JP2003140354A - 画像記録装置 - Google Patents

画像記録装置

Info

Publication number
JP2003140354A
JP2003140354A JP2001342767A JP2001342767A JP2003140354A JP 2003140354 A JP2003140354 A JP 2003140354A JP 2001342767 A JP2001342767 A JP 2001342767A JP 2001342767 A JP2001342767 A JP 2001342767A JP 2003140354 A JP2003140354 A JP 2003140354A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
image recording
cooling
recording apparatus
cooling unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001342767A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3563384B2 (ja
Inventor
Korekazu Kataoka
是和 片岡
Hidekazu Tamaoki
英一 玉置
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2001342767A priority Critical patent/JP3563384B2/ja
Priority to EP02023887A priority patent/EP1310375B1/en
Priority to DE60211832T priority patent/DE60211832T8/de
Priority to US10/279,819 priority patent/US6806897B2/en
Publication of JP2003140354A publication Critical patent/JP2003140354A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3563384B2 publication Critical patent/JP3563384B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/465Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using masks, e.g. light-switching masks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J29/00Details of, or accessories for, typewriters or selective printing mechanisms not otherwise provided for
    • B41J29/377Cooling or ventilating arrangements

Landscapes

  • Laser Beam Printer (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Accessory Devices And Overall Control Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像記録装置の光学ヘッドを適切かつ効率よ
く冷却する。 【解決手段】 画像記録装置1の光学ヘッド10に、レ
ーザエミッタ111を有するバーLD11を冷却する光
源用水冷ジャケット41、光変調デバイス12を冷却す
るデバイス用水冷ジャケット42および遮光用水冷ジャ
ケット43を設ける。光学ヘッド10には、さらに、非
露光時にバーLD11からの光を反射するミラー31、
並びに、光変調デバイス12からの非信号光を反射する
ミラー32,33が設けられ、これらのミラーからの光
が遮光用水冷ジャケット43へと導かれる。また、チラ
ーユニットからの冷却媒体は光源用水冷ジャケット4
1、デバイス用水冷ジャケット42および遮光用水冷ジ
ャケット43を順に経由する。これにより、光学ヘッド
10において発熱源を全てを効率よく冷却することがで
きるとともにバーLD11を適切に冷却することができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、回折格子を利用し
た光変調デバイスを用いて記録媒体に画像を記録する画
像記録装置に関する。
【0002】
【従来の技術】回折格子を利用した光変調デバイスに半
導体レーザから光を照射することにより画像を記録する
画像記録装置が提案されている。通常、半導体レーザは
出射光の波長および出力の安定化、並びに、寿命の確保
のために冷却が行われる。一方、特開2000−131
628号公報には、光変調デバイスの冷却を行う機構が
追加された画像記録装置が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、回折格子を
利用した光変調デバイスでは、回折現象により光変調デ
バイスから導き出される光の方向を変化させて光の空間
変調が行われる。このような光変調デバイスでは非信号
光も放出されることから、非信号光は画像の記録に悪影
響を与えないように遮光される。また、画像の記録が行
われない間は、安全のために半導体レーザからの光が別
途シャッタにて遮光される。
【0004】このような不要光の遮光により、光学ヘッ
ド内部では光エネルギーが熱エネルギーに変換される。
したがって、半導体レーザとして高出力のものを利用す
る場合、光学ヘッド内の温度が非常に上昇することとな
り、光学系の配置のずれ、部品の変形、信号光のゆらぎ
等の問題を引き起こしてしまうことが考えられる。
【0005】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
り、画像記録装置において遮光による温度上昇を適切に
抑制することを主たる目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、露光により記録媒体に画像を記録する画像記録装置
であって、半導体レーザを有する光源と、前記光源から
の光が導かれる回折格子型の光変調デバイスと、前記光
変調デバイスからの光が照射される記録媒体を保持する
保持部と、不要光を遮光する遮光部と、不要光の遮光に
より発生する熱を除去する遮光用冷却部とを備える。
【0007】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の画像記録装置であって、前記遮光部が、非露光時に前
記光源と前記光変調デバイスとの間で遮光を行う。
【0008】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の画像記録装置であって、前記遮光部が、非露光時に前
記光源からの光を反射するミラーを有し、前記ミラーに
より反射された光が前記遮光用冷却部に照射され、前記
遮光用冷却部が照射により発生する熱を除去する。
【0009】請求項4に記載の発明は、請求項1に記載
の画像記録装置であって、前記遮光部が、前記光変調デ
バイスからの非信号光を遮光する。
【0010】請求項5に記載の発明は、請求項4に記載
の画像記録装置であって、前記遮光部が、前記非信号光
を反射するミラーを有し、前記ミラーにより反射された
光が前記遮光用冷却部に照射され、前記遮光用冷却部が
照射により発生する熱を除去する。
【0011】請求項6に記載の発明は、請求項5に記載
の画像記録装置であって、非露光時に前記光源と前記光
変調デバイスとの間で遮光を行うもう1つのミラーをさ
らに備え、前記もう1つのミラーにより反射された光が
前記遮光用冷却部へと導かれる。
【0012】請求項7に記載の発明は、請求項1ないし
6のいずれかに記載の画像記録装置であって、前記光源
を冷却媒体により冷却する光源用冷却部をさらに備え、
前記遮光用冷却部が前記光源用冷却部からの冷却媒体を
利用して冷却を行う。
【0013】請求項8に記載の発明は、請求項7に記載
の画像記録装置であって、前記光源用冷却部からの冷却
媒体を利用して前記光変調デバイスを冷却するデバイス
用冷却部をさらに備える。
【0014】請求項9に記載の発明は、請求項8に記載
の画像記録装置であって、冷却媒体の温度を制御する温
度制御部をさらに備え、前記温度制御部からの冷却媒体
が、前記光源用冷却部、前記デバイス用冷却部および前
記遮光用冷却部を順に経由して前記温度制御部へと戻さ
れる。
【0015】請求項10に記載の発明は、請求項1ない
し6のいずれかに記載の画像記録装置であって、前記光
変調デバイスを冷却媒体により冷却するデバイス用冷却
部をさらに備え、前記遮光用冷却部が前記デバイス用冷
却部からの冷却媒体を利用して冷却を行う。
【0016】請求項11に記載の発明は、請求項1ない
し6のいずれかに記載の画像記録装置であって、前記光
源を冷却する光源用冷却部と、前記光変調デバイスを冷
却するデバイス用冷却部とをさらに備える。
【0017】請求項12に記載の発明は、請求項8、9
および11のいずれかに記載の画像記録装置であって、
前記光源、前記光変調デバイスおよび前記遮光部がほぼ
密閉された空間内に配置される。
【0018】
【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施の形態
に係る画像記録装置1の構成を示す図である。画像記録
装置1は画像記録用の光を出射する光学ヘッド10およ
び露光により画像が記録される記録媒体9を保持する保
持ドラム7を有する。記録媒体9としては、例えば、刷
版、刷版形成用のフィルム等が用いられる。なお、保持
ドラム7として無版印刷用の感光ドラムが用いられても
よく、この場合、記録媒体9は感光ドラムの表面に相当
し、保持ドラム7が記録媒体9を一体的に保持している
と捉えることができる。
【0019】光学ヘッド10はカバー10aにより密閉
されており、図示しない移動機構により紙面に垂直な方
向に移動する。保持ドラム7は光学ヘッド10の移動方
向に平行な中心軸を中心に回転する。そして、保持ドラ
ム7を回転させつつ光学ヘッド10を移動させることに
より、記録媒体9上に画像の記録が行われる。
【0020】光学ヘッド10は、レーザエミッタ111
を有する半導体レーザ(以下、「バーLD」という。)
11、および、バーLD11からの光がレンズ21を介
して導かれる回折格子型の光変調デバイス12を有す
る。光変調デバイス12からの信号光はレンズ22,2
3を介して保持ドラム7へと導かれる。光学ヘッド10
にはさらに、光変調デバイス12への光の照射および遮
断を切り替えるミラー31、光変調デバイス12からの
非信号光を遮光するためのミラー32,33、並びに、
冷却媒体である水を用いて冷却を行う光源用水冷ジャケ
ット41、デバイス用水冷ジャケット42および遮光用
水冷ジャケット43を有する。光変調デバイス12はヒ
ートスプレッダ421と一体となっており、デバイス用
水冷ジャケット42はヒートスプレッダ421を介して
光変調素子121を冷却する。
【0021】バーLD11は、いわゆるバータイプのレ
ーザであり、複数の発光点(すなわち、エミッタ11
1)を紙面に垂直な方向に一列に有する。レーザエミッ
タ111からの光はバーLD11が有するレンズ112
により、紙面に平行な方向にコリメートされる。複数の
発光点からの光はレンズ21により重畳されつつ光変調
デバイス12へと集光される。
【0022】光変調デバイス12は複数の光変調素子1
21を紙面に垂直な方向に一列に有し、空間光変調を行
う。また、光変調デバイス12の基板上には光変調素子
121を駆動するための回路も設けられる。
【0023】光変調素子121は半導体製造技術を利用
して製造され、各光変調素子121は溝の深さを変更す
ることができる回折格子となっている。より具体的に
は、複数のリボン状の部材が基準面に沿って互いに平行
に形成され、リボン状の部材が基準面に対して昇降移動
することにより、回折格子の溝の深さが変更される。溝
の深さを変更することにより、光変調素子121は入射
光の0次回折光(すなわち、非回折光)と±1次回折光
とを選択的に出射することができる。このような光変調
デバイスとしてはシリコン・ライト・マシンズ社(米国
サニーベール市)のグレーティング・ライト・バルブ
(GLV(登録商標))等がある。図1に示す画像記録
装置1では、0次回折光が画像の記録に用いられる信号
光とされ、±1次回折光が非信号光とされる。光変調デ
バイス12からの信号光は、レンズ22,23を介して
保持ドラム7へと導かれ、記録媒体9に照射される。
【0024】レンズ22,23により、光変調デバイス
12と記録媒体9とは光学的に共役とされ、微細な光変
調素子121の各像が記録媒体9上に形成される。した
がって、信号光(すなわち、0次回折光)を出射する光
変調素子121からの光が記録媒体9上の対応する位置
に微細な光スポットとして導かれ、記録媒体9を感光さ
せる。
【0025】ミラー31は、駆動軸311によりバーL
D11から光変調デバイス12に至る光路から待避した
位置と光路上の位置との間で移動し、露光が行われる際
にはミラー31は光路から待避され、露光が行われない
間(例えば、スタンバイ状態の間)はバーLD11から
の光を反射して遮光用水冷ジャケット43へと導く。す
なわち、ミラー31および遮光用水冷ジャケット43の
受光面により、非露光時の光を受けるのでバーLD11
の光は光変調デバイス12には照射されない。これによ
り、非露光時に光変調デバイス12に光があたり続ける
こと、また、光学ヘッド10から記録媒体9へと光が漏
れ出してしまうことが防止される。
【0026】ミラー32,33には既述のように光変調
デバイス12からの非信号光が入射し、非信号光を反射
して遮光用水冷ジャケット43へと導く。すなわち、ミ
ラー32,33および遮光用水冷ジャケット43の受光
面により光変調デバイス12からの不要光である非信号
光の遮光が行われる。
【0027】なお、図1は画像記録装置1を側面から見
た図で、そのためミラー32とミラー33が重複して光
軸上にあるように示されているが、実際は該ミラー32
とミラー33は光軸を挟んで紙面に垂直な方向の所定の
場所に設けられている。図2は前記ミラーの位置関係の
概要を示す光学ヘッド10の上面図である。この図でわ
かるように、ミラー32,33は互いに光軸を挟んで対
称に配置される。
【0028】光源用水冷ジャケット41は出射光の波長
および出力の安定化、並びに、寿命の確保のためにバー
LD11の冷却を行う。デバイス用水冷ジャケット42
は動作の安定化および寿命の確保を目的としてヒートス
プレッダ421を介して効率よく光変調デバイス12を
冷却する。一方、遮光用水冷ジャケット43は、ミラー
31〜33からの光の照射により発生する熱を除去す
る。
【0029】遮光時のミラー31の角度およびミラー3
2,33の姿勢は、ミラー31〜33からの光を遮光用
水冷ジャケット43の受光面のほぼ同一の領域へと導く
ように決定される。これにより、遮光用水冷ジャケット
43の大きさを小さく抑えることが実現される。なお、
遮光用水冷ジャケット43上の受光面は、バーLD11
からの光を効率よく吸収することができる材料により形
成される。
【0030】以上のように、画像記録装置1の光学ヘッ
ド10では、発熱の原因となるバーLD11、光変調デ
バイス12、および、不要光が照射される遮光用水冷ジ
ャケット43の受光面の全てが冷却されるため、露光に
係る構成からの熱の放出を適切に抑えることができ、光
学ヘッド10内の温度上昇を抑制することができる。そ
の結果、精密な光学系の配置のずれ、部品の変形、信号
光のゆらぎ等を防止することが実現される。特に、不要
光の遮光により発生する熱を積極的に除去することによ
り、光学系への熱の影響を適切に防止することができ
る。
【0031】また、光学ヘッド10内部で発生する熱が
適切に除去されることから、バーLD11、光変調デバ
イス12および遮光に係る構成をカバー10aにより密
閉された空間内に配置することが可能となり、光変調デ
バイス12やその他の光学要素に塵埃が付着することを
容易に防止することができる。なお、光学ヘッド10は
塵埃の進入を防ぐ程度に密閉されるのであるならば、完
全に密閉されなくてもよい。
【0032】さらに、非露光時の光や非信号光といった
不要光をミラー31〜33を用いて遮光用水冷ジャケッ
ト43へと集めることにより、1つの水冷ジャケットで
複数箇所の不要光の遮光を適切に行うことができ、か
つ、遮光により発生する熱を光学系から離れた位置で除
去することにより発熱の影響が光学系に及ぶことを容易
に防止することができる。
【0033】図3は、光源用水冷ジャケット41、デバ
イス用水冷ジャケット42および遮光用水冷ジャケット
43に冷却媒体が流される様子を示すブロック図であ
る。画像記録装置1には冷却媒体の冷却および温度制御
を行うチラーユニット44が備えられており、チラーユ
ニット44から送り出される冷却媒体は、光源用水冷ジ
ャケット41、デバイス用水冷ジャケット42および遮
光用水冷ジャケット43を順に経由してチラーユニット
44へと戻される。チラーユニット44は、冷却媒体を
貯留するタンク、タンク内の冷却媒体を冷却する冷却
部、冷却媒体の冷却を制御する温度制御回路および冷却
媒体を送り出すポンプを有する。
【0034】バーLD11と光変調デバイス12とを比
較した場合、光変調デバイス12はバーLD11ほどは
高精度に温度制御される必要がないという特徴を有す
る。例えば、画像記録装置1に半導体レーザを用いる場
合、±1℃以下の精度にて半導体レーザの温度が制御さ
れる必要がある。一方、光変調デバイス12は高出力の
バーLD11からの光を受けると光エネルギーの吸収に
よって損傷するおそれがあるため冷却が必要ではある
が、所定の温度以下とされるのであるならば動作に問題
は生じない。
【0035】また、例えば、光変換効率が50%程度で
定格光出力が40Wの半導体レーザの場合、40W程度
の発熱が生じ、光変調デバイス12が吸収する光エネル
ギーよりも多くの熱エネルギーを放出する。したがっ
て、光源用水冷ジャケット41の冷却能力はデバイス用
水冷ジャケット42よりも高くされる必要がある。
【0036】遮光用水冷ジャケット43は、ミラー31
〜33からの光が熱に変換された後に光学ヘッド10内
に放出されることを抑制するために設けられることか
ら、温度制御は不要であり、光変調デバイス12の冷却
に用いられた後の冷却媒体を利用して冷却を行うのみで
足りる。
【0037】以上の理由により、チラーユニット44に
は光源用水冷ジャケット41、デバイス用水冷ジャケッ
ト42および遮光用水冷ジャケット43の順で直列に接
続が行われ、バーLD11の冷却に用いられた冷却媒体
の再利用、および、光変調デバイス12の冷却に用いら
れた冷却媒体の再利用が行われるとともに、バーLD1
1および光変調デバイス12の冷却、並びに、遮光によ
り発生する熱の除去(すなわち、遮光に係る冷却)を効
率よく行うことができる。さらに、水冷ジャケットを直
列に接続することにより、配管の簡素化も実現される。
【0038】なお、冷却効率を考慮する必要がない場合
やその他設計上の理由により、チラーユニット44から
複数の水冷ジャケットに並列に冷却媒体が供給されても
よく、複数のチラーユニットが設けられてもよい。例え
ば、バーLD11の冷却に求められる能力や精度を考慮
して光源用水冷ジャケット41のみが独立したチラーユ
ニットに接続されてもよい。
【0039】図4は、本発明の第2の実施の形態に係る
画像記録装置1の構成を示す図である。図4では、第1
の実施の形態と同様の構成には同符号を付しており、第
1の実施の形態と同様に、バーLD11からの光がレン
ズ21を介して光変調デバイス12へと導かれ、光変調
デバイス12からの信号光がレンズ22,23を介して
保持ドラム7に保持された記録媒体9へと導かれる。第
2の実施の形態に係る画像記録装置1では、光学ヘッド
10内のバーLD11、光変調デバイス12および遮光
に係る構成が空冷される。
【0040】遮光に係る構成としては、バーLD11か
らの光を遮光する遮光板301、および、光変調デバイ
ス12からの非信号光を遮光する2つの遮光板302,
303が設けられる。遮光板301は駆動軸311を中
心に回動可能とされ、バーLD11から光変調デバイス
12に至る光路上の位置と光路から待避した位置との間
で姿勢変更される。
【0041】バーLD11はファンユニット401によ
り空冷され、光変調デバイス12はファンユニット40
2により空冷される。一方、遮光板301は、バーLD
11からの光が照射される際にファン431からの気流
により冷却される。遮光板302,303は、ファンユ
ニット432,433によりそれぞれ空冷される。
【0042】なお、図4は画像記録装置1を側面から見
た図で、そのため遮光板302と遮光板303が重複し
て光軸上にあるように示されているが、実際は該遮光板
302と遮光板303は光軸を挟んで紙面に垂直な方向
の所定の場所に設けられている。図5は前記遮光板の位
置関係の概要を示す光学ヘッド10の上面図である。こ
の図でわかるように、遮光板302,遮光板303は互
いに光軸を挟んで対称に配置される。
【0043】光学ヘッド10にはさらに、カバー10a
に吸気口501および排気口502が設けられ、吸気口
501にはファン51およびフィルタ52が配置され、
排気口502には簡易なフィルタ53が配置される。こ
れにより、光学ヘッド10はファン51およびフィルタ
52により外気を取り込み、空冷に用いられたエアをフ
ィルタ53を介して外部へ排出する。
【0044】第2の実施の形態に係る画像記録装置1に
おいても、発熱源となるバーLD11、光変調デバイス
12および遮光板301〜303が冷却されるため、光
学ヘッド10内の温度上昇を適切に抑制することがで
き、精密な光学系の配置のずれ、部品の変形、信号光の
ゆらぎ等を防止することが実現される。
【0045】以上、本発明の実施の形態について説明し
てきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるもので
はなく様々な変形が可能である。
【0046】上記実施の形態におけるバーLD11はバ
ータイプに限定されず、1つの発光点を有する半導体レ
ーザであってもよいし、2次元的に発光点が配列配置さ
れた半導体レーザであってもよい。
【0047】光変調デバイス12においても1つの光変
調素子のみが設けられてもよく、複数の光変調素子が2
次元的に配列配置されてもよい。
【0048】また、遮光により発生する熱の除去も、積
極的に行われるのであるならば他の手法により行われて
もよい、例えば、ペルチェ素子と冷却媒体またはファン
が併用されてもよい。
【0049】ミラー31または遮光板301の駆動方法
や、ミラー32,33または遮光板302,303の数
および配置は適宜変更されてよい。例えば、ミラー31
または遮光板301はスライド移動されてもよく、信号
光として±1次回折光が利用される場合には非信号光で
ある0次回折光を遮光するためにミラーまたは遮光板は
1つだけ設けられる。
【0050】第1の実施の形態において、ミラー31か
らの光により発生する熱を除去する遮光用水冷ジャケッ
トとミラー32,33からの光により発生する熱を除去
する遮光用水冷ジャケットとが設計上の都合により個別
の設けられてもよい。さらに、ミラー32からの光とミ
ラー33からの光が個別の箇所へと導かれ、個別に冷却
が行われてもよい。ミラーを用いることにより発熱部位
を露光用の光学系から離すことができ、光学系への熱の
影響を適切に防止することができる。
【0051】上記実施の形態ではバーLD11から光変
調デバイス12へと光を導く光学系および光変調デバイ
ス12から記録媒体9へと光を導く光学系をレンズにて
示したが、これらの光学系は模式的に示されているにす
ぎず、適宜変更されてよい。
【0052】上記第1の実施の形態では冷却媒体を用い
て冷却が行われ、第2の実施の形態では空冷が行われる
が、バーLD11、光変調デバイス12および不要光の
各遮光部は冷却媒体を利用した冷却および空冷が選択的
に行われてもよい。例えば、バーLD11のみが冷却媒
体により冷却され、光変調デバイス12および遮光に係
る部位が空冷されてもよい。全ての発熱箇所が冷却され
ることにより、光学ヘッド10の適切な冷却が実現され
る。
【0053】また、バーLD11の冷却に利用された冷
却媒体が遮光用水冷ジャケット43にて再利用され、光
変調デバイス12が空冷されてもよく、光変調デバイス
12の冷却に利用された冷却媒体が遮光用水冷ジャケッ
ト43にて再利用され、バーLD11が空冷されてもよ
い。
【0054】なお、冷却媒体は水に限定されず、他の冷
却媒体が用いられてもよい。
【0055】
【発明の効果】請求項1ないし12の発明では、不要光
の遮光により発生する熱を除去することにより、光学系
への熱の影響を適切に防止することができる。
【0056】また、請求項3、5および6の発明では、
遮光により発生する熱を光学系から離れた位置で除去す
ることができる。
【0057】また、請求項7の発明では、光源用冷却部
の冷却に利用した冷却媒体を遮光用冷却部にて再利用す
ることができ、請求項8の発明では、光源用冷却部の冷
却に利用した冷却媒体をデバイス用冷却部にて再利用す
ることができる。
【0058】また、請求項9の発明では、光源および光
変調デバイスの冷却、並びに、遮光により発生する熱の
除去を効率よく行うことができる。
【0059】また、請求項10の発明では、デバイス用
冷却部の冷却に利用した冷却媒体を遮光用冷却部にて再
利用することができる。
【0060】また、請求項8、9および11の発明で
は、露光に係る構成からの熱の放出を適切に抑制するこ
とができ、請求項12の発明では光変調デバイスやその
他の光学要素に塵埃が付着することを容易に防止するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態に係る画像記録装置の構成を
示す図である。
【図2】第1の実施の形態に係る光学ヘッドの概要上面
図である。
【図3】複数の水冷ジャケットに冷却媒体が流される様
子を示すブロック図である。
【図4】第2の実施の形態に係る画像記録装置の構成を
示す図である。
【図5】第2の実施の形態に係る光学ヘッドの概要上面
図である。
【符号の説明】
1 画像記録装置 7 保持ドラム 9 記録媒体 10a カバー 11 バーLD 12 光変調デバイス 31〜33 ミラー 41 光源用水冷ジャケット 42 デバイス用水冷ジャケット 43 遮光用水冷ジャケット 44 チラーユニット 111 レーザエミッタ 301〜303 遮光板 401,402,432,433 ファンユニット 431 ファン
フロントページの続き (72)発明者 玉置 英一 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る4丁 目天神北町1番地の1 大日本スクリーン 製造株式会社内 Fターム(参考) 2C362 AA03 BA22 DA27 DA32 2H097 AA02 AA03 BA02 BA10 BB10 CA17 LA01

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 露光により記録媒体に画像を記録する画
    像記録装置であって、 半導体レーザを有する光源と、 前記光源からの光が導かれる回折格子型の光変調デバイ
    スと、 前記光変調デバイスからの光が照射される記録媒体を保
    持する保持部と、 不要光を遮光する遮光部と、 不要光の遮光により発生する熱を除去する遮光用冷却部
    と、を備えることを特徴とする画像記録装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の画像記録装置であっ
    て、 前記遮光部が、非露光時に前記光源と前記光変調デバイ
    スとの間で遮光を行うことを特徴とする画像記録装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の画像記録装置であっ
    て、 前記遮光部が、非露光時に前記光源からの光を反射する
    ミラーを有し、 前記ミラーにより反射された光が前記遮光用冷却部に照
    射され、前記遮光用冷却部が照射により発生する熱を除
    去することを特徴とする画像記録装置。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載の画像記録装置であっ
    て、 前記遮光部が、前記光変調デバイスからの非信号光を遮
    光することを特徴とする画像記録装置。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の画像記録装置であっ
    て、 前記遮光部が、前記非信号光を反射するミラーを有し、 前記ミラーにより反射された光が前記遮光用冷却部に照
    射され、前記遮光用冷却部が照射により発生する熱を除
    去することを特徴とする画像記録装置。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の画像記録装置であっ
    て、 非露光時に前記光源と前記光変調デバイスとの間で遮光
    を行うもう1つのミラーをさらに備え、 前記もう1つのミラーにより反射された光が前記遮光用
    冷却部へと導かれることを特徴とする画像記録装置。
  7. 【請求項7】 請求項1ないし6のいずれかに記載の画
    像記録装置であって、 前記光源を冷却媒体により冷却する光源用冷却部をさら
    に備え、 前記遮光用冷却部が前記光源用冷却部からの冷却媒体を
    利用して冷却を行うことを特徴とする画像記録装置。
  8. 【請求項8】 請求項7に記載の画像記録装置であっ
    て、 前記光源用冷却部からの冷却媒体を利用して前記光変調
    デバイスを冷却するデバイス用冷却部をさらに備えるこ
    とを特徴とする画像記録装置。
  9. 【請求項9】 請求項8に記載の画像記録装置であっ
    て、 冷却媒体の温度を制御する温度制御部をさらに備え、 前記温度制御部からの冷却媒体が、前記光源用冷却部、
    前記デバイス用冷却部および前記遮光用冷却部を順に経
    由して前記温度制御部へと戻されることを特徴とする画
    像記録装置。
  10. 【請求項10】 請求項1ないし6のいずれかに記載の
    画像記録装置であって、 前記光変調デバイスを冷却媒体により冷却するデバイス
    用冷却部をさらに備え、 前記遮光用冷却部が前記デバイス用冷却部からの冷却媒
    体を利用して冷却を行うことを特徴とする画像記録装
    置。
  11. 【請求項11】 請求項1ないし6のいずれかに記載の
    画像記録装置であって、 前記光源を冷却する光源用冷却部と、 前記光変調デバイスを冷却するデバイス用冷却部と、を
    さらに備えることを特徴とする画像記録装置。
  12. 【請求項12】 請求項8、9および11のいずれかに
    記載の画像記録装置であって、 前記光源、前記光変調デバイスおよび前記遮光部がほぼ
    密閉された空間内に配置されることを特徴とする画像記
    録装置。
JP2001342767A 2001-11-08 2001-11-08 画像記録装置 Expired - Fee Related JP3563384B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001342767A JP3563384B2 (ja) 2001-11-08 2001-11-08 画像記録装置
EP02023887A EP1310375B1 (en) 2001-11-08 2002-10-24 Image recording apparatus using the grating light valve
DE60211832T DE60211832T8 (de) 2001-11-08 2002-10-24 Bildaufzeichnungsgerät mit Beleuchtungsgitterlichtventil
US10/279,819 US6806897B2 (en) 2001-11-08 2002-10-25 Image recording apparatus using the grating light valve

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001342767A JP3563384B2 (ja) 2001-11-08 2001-11-08 画像記録装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003140354A true JP2003140354A (ja) 2003-05-14
JP3563384B2 JP3563384B2 (ja) 2004-09-08

Family

ID=19156566

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001342767A Expired - Fee Related JP3563384B2 (ja) 2001-11-08 2001-11-08 画像記録装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6806897B2 (ja)
EP (1) EP1310375B1 (ja)
JP (1) JP3563384B2 (ja)
DE (1) DE60211832T8 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1714790A2 (en) 2005-04-20 2006-10-25 Dainippon Screen Mfg., Co., Ltd. Image recording apparatus
JP2012146820A (ja) * 2011-01-12 2012-08-02 Orc Manufacturing Co Ltd 熱交換機構および露光装置

Families Citing this family (180)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004247438A (ja) * 2003-02-13 2004-09-02 Canon Inc 冷却装置
US7063920B2 (en) * 2003-05-16 2006-06-20 Asml Holding, N.V. Method for the generation of variable pitch nested lines and/or contact holes using fixed size pixels for direct-write lithographic systems
US7183566B2 (en) * 2003-05-28 2007-02-27 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus for manufacturing a device
US6989920B2 (en) 2003-05-29 2006-01-24 Asml Holding N.V. System and method for dose control in a lithographic system
US7061591B2 (en) * 2003-05-30 2006-06-13 Asml Holding N.V. Maskless lithography systems and methods utilizing spatial light modulator arrays
EP1482373A1 (en) * 2003-05-30 2004-12-01 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1489449A1 (en) * 2003-06-20 2004-12-22 ASML Netherlands B.V. Spatial light modulator
SG118283A1 (en) * 2003-06-20 2006-01-27 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7110082B2 (en) * 2003-06-24 2006-09-19 Asml Holding N.V. Optical system for maskless lithography
SG119224A1 (en) * 2003-06-26 2006-02-28 Asml Netherlands Bv Calibration method for a lithographic apparatus and device manufacturing method
US7158215B2 (en) * 2003-06-30 2007-01-02 Asml Holding N.V. Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays
US7154587B2 (en) 2003-06-30 2006-12-26 Asml Netherlands B.V Spatial light modulator, lithographic apparatus and device manufacturing method
US7023463B2 (en) * 2003-07-22 2006-04-04 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing images from digital image data
US7224504B2 (en) 2003-07-30 2007-05-29 Asml Holding N. V. Deformable mirror using piezoelectric actuators formed as an integrated circuit and method of use
US6831768B1 (en) 2003-07-31 2004-12-14 Asml Holding N.V. Using time and/or power modulation to achieve dose gray-scaling in optical maskless lithography
SG110196A1 (en) * 2003-09-22 2005-04-28 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7414701B2 (en) * 2003-10-03 2008-08-19 Asml Holding N.V. Method and systems for total focus deviation adjustments on maskless lithography systems
US7410736B2 (en) * 2003-09-30 2008-08-12 Asml Holding N.V. Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system not utilizing overlap of the exposure zones
US6876440B1 (en) * 2003-09-30 2005-04-05 Asml Holding N.V. Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap of exposure zones with attenuation of the aerial image in the overlap region
US7023526B2 (en) * 2003-09-30 2006-04-04 Asml Holding N.V. Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap without an explicit attenuation
US7109498B2 (en) * 2003-10-09 2006-09-19 Asml Netherlands B.V. Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method
US7196772B2 (en) * 2003-11-07 2007-03-27 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7116398B2 (en) * 2003-11-07 2006-10-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7001232B2 (en) * 2003-12-11 2006-02-21 Montgomery Robert E Personal watercraft air intake assembly
JP3708102B2 (ja) * 2003-12-12 2005-10-19 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工装置
US6995830B2 (en) * 2003-12-22 2006-02-07 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and device manufacturing method
US7012674B2 (en) * 2004-01-13 2006-03-14 Asml Holding N.V. Maskless optical writer
US7580559B2 (en) * 2004-01-29 2009-08-25 Asml Holding N.V. System and method for calibrating a spatial light modulator
US6847461B1 (en) * 2004-01-29 2005-01-25 Asml Holding N.V. System and method for calibrating a spatial light modulator array using shearing interferometry
JP4083751B2 (ja) * 2004-01-29 2008-04-30 エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. 空間光変調器アレイを較正するシステムおよび空間光変調器アレイを較正する方法
US7190434B2 (en) * 2004-02-18 2007-03-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7133118B2 (en) * 2004-02-18 2006-11-07 Asml Netherlands, B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7081947B2 (en) * 2004-02-27 2006-07-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7016014B2 (en) * 2004-02-27 2006-03-21 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7061586B2 (en) * 2004-03-02 2006-06-13 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7094506B2 (en) * 2004-03-09 2006-08-22 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
USRE43515E1 (en) 2004-03-09 2012-07-17 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US6967711B2 (en) * 2004-03-09 2005-11-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7561251B2 (en) * 2004-03-29 2009-07-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7153616B2 (en) * 2004-03-31 2006-12-26 Asml Holding N.V. System and method for verifying and controlling the performance of a maskless lithography tool
US7053981B2 (en) * 2004-03-31 2006-05-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7002666B2 (en) * 2004-04-16 2006-02-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20050243295A1 (en) * 2004-04-30 2005-11-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing
US6963434B1 (en) * 2004-04-30 2005-11-08 Asml Holding N.V. System and method for calculating aerial image of a spatial light modulator
US20050259269A1 (en) 2004-05-19 2005-11-24 Asml Holding N.V. Shearing interferometer with dynamic pupil fill
US7242456B2 (en) 2004-05-26 2007-07-10 Asml Holdings N.V. System and method utilizing a lithography tool having modular illumination, pattern generator, and projection optics portions
US7477403B2 (en) 2004-05-27 2009-01-13 Asml Netherlands B.V. Optical position assessment apparatus and method
US7123348B2 (en) * 2004-06-08 2006-10-17 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and method utilizing dose control
US6989886B2 (en) * 2004-06-08 2006-01-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7016016B2 (en) * 2004-06-25 2006-03-21 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7116403B2 (en) * 2004-06-28 2006-10-03 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7158208B2 (en) * 2004-06-30 2007-01-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7116404B2 (en) * 2004-06-30 2006-10-03 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20060001890A1 (en) * 2004-07-02 2006-01-05 Asml Holding N.V. Spatial light modulator as source module for DUV wavefront sensor
US7573574B2 (en) * 2004-07-13 2009-08-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20060012779A1 (en) * 2004-07-13 2006-01-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7227613B2 (en) * 2004-07-26 2007-06-05 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus having double telecentric illumination
US7259829B2 (en) * 2004-07-26 2007-08-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7335398B2 (en) * 2004-07-26 2008-02-26 Asml Holding N.V. Method to modify the spatial response of a pattern generator
US7142286B2 (en) * 2004-07-27 2006-11-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7251020B2 (en) * 2004-07-30 2007-07-31 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7538855B2 (en) * 2004-08-10 2009-05-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7102733B2 (en) 2004-08-13 2006-09-05 Asml Holding N.V. System and method to compensate for static and dynamic misalignments and deformations in a maskless lithography tool
US7500218B2 (en) * 2004-08-17 2009-03-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, method, and computer program product for generating a mask pattern and device manufacturing method using same
US7304718B2 (en) * 2004-08-17 2007-12-04 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7079225B2 (en) * 2004-09-14 2006-07-18 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7177012B2 (en) * 2004-10-18 2007-02-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7388663B2 (en) * 2004-10-28 2008-06-17 Asml Netherlands B.V. Optical position assessment apparatus and method
US7423732B2 (en) * 2004-11-04 2008-09-09 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing placement of a patterning device at a pupil plane
US7609362B2 (en) * 2004-11-08 2009-10-27 Asml Netherlands B.V. Scanning lithographic apparatus and device manufacturing method
US7170584B2 (en) * 2004-11-17 2007-01-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7474384B2 (en) * 2004-11-22 2009-01-06 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and a projection element for use in the lithographic apparatus
US7061581B1 (en) * 2004-11-22 2006-06-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7643192B2 (en) * 2004-11-24 2010-01-05 Asml Holding N.V. Pattern generator using a dual phase step element and method of using same
US7333177B2 (en) * 2004-11-30 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7713667B2 (en) * 2004-11-30 2010-05-11 Asml Holding N.V. System and method for generating pattern data used to control a pattern generator
US7365848B2 (en) * 2004-12-01 2008-04-29 Asml Holding N.V. System and method using visible and infrared light to align and measure alignment patterns on multiple layers
US7391499B2 (en) * 2004-12-02 2008-06-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7362415B2 (en) * 2004-12-07 2008-04-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7355677B2 (en) * 2004-12-09 2008-04-08 Asml Netherlands B.V. System and method for an improved illumination system in a lithographic apparatus
US7349068B2 (en) * 2004-12-17 2008-03-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7180577B2 (en) * 2004-12-17 2007-02-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a microlens array at an image plane
US7230677B2 (en) * 2004-12-22 2007-06-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing hexagonal image grids
US7256867B2 (en) * 2004-12-22 2007-08-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7202939B2 (en) * 2004-12-22 2007-04-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7274502B2 (en) * 2004-12-22 2007-09-25 Asml Holding N.V. System, apparatus and method for maskless lithography that emulates binary, attenuating phase-shift and alternating phase-shift masks
US7391676B2 (en) * 2004-12-22 2008-06-24 Asml Netherlands B.V. Ultrasonic distance sensors
US7375795B2 (en) * 2004-12-22 2008-05-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
US7538857B2 (en) * 2004-12-23 2009-05-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler
US7426076B2 (en) * 2004-12-23 2008-09-16 Asml Holding N.V. Projection system for a lithographic apparatus
US7242458B2 (en) * 2004-12-23 2007-07-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple substrate carrier for flat panel display substrates
US7656506B2 (en) * 2004-12-23 2010-02-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler
US7279110B2 (en) * 2004-12-27 2007-10-09 Asml Holding N.V. Method and apparatus for creating a phase step in mirrors used in spatial light modulator arrays
US7126672B2 (en) * 2004-12-27 2006-10-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7317510B2 (en) * 2004-12-27 2008-01-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7459247B2 (en) * 2004-12-27 2008-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20060138349A1 (en) * 2004-12-27 2006-06-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7274029B2 (en) 2004-12-28 2007-09-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7403865B2 (en) * 2004-12-28 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. System and method for fault indication on a substrate in maskless applications
US7145636B2 (en) * 2004-12-28 2006-12-05 Asml Netherlands Bv System and method for determining maximum operational parameters used in maskless applications
US7756660B2 (en) * 2004-12-28 2010-07-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7253881B2 (en) * 2004-12-29 2007-08-07 Asml Netherlands Bv Methods and systems for lithographic gray scaling
US7342644B2 (en) * 2004-12-29 2008-03-11 Asml Netherlands B.V. Methods and systems for lithographic beam generation
US7567368B2 (en) * 2005-01-06 2009-07-28 Asml Holding N.V. Systems and methods for minimizing scattered light in multi-SLM maskless lithography
US7542013B2 (en) * 2005-01-31 2009-06-02 Asml Holding N.V. System and method for imaging enhancement via calculation of a customized optimal pupil field and illumination mode
US20060199519A1 (en) * 2005-02-09 2006-09-07 Great Computer Corporation Pressurized air-filter container for mounting on a laser engraver
US7460208B2 (en) * 2005-02-18 2008-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7286137B2 (en) * 2005-02-28 2007-10-23 Asml Holding N.V. Method and system for constrained pixel graytones interpolation for pattern rasterization
US7499146B2 (en) * 2005-03-14 2009-03-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method, an integrated circuit, a flat panel display, and a method of compensating for cupping
US7812930B2 (en) * 2005-03-21 2010-10-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using repeated patterns in an LCD to reduce datapath volume
US7209216B2 (en) * 2005-03-25 2007-04-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing dynamic correction for magnification and position in maskless lithography
US7403265B2 (en) * 2005-03-30 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering
US7728956B2 (en) * 2005-04-05 2010-06-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing multiple die designs on a substrate using a data buffer that stores pattern variation data
US7209217B2 (en) 2005-04-08 2007-04-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing plural patterning devices
US7330239B2 (en) * 2005-04-08 2008-02-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a blazing portion of a contrast device
US7221514B2 (en) * 2005-04-15 2007-05-22 Asml Netherlands B.V. Variable lens and exposure system
US20060244805A1 (en) * 2005-04-27 2006-11-02 Ming-Hsiang Yeh Multicolor pen
US7400382B2 (en) 2005-04-28 2008-07-15 Asml Holding N.V. Light patterning device using tilting mirrors in a superpixel form
US7738081B2 (en) * 2005-05-06 2010-06-15 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a flat panel display handler with conveyor device and substrate handler
US7197828B2 (en) * 2005-05-31 2007-04-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing FPD chuck Z position measurement
US7477772B2 (en) * 2005-05-31 2009-01-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing 2D run length encoding for image data compression
US7742148B2 (en) * 2005-06-08 2010-06-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method for writing a digital image
US7292317B2 (en) * 2005-06-08 2007-11-06 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating
US7233384B2 (en) * 2005-06-13 2007-06-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method, and device manufactured thereby for calibrating an imaging system with a sensor
US7321416B2 (en) * 2005-06-15 2008-01-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, and controllable patterning device utilizing a spatial light modulator with distributed digital to analog conversion
US7408617B2 (en) * 2005-06-24 2008-08-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a large area FPD chuck equipped with encoders an encoder scale calibration method
US7965373B2 (en) * 2005-06-28 2011-06-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a datapath having a balanced calculation load
US7307694B2 (en) * 2005-06-29 2007-12-11 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, radiation beam inspection device, method of inspecting a beam of radiation and device manufacturing method
US7522258B2 (en) * 2005-06-29 2009-04-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing movement of clean air to reduce contamination
US20070013889A1 (en) * 2005-07-12 2007-01-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby having an increase in depth of focus
US7251019B2 (en) 2005-07-20 2007-07-31 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a continuous light beam in combination with pixel grid imaging
US7606430B2 (en) * 2005-08-30 2009-10-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple dictionary compression method for FPD
US20070046917A1 (en) * 2005-08-31 2007-03-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method that compensates for reticle induced CDU
JP2007114750A (ja) * 2005-09-09 2007-05-10 Asml Netherlands Bv 投影システム設計方法、リソグラフィー装置およびデバイス製造方法
US7830493B2 (en) * 2005-10-04 2010-11-09 Asml Netherlands B.V. System and method for compensating for radiation induced thermal distortions in a substrate or projection system
US7391503B2 (en) * 2005-10-04 2008-06-24 Asml Netherlands B.V. System and method for compensating for thermal expansion of lithography apparatus or substrate
US7332733B2 (en) * 2005-10-05 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. System and method to correct for field curvature of multi lens array
US20070127005A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 Asml Holding N.V. Illumination system
US7626181B2 (en) * 2005-12-09 2009-12-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20070133007A1 (en) * 2005-12-14 2007-06-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using laser trimming of a multiple mirror contrast device
US20070153249A1 (en) * 2005-12-20 2007-07-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using multiple exposures and multiple exposure types
US7440078B2 (en) * 2005-12-20 2008-10-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and maskless exposure units
US7466394B2 (en) * 2005-12-21 2008-12-16 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using a compensation scheme for a patterning array
US7532403B2 (en) * 2006-02-06 2009-05-12 Asml Holding N.V. Optical system for transforming numerical aperture
US7528933B2 (en) * 2006-04-06 2009-05-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a MEMS mirror with large deflection using a non-linear spring arrangement
US7508491B2 (en) * 2006-04-12 2009-03-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilized to reduce quantization influence of datapath SLM interface to dose uniformity
US7839487B2 (en) * 2006-04-13 2010-11-23 Asml Holding N.V. Optical system for increasing illumination efficiency of a patterning device
US7948606B2 (en) * 2006-04-13 2011-05-24 Asml Netherlands B.V. Moving beam with respect to diffractive optics in order to reduce interference patterns
US8264667B2 (en) * 2006-05-04 2012-09-11 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and other exposure
US8934084B2 (en) * 2006-05-31 2015-01-13 Asml Holding N.V. System and method for printing interference patterns having a pitch in a lithography system
US7728954B2 (en) * 2006-06-06 2010-06-01 Asml Netherlands B.V. Reflective loop system producing incoherent radiation
US7649676B2 (en) * 2006-06-14 2010-01-19 Asml Netherlands B.V. System and method to form unpolarized light
US7936445B2 (en) * 2006-06-19 2011-05-03 Asml Netherlands B.V. Altering pattern data based on measured optical element characteristics
US8896808B2 (en) * 2006-06-21 2014-11-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
US7697115B2 (en) * 2006-06-23 2010-04-13 Asml Holding N.V. Resonant scanning mirror
US7593094B2 (en) * 2006-06-26 2009-09-22 Asml Netherlands B.V. Patterning device
US20080002174A1 (en) * 2006-06-30 2008-01-03 Asml Netherlands B.V. Control system for pattern generator in maskless lithography
US7630136B2 (en) 2006-07-18 2009-12-08 Asml Holding N.V. Optical integrators for lithography systems and methods
US7548315B2 (en) * 2006-07-27 2009-06-16 Asml Netherlands B.V. System and method to compensate for critical dimension non-uniformity in a lithography system
US7738077B2 (en) * 2006-07-31 2010-06-15 Asml Netherlands B.V. Patterning device utilizing sets of stepped mirrors and method of using same
US7626182B2 (en) * 2006-09-05 2009-12-01 Asml Netherlands B.V. Radiation pulse energy control system, lithographic apparatus and device manufacturing method
US7628875B2 (en) * 2006-09-12 2009-12-08 Asml Netherlands B.V. MEMS device and assembly method
US8049865B2 (en) * 2006-09-18 2011-11-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic system, device manufacturing method, and mask optimization method
US7683300B2 (en) 2006-10-17 2010-03-23 Asml Netherlands B.V. Using an interferometer as a high speed variable attenuator
US7453551B2 (en) * 2006-11-14 2008-11-18 Asml Netherlands B.V. Increasing pulse-to-pulse radiation beam uniformity
US7738079B2 (en) * 2006-11-14 2010-06-15 Asml Netherlands B.V. Radiation beam pulse trimming
US20080111977A1 (en) 2006-11-14 2008-05-15 Asml Holding N.V. Compensation techniques for fluid and magnetic bearings
US8054449B2 (en) * 2006-11-22 2011-11-08 Asml Holding N.V. Enhancing the image contrast of a high resolution exposure tool
US8259285B2 (en) * 2006-12-14 2012-09-04 Asml Holding N.V. Lithographic system, device manufacturing method, setpoint data optimization method, and apparatus for producing optimized setpoint data
US7965378B2 (en) * 2007-02-20 2011-06-21 Asml Holding N.V Optical system and method for illumination of reflective spatial light modulators in maskless lithography
US8009269B2 (en) 2007-03-14 2011-08-30 Asml Holding N.V. Optimal rasterization for maskless lithography
US8009270B2 (en) * 2007-03-22 2011-08-30 Asml Netherlands B.V. Uniform background radiation in maskless lithography
US7714986B2 (en) * 2007-05-24 2010-05-11 Asml Netherlands B.V. Laser beam conditioning system comprising multiple optical paths allowing for dose control
US20080304034A1 (en) * 2007-06-07 2008-12-11 Asml Netherlands B.V. Dose control for optical maskless lithography
US8692974B2 (en) * 2007-06-14 2014-04-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using pupil filling by telecentricity control
US8189172B2 (en) * 2007-06-14 2012-05-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
US7768627B2 (en) * 2007-06-14 2010-08-03 Asml Netherlands B.V. Illumination of a patterning device based on interference for use in a maskless lithography system
US8531755B2 (en) * 2009-02-16 2013-09-10 Micronic Laser Systems Ab SLM device and method combining multiple mirrors for high-power delivery
US10747033B2 (en) * 2016-01-29 2020-08-18 Lawrence Livermore National Security, Llc Cooler for optics transmitting high intensity light
US11586031B2 (en) 2020-07-08 2023-02-21 Xerox Corporation In-line stitched image optical system architecture for GLV laser line imagers

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62231973A (ja) * 1986-04-02 1987-10-12 Canon Inc 画像形成装置
US6400444B2 (en) 1992-07-09 2002-06-04 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus and device producing method using the same
JP2826785B2 (ja) 1992-07-09 1998-11-18 キヤノン株式会社 投影露光装置
JPH1027751A (ja) 1996-07-11 1998-01-27 Nikon Corp 照明装置及びこれを用いた露光装置
JP4006833B2 (ja) * 1998-07-03 2007-11-14 株式会社日立製作所 光学装置
JP2000131628A (ja) 1998-10-27 2000-05-12 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録装置
JP2002137440A (ja) * 2000-10-31 2002-05-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 画像記録装置
US6765941B2 (en) * 2001-12-03 2004-07-20 Agfa Corporation Method and apparatus for cooling a self-contained laser head

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1714790A2 (en) 2005-04-20 2006-10-25 Dainippon Screen Mfg., Co., Ltd. Image recording apparatus
JP2006323346A (ja) * 2005-04-20 2006-11-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 画像記録装置
US7535625B2 (en) 2005-04-20 2009-05-19 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Image recording apparatus
JP2012146820A (ja) * 2011-01-12 2012-08-02 Orc Manufacturing Co Ltd 熱交換機構および露光装置

Also Published As

Publication number Publication date
US6806897B2 (en) 2004-10-19
EP1310375A1 (en) 2003-05-14
DE60211832T8 (de) 2007-09-06
US20030085987A1 (en) 2003-05-08
EP1310375B1 (en) 2006-05-31
DE60211832T2 (de) 2007-05-24
DE60211832D1 (de) 2006-07-06
JP3563384B2 (ja) 2004-09-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003140354A (ja) 画像記録装置
JP3831946B2 (ja) 撮像装置
JP2008292647A (ja) 画像投影装置
JP2000284701A (ja) 表示装置
JP6586632B2 (ja) 光源装置および映像表示装置
JP2005011433A (ja) 光ヘッド
US6650354B2 (en) Image recorder having diagnostic capability
US11493839B2 (en) Projection image display device
JP2005241969A (ja) 光学装置用吸熱装置及びプロジェクタ装置
JP2006323346A (ja) 画像記録装置
JPH0534623A (ja) 走査光学装置
JP2019204052A (ja) 電子機器
JP2005166735A (ja) レーザ光源装置
JP5724766B2 (ja) 露光マスク、ペリクル、半導体装置の製造方法
JP6890248B2 (ja) 冷却装置、および投写型映像表示装置
JP4529076B2 (ja) 画像生成装置
JP2017182047A (ja) 冷却装置、およびこれを備えた光学モジュール、投影装置
JPH0836774A (ja) 光ヘッド装置
JP7096676B2 (ja) 光学ユニットおよび光学装置
JP2004301914A (ja) 露光ヘッド
JPH1184992A (ja) ホログラフィックステレオグラム作製装置
TW202303296A (zh) 種子雷射光學隔離器、種子隔離器模組、極紫外光(euv)輻射源、微影裝置及光學隔離器操作方法
WO2015083549A1 (ja) 光学部品の角度調整機構
JP2002184166A (ja) ディスク装置
JP2001281577A (ja) 走査光学系及び画像記録装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040113

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040219

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040319

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20040513

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040601

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040602

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3563384

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080611

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090611

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090611

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090611

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100611

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100611

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110611

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110611

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120611

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120611

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120611

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611

Year of fee payment: 9

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees