機構と、以下の第１および第２
支持体を有し、第１プレートを移動方向に対して傾斜自
在に保持し、第２プレートに対する相対的な傾きを自動
的に補正する傾斜補正機構とを備えており、乾燥手段を
転写手段と上下方向に重ね合わせて配置している。な
お、第１支持体は、第１プレートの外周を取り囲むよう
に配設され、移動方向に対してほぼ直交する第１方向に
延びる第１回動軸を中心として第１プレートを回動自在
に支持する一方、第２支持体は、第１支持体の外周に配
設され、移動方向および第１方向に対してほぼ直交する
第２方向に延びる第２回動軸を中心として第１支持体を
回動自在に支持する。
いる場合には、上下方向における転写手段のサイズを小
型化することができるため、装置のコンパクト化を図る
上で乾燥手段を該転写手段と上下方向に重ね合わせて配
置するのが望ましい（請求項７）。すなわち、このよう
な要望を満足する転写手段は、上下方向に沿って互いに
相対移動自在に対向して配設され、いずれか一方のプレ
ートの対向面に基板が装着されるとともに、薄膜を有す
るシートフィルムが他方のプレートの対向面に装着され
る第１および第２プレートと、第１および第２プレート
うちの少なくとも一方を移動方向に沿って他方側に移動
させて基板とシートフィルムを所定の時間押し付けて薄
膜を基板に転写する加重機構と、以下の第１および第２
支持体を有し、第１プレートを移動方向に対して傾斜自
在に保持し、第２プレートに対する相対的な傾きを自動
的に補正する傾斜補正機構とを備えており、乾燥手段を
転写手段と上下方向に重ね合わせて配置している。な
お、第１支持体は、第１プレートの外周を取り囲むよう
に配設され、移動方向に対してほぼ直交する第１方向に
延びる第１回動軸を中心として第１プレートを回動自在
に支持する一方、第２支持体は、第１支持体の外周に配
設され、移動方向および第１方向に対してほぼ直交する
第２方向に延びる第２回動軸を中心として第１支持体を
回動自在に支持する。
【００１７】この発明は、シートフィルムを用いて基板
に薄膜を形成する薄膜形成装置に用いられる、シートフ
ィルムを供給するフィルム供給機構であって、上記第２
の目的を達成するため、シートフィルムの間に離形シー
トを介在させた状態でシートフィルムを収容するフィル
ム収容カセットと、フィルム収容カセットにおいて最上
部に位置する離形シートをフィルム収容カセットから取
り除くことによって、フィルム収容カセットにおいて最
上部にシートフィルムを位置させる離形シート除去手段
とを備えている（請求項８）。
に薄膜を形成する薄膜形成装置に用いられる、シートフ
ィルムを供給するフィルム供給機構であって、上記第２
の目的を達成するため、シートフィルムの間に離形シー
トを介在させた状態でシートフィルムを収容するフィル
ム収容カセットと、フィルム収容カセットにおいて最上
部に位置する離形シートをフィルム収容カセットから取
り除くことによって、フィルム収容カセットにおいて最
上部にシートフィルムを位置させる離形シート除去手段
とを備えている（請求項８）。
【００１８】このように構成された発明では、シートフ
ィルムの間に離形シートを介在させた状態で複数のシー
トフィルムがフィルム収容カセットに収容されている。
そして、フィルム収容カセットにおいて離形シートが最
上部に位置することで、シートフィルムの汚染が効果的
に防止される。一方、その最上部の離形シートが離形シ
ート除去手段によってフィルム収容カセットから取り除
かれると、フィルム収容カセットにおいて最上部にシー
トフィルムが位置することとなり、フィルム収容カセッ
トからのシートフィルムの取り出しが可能となる。この
ように、オペレータを介することなく、必要に応じてシ
ートフィルムの供給が可能となり、効率的にシートフィ
ルムが供給される。
ィルムの間に離形シートを介在させた状態で複数のシー
トフィルムがフィルム収容カセットに収容されている。
そして、フィルム収容カセットにおいて離形シートが最
上部に位置することで、シートフィルムの汚染が効果的
に防止される。一方、その最上部の離形シートが離形シ
ート除去手段によってフィルム収容カセットから取り除
かれると、フィルム収容カセットにおいて最上部にシー
トフィルムが位置することとなり、フィルム収容カセッ
トからのシートフィルムの取り出しが可能となる。この
ように、オペレータを介することなく、必要に応じてシ
ートフィルムの供給が可能となり、効率的にシートフィ
ルムが供給される。
【００１９】ここで、収容されているシートフィルムを
保護するための保護カバーをフィルム収容カセットに開
閉自在に設けるとともに、保護カバーを開閉するカバー
開閉手段をさらに設けるようにしてもよい。こうするこ
とで、保護カバーによってシートフィルムの汚染がより
確実に防止される（請求項９）。
保護するための保護カバーをフィルム収容カセットに開
閉自在に設けるとともに、保護カバーを開閉するカバー
開閉手段をさらに設けるようにしてもよい。こうするこ
とで、保護カバーによってシートフィルムの汚染がより
確実に防止される（請求項９）。
【００２０】また、フィルム収容カセットから取り除か
れた離形シートを回収する離形シート回収手段をさらに
設けることで、離形シートが確実に回収され、フィルム
収容カセット周囲への離形シートの散乱が防止される
（請求項１０）。
れた離形シートを回収する離形シート回収手段をさらに
設けることで、離形シートが確実に回収され、フィルム
収容カセット周囲への離形シートの散乱が防止される
（請求項１０）。
【００２１】この発明は、基板に薄膜を形成する薄膜形
成装置に用いられるシートフィルムを収容するフィルム
収容カセットであって、上記第２の目的を達成するた
め、シートフィルムの間に離形シートを介在させた状態
で複数のシートフィルムを収容可能となっているカセッ
ト本体と、カセット本体に収容されたシートフィルムお
よび離形シートの周縁部と係合してシートフィルムおよ
び離形シートをカセット本体に対して位置決めする位置
決め部材とを備えている（請求項１１）。
成装置に用いられるシートフィルムを収容するフィルム
収容カセットであって、上記第２の目的を達成するた
め、シートフィルムの間に離形シートを介在させた状態
で複数のシートフィルムを収容可能となっているカセッ
ト本体と、カセット本体に収容されたシートフィルムお
よび離形シートの周縁部と係合してシートフィルムおよ
び離形シートをカセット本体に対して位置決めする位置
決め部材とを備えている（請求項１１）。
【００２２】このように構成されたフィルム収容カセッ
トでは、シートフィルムの間に離形シートを介在させた
状態で複数のシートフィルムがカセット本体に収容され
ている。そして、位置決め部材によってシートフィルム
および離形シートがカセット本体に対して位置決めされ
ており、これによってカセット本体からのシートフィル
ムの取り出し供給が確実なものとなっている。
トでは、シートフィルムの間に離形シートを介在させた
状態で複数のシートフィルムがカセット本体に収容され
ている。そして、位置決め部材によってシートフィルム
および離形シートがカセット本体に対して位置決めされ
ており、これによってカセット本体からのシートフィル
ムの取り出し供給が確実なものとなっている。
【００２３】また、カセット本体に対して保護カバーを
開閉自在に設けるようにしてもよく、この保護カバーを
閉じてカセット本体に収容されたシートフィルムおよび
離形シートを上方より覆って保護することができ、シー
トフィルムの汚染が確実に防止される（請求項１２）。
開閉自在に設けるようにしてもよく、この保護カバーを
閉じてカセット本体に収容されたシートフィルムおよび
離形シートを上方より覆って保護することができ、シー
トフィルムの汚染が確実に防止される（請求項１２）。
【００２４】さらに、上記のように構成されたフィルム
収容カセットを薄膜形成装置に対して着脱自在に構成す
ると、予めシートフィルムを収容しておいたフィルム収
容カセットを準備しておき、必要に応じてフィルム収容
カセットを装置に装着することでシートフィルムを補給
することができ、シートフィルムの供給がより効率的な
ものとなる（請求項１３）。
収容カセットを薄膜形成装置に対して着脱自在に構成す
ると、予めシートフィルムを収容しておいたフィルム収
容カセットを準備しておき、必要に応じてフィルム収容
カセットを装置に装着することでシートフィルムを補給
することができ、シートフィルムの供給がより効率的な
ものとなる（請求項１３）。
【００２５】また、この発明は、シートフィルムを用い
て薄膜を形成する薄膜形成装置に用いられる、シートフ
ィルムを搬送する搬送機構であって、上記第３の目的を
達成するため、シートフィルムと当接する当接領域に吸
着孔が設けられたフィルム用ハンドと、フィルム用ハン
ドの内部に形成された内部空間を介して吸着孔と連通さ
れ、内部空間の内部をブロア排気してシートフィルムを
フィルム用ハンドに吸着保持するブロアと、ブロアによ
りフィルム用ハンドにシートフィルムを吸着保持させた
状態まま、フィルム用ハンドを移動させてシートフィル
ムを搬送する駆動部とを備えている（請求項１４）。
て薄膜を形成する薄膜形成装置に用いられる、シートフ
ィルムを搬送する搬送機構であって、上記第３の目的を
達成するため、シートフィルムと当接する当接領域に吸
着孔が設けられたフィルム用ハンドと、フィルム用ハン
ドの内部に形成された内部空間を介して吸着孔と連通さ
れ、内部空間の内部をブロア排気してシートフィルムを
フィルム用ハンドに吸着保持するブロアと、ブロアによ
りフィルム用ハンドにシートフィルムを吸着保持させた
状態まま、フィルム用ハンドを移動させてシートフィル
ムを搬送する駆動部とを備えている（請求項１４）。
【００２６】このように構成された発明では、内部空間
内がブロア排気されることによってシートフィルムがフ
ィルム用ハンドの吸着孔に吸着保持される。そして、そ
の吸着保持状態でシートフィルムが搬送される。このよ
うにブロア排気により吸着保持する、つまり排気流量を
高めて吸着孔に負圧を与えているため、仮に吸着孔から
ブロアに至るまでの排気経路の一部でリークしたとして
も、リーク量に対応する量だけ負圧が減少するが、シー
トフィルムを吸着保持するのに十分な負圧を発生させる
ことは可能である。ここで、吸着保持する手段として、
従来より真空ポンプやアスピレータなどの真空吸着手段
により吸着孔に負圧を与えて真空吸着する方法も考えら
れるが、排気経路の一部にリーク部分が発生すると、吸
着孔に負圧がかからずシートフィルムすら真空吸着する
ことができなくなる。このように、ブロア排気による吸
着保持は基板に比べて非常に軽量なシートフィルムを吸
着保持するのに適したものであり、かかる構成を採用し
た搬送機構は優れた安定性でシートフィルムを搬送する
ことができ、効率的なシートフィルム搬送を行うことが
できる。
内がブロア排気されることによってシートフィルムがフ
ィルム用ハンドの吸着孔に吸着保持される。そして、そ
の吸着保持状態でシートフィルムが搬送される。このよ
うにブロア排気により吸着保持する、つまり排気流量を
高めて吸着孔に負圧を与えているため、仮に吸着孔から
ブロアに至るまでの排気経路の一部でリークしたとして
も、リーク量に対応する量だけ負圧が減少するが、シー
トフィルムを吸着保持するのに十分な負圧を発生させる
ことは可能である。ここで、吸着保持する手段として、
従来より真空ポンプやアスピレータなどの真空吸着手段
により吸着孔に負圧を与えて真空吸着する方法も考えら
れるが、排気経路の一部にリーク部分が発生すると、吸
着孔に負圧がかからずシートフィルムすら真空吸着する
ことができなくなる。このように、ブロア排気による吸
着保持は基板に比べて非常に軽量なシートフィルムを吸
着保持するのに適したものであり、かかる構成を採用し
た搬送機構は優れた安定性でシートフィルムを搬送する
ことができ、効率的なシートフィルム搬送を行うことが
できる。
【００２７】また、薄膜形成装置に用いる場合、シート
フィルムの表面のうち中央部に薄膜が形成され、その表
面周縁部には薄膜が形成されない、つまり表面露出させ
ていることが多い。このような場合、搬送機構によっ
て、フィルム用ハンドの当接領域を薄膜の非形成領域と
なる表面周縁部に当接させて吸着保持させるのが望まし
く、これによって薄膜への不純物の付着や膜厚均一性の
阻害が効果的に防止され、またフィルム用ハンドの汚染
が防止される（請求項１５）。
フィルムの表面のうち中央部に薄膜が形成され、その表
面周縁部には薄膜が形成されない、つまり表面露出させ
ていることが多い。このような場合、搬送機構によっ
て、フィルム用ハンドの当接領域を薄膜の非形成領域と
なる表面周縁部に当接させて吸着保持させるのが望まし
く、これによって薄膜への不純物の付着や膜厚均一性の
阻害が効果的に防止され、またフィルム用ハンドの汚染
が防止される（請求項１５）。
【００２８】また、この発明は、基板を保持しながら搬
送する搬送機構であって、上記第３の目的を達成するた
め、ハンド本体と、ハンド本体の上面側で基板を保持す
る上方側保持機構と、ハンド本体の下面側で基板を保持
する下方側保持機構と、ハンド本体を移動させて基板を
搬送する駆動部とを備えている（請求項１６）。
送する搬送機構であって、上記第３の目的を達成するた
め、ハンド本体と、ハンド本体の上面側で基板を保持す
る上方側保持機構と、ハンド本体の下面側で基板を保持
する下方側保持機構と、ハンド本体を移動させて基板を
搬送する駆動部とを備えている（請求項１６）。
【００２９】このように構成された発明では、搬送手段
は基板を２つの保持態様で保持しながら基板を搬送する
ことが可能となり、基板の状態に応じて保持態様を切替
えることができ、その基板の状態に適応し、しかも効率
的に基板搬送を行うことが可能となる。ここで、ハンド
本体の下面側に形成された吸着孔によって基板を吸着保
持するように下方側保持機構を構成したり（請求項１
７）、ハンド本体の上面側に設けられた基板支持部材に
より基板を支持して機械的に保持するように上方側保持
機構を構成してもよい（請求項１８）。
は基板を２つの保持態様で保持しながら基板を搬送する
ことが可能となり、基板の状態に応じて保持態様を切替
えることができ、その基板の状態に適応し、しかも効率
的に基板搬送を行うことが可能となる。ここで、ハンド
本体の下面側に形成された吸着孔によって基板を吸着保
持するように下方側保持機構を構成したり（請求項１
７）、ハンド本体の上面側に設けられた基板支持部材に
より基板を支持して機械的に保持するように上方側保持
機構を構成してもよい（請求項１８）。
【００３０】さらに、この発明は、上記第３の目的を達
成するため、ハンド本体の上面側で基板を保持して該基
板を搬送する第１搬送モードと、ハンド本体の下面側で
基板を保持して該基板を搬送する第２搬送モードとを有
し、基板の状態に応じて第１および第２搬送モードの一
方の搬送モードで基板を搬送している（請求項１９）。
このため、上記搬送機構と同様に、基板の状態に応じて
保持態様を切替えることができ、その基板の状態に適応
し、しかも効率的に基板搬送を行うことが可能となる。
成するため、ハンド本体の上面側で基板を保持して該基
板を搬送する第１搬送モードと、ハンド本体の下面側で
基板を保持して該基板を搬送する第２搬送モードとを有
し、基板の状態に応じて第１および第２搬送モードの一
方の搬送モードで基板を搬送している（請求項１９）。
このため、上記搬送機構と同様に、基板の状態に応じて
保持態様を切替えることができ、その基板の状態に適応
し、しかも効率的に基板搬送を行うことが可能となる。
【００３１】ところで、シートフィルムを用いて基板に
薄膜を形成する薄膜形成装置では、転写手段によってシ
ートフィルムの表面に形成された薄膜を基板の薄膜形成
面に転写して薄膜を介してシートフィルムと基板とが一
体化された密着物を形成した後、剥離手段によって密着
物からシートフィルムを剥離するものが知られている
が、この薄膜形成装置において基板を搬送するために、
上記搬送方法を適用してもよい。この装置では、基板や
薄膜へのダメージ付与を低減・防止するために、第２搬
送モードで密着物を転写手段から剥離手段に搬送する一
方、第１搬送モードで薄膜が形成された基板を剥離手段
から搬出するのが望ましい（請求項２０）。
薄膜を形成する薄膜形成装置では、転写手段によってシ
ートフィルムの表面に形成された薄膜を基板の薄膜形成
面に転写して薄膜を介してシートフィルムと基板とが一
体化された密着物を形成した後、剥離手段によって密着
物からシートフィルムを剥離するものが知られている
が、この薄膜形成装置において基板を搬送するために、
上記搬送方法を適用してもよい。この装置では、基板や
薄膜へのダメージ付与を低減・防止するために、第２搬
送モードで密着物を転写手段から剥離手段に搬送する一
方、第１搬送モードで薄膜が形成された基板を剥離手段
から搬出するのが望ましい（請求項２０）。
【００３２】
【発明の実施の形態】Ａ．装置レイアウト
図１は、この発明にかかる薄膜形成装置の一実施形態を
示すレイアウト図である。この薄膜形成装置では、図１
に示すように上手側(図１の左側)にインデクサ部ＩＤが
設けられる一方、インデクサ部ＩＤの下手側（図１の右
手側）にシートフィルムを用いて基板に薄膜を形成する
プロセス部ＰＰが設けられている。
示すレイアウト図である。この薄膜形成装置では、図１
に示すように上手側(図１の左側)にインデクサ部ＩＤが
設けられる一方、インデクサ部ＩＤの下手側（図１の右
手側）にシートフィルムを用いて基板に薄膜を形成する
プロセス部ＰＰが設けられている。
【００３３】このインデクサ部ＩＤでは、基板を収容す
るための基板収容カセット１１が４個Ｘ方向に一列で配
置されるとともに、その配列方向Ｘに沿って従来より多
用されている基板搬送ロボット１２が移動し、一の基板
収容カセット１１に収容されている薄膜形成前の基板を
取り出してプロセス部ＰＰに搬送したり、プロセス部Ｐ
Ｐから薄膜形成済の基板を受け取って基板収容カセット
１１に収容する。なお以下の説明便宜のために、各図に
は、上下方向Ｚと、基板収容カセット１１の配列方向Ｘ
とに直交する方向を「Ｙ方向」とするＸＹＺ直角座標軸
が示されている。
るための基板収容カセット１１が４個Ｘ方向に一列で配
置されるとともに、その配列方向Ｘに沿って従来より多
用されている基板搬送ロボット１２が移動し、一の基板
収容カセット１１に収容されている薄膜形成前の基板を
取り出してプロセス部ＰＰに搬送したり、プロセス部Ｐ
Ｐから薄膜形成済の基板を受け取って基板収容カセット
１１に収容する。なお以下の説明便宜のために、各図に
は、上下方向Ｚと、基板収容カセット１１の配列方向Ｘ
とに直交する方向を「Ｙ方向」とするＸＹＺ直角座標軸
が示されている。
【００３４】インデクサ部ＩＤの（＋Ｙ）側に配置され
たプロセス部ＰＰでは、センターロボット２の周囲に、
塗布ユニット３、乾燥ユニット４、転写ユニット５、剥
離ユニット６、フィルム供給ユニット７および反転ユニ
ット８が配設されている。この実施形態では、転写ユニ
ット５による転写処理を並行して行うために２台の転写
ユニット５が設けられている。また、後述するようにイ
ンデクサ部ＩＤから受け取った基板については、反転ユ
ニット８で反転させた後、いずれかの転写ユニット５に
搬送するため、プロセス部ＰＰのうちインデクサ部ＩＤ
に隣接する領域に２台の転写ユニット５により反転ユニ
ット８をサンドイッチするようにこれらがＸ方向に配列
されている。また、各転写ユニット５に対して重ね合わ
せるように乾燥ユニット４が配置されて装置のフットプ
リントの低減を図っている。また、プロセス部ＰＰのう
ちインデクサ部ＩＤの反対側には塗布ユニット３および
剥離ユニット６が配置されている。さらに、塗布ユニッ
ト３と転写ユニット５との間にシートフィルムを供給す
るフィルム供給ユニット７が介挿されている。このよう
に、プロセス部ＰＰではセンターロボット２を中心とし
て各処理ユニット３〜８が放射状に配置され、センター
ロボット２はプロセス部ＰＰのほぼ中央に固定されたま
ま次に説明するように、基板用ハンドを伸縮させて転写
ユニット５、剥離ユニット６および反転ユニット８の間
で基板を搬送することができる一方、フィルム用ハンド
を伸縮させて塗布ユニット３、乾燥ユニット４、転写ユ
ニット５およびフィルム供給ユニット７の間でシートフ
ィルムを搬送することが可能となっている。
たプロセス部ＰＰでは、センターロボット２の周囲に、
塗布ユニット３、乾燥ユニット４、転写ユニット５、剥
離ユニット６、フィルム供給ユニット７および反転ユニ
ット８が配設されている。この実施形態では、転写ユニ
ット５による転写処理を並行して行うために２台の転写
ユニット５が設けられている。また、後述するようにイ
ンデクサ部ＩＤから受け取った基板については、反転ユ
ニット８で反転させた後、いずれかの転写ユニット５に
搬送するため、プロセス部ＰＰのうちインデクサ部ＩＤ
に隣接する領域に２台の転写ユニット５により反転ユニ
ット８をサンドイッチするようにこれらがＸ方向に配列
されている。また、各転写ユニット５に対して重ね合わ
せるように乾燥ユニット４が配置されて装置のフットプ
リントの低減を図っている。また、プロセス部ＰＰのう
ちインデクサ部ＩＤの反対側には塗布ユニット３および
剥離ユニット６が配置されている。さらに、塗布ユニッ
ト３と転写ユニット５との間にシートフィルムを供給す
るフィルム供給ユニット７が介挿されている。このよう
に、プロセス部ＰＰではセンターロボット２を中心とし
て各処理ユニット３〜８が放射状に配置され、センター
ロボット２はプロセス部ＰＰのほぼ中央に固定されたま
ま次に説明するように、基板用ハンドを伸縮させて転写
ユニット５、剥離ユニット６および反転ユニット８の間
で基板を搬送することができる一方、フィルム用ハンド
を伸縮させて塗布ユニット３、乾燥ユニット４、転写ユ
ニット５およびフィルム供給ユニット７の間でシートフ
ィルムを搬送することが可能となっている。
【００３５】Ｂ．センターロボット（搬送機構）２
図２はセンターロボットを示す図であり、同図（ａ）は
上方より見た平面図であり、同図（ｂ）は側面図であ
る。このセンターロボット２は本発明にかかる搬送機構
に相当する多関節ロボットであり、ロボット本体２１
と、そのロボット本体２１の頂部に取り付けられた２本
の多関節アーム２２，２３とを備えている。このロボッ
ト本体２１はプロセス部ＰＰの中央部に固定配置された
状態で回転軸ＡＸ1回りに回転し、さらにＺ方向に伸縮
自在となっている。
上方より見た平面図であり、同図（ｂ）は側面図であ
る。このセンターロボット２は本発明にかかる搬送機構
に相当する多関節ロボットであり、ロボット本体２１
と、そのロボット本体２１の頂部に取り付けられた２本
の多関節アーム２２，２３とを備えている。このロボッ
ト本体２１はプロセス部ＰＰの中央部に固定配置された
状態で回転軸ＡＸ1回りに回転し、さらにＺ方向に伸縮
自在となっている。
【００３６】また、多関節アーム２２の先端部には基板
Ｗを保持するための基板保持部として機能する基板用ハ
ンド２４が取り付けられており、装置全体を制御する制
御ユニット（後で説明する図１２中の符号９）からの動
作指令にしたがって多関節アーム２２の伸縮駆動および
ロボット本体２１の回転軸ＡＸ1回りの回転およびＺ方
向駆動を制御することによって基板Ｗを各ユニット５，
６，８から搬出したり、逆に基板用ハンド２４で保持し
ている基板Ｗを各ユニット５，６，８に搬入する。この
ように、この実施形態では、ロボット本体２１および多
関節アーム２２が本発明の「基板用保持部」に相当する
基板用ハンド２４を移動させて基板Ｗを搬送する駆動部
として機能している。
Ｗを保持するための基板保持部として機能する基板用ハ
ンド２４が取り付けられており、装置全体を制御する制
御ユニット（後で説明する図１２中の符号９）からの動
作指令にしたがって多関節アーム２２の伸縮駆動および
ロボット本体２１の回転軸ＡＸ1回りの回転およびＺ方
向駆動を制御することによって基板Ｗを各ユニット５，
６，８から搬出したり、逆に基板用ハンド２４で保持し
ている基板Ｗを各ユニット５，６，８に搬入する。この
ように、この実施形態では、ロボット本体２１および多
関節アーム２２が本発明の「基板用保持部」に相当する
基板用ハンド２４を移動させて基板Ｗを搬送する駆動部
として機能している。
【００３７】図３は基板用ハンドの構成を示す図であ
り、同図（ａ）は基板用ハンドを上方より見た平面図で
あり、同図（ｂ）は同図（ａ）のＡ−Ａ線断面図であ
る。この基板用ハンド２４は、同図に示すように、上下
２枚のプレート２４１，２４２を重ね合わせてなるハン
ド本体２４３を備えている。このハンド本体２４３の先
端部と中央部には、ハンド本体２４３の長手方向とほぼ
直交する方向に延びるウイング部２４４が形成されてい
る。そして、各ウイング部２４４の上面部に基板支持ブ
ロック２４５が固着され、同図中の２点鎖線で示すよう
に、基板Ｗの外側面を係止することでハンド本体２４３
の上面側で基板Ｗを機械的に保持可能となっている。こ
のように本実施形態では基板支持ブロック２４５が本発
明の「上方側保持機構」として機能している。
り、同図（ａ）は基板用ハンドを上方より見た平面図で
あり、同図（ｂ）は同図（ａ）のＡ−Ａ線断面図であ
る。この基板用ハンド２４は、同図に示すように、上下
２枚のプレート２４１，２４２を重ね合わせてなるハン
ド本体２４３を備えている。このハンド本体２４３の先
端部と中央部には、ハンド本体２４３の長手方向とほぼ
直交する方向に延びるウイング部２４４が形成されてい
る。そして、各ウイング部２４４の上面部に基板支持ブ
ロック２４５が固着され、同図中の２点鎖線で示すよう
に、基板Ｗの外側面を係止することでハンド本体２４３
の上面側で基板Ｗを機械的に保持可能となっている。こ
のように本実施形態では基板支持ブロック２４５が本発
明の「上方側保持機構」として機能している。
【００３８】また、下プレート２４２の中央部には３つ
の吸着孔２４６〜２４８が設けられるとともに、上プレ
ート２４１の下面側に溝部２４９が形成されており、上
下プレート２４１，２４２を一体化させることで溝部２
４９によって３つの吸着孔２４６〜２４８が連通されて
いる。また、この溝部２４９は図示を省略する真空ポン
プなどの真空吸着機構と接続されており、真空吸着機構
を作動させることで溝部２４９に負圧を与え、同図
（ｂ）中の１点鎖線で示すように、ハンド本体２４３の
下面側で基板Ｗを吸着保持可能となっている。このよう
に本実施形態ではハンド本体２４３に設けられた吸着孔
２４６〜２４８および溝部２４９、ならびに真空吸着機
構が本発明の「下方側保持機構」として機能している。
の吸着孔２４６〜２４８が設けられるとともに、上プレ
ート２４１の下面側に溝部２４９が形成されており、上
下プレート２４１，２４２を一体化させることで溝部２
４９によって３つの吸着孔２４６〜２４８が連通されて
いる。また、この溝部２４９は図示を省略する真空ポン
プなどの真空吸着機構と接続されており、真空吸着機構
を作動させることで溝部２４９に負圧を与え、同図
（ｂ）中の１点鎖線で示すように、ハンド本体２４３の
下面側で基板Ｗを吸着保持可能となっている。このよう
に本実施形態ではハンド本体２４３に設けられた吸着孔
２４６〜２４８および溝部２４９、ならびに真空吸着機
構が本発明の「下方側保持機構」として機能している。
【００３９】このように、この実施形態では、センター
ロボット２は基板Ｗを２つの保持態様、つまり上方側で
機械的保持する態様および下方側で吸着保持する態様で
保持しながら基板を搬送することが可能となり、基板Ｗ
の状態に応じて保持態様を切替えることができ、その基
板Ｗの状態に適応し、しかも効率的に基板搬送を行うこ
とが可能となる。また、同時に２枚の基板Ｗを搬送する
ことも可能である。
ロボット２は基板Ｗを２つの保持態様、つまり上方側で
機械的保持する態様および下方側で吸着保持する態様で
保持しながら基板を搬送することが可能となり、基板Ｗ
の状態に応じて保持態様を切替えることができ、その基
板Ｗの状態に適応し、しかも効率的に基板搬送を行うこ
とが可能となる。また、同時に２枚の基板Ｗを搬送する
ことも可能である。
【００４０】もう一方の多関節アーム２３の先端部に
は、シートフィルムＦの表面周縁部を吸着保持するフィ
ルム用ハンド２５が取り付けられており、制御ユニット
からの動作指令にしたがって多関節アーム２３の伸縮駆
動およびロボット本体２１の回転軸ＡＸ1回りの回転お
よびＺ方向駆動を制御することによってシートフィルム
Ｆを各ユニット３〜５、７から搬出したり、逆にフィル
ム用ハンド２５で保持しているシートフィルムＦを各ユ
ニット３〜５に搬入する。このように、この実施形態で
は、ロボット本体２１および多関節アーム２３が、本発
明の「フィルム用保持部」に相当するフィルム用ハンド
２５を移動させてシートフィルムＦを搬送する駆動部と
して機能している。
は、シートフィルムＦの表面周縁部を吸着保持するフィ
ルム用ハンド２５が取り付けられており、制御ユニット
からの動作指令にしたがって多関節アーム２３の伸縮駆
動およびロボット本体２１の回転軸ＡＸ1回りの回転お
よびＺ方向駆動を制御することによってシートフィルム
Ｆを各ユニット３〜５、７から搬出したり、逆にフィル
ム用ハンド２５で保持しているシートフィルムＦを各ユ
ニット３〜５に搬入する。このように、この実施形態で
は、ロボット本体２１および多関節アーム２３が、本発
明の「フィルム用保持部」に相当するフィルム用ハンド
２５を移動させてシートフィルムＦを搬送する駆動部と
して機能している。
【００４１】図４はフィルム用ハンドの構成を示す図で
あり、同図（ａ）はフィルム用ハンドを下方からみた底
面図であり、同図（ｂ）は同図（ａ）のＢ−Ｂ線断面図
である。このフィルム用ハンド２５では、ハンド本体２
５１の下面先端部にシートフィルムＦと同程度の外径を
有するリング部材２５２が取り付けられるとともに、そ
のリング部材２５２の下面側にシートフィルムＦとほぼ
同一形状のプレート部材２５３が取り付けられてハンド
本体２５１とリング部材２５２とで内部空間２５４を形
成している。なお、ハンド本体２５１およびプレート部
材２５３の各中央部を補強するために、内部空間２５４
に６本の支柱部材２５５が設けられている。
あり、同図（ａ）はフィルム用ハンドを下方からみた底
面図であり、同図（ｂ）は同図（ａ）のＢ−Ｂ線断面図
である。このフィルム用ハンド２５では、ハンド本体２
５１の下面先端部にシートフィルムＦと同程度の外径を
有するリング部材２５２が取り付けられるとともに、そ
のリング部材２５２の下面側にシートフィルムＦとほぼ
同一形状のプレート部材２５３が取り付けられてハンド
本体２５１とリング部材２５２とで内部空間２５４を形
成している。なお、ハンド本体２５１およびプレート部
材２５３の各中央部を補強するために、内部空間２５４
に６本の支柱部材２５５が設けられている。
【００４２】また、プレート部材２５３の周縁部には、
１８個の貫通孔２５３ａが形成されるとともに、ゴムや
樹脂などで形成されたパッキンシート２５６を介してプ
レート部材２５３にシートフィルムＦとほぼ同一外径を
有するリングプレート２５７が取り付けられている。こ
こで、パッキンシート２５６にはプレート部材２５３の
貫通孔２５３ａと対応して貫通孔２５６ａが形成されて
おり、貫通孔２５３ａと１対１で対応するように配置さ
れるとともに、リングプレート２５７には３個の貫通孔
２５３ａに跨る吸着孔２５７ａが６個形成されており、
３個の貫通孔２５３ａごとに１個の吸着孔２５７ａが対
応するように配置されている。このようにして吸着孔２
５７ａ、貫通孔２５６ａおよび２５３ａを介してリング
プレート２５７の下面側と内部空間２５４とが相互に連
通されている。
１８個の貫通孔２５３ａが形成されるとともに、ゴムや
樹脂などで形成されたパッキンシート２５６を介してプ
レート部材２５３にシートフィルムＦとほぼ同一外径を
有するリングプレート２５７が取り付けられている。こ
こで、パッキンシート２５６にはプレート部材２５３の
貫通孔２５３ａと対応して貫通孔２５６ａが形成されて
おり、貫通孔２５３ａと１対１で対応するように配置さ
れるとともに、リングプレート２５７には３個の貫通孔
２５３ａに跨る吸着孔２５７ａが６個形成されており、
３個の貫通孔２５３ａごとに１個の吸着孔２５７ａが対
応するように配置されている。このようにして吸着孔２
５７ａ、貫通孔２５６ａおよび２５３ａを介してリング
プレート２５７の下面側と内部空間２５４とが相互に連
通されている。
【００４３】一方、ハンド本体２５１の上面には、同図
（ｂ）に示すように、連通孔２５１ａが設けられ、排気
管２５８を介して排気ブロア（図示省略）に接続されて
いる。このため、排気ブロアを作動させることで内部空
間２５４に負圧を与え、同図（ｂ）で示すように、リン
グプレート２５７の下面全体が本発明の「当接領域」と
してシートフィルムＦの表面周縁部に当接しながら、そ
の表面周縁部を吸着保持可能となっている。
（ｂ）に示すように、連通孔２５１ａが設けられ、排気
管２５８を介して排気ブロア（図示省略）に接続されて
いる。このため、排気ブロアを作動させることで内部空
間２５４に負圧を与え、同図（ｂ）で示すように、リン
グプレート２５７の下面全体が本発明の「当接領域」と
してシートフィルムＦの表面周縁部に当接しながら、そ
の表面周縁部を吸着保持可能となっている。
【００４４】Ｃ．フィルム供給ユニット（フィルム供給
機構）７およびフィルム収容カセット７１ 図５は、図１の薄膜形成装置に設けられたフィルム供給
ユニットの構成を示す図である。このフィルム供給ユニ
ット７は、シートフィルムＦを収容するフィルム収容カ
セット７１をカセット載置台７２に対して着脱自在とな
っている。また、カセット載置台７２は図示を省略する
昇降機構によって上下方向Ｚに昇降され、カセット載置
台７２に装着されたフィルム収容カセット７１を上下方
向Ｚにおいて位置決め可能となっている。なお、この実
施形態では、同図に示すように、３つのカセット載置台
７２が設けられており、最大３つのフィルム収容カセッ
ト７１を同時に載置可能となっているが、カセット載置
台７２の設置個数については「３」に限定されるもので
はなく任意である。
機構）７およびフィルム収容カセット７１ 図５は、図１の薄膜形成装置に設けられたフィルム供給
ユニットの構成を示す図である。このフィルム供給ユニ
ット７は、シートフィルムＦを収容するフィルム収容カ
セット７１をカセット載置台７２に対して着脱自在とな
っている。また、カセット載置台７２は図示を省略する
昇降機構によって上下方向Ｚに昇降され、カセット載置
台７２に装着されたフィルム収容カセット７１を上下方
向Ｚにおいて位置決め可能となっている。なお、この実
施形態では、同図に示すように、３つのカセット載置台
７２が設けられており、最大３つのフィルム収容カセッ
ト７１を同時に載置可能となっているが、カセット載置
台７２の設置個数については「３」に限定されるもので
はなく任意である。
【００４５】図６は、図１の薄膜形成装置に設けられた
フィルム収容カセットの分解組立斜視図である。各フィ
ルム収容カセット７１はシートフィルムＦの間に離形シ
ートＳＨを介在させた状態で複数のシートフィルムＦを
カセット本体７１１に収容可能となっている。また、こ
のカセット本体７１１には、３本の位置決めピン７１２
が立設されており、カセット本体７１１に収容されたシ
ートフィルムＦおよび離形シートＳＨの周縁部と係合し
てシートフィルムＦおよび離形シートＳＨをカセット本
体７１１に対して位置決めする。これによって、カセッ
ト本体７１１内では、シートフィルムＦおよび離形シー
トＳＨが常に整列された状態で収容され、後で説明する
ようにしてシートフィルムＦの取出処理や離形シートＳ
Ｈの除去処理を良好に行うことができる。
フィルム収容カセットの分解組立斜視図である。各フィ
ルム収容カセット７１はシートフィルムＦの間に離形シ
ートＳＨを介在させた状態で複数のシートフィルムＦを
カセット本体７１１に収容可能となっている。また、こ
のカセット本体７１１には、３本の位置決めピン７１２
が立設されており、カセット本体７１１に収容されたシ
ートフィルムＦおよび離形シートＳＨの周縁部と係合し
てシートフィルムＦおよび離形シートＳＨをカセット本
体７１１に対して位置決めする。これによって、カセッ
ト本体７１１内では、シートフィルムＦおよび離形シー
トＳＨが常に整列された状態で収容され、後で説明する
ようにしてシートフィルムＦの取出処理や離形シートＳ
Ｈの除去処理を良好に行うことができる。
【００４６】また、カセット本体７１１に対して保護カ
バー７１３が開閉自在に設けられている。より詳しく説
明すると、保護カバー７１３の下端周縁部の４箇所に突
起部７１４が取り付けられる一方、各突起部７１４に対
応してカセット本体７１１に挿入孔７１５が設けられて
いる。そして、突起部７１４のそれぞれを対応する挿入
孔７１５に挿入させながら、保護カバー７１３をカセッ
ト本体７１１に装着することで保護カバー７１３は閉じ
た状態となり、カセット本体７１１に収容されたシート
フィルムＦおよび離形シートＳＨを上方より覆って保護
することとなる。これによって、シートフィルムＦの汚
染を確実に防止することができる。一方、保護カバー７
１３をカセット本体７１１から上方に移動させると、保
護カバー７１３は開いた状態となり、カセット本体７１
１に収容されたシートフィルムＦおよび離形シートＳＨ
を上方より搬出することができるようになる。
バー７１３が開閉自在に設けられている。より詳しく説
明すると、保護カバー７１３の下端周縁部の４箇所に突
起部７１４が取り付けられる一方、各突起部７１４に対
応してカセット本体７１１に挿入孔７１５が設けられて
いる。そして、突起部７１４のそれぞれを対応する挿入
孔７１５に挿入させながら、保護カバー７１３をカセッ
ト本体７１１に装着することで保護カバー７１３は閉じ
た状態となり、カセット本体７１１に収容されたシート
フィルムＦおよび離形シートＳＨを上方より覆って保護
することとなる。これによって、シートフィルムＦの汚
染を確実に防止することができる。一方、保護カバー７
１３をカセット本体７１１から上方に移動させると、保
護カバー７１３は開いた状態となり、カセット本体７１
１に収容されたシートフィルムＦおよび離形シートＳＨ
を上方より搬出することができるようになる。
【００４７】このように保護カバー７１３を開閉移動さ
せるために、この実施形態にかかるフィルム供給ユニッ
ト７では、図５に示すように、カバー開閉駆動機構７３
がカセット載置台７２の上方位置に配設されている。こ
のカバー開閉駆動機構７３は、回動軸ＡＸ2回りに回動
自在となっている回動アーム７３１と、その先端に取り
付けられた把持部７３２とを備えており、図示を省略す
る駆動部により回動アーム７３１が１点鎖線矢印Ｐ1の
方向に回動する。そして、カバー開閉駆動機構７３は所
定のカバー開閉位置（図８（ａ））に位置決めされたフ
ィルム収容カセット７１の保護カバー７１３に設けられ
た取っ手部７１６を把持部７３２により把持した後、回
動アーム７３１を（−Ｐ1）方向に回動させることで図
５の退避位置に移動させるように構成している。また、
保護カバー７１３を閉じる場合には、これと逆の動作を
行う。
せるために、この実施形態にかかるフィルム供給ユニッ
ト７では、図５に示すように、カバー開閉駆動機構７３
がカセット載置台７２の上方位置に配設されている。こ
のカバー開閉駆動機構７３は、回動軸ＡＸ2回りに回動
自在となっている回動アーム７３１と、その先端に取り
付けられた把持部７３２とを備えており、図示を省略す
る駆動部により回動アーム７３１が１点鎖線矢印Ｐ1の
方向に回動する。そして、カバー開閉駆動機構７３は所
定のカバー開閉位置（図８（ａ））に位置決めされたフ
ィルム収容カセット７１の保護カバー７１３に設けられ
た取っ手部７１６を把持部７３２により把持した後、回
動アーム７３１を（−Ｐ1）方向に回動させることで図
５の退避位置に移動させるように構成している。また、
保護カバー７１３を閉じる場合には、これと逆の動作を
行う。
【００４８】このカバー開閉駆動機構７３の下方位置に
は、離形シートＳＨを取り除く離形シート除去機構７４
が配設されている。この離形シート除去機構７４では、
図５および図７に示すように、シートフィルムＦおよび
離形シートＳＨの外径よりも広い間隔を隔てて２本の回
動アーム７４１，７４２が配設されている。また、これ
らの回動アーム７４１，７４２の頂部には、水平方向に
延びる連結ビーム７４３が掛け渡されている。また、こ
の連結ビーム７４３の中央部には、離形シートＳＨを吸
着する吸着プレート７４４が取り付けられており、図５
および図７に示すように吸着位置において吸着プレート
７４４の下面が吸着面７４４ａとなっている。そして、
図８（ｂ）に示すように吸着面７４４ａを（−Ｚ）方向
に向けたままの状態でカセット載置台７２を上昇させる
と、そのカセット載置台７２に載置されたフィルム収容
カセット７１内の最上部に位置する離形シートＳＨが吸
着面７４４ａに当接し、同図（ｃ）に示すように吸着プ
レート７４４に吸着保持される。なお、カセット載置台
７２上に載置されているフィルム収容カセット７１同士
の上下方向の間隔は、カバー開閉駆動機構７３が保護カ
バー７１３を着脱するとき、前記保護カバー７１３が通
過するのに十分な間隔である。
は、離形シートＳＨを取り除く離形シート除去機構７４
が配設されている。この離形シート除去機構７４では、
図５および図７に示すように、シートフィルムＦおよび
離形シートＳＨの外径よりも広い間隔を隔てて２本の回
動アーム７４１，７４２が配設されている。また、これ
らの回動アーム７４１，７４２の頂部には、水平方向に
延びる連結ビーム７４３が掛け渡されている。また、こ
の連結ビーム７４３の中央部には、離形シートＳＨを吸
着する吸着プレート７４４が取り付けられており、図５
および図７に示すように吸着位置において吸着プレート
７４４の下面が吸着面７４４ａとなっている。そして、
図８（ｂ）に示すように吸着面７４４ａを（−Ｚ）方向
に向けたままの状態でカセット載置台７２を上昇させる
と、そのカセット載置台７２に載置されたフィルム収容
カセット７１内の最上部に位置する離形シートＳＨが吸
着面７４４ａに当接し、同図（ｃ）に示すように吸着プ
レート７４４に吸着保持される。なお、カセット載置台
７２上に載置されているフィルム収容カセット７１同士
の上下方向の間隔は、カバー開閉駆動機構７３が保護カ
バー７１３を着脱するとき、前記保護カバー７１３が通
過するのに十分な間隔である。
【００４９】また、回動アーム７４１，７４２には、図
７に示すように、それぞれ（＋Ｙ）方向および（−Ｙ）
方向に延びる軸部材７４５，７４６が取り付けられてお
り、回動軸ＡＸ3を回動中心として回動自在となってい
る。そして、図示を省略する駆動部により回動アーム７
４１，７４２が１点鎖線矢印Ｐ2の方向に回動可能とな
っている。このため、上記のようにして離形シートＳＨ
を吸着プレート７４４で吸着保持した後、回動アーム７
４１，７４２を図９（ａ）に示す矢印方向（＋Ｐ2）に
回動させると、吸着プレート７４４は除去位置に位置決
めされる。そして、吸着プレート７４４による吸着を解
除すると、吸着プレート７４４から離形シートＳＨが下
方に落下する。
７に示すように、それぞれ（＋Ｙ）方向および（−Ｙ）
方向に延びる軸部材７４５，７４６が取り付けられてお
り、回動軸ＡＸ3を回動中心として回動自在となってい
る。そして、図示を省略する駆動部により回動アーム７
４１，７４２が１点鎖線矢印Ｐ2の方向に回動可能とな
っている。このため、上記のようにして離形シートＳＨ
を吸着プレート７４４で吸着保持した後、回動アーム７
４１，７４２を図９（ａ）に示す矢印方向（＋Ｐ2）に
回動させると、吸着プレート７４４は除去位置に位置決
めされる。そして、吸着プレート７４４による吸着を解
除すると、吸着プレート７４４から離形シートＳＨが下
方に落下する。
【００５０】さらに、この実施形態では離形シートＳＨ
を回収する離形シート回収ボックス７６がフィルム供給
ユニット７の底面部に配設されるとともに、上記のよう
にして落下してくる離形シートＳＨを離形シート回収ボ
ックス７６に案内するガイド部材７７，７８がさらに設
けられている。このように離形シート回収ボックス７６
とガイド部材７７，７８とにより本発明の「離形シート
回収手段」を構成しており、離形シートＳＨを確実に離
形シート回収ボックス７６に回収可能となっている。こ
のため、フィルム供給ユニット７周囲への離形シートＳ
Ｈの散乱を効果的に防止することができる。
を回収する離形シート回収ボックス７６がフィルム供給
ユニット７の底面部に配設されるとともに、上記のよう
にして落下してくる離形シートＳＨを離形シート回収ボ
ックス７６に案内するガイド部材７７，７８がさらに設
けられている。このように離形シート回収ボックス７６
とガイド部材７７，７８とにより本発明の「離形シート
回収手段」を構成しており、離形シートＳＨを確実に離
形シート回収ボックス７６に回収可能となっている。こ
のため、フィルム供給ユニット７周囲への離形シートＳ
Ｈの散乱を効果的に防止することができる。
【００５１】一方、離形シートＳＨをフィルム収容カセ
ット７１から取り除くことによって最上部にシートフィ
ルムＦが露出して該カセット７１からの搬出が可能とな
る。そこで、適当なタイミングでフィルム用ハンド２５
がフィルム供給ユニット７に移動し、最上部のシートフ
ィルムＦを吸着保持する（同図（ｂ））。そして、次の
処理ユニット、つまり塗布ユニット３に搬送する。
ット７１から取り除くことによって最上部にシートフィ
ルムＦが露出して該カセット７１からの搬出が可能とな
る。そこで、適当なタイミングでフィルム用ハンド２５
がフィルム供給ユニット７に移動し、最上部のシートフ
ィルムＦを吸着保持する（同図（ｂ））。そして、次の
処理ユニット、つまり塗布ユニット３に搬送する。
【００５２】なお、この実施形態では、図５に示すよう
に離形シート除去機構７４の近傍にイオナイザー７９が
設けられており、フィルム収容カセット７１からシート
フィルムＦを搬出したり、離形シートＳＨを取り除く際
に剥離帯電が発生するのを効果的に防止している。
に離形シート除去機構７４の近傍にイオナイザー７９が
設けられており、フィルム収容カセット７１からシート
フィルムＦを搬出したり、離形シートＳＨを取り除く際
に剥離帯電が発生するのを効果的に防止している。
【００５３】Ｄ．塗布ユニット３
図１０は、図１の薄膜形成装置に設けられる塗布ユニッ
トの構成を示す図である。この塗布ユニット３は、円板
状のステージ３１と、このステージ３１を回転させるモ
ータ（図示省略）の回転軸３２と、薄膜用塗布液である
例えばＳＯＧ（Spin-on-Glass）液を塗布するためのＳ
ＯＧ液用吐出ノズル３３と、エッジリンスを行うべくシ
ートフィルムＦの周縁部分に洗浄液を吐出する洗浄液用
吐出ノズル３４と、塗布液や洗浄液等が塗布ユニット３
の周辺に飛散するのを防止する飛散防止カップ３５とを
備えている。
トの構成を示す図である。この塗布ユニット３は、円板
状のステージ３１と、このステージ３１を回転させるモ
ータ（図示省略）の回転軸３２と、薄膜用塗布液である
例えばＳＯＧ（Spin-on-Glass）液を塗布するためのＳ
ＯＧ液用吐出ノズル３３と、エッジリンスを行うべくシ
ートフィルムＦの周縁部分に洗浄液を吐出する洗浄液用
吐出ノズル３４と、塗布液や洗浄液等が塗布ユニット３
の周辺に飛散するのを防止する飛散防止カップ３５とを
備えている。
【００５４】このステージ３１の上面全体には、図示を
省略する吸着孔が複数個設けられるとともに、真空ポン
プ（図示省略）と接続されている。そして、上記のよう
にフィルム用ハンド２５によりシートフィルムＦがフィ
ルム供給ユニット７から塗布ユニット３に搬送され、ス
テージ３１上に載置された後、真空ポンプを作動させる
ことでシートフィルムＦはステージ３１にしっかりと真
空吸着される。なお、このように構成されたステージ３
１の周囲を飛散防止カップ３５が取り囲む構成になって
いる。
省略する吸着孔が複数個設けられるとともに、真空ポン
プ（図示省略）と接続されている。そして、上記のよう
にフィルム用ハンド２５によりシートフィルムＦがフィ
ルム供給ユニット７から塗布ユニット３に搬送され、ス
テージ３１上に載置された後、真空ポンプを作動させる
ことでシートフィルムＦはステージ３１にしっかりと真
空吸着される。なお、このように構成されたステージ３
１の周囲を飛散防止カップ３５が取り囲む構成になって
いる。
【００５５】このように構成された塗布ユニット３で
は、ステージ３１にシートフィルムＦがセットされて塗
布処理の準備が完了すると、塗布ユニット３に設けられ
たモータ（図示省略）が作動し、図１０に示すように回
転軸３２が回転し始め、この回転に伴って、ステージ３
１、さらにはシートフィルムＦが回転軸ＡＸ4回りに回
転される。また、この回転と同時、あるいは少し遅れて
ＳＯＧ液用吐出ノズル３３よりシートフィルムＦの中心
点に向かってＳＯＧ液を供給する。すると、シートフィ
ルムＦの回転に伴う遠心力によって、シートフィルムＦ
の中心から全面にわたってＳＯＧ液が薄膜状に塗布され
る。このとき、シートフィルムＦの外側に飛散したＳＯ
Ｇ液は飛散防止カップ３５、さらには図示を省略する排
出管を介して塗布ユニット３の外部に排出される。
は、ステージ３１にシートフィルムＦがセットされて塗
布処理の準備が完了すると、塗布ユニット３に設けられ
たモータ（図示省略）が作動し、図１０に示すように回
転軸３２が回転し始め、この回転に伴って、ステージ３
１、さらにはシートフィルムＦが回転軸ＡＸ4回りに回
転される。また、この回転と同時、あるいは少し遅れて
ＳＯＧ液用吐出ノズル３３よりシートフィルムＦの中心
点に向かってＳＯＧ液を供給する。すると、シートフィ
ルムＦの回転に伴う遠心力によって、シートフィルムＦ
の中心から全面にわたってＳＯＧ液が薄膜状に塗布され
る。このとき、シートフィルムＦの外側に飛散したＳＯ
Ｇ液は飛散防止カップ３５、さらには図示を省略する排
出管を介して塗布ユニット３の外部に排出される。
【００５６】そして、シートフィルムＦの全面に対して
ＳＯＧ液の供給を行った後、エッジリンスを行う。即
ち、洗浄液用吐出ノズル３４よりシートフィルムＦの周
縁部分に向かって洗浄液が吐出される。ここでも、シー
トフィルムＦの回転は継続されているため、この回転に
よって、シートフィルムＦの周縁部分に付着していた塗
布液が除去される。
ＳＯＧ液の供給を行った後、エッジリンスを行う。即
ち、洗浄液用吐出ノズル３４よりシートフィルムＦの周
縁部分に向かって洗浄液が吐出される。ここでも、シー
トフィルムＦの回転は継続されているため、この回転に
よって、シートフィルムＦの周縁部分に付着していた塗
布液が除去される。
【００５７】こうしてシートフィルムＦに対する塗布処
理が完了すると、フィルム用ハンド２５が塗布ユニット
３に進入し、シートフィルムＦを吸着保持する一方、真
空ポンプが停止してステージ３１による真空吸着が解除
される。そして、フィルム用ハンド２５によってＳＯＧ
膜（薄膜）が形成されたシートフィルムＦが塗布ユニッ
ト３から搬出され、次の処理ユニット、つまり乾燥ユニ
ット４に搬送される。
理が完了すると、フィルム用ハンド２５が塗布ユニット
３に進入し、シートフィルムＦを吸着保持する一方、真
空ポンプが停止してステージ３１による真空吸着が解除
される。そして、フィルム用ハンド２５によってＳＯＧ
膜（薄膜）が形成されたシートフィルムＦが塗布ユニッ
ト３から搬出され、次の処理ユニット、つまり乾燥ユニ
ット４に搬送される。
【００５８】なお、この実施形態における塗布ユニット
３では、塗布液としてＳＯＧ液を用いたが、半導体のフ
ォトリソグラフィに用いられるフォトレジスト液等に例
示されるように、基板Ｗに対して形成すべき薄膜を構成
する塗布液ならば、特に限定されるものではない。ま
た、この実施形態では、塗布処理後にシートフィルムＦ
を次に説明する乾燥ユニット４に搬送し、乾燥処理を施
しているが、乾燥処理を行わず直接転写ユニット５に搬
送するようにしてもよい。
３では、塗布液としてＳＯＧ液を用いたが、半導体のフ
ォトリソグラフィに用いられるフォトレジスト液等に例
示されるように、基板Ｗに対して形成すべき薄膜を構成
する塗布液ならば、特に限定されるものではない。ま
た、この実施形態では、塗布処理後にシートフィルムＦ
を次に説明する乾燥ユニット４に搬送し、乾燥処理を施
しているが、乾燥処理を行わず直接転写ユニット５に搬
送するようにしてもよい。
【００５９】Ｅ．乾燥ユニット４
図１１は、図１の薄膜形成装置に設けられる乾燥ユニッ
トを示す図である。この乾燥ユニット４は、その内部が
処理チャンバー４１１となっている処理容器４１と、そ
の処理チャンバー４１１の内底部に配置されたホットプ
レート（ステージ）４２とを備えている。なお、同図中
の符号１２１は上記塗布ユニット３によりシートフィル
ムＦの表面上に形成されたＳＯＧ膜（薄膜）を示してい
る。
トを示す図である。この乾燥ユニット４は、その内部が
処理チャンバー４１１となっている処理容器４１と、そ
の処理チャンバー４１１の内底部に配置されたホットプ
レート（ステージ）４２とを備えている。なお、同図中
の符号１２１は上記塗布ユニット３によりシートフィル
ムＦの表面上に形成されたＳＯＧ膜（薄膜）を示してい
る。
【００６０】この処理容器４１の底部には２箇所の窒素
ガス導入口４１２，４１３が設けられており、図示を省
略する窒素ガス供給源から窒素ガス（Ｎ2ガス）が上記
導入口４１２，４１３を介して処理チャンバー４１１内
に供給される。また、処理容器４１の天井部には、排気
口４１４が設けられており、処理チャンバー４１１内の
気体成分を処理チャンバー４１１から排気可能となって
いる。このため、処理チャンバー４１１は窒素ガス雰囲
気に満たされ、この雰囲気で乾燥処理が行われる。
ガス導入口４１２，４１３が設けられており、図示を省
略する窒素ガス供給源から窒素ガス（Ｎ2ガス）が上記
導入口４１２，４１３を介して処理チャンバー４１１内
に供給される。また、処理容器４１の天井部には、排気
口４１４が設けられており、処理チャンバー４１１内の
気体成分を処理チャンバー４１１から排気可能となって
いる。このため、処理チャンバー４１１は窒素ガス雰囲
気に満たされ、この雰囲気で乾燥処理が行われる。
【００６１】また、ホットプレート４２はヒータ４２１
を内蔵しており、制御ユニットから与えられる電気信号
によりヒータ４２１が発熱するように構成されている。
また、ホットプレート４２には、塗布ユニット３のステ
ージ３１と同様に、ホットプレート４２の上面全体に
は、図示を省略する吸着孔が複数個設けられるととも
に、真空ポンプ（図示省略）と接続されている。そし
て、上記のようにフィルム用ハンド２５によりシートフ
ィルムＦが乾燥ユニット４に搬送され、ホットプレート
４２上に載置された後、真空ポンプを作動させることで
シートフィルムＦはホットプレート４２にしっかりと真
空吸着される。また、こうしてホットプレート４２によ
り真空吸着された状態で乾燥処理が開始される。
を内蔵しており、制御ユニットから与えられる電気信号
によりヒータ４２１が発熱するように構成されている。
また、ホットプレート４２には、塗布ユニット３のステ
ージ３１と同様に、ホットプレート４２の上面全体に
は、図示を省略する吸着孔が複数個設けられるととも
に、真空ポンプ（図示省略）と接続されている。そし
て、上記のようにフィルム用ハンド２５によりシートフ
ィルムＦが乾燥ユニット４に搬送され、ホットプレート
４２上に載置された後、真空ポンプを作動させることで
シートフィルムＦはホットプレート４２にしっかりと真
空吸着される。また、こうしてホットプレート４２によ
り真空吸着された状態で乾燥処理が開始される。
【００６２】そして、所定時間だけシートフィルムＦが
加熱されて乾燥処理が完了すると、フィルム用ハンド２
５が乾燥ユニット４に進入し、シートフィルムＦを吸着
保持する一方、真空ポンプが停止してホットプレート４
２による真空吸着が解除される。そして、フィルム用ハ
ンド２５によって乾燥処理が施されたシートフィルムＦ
が乾燥ユニット４から搬出され、次の処理ユニット、つ
まり転写ユニット５に搬送される。
加熱されて乾燥処理が完了すると、フィルム用ハンド２
５が乾燥ユニット４に進入し、シートフィルムＦを吸着
保持する一方、真空ポンプが停止してホットプレート４
２による真空吸着が解除される。そして、フィルム用ハ
ンド２５によって乾燥処理が施されたシートフィルムＦ
が乾燥ユニット４から搬出され、次の処理ユニット、つ
まり転写ユニット５に搬送される。
【００６３】Ｆ．転写ユニット５
図１２は、図１の薄膜形成装置に設けられた転写ユニッ
トを示す概略断面図である。同図において、この転写ユ
ニット５は、その内部が真空排気可能となっており、Ｓ
ＯＧ膜（薄膜）の転写処理を実行するためのチャンバ５
１１を形成する処理容器５１を備えている。この処理容
器５１の側面部には排気口５１２が設けられるととも
に、その排気口５１２に真空ポンプ５２が接続されてい
る。この真空ポンプ５２は装置全体を制御する制御ユニ
ット９に電気的に接続されており、制御ユニット９から
の動作指令に応じて作動して排気口５１２を介してチャ
ンバ５１１内を真空排気することができるようになって
いる。
トを示す概略断面図である。同図において、この転写ユ
ニット５は、その内部が真空排気可能となっており、Ｓ
ＯＧ膜（薄膜）の転写処理を実行するためのチャンバ５
１１を形成する処理容器５１を備えている。この処理容
器５１の側面部には排気口５１２が設けられるととも
に、その排気口５１２に真空ポンプ５２が接続されてい
る。この真空ポンプ５２は装置全体を制御する制御ユニ
ット９に電気的に接続されており、制御ユニット９から
の動作指令に応じて作動して排気口５１２を介してチャ
ンバ５１１内を真空排気することができるようになって
いる。
【００６４】また、チャンバ５１１内には、第１および
第２プレート５４，５５と、第１プレート５４の第２プ
レート５５に対する傾きを自動的に補正し薄膜形成対象
である基板ＷとシートフィルムＦに形成されているＳＯ
Ｇ膜が全面にわたって等しい圧力で押し付けられるよう
にする機構（以下、傾斜補正機構という）５８が配設さ
れている。
第２プレート５４，５５と、第１プレート５４の第２プ
レート５５に対する傾きを自動的に補正し薄膜形成対象
である基板ＷとシートフィルムＦに形成されているＳＯ
Ｇ膜が全面にわたって等しい圧力で押し付けられるよう
にする機構（以下、傾斜補正機構という）５８が配設さ
れている。
【００６５】第１プレート５４は、第２プレート５５の
上方にこれと軸線が一致するように傾斜補正機構５８を
介して吊設され、第２プレート５５と対向する面（下
面）に基板Ｗが装着されることにより基板用プレートを
構成している。このため、第１プレート５４の下面は、
平坦性を確保するために研磨された石英板（図示省略）
が設けられており、この石英板に基板Ｗが固定される。
このように石英板を用いた理由は、石英が、基板Ｗを汚
染する物質を含まないこと、および加工性がよく必要と
する平坦性が容易に得られることなどから、基板Ｗを装
着する材料として優れているからである。また、第１プ
レート５４は、内部に加熱手段として加熱ヒータ５４１
を具備している。この加熱ヒータ５４１はヒータコント
ローラ５４２と電気的に接続されており、制御ユニット
９からの基板温度情報に基づき作動するヒータコントロ
ーラ５４２によって制御され、２５°Ｃ〜３００°Ｃの
間で加熱制御される。
上方にこれと軸線が一致するように傾斜補正機構５８を
介して吊設され、第２プレート５５と対向する面（下
面）に基板Ｗが装着されることにより基板用プレートを
構成している。このため、第１プレート５４の下面は、
平坦性を確保するために研磨された石英板（図示省略）
が設けられており、この石英板に基板Ｗが固定される。
このように石英板を用いた理由は、石英が、基板Ｗを汚
染する物質を含まないこと、および加工性がよく必要と
する平坦性が容易に得られることなどから、基板Ｗを装
着する材料として優れているからである。また、第１プ
レート５４は、内部に加熱手段として加熱ヒータ５４１
を具備している。この加熱ヒータ５４１はヒータコント
ローラ５４２と電気的に接続されており、制御ユニット
９からの基板温度情報に基づき作動するヒータコントロ
ーラ５４２によって制御され、２５°Ｃ〜３００°Ｃの
間で加熱制御される。
【００６６】もう一方のプレート、つまり第２プレート
５５は、第１プレート５４の下方に配設され、上面にシ
ートフィルムＦが装着されることによりフィルム用プレ
ートを構成している。また、この第２プレート５５は、
シートフィルムＦが載置される石英製のステージと、シ
ートフィルムＦを加熱する加熱台とから構成されるとと
もに、その加熱台の内部に加熱手段として加熱ヒータ５
５１が内蔵されている。この加熱ヒータ５５１はヒータ
コントローラ５５２と電気的に接続されており、制御ユ
ニット９からの基板温度情報に基づき作動するヒータコ
ントローラ５５２によって制御され、２５°Ｃ〜３００
°Ｃの間で加熱制御される。また、加熱台の下面中央に
は、軸５５３が一体に垂設されている。この軸５５３は
軸受５９１によって上下動自在に軸支され、加重機構と
しての加重モータ５９２によって移動方向Ｚに沿って上
下動されるように構成されている。
５５は、第１プレート５４の下方に配設され、上面にシ
ートフィルムＦが装着されることによりフィルム用プレ
ートを構成している。また、この第２プレート５５は、
シートフィルムＦが載置される石英製のステージと、シ
ートフィルムＦを加熱する加熱台とから構成されるとと
もに、その加熱台の内部に加熱手段として加熱ヒータ５
５１が内蔵されている。この加熱ヒータ５５１はヒータ
コントローラ５５２と電気的に接続されており、制御ユ
ニット９からの基板温度情報に基づき作動するヒータコ
ントローラ５５２によって制御され、２５°Ｃ〜３００
°Ｃの間で加熱制御される。また、加熱台の下面中央に
は、軸５５３が一体に垂設されている。この軸５５３は
軸受５９１によって上下動自在に軸支され、加重機構と
しての加重モータ５９２によって移動方向Ｚに沿って上
下動されるように構成されている。
【００６７】次に、傾斜補正機構５８の構成について図
１２ないし図１４を参照しつつ詳述する。図１３は図１
２のＣ−Ｃ線断面図である。また、図１４は傾斜補正機
構を示す部分切欠斜視図である。この実施形態では、傾
斜補正機構５８は、第１プレート５４の外周を取り囲む
ように配設され、移動方向Ｚに対してほぼ直交する第１
方向Ｘに延びる第１軸部材５８１を介して第１プレート
５４に連結され、第１回動軸ＡＸ5を中心として第１プ
レート５４を回動自在に支持するリング状の第１支持体
５８２と、第１支持体５８２の外周に配設され、移動方
向Ｚおよび第１方向Ｘに対してほぼ直交する第２方向Ｙ
に延びる第２軸部材５８３を介して第１支持体５８２に
連結され、第２回動軸ＡＸ6を中心として第１支持体５
８２を回動自在に支持する第２支持体８４とを備えてい
る。なお、この実施形態では、図１４に示すように、第
１プレート５４に装着された基板Ｗの表面、つまり薄膜
形成面１１２の面内に第１および第２回動軸ＡＸ5、Ａ
Ｘ6が存在するように、各軸部材５８１，５８３が設け
られている。
１２ないし図１４を参照しつつ詳述する。図１３は図１
２のＣ−Ｃ線断面図である。また、図１４は傾斜補正機
構を示す部分切欠斜視図である。この実施形態では、傾
斜補正機構５８は、第１プレート５４の外周を取り囲む
ように配設され、移動方向Ｚに対してほぼ直交する第１
方向Ｘに延びる第１軸部材５８１を介して第１プレート
５４に連結され、第１回動軸ＡＸ5を中心として第１プ
レート５４を回動自在に支持するリング状の第１支持体
５８２と、第１支持体５８２の外周に配設され、移動方
向Ｚおよび第１方向Ｘに対してほぼ直交する第２方向Ｙ
に延びる第２軸部材５８３を介して第１支持体５８２に
連結され、第２回動軸ＡＸ6を中心として第１支持体５
８２を回動自在に支持する第２支持体８４とを備えてい
る。なお、この実施形態では、図１４に示すように、第
１プレート５４に装着された基板Ｗの表面、つまり薄膜
形成面１１２の面内に第１および第２回動軸ＡＸ5、Ａ
Ｘ6が存在するように、各軸部材５８１，５８３が設け
られている。
【００６８】このように構成された傾斜補正機構５８で
は、第１プレート５４は第１支持体８１により第１回動
軸ＡＸ5回りに回動自在に支持されるとともに、第２支
持体５８３により第２回動軸ＡＸ6回りに回動自在に支
持されており、いわゆる軸回動によって第１プレート５
４は移動方向Ｚに対して傾斜可能となっている。
は、第１プレート５４は第１支持体８１により第１回動
軸ＡＸ5回りに回動自在に支持されるとともに、第２支
持体５８３により第２回動軸ＡＸ6回りに回動自在に支
持されており、いわゆる軸回動によって第１プレート５
４は移動方向Ｚに対して傾斜可能となっている。
【００６９】また、傾斜補正機構５８の第２支持体５８
４は、図１４に示すように、第１支持体５８２をＹ方向
において挟み込むように方向Ｚに延びる２本のコラム部
５８４ａ，５８４ｂと、両コラム部５８４ａ，５８４ｂ
の上部を連結するビーム部５８４ｃとで構成されてい
る。そして、ビーム部５８４ｃの中央部から上方に支柱
部５８４ｄが延設され、チャンバ５１１内で吊設されて
いる。より詳しく説明すると、この支柱部５８４ｄは、
軸受５９３によって上下動自在に枢支され、上端には下
方への落下を防止するフランジ５９４が一体に突設され
ている。なお、図１２中の符号５９５はフランジ５９４
に対応して設けられた加重センサであり、基板Ｗとシー
トフィルムＦとの間に印加される加重を検出し、その加
重値を制御ユニット９に与える。
４は、図１４に示すように、第１支持体５８２をＹ方向
において挟み込むように方向Ｚに延びる２本のコラム部
５８４ａ，５８４ｂと、両コラム部５８４ａ，５８４ｂ
の上部を連結するビーム部５８４ｃとで構成されてい
る。そして、ビーム部５８４ｃの中央部から上方に支柱
部５８４ｄが延設され、チャンバ５１１内で吊設されて
いる。より詳しく説明すると、この支柱部５８４ｄは、
軸受５９３によって上下動自在に枢支され、上端には下
方への落下を防止するフランジ５９４が一体に突設され
ている。なお、図１２中の符号５９５はフランジ５９４
に対応して設けられた加重センサであり、基板Ｗとシー
トフィルムＦとの間に印加される加重を検出し、その加
重値を制御ユニット９に与える。
【００７０】次に、上記した転写ユニット５を使用した
転写処理手順について説明する。本実施の形態において
は、後で説明する反転ユニット８から、薄膜形成面１１
２（電極配線などが形成され、薄膜を形成すべき面）が
下方を向いた状態で基板Ｗが基板用ハンド２４の基板支
持ブロック２４５で機械的に保持されたまま転写ユニッ
ト５に搬送され、第１プレート５４の下面に基板Ｗが薄
膜形成面１１２を下に向けて装着される。また、第２プ
レート５５上には、その表面に予め塗布ユニット３によ
ってＳＯＧ膜１２１（図１１参照）を形成してなるシー
トフィルムＦがＳＯＧ膜１２１を上に向けて装着され
る。そして、制御ユニット９が装置各部を以下のように
制御して薄膜シートフィルムＦ上の薄膜を基板Ｗに転写
する。
転写処理手順について説明する。本実施の形態において
は、後で説明する反転ユニット８から、薄膜形成面１１
２（電極配線などが形成され、薄膜を形成すべき面）が
下方を向いた状態で基板Ｗが基板用ハンド２４の基板支
持ブロック２４５で機械的に保持されたまま転写ユニッ
ト５に搬送され、第１プレート５４の下面に基板Ｗが薄
膜形成面１１２を下に向けて装着される。また、第２プ
レート５５上には、その表面に予め塗布ユニット３によ
ってＳＯＧ膜１２１（図１１参照）を形成してなるシー
トフィルムＦがＳＯＧ膜１２１を上に向けて装着され
る。そして、制御ユニット９が装置各部を以下のように
制御して薄膜シートフィルムＦ上の薄膜を基板Ｗに転写
する。
【００７１】まず、ヒータコントローラ５４２によって
加熱ヒータ５４１に通電して第１プレート５４を加熱し
て基板Ｗを所望の温度に加熱するとともに、ヒータコン
トローラ５５２によって加熱ヒータ５５１に通電して第
２プレート５５を加熱してシートフィルムＦを所望の温
度に加熱する。
加熱ヒータ５４１に通電して第１プレート５４を加熱し
て基板Ｗを所望の温度に加熱するとともに、ヒータコン
トローラ５５２によって加熱ヒータ５５１に通電して第
２プレート５５を加熱してシートフィルムＦを所望の温
度に加熱する。
【００７２】また、真空ポンプ５２によってチャンバ５
１１内が所望の真空度となるように真空排気する。そし
て、チャンバ５１１内が所望の真空度になった後、制御
ユニット９より加重モータ５９２に駆動信号が送られ、
加重操作を開始する。これによって、第２プレート５５
が移動方向Ｚに沿って上昇してシートフィルムＦを基板
Ｗに押し付ける。このとき、第１プレート５４と傾斜補
正機構５８は、第２プレート５５によって一体に押し上
げられる。
１１内が所望の真空度となるように真空排気する。そし
て、チャンバ５１１内が所望の真空度になった後、制御
ユニット９より加重モータ５９２に駆動信号が送られ、
加重操作を開始する。これによって、第２プレート５５
が移動方向Ｚに沿って上昇してシートフィルムＦを基板
Ｗに押し付ける。このとき、第１プレート５４と傾斜補
正機構５８は、第２プレート５５によって一体に押し上
げられる。
【００７３】この押上時に、第１プレート５４が第２プ
レート５５に対して傾斜しているときは、第２プレート
５５が第１プレート５４に当たったとき、傾斜補正機構
５８によって第１プレート５４の傾斜が自動的に補正さ
れる。すなわち、第１プレート５４は傾斜補正機構５８
によって移動方向Ｚに対して傾斜可能に保持されている
ので、例えば図１２において左方に小角度傾斜している
とすると、先ず第２プレート５５の左端側が第１プレー
ト５４に接触して第１プレート５４を押し上げる。この
ため、第１プレート５４は基板Ｗの表面内に存在する第
１回動軸ＡＸ5を回動中心として時計方向に回動して基
板ＷとシートフィルムＦとの接触面積が右方に徐々に広
がっていく。そして、第１プレート５４の傾斜が完全に
補正され第２プレート５５と平行になると、基板Ｗとシ
ートフィルムＦが全面にわたって等しい圧力で押し付け
られる。
レート５５に対して傾斜しているときは、第２プレート
５５が第１プレート５４に当たったとき、傾斜補正機構
５８によって第１プレート５４の傾斜が自動的に補正さ
れる。すなわち、第１プレート５４は傾斜補正機構５８
によって移動方向Ｚに対して傾斜可能に保持されている
ので、例えば図１２において左方に小角度傾斜している
とすると、先ず第２プレート５５の左端側が第１プレー
ト５４に接触して第１プレート５４を押し上げる。この
ため、第１プレート５４は基板Ｗの表面内に存在する第
１回動軸ＡＸ5を回動中心として時計方向に回動して基
板ＷとシートフィルムＦとの接触面積が右方に徐々に広
がっていく。そして、第１プレート５４の傾斜が完全に
補正され第２プレート５５と平行になると、基板Ｗとシ
ートフィルムＦが全面にわたって等しい圧力で押し付け
られる。
【００７４】そして、加重モータ５９２によって加重を
続け、加重センサ５９５によって所望の加重が検知され
ると、制御ユニット９は一定時間、その加重が継続され
るように加重モータ５９２を制御する。その間も基板Ｗ
とシートフィルムＦは所定の温度となるように加熱され
ている。
続け、加重センサ５９５によって所望の加重が検知され
ると、制御ユニット９は一定時間、その加重が継続され
るように加重モータ５９２を制御する。その間も基板Ｗ
とシートフィルムＦは所定の温度となるように加熱され
ている。
【００７５】また、上記した一連の加重操作が終了する
と、加重の状態が零となるように制御ユニット９は加重
モータ５９２に信号を送る。このとき真空排気も停止す
るように制御される。
と、加重の状態が零となるように制御ユニット９は加重
モータ５９２に信号を送る。このとき真空排気も停止す
るように制御される。
【００７６】なお、上記のようにして転写ユニット５に
おいて基板ＷへのＳＯＧ膜１２１の転写が完了すると、
基板ＷはＳＯＧ膜（薄膜）を挟んでシートフィルムＦと
一体となっており、転写ユニット５に進入してきた基板
用ハンド２４の吸着孔２４６〜２４８で一体化状態のま
ま基板Ｗを吸着保持する。つまり、基板用ハンド２４の
下方側保持機構を用いて密着物（後の図１５中の符号Ｍ
に示すものであり、ＳＯＧ膜１２１を介して相互に密着
された基板ＷおよびシートフィルムＦである）を吸着保
持する。そして、その吸着保持状態のまま基板用ハンド
２４はチャンバ５１１から剥離ユニット６に密着物を搬
送する。
おいて基板ＷへのＳＯＧ膜１２１の転写が完了すると、
基板ＷはＳＯＧ膜（薄膜）を挟んでシートフィルムＦと
一体となっており、転写ユニット５に進入してきた基板
用ハンド２４の吸着孔２４６〜２４８で一体化状態のま
ま基板Ｗを吸着保持する。つまり、基板用ハンド２４の
下方側保持機構を用いて密着物（後の図１５中の符号Ｍ
に示すものであり、ＳＯＧ膜１２１を介して相互に密着
された基板ＷおよびシートフィルムＦである）を吸着保
持する。そして、その吸着保持状態のまま基板用ハンド
２４はチャンバ５１１から剥離ユニット６に密着物を搬
送する。
【００７７】Ｇ．剥離ユニット６
図１５は、図１の薄膜形成装置に設けられた剥離ユニッ
トを示す図である。この剥離ユニット６は、その内部が
処理チャンバー６１１となっている処理容器６１と、そ
の処理チャンバー６１１の下方に配置されて上記転写ユ
ニット５により形成された密着物ＭのシートフィルムＦ
を真空吸着する吸着プレート６２と、処理チャンバー６
１１において、吸着プレート６２の上方に設けられ、吸
着プレート６２上に載置された密着物Ｍの基板Ｗを吸着
可能で、上下方向（Ｚ方向）および、Ｘ方向に沿った軸
ＡＸ7周りに回動する基板吸着部６３とを備えている。
なお、同図中の符号１１１は基板Ｗの薄膜形成面１１２
に形成された電極配線を示している。
トを示す図である。この剥離ユニット６は、その内部が
処理チャンバー６１１となっている処理容器６１と、そ
の処理チャンバー６１１の下方に配置されて上記転写ユ
ニット５により形成された密着物ＭのシートフィルムＦ
を真空吸着する吸着プレート６２と、処理チャンバー６
１１において、吸着プレート６２の上方に設けられ、吸
着プレート６２上に載置された密着物Ｍの基板Ｗを吸着
可能で、上下方向（Ｚ方向）および、Ｘ方向に沿った軸
ＡＸ7周りに回動する基板吸着部６３とを備えている。
なお、同図中の符号１１１は基板Ｗの薄膜形成面１１２
に形成された電極配線を示している。
【００７８】また、基板吸着部６３には該基板吸着部６
３を軸ＡＸ7周りに回動させるため、ロータリ型のエア
シリンダなどを用いた回動機構６４が接続されている。
また、基板吸着部６３には昇降機構６５が設けられてい
る。
３を軸ＡＸ7周りに回動させるため、ロータリ型のエア
シリンダなどを用いた回動機構６４が接続されている。
また、基板吸着部６３には昇降機構６５が設けられてい
る。
【００７９】昇降機構６５は、エアシリンダなどの駆動
部材６６によって、基板吸着部６３における基板Ｗとの
接触面に対して進退するピン６７を有する。そして、基
板Ｗが上方を向いた状態になるよう基板吸着部６３が回
動したとき、ピン６７を上昇させることにより基板Ｗを
基板吸着部６３の上方に上昇させることが可能である。
部材６６によって、基板吸着部６３における基板Ｗとの
接触面に対して進退するピン６７を有する。そして、基
板Ｗが上方を向いた状態になるよう基板吸着部６３が回
動したとき、ピン６７を上昇させることにより基板Ｗを
基板吸着部６３の上方に上昇させることが可能である。
【００８０】処理容器６１の処理チャンバー６１１に
は、図示を省略する除電器が設けられており、処理チャ
ンバー６１１内においてオゾン（Ｏ3）雰囲気を形成可
能となっている。
は、図示を省略する除電器が設けられており、処理チャ
ンバー６１１内においてオゾン（Ｏ3）雰囲気を形成可
能となっている。
【００８１】次に、上記のように構成された剥離ユニッ
ト６の動作について説明する。転写ユニット５によりＳ
ＯＧ膜１２１を介してシートフィルムＦが貼り合わされ
た基板Ｗ、つまり密着物Ｍがセンターロボット２の基板
用ハンド２４により吸着保持されながら剥離ユニット６
の処理チャンバー６１１内に搬入される。このとき、基
板吸着部６３は上方に退避している。そして、基板用ハ
ンド２４は、シートフィルムＦが吸着プレート６２と接
触するように、密着物Ｍを吸着プレート６２に載置した
後、処理容器６１外に退避する。
ト６の動作について説明する。転写ユニット５によりＳ
ＯＧ膜１２１を介してシートフィルムＦが貼り合わされ
た基板Ｗ、つまり密着物Ｍがセンターロボット２の基板
用ハンド２４により吸着保持されながら剥離ユニット６
の処理チャンバー６１１内に搬入される。このとき、基
板吸着部６３は上方に退避している。そして、基板用ハ
ンド２４は、シートフィルムＦが吸着プレート６２と接
触するように、密着物Ｍを吸着プレート６２に載置した
後、処理容器６１外に退避する。
【００８２】そして、吸着プレート６２がシートフィル
ムＦを吸着する一方、上方に退避していた基板吸着部６
３が下降し基板Ｗの裏面（非薄膜形成面）を吸着する。
また、処理容器６１を密閉し、除電器を作動させて処理
チャンバー６１１内をオゾン雰囲気の状態にする。この
ようにシートフィルムＦを吸着することで該シートフィ
ルムＦを介してＳＯＧ膜１２１中の溶媒を排出してＳＯ
Ｇ膜１２１を乾燥させる。この乾燥処理によりシートフ
ィルムＦとＳＯＧ膜１２１との界面では、基板ＷとＳＯ
Ｇ膜１２１との界面に比べ、ＳＯＧ膜１２１の乾燥が促
進されて剥がれ易くなる。そして、所定時間後、基板吸
着部６３が上昇すると、シートフィルムＦとＳＯＧ膜１
２１との界面が剥離して、シートフィルムＦから基板Ｗ
へＳＯＧ膜が転写されることになる。
ムＦを吸着する一方、上方に退避していた基板吸着部６
３が下降し基板Ｗの裏面（非薄膜形成面）を吸着する。
また、処理容器６１を密閉し、除電器を作動させて処理
チャンバー６１１内をオゾン雰囲気の状態にする。この
ようにシートフィルムＦを吸着することで該シートフィ
ルムＦを介してＳＯＧ膜１２１中の溶媒を排出してＳＯ
Ｇ膜１２１を乾燥させる。この乾燥処理によりシートフ
ィルムＦとＳＯＧ膜１２１との界面では、基板ＷとＳＯ
Ｇ膜１２１との界面に比べ、ＳＯＧ膜１２１の乾燥が促
進されて剥がれ易くなる。そして、所定時間後、基板吸
着部６３が上昇すると、シートフィルムＦとＳＯＧ膜１
２１との界面が剥離して、シートフィルムＦから基板Ｗ
へＳＯＧ膜が転写されることになる。
【００８３】次に、上昇した基板吸着部６３は回動機構
６４によって軸ＡＸ7周りに回動し、基板Ｗの薄膜形成
面１１２が上方を向いて水平姿勢になるような状態、つ
まりフェースアップ状態で停止する。その後、基板吸着
部６３は基板Ｗの吸着を解除するとともに、昇降機構６
５が基板Ｗを上昇させる。すなわち、駆動部材６６によ
ってピン６７を上昇させることによって、基板Ｗを基板
吸着部６３との接触面から上昇させる。
６４によって軸ＡＸ7周りに回動し、基板Ｗの薄膜形成
面１１２が上方を向いて水平姿勢になるような状態、つ
まりフェースアップ状態で停止する。その後、基板吸着
部６３は基板Ｗの吸着を解除するとともに、昇降機構６
５が基板Ｗを上昇させる。すなわち、駆動部材６６によ
ってピン６７を上昇させることによって、基板Ｗを基板
吸着部６３との接触面から上昇させる。
【００８４】そして、上昇した基板Ｗは基板用ハンド２
４によって次の説明する反転ユニット８に搬送され、さ
らにインデクサ部ＩＤの基板搬送ロボット１２によって
基板収容カセット１１に収容される。
４によって次の説明する反転ユニット８に搬送され、さ
らにインデクサ部ＩＤの基板搬送ロボット１２によって
基板収容カセット１１に収容される。
【００８５】Ｈ．反転ユニット８
図１６は、図１の薄膜形成装置に設けられた反転ユニッ
トの構成を示す図であり、同図（ａ）は反転ユニットを
上方より見た平面図であり、同図（ｂ)は同図（ａ）の
Ｄ−Ｄ線断面図である。この反転ユニット８はセンター
ロボット２の基板用ハンド２４との間で基板Ｗを受渡す
ための一対の基板チャック８１，８１を有している。こ
の基板チャック対８１，８１は互いに対向して離間配置
されている。また、各基板チャック８１はロータリーシ
リンダ８２のロッド８３の先端部に取付けられており、
ロッド８３のＸ方向移動に伴いＸ方向に移動し、またロ
ッド８３の回転動作に伴いロッド８３回りに１８０゜回
転する。
トの構成を示す図であり、同図（ａ）は反転ユニットを
上方より見た平面図であり、同図（ｂ)は同図（ａ）の
Ｄ−Ｄ線断面図である。この反転ユニット８はセンター
ロボット２の基板用ハンド２４との間で基板Ｗを受渡す
ための一対の基板チャック８１，８１を有している。こ
の基板チャック対８１，８１は互いに対向して離間配置
されている。また、各基板チャック８１はロータリーシ
リンダ８２のロッド８３の先端部に取付けられており、
ロッド８３のＸ方向移動に伴いＸ方向に移動し、またロ
ッド８３の回転動作に伴いロッド８３回りに１８０゜回
転する。
【００８６】このため、相互に離間している基板チャッ
ク対８１，８１の間に未処理の基板Ｗがインデクサ部Ｉ
Ｄの基板搬送ロボット１２によって搬送されてくると、
両ロッド８３が伸長して同図に示すように基板チャック
対８１，８１が基板Ｗを挟持した後、基板搬送ロボット
１２が退避する。そして、両ロッド８３が１８０゜回転
する。これによって、フェースアップ状態、つまり薄膜
形成面１１２に形成された電極配線１１１を上方に向け
た状態で搬送されてきた基板Ｗは反転されてフェースダ
ウン状態となる。
ク対８１，８１の間に未処理の基板Ｗがインデクサ部Ｉ
Ｄの基板搬送ロボット１２によって搬送されてくると、
両ロッド８３が伸長して同図に示すように基板チャック
対８１，８１が基板Ｗを挟持した後、基板搬送ロボット
１２が退避する。そして、両ロッド８３が１８０゜回転
する。これによって、フェースアップ状態、つまり薄膜
形成面１１２に形成された電極配線１１１を上方に向け
た状態で搬送されてきた基板Ｗは反転されてフェースダ
ウン状態となる。
【００８７】一方、上記のように剥離ユニット６からフ
ェースアップ状態で基板用ハンド２４で機械的に保持さ
れたままセンターロボット２により、薄膜形成済の基板
Ｗが反転ユニット８に搬送されてくると、両ロッド８３
が伸長して同図に示すように基板チャック対８１，８１
が基板Ｗを挟持しするのみで、反転処理を行わず、その
まま基板搬送ロボット１２に受け渡す。
ェースアップ状態で基板用ハンド２４で機械的に保持さ
れたままセンターロボット２により、薄膜形成済の基板
Ｗが反転ユニット８に搬送されてくると、両ロッド８３
が伸長して同図に示すように基板チャック対８１，８１
が基板Ｗを挟持しするのみで、反転処理を行わず、その
まま基板搬送ロボット１２に受け渡す。
【００８８】Ｉ．動作
図１７は上記のように構成された薄膜形成装置の全体動
作を示す図であり、同図中の実線矢印は基板Ｗの搬送順
序を示し、１点鎖線矢印はシートフィルムＦの搬送順序
を示し、白抜矢印は密着物Ｍの搬送を示している。この
薄膜形成装置では、その表面に電極配線１１１が形成さ
れた基板Ｗが基板収容カセット１１に収容される一方、
シートフィルムＦがフィルム収容カセット７１に収容さ
れている。そして、フィルム収容カセット７１の最上部
に位置しているシートフィルムＦをフィルム用ハンド２
５により塗布ユニット３に搬送し、そのシートフィルム
Ｆの表面にＳＯＧ膜１２１を塗布する（ステップＳ１：
塗布処理）。ここで、フィルム収容カセット７１の最上
部に離形シートＳＨが位置している場合には上記「Ｃ．
フィルム供給ユニット（フィルム供給機構）７およびフ
ィルム収容カセット７１」の項で説明した動作手順で最
上部の離形シートＳＨを取り除いてシートフィルムＦを
最上部に位置させた後で、上記した塗布ユニット３への
シートフィルムＦの搬送、ならびに塗布ユニット３によ
る塗布処理を実行する。
作を示す図であり、同図中の実線矢印は基板Ｗの搬送順
序を示し、１点鎖線矢印はシートフィルムＦの搬送順序
を示し、白抜矢印は密着物Ｍの搬送を示している。この
薄膜形成装置では、その表面に電極配線１１１が形成さ
れた基板Ｗが基板収容カセット１１に収容される一方、
シートフィルムＦがフィルム収容カセット７１に収容さ
れている。そして、フィルム収容カセット７１の最上部
に位置しているシートフィルムＦをフィルム用ハンド２
５により塗布ユニット３に搬送し、そのシートフィルム
Ｆの表面にＳＯＧ膜１２１を塗布する（ステップＳ１：
塗布処理）。ここで、フィルム収容カセット７１の最上
部に離形シートＳＨが位置している場合には上記「Ｃ．
フィルム供給ユニット（フィルム供給機構）７およびフ
ィルム収容カセット７１」の項で説明した動作手順で最
上部の離形シートＳＨを取り除いてシートフィルムＦを
最上部に位置させた後で、上記した塗布ユニット３への
シートフィルムＦの搬送、ならびに塗布ユニット３によ
る塗布処理を実行する。
【００８９】また、このシートフィルムＦの搬出および
塗布処理と並行して、インデクサ部ＩＤにおいて、基板
搬送ロボット１２によって基板収容カセット１１に収容
されている基板Ｗをフェースアップ状態のまま取り出
し、反転ユニット８に搬送する。そして、反転ユニット
８により基板Ｗを反転してフェースダウン状態にする
（ステップＳ２：反転処理）。そして、基板用ハンド２
４の基板支持ブロック２４５で反転ユニット８から基板
Ｗを受取り、転写ユニット５に搬送し、転写ユニット５
の第１プレート５４の下面に装着する。このように、こ
の実施形態では基板用ハンド２４の上方側保持機構によ
って基板Ｗを保持して反転ユニット８から転写ユニット
５に搬送している。
塗布処理と並行して、インデクサ部ＩＤにおいて、基板
搬送ロボット１２によって基板収容カセット１１に収容
されている基板Ｗをフェースアップ状態のまま取り出
し、反転ユニット８に搬送する。そして、反転ユニット
８により基板Ｗを反転してフェースダウン状態にする
（ステップＳ２：反転処理）。そして、基板用ハンド２
４の基板支持ブロック２４５で反転ユニット８から基板
Ｗを受取り、転写ユニット５に搬送し、転写ユニット５
の第１プレート５４の下面に装着する。このように、こ
の実施形態では基板用ハンド２４の上方側保持機構によ
って基板Ｗを保持して反転ユニット８から転写ユニット
５に搬送している。
【００９０】一方、塗布処理が完了すると、フィルム用
ハンド２５によってシートフィルムＦを塗布ユニット３
から乾燥ユニット４に搬送し、この乾燥ユニット４にお
いてシートフィルムＦ上のＳＯＧ膜１２１を乾燥させる
（ステップＳ３：乾燥処理）。ここで、乾燥処理を必要
としない場合には、フィルム用ハンド２５によってシー
トフィルムＦを塗布ユニット３から直接転写ユニット５
に搬送し、第２プレート５５上にシートフィルムＦを装
着する。
ハンド２５によってシートフィルムＦを塗布ユニット３
から乾燥ユニット４に搬送し、この乾燥ユニット４にお
いてシートフィルムＦ上のＳＯＧ膜１２１を乾燥させる
（ステップＳ３：乾燥処理）。ここで、乾燥処理を必要
としない場合には、フィルム用ハンド２５によってシー
トフィルムＦを塗布ユニット３から直接転写ユニット５
に搬送し、第２プレート５５上にシートフィルムＦを装
着する。
【００９１】こうして、転写ユニット５において基板Ｗ
およびシートフィルムＦがそれぞれ第１および第２プレ
ート５４，５５にセットされると、上記「Ｆ．転写ユニ
ット５」の項で詳述した動作手順で基板ＷへのＳＯＧ膜
１２１の転写を行う（ステップＳ４:転写処理）。
およびシートフィルムＦがそれぞれ第１および第２プレ
ート５４，５５にセットされると、上記「Ｆ．転写ユニ
ット５」の項で詳述した動作手順で基板ＷへのＳＯＧ膜
１２１の転写を行う（ステップＳ４:転写処理）。
【００９２】次に、基板用ハンド２４を転写ユニット５
に進入させ、ハンド本体２４３の下面側で基板Ｗを吸着
保持した後、その吸着状態のまま密着物Ｍを剥離ユニッ
ト６に搬送する。このように、転写ユニット５から剥離
ユニット６への密着物Ｍの搬送については、基板用ハン
ド２４の下方側保持機構を用いている。
に進入させ、ハンド本体２４３の下面側で基板Ｗを吸着
保持した後、その吸着状態のまま密着物Ｍを剥離ユニッ
ト６に搬送する。このように、転写ユニット５から剥離
ユニット６への密着物Ｍの搬送については、基板用ハン
ド２４の下方側保持機構を用いている。
【００９３】そして、剥離ユニット６に搬送された密着
物ＭからシートフィルムＦのみを選択的に剥離させる
（ステップＳ５：剥離処理）。こうすることで薄膜形成
面１１２にＳＯＧ膜１２１のみが形成された基板Ｗを得
ることができる。そして、この基板Ｗをフェースアップ
状態で基板用ハンド２４の基板支持ブロック２４５で保
持しながら反転ユニット８に搬送する。すなわち、基板
用ハンド２４の上方側保持機構を用いて基板搬送を行っ
ている。一方、剥離されたシートフィルムＦについては
廃却する。
物ＭからシートフィルムＦのみを選択的に剥離させる
（ステップＳ５：剥離処理）。こうすることで薄膜形成
面１１２にＳＯＧ膜１２１のみが形成された基板Ｗを得
ることができる。そして、この基板Ｗをフェースアップ
状態で基板用ハンド２４の基板支持ブロック２４５で保
持しながら反転ユニット８に搬送する。すなわち、基板
用ハンド２４の上方側保持機構を用いて基板搬送を行っ
ている。一方、剥離されたシートフィルムＦについては
廃却する。
【００９４】こうして反転ユニット８に戻された薄膜形
成済の基板Ｗについては、インデクサ部ＩＤで基板搬送
ロボット１２を用いて基板収容カセット１１に収容され
る。
成済の基板Ｗについては、インデクサ部ＩＤで基板搬送
ロボット１２を用いて基板収容カセット１１に収容され
る。
【００９５】Ｊ．作用効果
以上のように、この実施形態によれば、次のような作用
効果が得られる。
効果が得られる。
【００９６】(1)このように構成された薄膜形成装置で
は、プロセス部ＰＰにおいて、本発明の「搬送手段」と
して機能するセンターロボット２がシートフィルムＦお
よび／または基板Ｗを塗布ユニット（塗布手段）３、乾
燥ユニット（乾燥手段）４、転写ユニット（転写手段）
５および剥離ユニット（剥離手段）６の間で搬送し、シ
ートフィルムＦを用いた基板Ｗへの薄膜形成を行うよう
に構成しているので、オペレータを介することなく、シ
ートフィルムＦを用いた薄膜形成が可能となっている。
また、フィルム供給ユニット（フィルム供給手段）７を
プロセス部ＰＰに設けてシートフィルムＦをプロセス部
ＰＰに直接的に供給しているので、シートフィルムＦの
搬送効率を高めることができ、装置のスループットを向
上させることができる。
は、プロセス部ＰＰにおいて、本発明の「搬送手段」と
して機能するセンターロボット２がシートフィルムＦお
よび／または基板Ｗを塗布ユニット（塗布手段）３、乾
燥ユニット（乾燥手段）４、転写ユニット（転写手段）
５および剥離ユニット（剥離手段）６の間で搬送し、シ
ートフィルムＦを用いた基板Ｗへの薄膜形成を行うよう
に構成しているので、オペレータを介することなく、シ
ートフィルムＦを用いた薄膜形成が可能となっている。
また、フィルム供給ユニット（フィルム供給手段）７を
プロセス部ＰＰに設けてシートフィルムＦをプロセス部
ＰＰに直接的に供給しているので、シートフィルムＦの
搬送効率を高めることができ、装置のスループットを向
上させることができる。
【００９７】(2)センターロボット２をプロセス部ＰＰ
のほぼ中央部に固定的に配置する一方、このセンターロ
ボット２の周囲に塗布ユニット（塗布手段）３、乾燥ユ
ニット（乾燥手段）４、転写ユニット（転写手段）５、
剥離ユニット（剥離手段）６、フィルム供給ユニット
（フィルム供給手段）７および反転ユニット８を配置す
るとともに、各ユニット３〜８に対して基板用ハンド２
４またはフィルム用ハンド２５を直接的にアクセスさせ
るように構成しているので、センターロボット２の搬送
経路を設ける必要がなくなり、装置のコンパクト化にと
って有利となっている。
のほぼ中央部に固定的に配置する一方、このセンターロ
ボット２の周囲に塗布ユニット（塗布手段）３、乾燥ユ
ニット（乾燥手段）４、転写ユニット（転写手段）５、
剥離ユニット（剥離手段）６、フィルム供給ユニット
（フィルム供給手段）７および反転ユニット８を配置す
るとともに、各ユニット３〜８に対して基板用ハンド２
４またはフィルム用ハンド２５を直接的にアクセスさせ
るように構成しているので、センターロボット２の搬送
経路を設ける必要がなくなり、装置のコンパクト化にと
って有利となっている。
【００９８】(3)センターロボット２は上方側保持機構
および下方側保持機構を有しており、２つの保持態様で
保持しながら基板Ｗを搬送することが可能となってお
り、上記実施形態では基板Ｗの状態に応じて保持態様を
切替えている。このように、基板Ｗの状態に適応し、し
かも効率的に基板搬送を行うことが可能となっている。
および下方側保持機構を有しており、２つの保持態様で
保持しながら基板Ｗを搬送することが可能となってお
り、上記実施形態では基板Ｗの状態に応じて保持態様を
切替えている。このように、基板Ｗの状態に適応し、し
かも効率的に基板搬送を行うことが可能となっている。
【００９９】(4)シートフィルムＦ上のＳＯＧ膜１２１
を基板Ｗの薄膜形成面１１２に転写する転写手段として
は、上記実施形態にかかる転写ユニット５以外に従来よ
り提案されている種々の装置、例えば特開２００１−１
３５６３４号公報に記載された装置などを用いてもよ
い。しかしながら、この実施形態では傾斜補正機構５８
を、上記「Ｆ．転写ユニット５」の項で詳述したよう
に、２つの回動軸ＡＸ5，ＡＸ6を回動中心とする軸回動
により上下方向Ｚに対して第１プレート５４を傾斜可能
に構成した転写ユニット５を用いているため、図１に示
すように乾燥ユニット４と転写ユニット５とを上下方向
Ｚに重ね合わせて配置することができ、薄膜形成装置を
設置するために必要となる占有床面積、つまりフットプ
リントを低減することができる。ここで、その理由は以
下のとおりである。すなわち、基板Ｗの全面を均一な加
重圧力でシートフィルムＦに押し付けるために、例えば
上記公報に記載の傾斜補正機構、つまり第１プレートを
凸プレートと凹プレートの球面に沿って回動させること
で傾斜補正を行う機構を転写ユニットに組み込むことが
従来より提案されているが、この提案例では上下方向Ｚ
に大型化してしまうという問題があり、転写ユニットと
乾燥ユニットとを積層配置することは事実上困難であっ
た。これに対し、上記実施形態にかかる転写ユニットに
よれば、従来の転写ユニットに比べ転写ユニット５の高
さを大幅に低くすることができ、乾燥ユニット４を該転
写ユニット５と上下方向に重ね合わせて配置してプット
プリントの低減を可能としている。
を基板Ｗの薄膜形成面１１２に転写する転写手段として
は、上記実施形態にかかる転写ユニット５以外に従来よ
り提案されている種々の装置、例えば特開２００１−１
３５６３４号公報に記載された装置などを用いてもよ
い。しかしながら、この実施形態では傾斜補正機構５８
を、上記「Ｆ．転写ユニット５」の項で詳述したよう
に、２つの回動軸ＡＸ5，ＡＸ6を回動中心とする軸回動
により上下方向Ｚに対して第１プレート５４を傾斜可能
に構成した転写ユニット５を用いているため、図１に示
すように乾燥ユニット４と転写ユニット５とを上下方向
Ｚに重ね合わせて配置することができ、薄膜形成装置を
設置するために必要となる占有床面積、つまりフットプ
リントを低減することができる。ここで、その理由は以
下のとおりである。すなわち、基板Ｗの全面を均一な加
重圧力でシートフィルムＦに押し付けるために、例えば
上記公報に記載の傾斜補正機構、つまり第１プレートを
凸プレートと凹プレートの球面に沿って回動させること
で傾斜補正を行う機構を転写ユニットに組み込むことが
従来より提案されているが、この提案例では上下方向Ｚ
に大型化してしまうという問題があり、転写ユニットと
乾燥ユニットとを積層配置することは事実上困難であっ
た。これに対し、上記実施形態にかかる転写ユニットに
よれば、従来の転写ユニットに比べ転写ユニット５の高
さを大幅に低くすることができ、乾燥ユニット４を該転
写ユニット５と上下方向に重ね合わせて配置してプット
プリントの低減を可能としている。
【０１００】(5)シートフィルムＦの間に離形シートＳ
Ｈを介在させた状態でシートフィルムＦをフィルム収容
カセット７１に収容しているので、シートフィルム同士
の密着を防止することができ、各シートフィルムＦを確
実に分離して使用することができる。そして、フィルム
収容カセット７１において離形シートＳＨが最上部に位
置することで、シートフィルムＦの汚染を効果的に防止
することができる。また、この実施形態では、離形シー
ト除去機構７４が設けられており、最上部に位置する離
形シートＳＨを取り除くように構成しているので、フィ
ルム収容カセット７１において最上部にシートフィルム
Ｆが位置させることができ、フィルム収容カセット７１
からのシートフィルムＦの取り出しが容易となる。その
結果、オペレータを介することなく、必要に応じてシー
トフィルムＦの供給が可能となり、効率的にシートフィ
ルムＦを供給することができる。なお、シートフィルム
Ｆは樹脂製の薄板状物もしくは薄膜状物である。また、
離形シートＳＨはシートフィルムＦの保護、帯電抑制の
ため、シートフィルムＦ間に挟まれる薄板状物もしくは
薄膜状物である。材料としては、帯電抑制や発塵抑制の
点で無塵紙が好ましく、その他、紙、樹脂などを用いる
ことができる。
Ｈを介在させた状態でシートフィルムＦをフィルム収容
カセット７１に収容しているので、シートフィルム同士
の密着を防止することができ、各シートフィルムＦを確
実に分離して使用することができる。そして、フィルム
収容カセット７１において離形シートＳＨが最上部に位
置することで、シートフィルムＦの汚染を効果的に防止
することができる。また、この実施形態では、離形シー
ト除去機構７４が設けられており、最上部に位置する離
形シートＳＨを取り除くように構成しているので、フィ
ルム収容カセット７１において最上部にシートフィルム
Ｆが位置させることができ、フィルム収容カセット７１
からのシートフィルムＦの取り出しが容易となる。その
結果、オペレータを介することなく、必要に応じてシー
トフィルムＦの供給が可能となり、効率的にシートフィ
ルムＦを供給することができる。なお、シートフィルム
Ｆは樹脂製の薄板状物もしくは薄膜状物である。また、
離形シートＳＨはシートフィルムＦの保護、帯電抑制の
ため、シートフィルムＦ間に挟まれる薄板状物もしくは
薄膜状物である。材料としては、帯電抑制や発塵抑制の
点で無塵紙が好ましく、その他、紙、樹脂などを用いる
ことができる。
【０１０１】(6)フィルム収容カセット７１が薄膜形成
装置に対して着脱自在となっているので、予めシートフ
ィルムＦを収容しておいたフィルム収容カセット７１を
準備しておき、必要に応じてフィルム収容カセット７１
を装置に装着することでシートフィルムＦを補給するこ
とができ、シートフィルムＦの供給をより効率的なもの
とすることができる。
装置に対して着脱自在となっているので、予めシートフ
ィルムＦを収容しておいたフィルム収容カセット７１を
準備しておき、必要に応じてフィルム収容カセット７１
を装置に装着することでシートフィルムＦを補給するこ
とができ、シートフィルムＦの供給をより効率的なもの
とすることができる。
【０１０２】(7)フィルム用ハンド２５の内部に形成さ
れた内部空間２５４をブロアにより負圧状態にしてフィ
ルム用ハンド２５にシートフィルムＦを吸着保持させ
る、つまり排気流量を高めて吸着孔に負圧を与えている
ため、仮に吸着孔２４６〜２４８からブロアに至るまで
に排気経路の一部でリークが発生したとしても、リーク
量に対応する量だけ負圧が減少するが、シートフィルム
Ｆを吸着保持するのに十分な負圧を発生させることは可
能であり、優れた安定性でシートフィルムＦを搬送する
ことができ、効率的なシートフィルム搬送を行うことが
できる。
れた内部空間２５４をブロアにより負圧状態にしてフィ
ルム用ハンド２５にシートフィルムＦを吸着保持させ
る、つまり排気流量を高めて吸着孔に負圧を与えている
ため、仮に吸着孔２４６〜２４８からブロアに至るまで
に排気経路の一部でリークが発生したとしても、リーク
量に対応する量だけ負圧が減少するが、シートフィルム
Ｆを吸着保持するのに十分な負圧を発生させることは可
能であり、優れた安定性でシートフィルムＦを搬送する
ことができ、効率的なシートフィルム搬送を行うことが
できる。
【０１０３】Ｋ．その他
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものでは
なく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの
以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上
記実施形態では、図１に示すようにセンターロボット２
を中心として処理ユニット３〜８を放射状に配置してい
るが、センターロボット２および各処理ユニット３〜８
の配置レイアウトはこれに限定されるものではなく、セ
ンターロボット２が所定の搬送経路に沿って移動自在に
構成するとともに、その搬送経路に沿って、その搬送経
路の両側あるいは片側に処理ユニット３〜８を配置する
ようにしてもよい。
なく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの
以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上
記実施形態では、図１に示すようにセンターロボット２
を中心として処理ユニット３〜８を放射状に配置してい
るが、センターロボット２および各処理ユニット３〜８
の配置レイアウトはこれに限定されるものではなく、セ
ンターロボット２が所定の搬送経路に沿って移動自在に
構成するとともに、その搬送経路に沿って、その搬送経
路の両側あるいは片側に処理ユニット３〜８を配置する
ようにしてもよい。
【０１０４】また、上記実施形態では、シートフィルム
Ｆに対する処理を行うユニットとして、塗布処理を行う
塗布ユニット３、乾燥処理を行う乾燥ユニット４、転写
処理を行う転写ユニット５、および剥離処理を行う剥離
ユニット６を設けているが、これらのユニット以外に別
の処理ユニット、例えばシートフィルムＦに対して親水
性の表面処理を施す親水性処理用ユニットをさらに組み
込んだり、逆に一部のユニットを削除したりしてもよ
く、シートフィルムＦを取り扱うユニットを設けた薄膜
形成装置全般に本発明を適用することができる。
Ｆに対する処理を行うユニットとして、塗布処理を行う
塗布ユニット３、乾燥処理を行う乾燥ユニット４、転写
処理を行う転写ユニット５、および剥離処理を行う剥離
ユニット６を設けているが、これらのユニット以外に別
の処理ユニット、例えばシートフィルムＦに対して親水
性の表面処理を施す親水性処理用ユニットをさらに組み
込んだり、逆に一部のユニットを削除したりしてもよ
く、シートフィルムＦを取り扱うユニットを設けた薄膜
形成装置全般に本発明を適用することができる。
【０１０５】また、上記実施形態では、転写手段に相当
する転写ユニット５と、剥離手段に相当する剥離ユニッ
ト６とを相互に異なる別ユニットで構成しているが、こ
れらのユニット５，６の代わりに転写手段と剥離手段と
を兼ね備えたユニットを設けた薄膜形成装置に対して本
発明を適用するようにしてもよい。
する転写ユニット５と、剥離手段に相当する剥離ユニッ
ト６とを相互に異なる別ユニットで構成しているが、こ
れらのユニット５，６の代わりに転写手段と剥離手段と
を兼ね備えたユニットを設けた薄膜形成装置に対して本
発明を適用するようにしてもよい。
【０１０６】また、上記実施形態では、転写ユニット５
の上下方向Ｚに乾燥ユニット４を積層配置しているが、
乾燥ユニット４を他の処理ユニットに対して積層配置し
たり、乾燥ユニット４を独立して配置したり、乾燥ユニ
ット４を独立配置する場合であっても、複数の乾燥ユニ
ット４を一括して積層配置するようにしてもよい。な
お、乾燥処理を必要としない場合には、乾燥ユニット４
の配設を省略してもよいことは言うまでもない。
の上下方向Ｚに乾燥ユニット４を積層配置しているが、
乾燥ユニット４を他の処理ユニットに対して積層配置し
たり、乾燥ユニット４を独立して配置したり、乾燥ユニ
ット４を独立配置する場合であっても、複数の乾燥ユニ
ット４を一括して積層配置するようにしてもよい。な
お、乾燥処理を必要としない場合には、乾燥ユニット４
の配設を省略してもよいことは言うまでもない。
【０１０７】また、センターロボット２は、２つの保持
態様を有し、基板Ｗに応じて保持態様を切替えながら基
板を搬送したり、同時に２枚の基板を搬送することが可
能となっているという特徴を備え、本発明の搬送機構に
相当するものである。そして、上記実施形態では、かか
る特徴を利用すべく、センターロボット２を薄膜形成装
置に適用しているが、本発明にかかる搬送機構について
は、基板搬送を伴う装置全般に適用することができ、上
記した効果(3)、つまり基板の状態に適応し、しかも効
率的に基板搬送を行うことができるという効果が得られ
る。
態様を有し、基板Ｗに応じて保持態様を切替えながら基
板を搬送したり、同時に２枚の基板を搬送することが可
能となっているという特徴を備え、本発明の搬送機構に
相当するものである。そして、上記実施形態では、かか
る特徴を利用すべく、センターロボット２を薄膜形成装
置に適用しているが、本発明にかかる搬送機構について
は、基板搬送を伴う装置全般に適用することができ、上
記した効果(3)、つまり基板の状態に適応し、しかも効
率的に基板搬送を行うことができるという効果が得られ
る。
【０１０８】また、この発明は、凹凸パターンを有する
基板の凹部に空隙を作らずに薄膜を圧着し、かつ、薄膜
の表面を平坦にする処理に好適である。たとえば、金属
などの配線パターンを有する基板に層間絶縁膜としてＳ
ＯＤ膜やＳＯＧ膜を形成する場合や、コンタクトホール
などの穴や溝形状を有する基板に導電性の薄膜を埋め込
んだりする場合が挙げられる。
基板の凹部に空隙を作らずに薄膜を圧着し、かつ、薄膜
の表面を平坦にする処理に好適である。たとえば、金属
などの配線パターンを有する基板に層間絶縁膜としてＳ
ＯＤ膜やＳＯＧ膜を形成する場合や、コンタクトホール
などの穴や溝形状を有する基板に導電性の薄膜を埋め込
んだりする場合が挙げられる。
【０１０９】また、この発明は、半導体ウエハや液晶パ
ネル用ガラス基板以外に、フォトマスク用ガラス基板、
プラズマ表示用ガラス基板、光ディスク用基板などの基
板に薄膜を形成する場合のみならず、さらにはＩＣカー
ドや太陽電池装置の製造などにも適用することができ
る。
ネル用ガラス基板以外に、フォトマスク用ガラス基板、
プラズマ表示用ガラス基板、光ディスク用基板などの基
板に薄膜を形成する場合のみならず、さらにはＩＣカー
ドや太陽電池装置の製造などにも適用することができ
る。
【０１１０】
【発明の効果】以上のように、この発明にかかる薄膜形
成装置によれば、プロセス部において、搬送手段がシー
トフィルムおよび／または基板を塗布手段、転写手段お
よび剥離手段の間で搬送し、シートフィルムを用いた基
板への薄膜形成を行うように構成しているので、オペレ
ータを介することなく、シートフィルムを用いた薄膜形
成が可能となっている。また、フィルム供給手段をプロ
セス部に設けてシートフィルムをプロセス部に直接的に
供給しているので、シートフィルムの搬送効率が高ま
り、スループットを向上させることができる。
成装置によれば、プロセス部において、搬送手段がシー
トフィルムおよび／または基板を塗布手段、転写手段お
よび剥離手段の間で搬送し、シートフィルムを用いた基
板への薄膜形成を行うように構成しているので、オペレ
ータを介することなく、シートフィルムを用いた薄膜形
成が可能となっている。また、フィルム供給手段をプロ
セス部に設けてシートフィルムをプロセス部に直接的に
供給しているので、シートフィルムの搬送効率が高ま
り、スループットを向上させることができる。
【０１１１】また、この発明にかかるフィルム供給機構
およびフィルム収容カセットによれば、その最上部の離
形シートをフィルム収容カセットから取り除いてフィル
ム収容カセットにおいて最上部にシートフィルムを位置
させてフィルム収容カセットからのシートフィルムの取
り出しが可能となるように構成しているので、シートフ
ィルムをオペレータを介することなく効率良く供給する
ことができる。
およびフィルム収容カセットによれば、その最上部の離
形シートをフィルム収容カセットから取り除いてフィル
ム収容カセットにおいて最上部にシートフィルムを位置
させてフィルム収容カセットからのシートフィルムの取
り出しが可能となるように構成しているので、シートフ
ィルムをオペレータを介することなく効率良く供給する
ことができる。
【０１１２】また、この発明にかかるシートフィルムの
搬送機構によれば、ブロア排気によりシートフィルムを
吸着保持しながら該シートフィルムを搬送するように構
成しているので、優れた安定性でシートフィルムを搬送
することができ、効率的なシートフィルム搬送を行うこ
とができる。
搬送機構によれば、ブロア排気によりシートフィルムを
吸着保持しながら該シートフィルムを搬送するように構
成しているので、優れた安定性でシートフィルムを搬送
することができ、効率的なシートフィルム搬送を行うこ
とができる。
【０１１３】また、この発明にかかる基板の搬送機構お
よび搬送方法によれば、互いに異なる態様で基板を保持
しながら搬送可能に構成されており、しかも基板の状態
に応じて保持態様を切替えるように構成しているので、
その基板の状態に適応し、しかも効率的に基板搬送を行
うことができる。
よび搬送方法によれば、互いに異なる態様で基板を保持
しながら搬送可能に構成されており、しかも基板の状態
に応じて保持態様を切替えるように構成しているので、
その基板の状態に適応し、しかも効率的に基板搬送を行
うことができる。
【図１】この発明にかかる薄膜形成装置の一実施形態を
示すレイアウト図である。
示すレイアウト図である。
【図２】センターロボットを示す図である。
【図３】図２のセンターロボットを構成する基板用ハン
ドの構成を示す図である。
ドの構成を示す図である。
【図４】図２のセンターロボットを構成するフィルム用
ハンドの構成を示す図である。
ハンドの構成を示す図である。
【図５】図１の薄膜形成装置に設けられたフィルム供給
ユニットの構成を示す図である。
ユニットの構成を示す図である。
【図６】図１の薄膜形成装置に設けられたフィルム収容
カセットの分解組立斜視図である。
カセットの分解組立斜視図である。
【図７】図５のフィルム供給ユニットに設けられた離形
シート除去機構を示す斜視図である。
シート除去機構を示す斜視図である。
【図８】図５のフィルム供給ユニットの動作を示す図で
ある。
ある。
【図９】図５のフィルム供給ユニットの動作を示す図で
ある。
ある。
【図１０】図１の薄膜形成装置に設けられる塗布ユニッ
トの構成を示す図である。
トの構成を示す図である。
【図１１】図１の薄膜形成装置に設けられる乾燥ユニッ
トを示す図である。
トを示す図である。
【図１２】図１の薄膜形成装置に設けられた転写ユニッ
トを示す概略断面図である。
トを示す概略断面図である。
【図１３】図１２のＣ−Ｃ線断面図である。
【図１４】図１２の転写ユニットに設けられた傾斜補正
機構を示す部分切欠斜視図である。
機構を示す部分切欠斜視図である。
【図１５】図１の薄膜形成装置に設けられた剥離ユニッ
トを示す図である。
トを示す図である。
【図１６】図１の薄膜形成装置に設けられた反転ユニッ
トの構成を示す図である。
トの構成を示す図である。
【図１７】図１の薄膜形成装置の全体動作を示す図であ
る。
る。
【図１８】従来の薄膜形成装置における薄膜形成手順を
示す図である。
示す図である。
２…センターロボット（搬送機構）
３…塗布ユニット（塗布手段）
４…乾燥ユニット（乾燥手段）
５…転写ユニット（転写手段）
６…剥離ユニット（剥離手段）
７…フィルム供給ユニット（フィルム供給手段、フィル
ム供給機構） ２２，２３…多関節アーム（駆動部） ２４…基板用ハンド（基板用保持部） ２５…フィルム用ハンド（フィルム用保持部） ５４…第１プレート（基板用プレート） ５５…第２プレート（フィルム用プレート） ５８…傾斜補正機構 ７１…フィルム収容カセット ７３…カバー開閉駆動機構 ７４…離形シート除去機構 ７６…離形シート回収ボックス（離形シート回収手段） ７７，７８…ガイド部材（離形シート回収手段） １１２…薄膜形成面 １２１…ＳＯＧ膜（薄膜） ２４３…ハンド本体 ２４５…基板支持ブロック（上方側保持機構） ２４６〜２４８…吸着孔（下方側保持機構） ２４９…溝部（下方側保持機構） ５９１…軸受 ５９２…加重モータ（加重機構） ＩＤ…インデクサ部 Ｆ…シートフィルム Ｍ…密着物 ＰＰ…プロセス部 ＳＨ…離形シート Ｗ…基板
ム供給機構） ２２，２３…多関節アーム（駆動部） ２４…基板用ハンド（基板用保持部） ２５…フィルム用ハンド（フィルム用保持部） ５４…第１プレート（基板用プレート） ５５…第２プレート（フィルム用プレート） ５８…傾斜補正機構 ７１…フィルム収容カセット ７３…カバー開閉駆動機構 ７４…離形シート除去機構 ７６…離形シート回収ボックス（離形シート回収手段） ７７，７８…ガイド部材（離形シート回収手段） １１２…薄膜形成面 １２１…ＳＯＧ膜（薄膜） ２４３…ハンド本体 ２４５…基板支持ブロック（上方側保持機構） ２４６〜２４８…吸着孔（下方側保持機構） ２４９…溝部（下方側保持機構） ５９１…軸受 ５９２…加重モータ（加重機構） ＩＤ…インデクサ部 Ｆ…シートフィルム Ｍ…密着物 ＰＰ…プロセス部 ＳＨ…離形シート Ｗ…基板
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１５年２月１０日（２００３．２．１
０）
０）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２５】また、この発明は、シートフィルムを用い
て薄膜を形成する薄膜形成装置に用いられる、シートフ
ィルムを搬送する搬送機構であって、上記第３の目的を
達成するため、シートフィルムと当接する当接領域に吸
着孔が設けられたフィルム用ハンドと、フィルム用ハン
ドの内部に形成された内部空間を介して吸着孔と連通さ
れ、内部空間の内部をブロア排気してシートフィルムを
フィルム用ハンドに吸着保持するブロアと、ブロアによ
りフィルム用ハンドにシートフィルムを吸着保持させた
状態のまま、フィルム用ハンドを移動させてシートフィ
ルムを搬送する駆動部とを備えている（請求項１４）。
て薄膜を形成する薄膜形成装置に用いられる、シートフ
ィルムを搬送する搬送機構であって、上記第３の目的を
達成するため、シートフィルムと当接する当接領域に吸
着孔が設けられたフィルム用ハンドと、フィルム用ハン
ドの内部に形成された内部空間を介して吸着孔と連通さ
れ、内部空間の内部をブロア排気してシートフィルムを
フィルム用ハンドに吸着保持するブロアと、ブロアによ
りフィルム用ハンドにシートフィルムを吸着保持させた
状態のまま、フィルム用ハンドを移動させてシートフィ
ルムを搬送する駆動部とを備えている（請求項１４）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００６７】次に、傾斜補正機構５８の構成について図
１２ないし図１４を参照しつつ詳述する。図１３は図１
２のＣ−Ｃ線断面図である。また、図１４は傾斜補正機
構を示す部分切欠斜視図である。この実施形態では、傾
斜補正機構５８は、第１プレート５４の外周を取り囲む
ように配設され、移動方向Ｚに対してほぼ直交する第１
方向Ｘに延びる第１軸部材５８１を介して第１プレート
５４に連結され、第１回動軸ＡＸ5を中心として第１プ
レート５４を回動自在に支持するリング状の第１支持体
５８２と、第１支持体５８２の外周に配設され、移動方
向Ｚおよび第１方向Ｘに対してほぼ直交する第２方向Ｙ
に延びる第２軸部材５８３を介して第１支持体５８２に
連結され、第２回動軸ＡＸ6を中心として第１支持体５
８２を回動自在に支持する第２支持体５８４とを備えて
いる。なお、この実施形態では、図１４に示すように、
第１プレート５４に装着された基板Ｗの表面、つまり薄
膜形成面１１２の面内に第１および第２回動軸ＡＸ5、
ＡＸ6が存在するように、各軸部材５８１，５８３が設
けられている。
１２ないし図１４を参照しつつ詳述する。図１３は図１
２のＣ−Ｃ線断面図である。また、図１４は傾斜補正機
構を示す部分切欠斜視図である。この実施形態では、傾
斜補正機構５８は、第１プレート５４の外周を取り囲む
ように配設され、移動方向Ｚに対してほぼ直交する第１
方向Ｘに延びる第１軸部材５８１を介して第１プレート
５４に連結され、第１回動軸ＡＸ5を中心として第１プ
レート５４を回動自在に支持するリング状の第１支持体
５８２と、第１支持体５８２の外周に配設され、移動方
向Ｚおよび第１方向Ｘに対してほぼ直交する第２方向Ｙ
に延びる第２軸部材５８３を介して第１支持体５８２に
連結され、第２回動軸ＡＸ6を中心として第１支持体５
８２を回動自在に支持する第２支持体５８４とを備えて
いる。なお、この実施形態では、図１４に示すように、
第１プレート５４に装着された基板Ｗの表面、つまり薄
膜形成面１１２の面内に第１および第２回動軸ＡＸ5、
ＡＸ6が存在するように、各軸部材５８１，５８３が設
けられている。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 4M104 BB04 DD31 GG13
5F031 CA02 FA01 FA05 FA07 FA11
FA12 FA20 GA04 GA08 GA10
GA15 HA12 HA37 HA58 HA78
MA03 MA06 MA29 MA37 MA38
PA02 PA04
5F033 HH07 PP00 RR09 RR25 SS00
5F045 EB02 EB08 EB20 EK05 EM04
EN04 HA24
Claims (20)
- 【請求項１】 シートフィルムを用いて基板に薄膜を形
成するプロセス部と、前記プロセス部に基板を供給する
インデクサ部とを備えた薄膜形成装置において、 前記プロセス部は、 シートフィルムを供給するフィルム供給手段と、 前記フィルム供給手段から供給されるシートフィルムの
表面に薄膜用塗布液を塗布して薄膜を形成する塗布手段
と、 薄膜が形成されたシートフィルムと、前記インデクサ部
から供給された基板とを密着させて密着物を形成して前
記薄膜を前記基板に転写する転写手段と、 前記密着物から前記シートフィルムを剥離する剥離手段
と、 前記フィルム供給手段、前記塗布手段、前記転写手段お
よび前記剥離手段の間でシートフィルムおよび／または
基板を搬送する搬送手段とを備えたことを特徴とする薄
膜形成装置。 - 【請求項２】 前記フィルム供給手段、前記塗布手段、
前記転写手段および前記剥離手段は、前記搬送手段の周
囲に配設されている請求項１記載の薄膜形成装置。 - 【請求項３】 前記プロセス部では、前記搬送手段が搬
送経路に沿って移動自在となっており、しかも、前記搬
送経路に沿って、前記搬送経路の両側に前記フィルム供
給手段、前記塗布手段、前記転写手段および前記剥離手
段が配設されている請求項１記載の薄膜形成装置。 - 【請求項４】 前記プロセス部では、前記搬送手段が搬
送経路に沿って移動自在となっており、しかも、前記搬
送経路に沿って、前記搬送経路の片側に前記フィルム供
給手段、前記塗布手段、前記転写手段および前記剥離手
段が配設されている請求項１記載の薄膜形成装置。 - 【請求項５】 前記搬送手段は、前記シートフィルムを
保持するフィルム用保持部と、前記基板を保持する基板
用保持部と、前記フィルム用保持部および前記基板用保
持部を移動させて前記シートフィルムおよび前記基板を
搬送する駆動部とを備え、 前記基板用保持部は、ハンド本体と、前記ハンド本体の
上面側で基板を保持する上方側保持機構と、前記ハンド
本体の下面側で基板を保持する下方側保持機構とを有し
ている請求項１ないし４のいずれかに記載の薄膜形成装
置。 - 【請求項６】 前記塗布手段、前記転写手段および前記
剥離手段のうちの一に対して上下方向に重ね合わせて配
置され、前記シートフィルムの表面に塗布された薄膜用
塗布液を乾燥させる乾燥手段をさらに備えている請求項
１ないし５のいずれかに記載の薄膜形成装置。 - 【請求項７】 前記転写手段は、上下方向に沿って互い
に相対移動自在に対向して配設され、いずれか一方のプ
レートの対向面に基板が装着されるとともに、薄膜を有
するシートフィルムが他方のプレートの対向面に装着さ
れる第１および第２プレートと、前記第１および第２プ
レートうちの少なくとも一方を前記移動方向に沿って他
方側に移動させて前記基板と前記シートフィルムを所定
の時間押し付けて前記薄膜を前記基板に転写する加重機
構と、以下の第１および第２支持体を有し、前記第１プ
レートを前記移動方向に対して傾斜自在に保持し、前記
第２プレートに対する相対的な傾きを自動的に補正する
傾斜補正機構とを備えており、 前記乾燥手段は前記転写手段と上下方向に重ね合わせて
配置されている請求項６記載の薄膜形成装置。前記第１
支持体は、前記第１プレートの外周を取り囲むように配
設され、前記移動方向に対してほぼ直交する第１方向に
延びる第１回動軸を中心として前記第１プレートを回動
自在に支持する一方、 前記第２支持体は、前記第１支持体の外周に配設され、
前記移動方向および前記第１方向に対してほぼ直交する
第２方向に延びる第２回動軸を中心として前記第１支持
体を回動自在に支持する。 - 【請求項８】 シートフィルムを用いて基板に薄膜を形
成する薄膜形成装置に用いられる、前記シートフィルム
を供給するフィルム供給機構であって、 シートフィルムの間に離形シートを介在させた状態で前
記シートフィルムを収容するフィルム収容カセットと、 前記フィルム収容カセットにおいて最上部に位置する離
形シートを前記フィルム収容カセットから取り除くこと
によって、前記フィルム収容カセットにおいて最上部に
シートフィルムを位置させる離形シート除去手段とを備
えたことを特徴とするフィルム供給機構。 - 【請求項９】 収容されているシートフィルムを保護す
るための保護カバーが前記フィルム収容カセットに開閉
自在に設けられているとき、 前記保護カバーを開閉するカバー開閉手段がさらに設け
られた請求項８記載のフィルム供給機構。 - 【請求項１０】 前記フィルム収容カセットから取り除
かれた離形シートを回収する離形シート回収手段をさら
に備える請求項８または９記載のフィルム供給機構。 - 【請求項１１】 基板に薄膜を形成する薄膜形成装置に
用いられるシートフィルムを収容するフィルム収容カセ
ットであって、 シートフィルムの間に離形シートを介在させた状態で複
数のシートフィルムを収容可能となっているカセット本
体と、 前記カセット本体に収容されるシートフィルムおよび離
形シートの周縁部と係合してシートフィルムおよび離形
シートを前記カセット本体に対して位置決めする位置決
め部材とを備えたことを特徴とするフィルム収容カセッ
ト。 - 【請求項１２】 前記カセット本体に対して開閉自在に
設けられ、閉じた状態で前記カセット本体に収容された
シートフィルムおよび離形シートを上方より覆って保護
する一方、開いた状態で前記カセット本体に収容された
シートフィルムおよび離形シートを上方より搬出可能と
する保護カバーをさらに備えた請求項１１記載のフィル
ム収容カセット。 - 【請求項１３】 前記薄膜形成装置に対して着脱自在と
なっている請求項１１または１２記載のフィルム収容カ
セット。 - 【請求項１４】 シートフィルムを用いて薄膜を形成す
る薄膜形成装置に用いられる、前記シートフィルムを搬
送する搬送機構であって、 シートフィルムと当接する当接領域に吸着孔が設けられ
たフィルム用ハンドと、 前記フィルム用ハンドの内部に形成された内部空間を介
して前記吸着孔と連通され、前記内部空間の内部をブロ
ア排気して前記シートフィルムを前記フィルム用ハンド
に吸着保持するブロアと、 前記ブロアにより前記フィルム用ハンドに前記シートフ
ィルムを吸着保持させた状態まま、前記フィルム用ハン
ドを移動させて前記シートフィルムを搬送する駆動部と
を備えたことを特徴とする搬送機構。 - 【請求項１５】 前記シートフィルムの表面のうち中央
部に薄膜が形成される一方、表面周縁部が露出している
とき、 前記搬送機構は、前記フィルム用ハンドの当接領域を前
記表面周縁部に当接させて吸着保持する請求項１４記載
の搬送機構。 - 【請求項１６】 基板を保持しながら搬送する搬送機構
において、 ハンド本体と、 前記ハンド本体の上面側で基板を保持する上方側保持機
構と、 前記ハンド本体の下面側で基板を保持する下方側保持機
構と、 前記ハンド本体を移動させて前記基板を搬送する駆動部
とを備えたことを特徴とする搬送機構。 - 【請求項１７】 前記下方側保持機構は、前記ハンド本
体の下面側に形成された吸着孔によって基板を吸着保持
する請求項１６記載の搬送機構。 - 【請求項１８】 前記上方側保持機構は、前記ハンド本
体の上面側に設けられた基板支持部材により基板を支持
して機械的に保持する請求項１６または１７記載の搬送
機構。 - 【請求項１９】 ハンド本体の上面側で基板を保持して
該基板を搬送する第１搬送モードと、前記ハンド本体の
下面側で基板を保持して該基板を搬送する第２搬送モー
ドとを有し、基板の状態に応じて前記第１および第２搬
送モードの一方の搬送モードで基板を搬送することを特
徴とする搬送方法。 - 【請求項２０】 転写手段によってシートフィルムの表
面に形成された薄膜を基板の薄膜形成面に転写して前記
薄膜を介して前記シートフィルムと前記基板とが一体化
された密着物を形成した後、剥離手段によって前記密着
物から前記シートフィルムを剥離する薄膜形成装置にお
いて基板を搬送する請求項１９記載の搬送方法であっ
て、 前記第２搬送モードで前記密着物を前記転写手段から前
記剥離手段に搬送する一方、前記第１搬送モードで薄膜
が形成された基板を前記剥離手段から搬出する搬送方
法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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| US11/052,599 US7712806B2 (en) | 2001-11-13 | 2005-02-07 | Thin film forming apparatus, film supplier, film cassette, transport mechanism and transport method |
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