JP2003114525A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2003114525A5
JP2003114525A5 JP2001398048A JP2001398048A JP2003114525A5 JP 2003114525 A5 JP2003114525 A5 JP 2003114525A5 JP 2001398048 A JP2001398048 A JP 2001398048A JP 2001398048 A JP2001398048 A JP 2001398048A JP 2003114525 A5 JP2003114525 A5 JP 2003114525A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
forming
pattern
hydrophilic
conductive material
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001398048A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP3980351B2 (ja
JP2003114525A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2001398048A priority Critical patent/JP3980351B2/ja
Priority claimed from JP2001398048A external-priority patent/JP3980351B2/ja
Priority to US10/208,820 priority patent/US6919158B2/en
Priority to EP02016949A priority patent/EP1282175A3/en
Publication of JP2003114525A publication Critical patent/JP2003114525A/ja
Publication of JP2003114525A5 publication Critical patent/JP2003114525A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3980351B2 publication Critical patent/JP3980351B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2001398048A 2001-08-03 2001-12-27 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法 Expired - Fee Related JP3980351B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001398048A JP3980351B2 (ja) 2001-08-03 2001-12-27 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法
US10/208,820 US6919158B2 (en) 2001-08-03 2002-08-01 Conductive pattern material and method for forming conductive pattern
EP02016949A EP1282175A3 (en) 2001-08-03 2002-08-01 Conductive pattern material and method for forming conductive pattern

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001-236893 2001-08-03
JP2001236893 2001-08-03
JP2001398048A JP3980351B2 (ja) 2001-08-03 2001-12-27 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2003114525A JP2003114525A (ja) 2003-04-18
JP2003114525A5 true JP2003114525A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2005-08-04
JP3980351B2 JP3980351B2 (ja) 2007-09-26

Family

ID=26619954

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001398048A Expired - Fee Related JP3980351B2 (ja) 2001-08-03 2001-12-27 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3980351B2 (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003076004A (ja) * 2001-09-04 2003-03-14 Fuji Photo Film Co Ltd パターン形成方法
JP4684632B2 (ja) * 2003-11-27 2011-05-18 富士フイルム株式会社 金属パターン形成方法、金属パターン及びプリント配線板
MY148655A (en) 2003-11-27 2013-05-15 Fuji Photo Film Co Ltd Metal pattern forming method, metal pattern obtained by the same, printed wiring board, conductive film forming method, and conductive film obtained by the same
JPWO2005116763A1 (ja) * 2004-05-31 2008-04-03 富士フイルム株式会社 グラフトパターン形成方法、グラフトパターン材料、リソグラフィ方法、導電性パターン形成方法、導電性パターン、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及びマイクロレンズの製造方法
JP2005347424A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Fuji Photo Film Co Ltd 多層配線板及びその製造方法
EP1802184B1 (en) * 2004-08-26 2010-11-03 FUJIFILM Corporation Method for manufacturing an electro-conductive pattern material
JP2006078600A (ja) * 2004-09-07 2006-03-23 Fuji Photo Film Co Ltd 電気光学装置の製造方法
KR100955860B1 (ko) 2005-02-08 2010-05-06 후지필름 가부시키가이샤 금속패턴 형성방법
JP5085043B2 (ja) * 2005-02-25 2012-11-28 富士フイルム株式会社 導電膜の形成方法、及び導電パターン形成方法
JP2007017910A (ja) * 2005-07-11 2007-01-25 Fujifilm Holdings Corp グラフトパターン材料、導電性パターン材料及びこれらの形成方法
JP6149466B2 (ja) * 2013-03-29 2017-06-21 Jsr株式会社 導電性パターン形成方法、樹脂組成物、導電性パターンおよび電子回路
TWI617629B (zh) 2013-05-01 2018-03-11 Jsr股份有限公司 具有凹圖案的基材的製造方法、組成物、導電膜的形成方法、電子電路及電子元件
JP6414203B2 (ja) 2014-03-14 2018-10-31 Jsr株式会社 配線の製造方法、電子回路の製造方法および電子デバイスの製造方法
JP6528776B2 (ja) 2014-09-12 2019-06-12 Jsr株式会社 凹パターンを有する構造体の製造方法、樹脂組成物、導電膜の形成方法、電子回路及び電子デバイス
JP6561754B2 (ja) 2014-10-31 2019-08-21 Jsr株式会社 親液部と撥液部を有する基材の製造方法、組成物および導電膜の形成方法
JP6175205B1 (ja) * 2017-02-01 2017-08-02 太陽インキ製造株式会社 感光性フィルム、感光性フィルム積層体およびそれらを用いて形成された硬化物
JP6199524B1 (ja) * 2017-07-03 2017-09-20 太陽インキ製造株式会社 感光性フィルム、感光性フィルム積層体およびそれらを用いて形成された硬化物
JP6199525B1 (ja) * 2017-07-03 2017-09-20 太陽インキ製造株式会社 感光性フィルム、感光性フィルム積層体およびそれらを用いて形成された硬化物

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6147641A (ja) * 1984-08-15 1986-03-08 Toshiba Corp レジストパタ−ンの形成方法
JPS6396655A (ja) * 1986-10-14 1988-04-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd パタ−ン形成方法
JPH0524951A (ja) * 1991-07-24 1993-02-02 Unitika Ltd 成形体表面の親水加工法
JPH0786125A (ja) * 1993-09-10 1995-03-31 Toshiba Corp パターン形成方法
JPH07252440A (ja) * 1994-03-15 1995-10-03 Kao Corp 所定の導電性パターンが施された製品及びその製造方法
JP3379420B2 (ja) * 1997-01-21 2003-02-24 信越化学工業株式会社 パターン形成方法
JPH11232940A (ja) * 1998-02-12 1999-08-27 Fuji Photo Film Co Ltd 透明導電体の製造方法および透明導電性フイルム
JP2001117223A (ja) * 1999-08-12 2001-04-27 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001183817A (ja) * 1999-10-13 2001-07-06 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP3836717B2 (ja) * 2001-12-19 2006-10-25 富士写真フイルム株式会社 導電性パターン材料及び導電性パターン形成方法
JP3768857B2 (ja) * 2001-10-11 2006-04-19 富士写真フイルム株式会社 パターン形成材料及び画像形成方法
JP4672233B2 (ja) * 2001-11-06 2011-04-20 大日本印刷株式会社 導電性パターン形成体の製造方法
JP4266596B2 (ja) * 2001-11-06 2009-05-20 大日本印刷株式会社 導電性パターン形成体の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003114525A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP5341966B2 (ja) パターン転写方法及びパターン転写装置、これを適用したフレキシブルディスプレイパネル、フレキシブル太陽電池、電子本、薄膜トランジスター、電磁波遮蔽シート、フレキシブル印刷回路基板
JP2001121614A (ja) 感熱性組成物から三次元物体を形成する方法
JP2001031917A5 (enrdf_load_stackoverflow)
DE60209490D1 (de) Herstellungsverfahren von tintenstrahlaufzeichnungsmedien
KR20090022190A (ko) 양면 임프린트 리소그래피 장치
CN1700100A (zh) 光刻器件及方法
KR900017774A (ko) 적층 구조물 및 그의 제조방법
KR20120030317A (ko) 적층체의 제조 방법, 원반, 전사 장치, 적층체, 성형 소자 및 광학 소자
WO2007116469A1 (ja) パターン転写方法およびパターン転写装置
US20050146084A1 (en) Method for molding microstructures and nanostructures
WO2008059848A1 (fr) Structure de micro/nanostructure, puce de bioinspection utilisant celle-ci et procédé de fabrication correspondant
JP4246174B2 (ja) ナノインプリント方法及び装置
EP0131893A3 (en) Process for producing supports for photographic paper
DE50206222D1 (de) Nassoffset-Druckform mit fotothermisch veränderbarem Material, Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung und/oder Löschung eines Druckbildes einer Nassoffset-Druckform
JPS58144187A (ja) エンボス付き離型紙及びその製造方法
JP2015014777A (ja) 光制御パネルの製造方法及び光制御パネルを用いた光学結像装置
JPH08503902A (ja) 画像形成用積層物
JP2874774B2 (ja) 化粧シートの製造方法
JPH0795121B2 (ja) フレネルレンズシートの製造方法
CA2631045A1 (en) Method for treating a laminate and the laminate obtainable by the method
US20050164118A1 (en) Method of joining a workpiece and a microstructure light exposure
JP3173167B2 (ja) 化粧紙の製造方法
JP2901225B2 (ja) スクリーン印刷版の製造方法
JPH0514837Y2 (enrdf_load_stackoverflow)