JP2002539137A - シクロ(Asp−DPhe−NMeVal−Arg−Gly)の調製方法 - Google Patents
シクロ(Asp−DPhe−NMeVal−Arg−Gly)の調製方法Info
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Abstract
Description
NMeVal)の新規調製方法に関する。
的に許容される塩を含む環状ペンタペプチドは、欧州特許第0770622号に
開示されている。本発明は、欧州特許第0770622号に関する選択発明とみ
なすことができる。
化することによって得られる。
結合、あるいは線状ペプチドの環化を保証し得るためには、その反応に関与しな
いアミノ酸の対応する官能基を、適当な保護基によってブロックすることである
。したがって、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、チオール基または
カルボキサミド基、さらにグアニジン基またはイミダゾール窒素に対する様々な
タイプの保護基が開発され、その組合せによって、前記反応の最適化に関して広
範に可能な多様性を実現している。その上、一方は固相ペプチド合成により、他
方は溶液中、の二つの方法によって、線状前駆体分子即ち線状ペプチドの合成を
実行することができる。この場合、アミノ酸の段階的結合またはアミノ酸セグメ
ントの断片縮合が可能である。カルボジイミド、カルボジイミダゾール等の様々
な縮合剤、TBTU等のウロニウム型縮合剤を用い、または混合酸無水物法や活
性エステル法に従って、個々の結合段階を順に実行することができる。
e−NMeVal)の新規で改良された調製法を開発する目的に基づいていた。
−Gly−Asp−DPhe−NMeVal)の合成において、アルギニン側鎖
中のグアニジノ基に対し2,2,4,6,7−ペンタメチルジヒドロベンゾフラ
ン−5−スルホニル(Pbf)、アスパラギン酸側鎖中のカルボキシル基に対し
ベンジル(Bzl)、と両保護基を組み合わせることによって、収率が最適化さ
れることが判明した。
l−OH、 H−Gly−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf
)−OH、 H−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gl
y−OH、 H−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBz)
−OH、または H−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl)−DPh
e−OH から成る群から選択された線状ペンタペプチドの環化、それに続く保護基の除去
、および適当であるならば、生理的に許容可能な塩へさらに変換し、環状ペンタ
ペプチド シクロ(Arg−Gly−Asp−DPhe−NMeVal) の調製方法に関する。
MeVal−Arg(Pbf)−Gly−OHを環化する前記の環状ペンタペプ
チド シクロ(Arg−Gly−Asp−DPhe−NMeVal) の調製方法に関する。
l−OH、 H−Gly−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf
)−OH、 H−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gl
y−OH、 H−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl
)−OH、または H−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl)−DPh
e−OH から成る群から選択した線状ペプチドの環化の反応条件は、脱水剤、不活性溶媒
、反応温度の選択および生理的に許容可能な塩へさらに変換すること関して、欧
州特許第0770622号に既に開示されている。
.Wuts、Protective Groups in Organic C
hemistry、第2版、Wiley、New York、1991年、また
はP.J.Kocienski、Protecting Groups、第1版
、George Thieme Verlag、Stuttgart−New
York、1994年、H.Kunz、H.Waldmann in Comp
rehensive Organic Synthesis、6巻(B.M.T
rost、I.Fleming、E.Winterfeldt編)、Perga
mon、Oxford、1991年、pp.631〜701)、例えば触媒(例
えば便宜的に炭素のような支持体上の、パラジウムのような貴金属触媒)の存在
下で水素で処理することによって、アスパラギン酸側鎖上のベンジル保護基を除
去することができる。適当な溶媒は、例えばメタノール、エタノール等のアルコ
ール、またはDMF等のアミド、あるいは例えば水との混合物等の別の不活性溶
媒との混合物である。概して水素化分解は、約0から100℃の間の温度および
約1から200バールの間の圧力、好ましくは20〜30℃の温度および1〜1
0バールの圧力で実行される。
7832によってペプチド化学に導入されたPbf保護基は、例えば95%トリ
フルオロ酢酸(TFA)で処理することにより除去される。この場合のPbf保
護基は、構造上類似の保護基である、4−メトキシ−2,3,6−トリメチルフ
ェニルスルホニル(Mtr)および2,2,5,7,8−ペンタメチルクロマン
−6−スルホニル(Pmc)よりTFAに対して不安定であり、後者の保護基も
シクロ(Arg−Gly−Asp−DPhe−NMeVal)の合成に関する側
鎖保護基として使用可能である。TFAは、さらに溶媒を添加することなく過剰
に使用されるのが好ましい。TFAは、例えば比6:4のTFA/ジクロロメタ
ンの組合せ等、不活性溶媒との混合物として使用することもできる。その上、1
〜10%、好ましくは2%の水を添加してTFAを使用することもできる。その
開裂のための反応温度は便宜上約0から約50℃の間であり、15から30℃の
間(室温)で反応を実行するのが好ましい。
塩酸塩 Et エチル Fmoc 9−フルオレニルメトキシカルボニル HOBt 1−ヒドロキシベンゾトリアゾール Me メチル MTBE メチルtert−ブチルエーテル Mtr 4−メトキシ−2,3,6−トリメチルフェニルスルホニル NMe N−メチル化α−アミノ基 NMP N−メチルピロリドン OtBu tert−ブチルエステル OMe メチルエステル OEt エチルエステル Pbf 2,2,4,6,7−ペンタメチルジヒドロベンゾフラン−5−スル
ホニル Pmc 2,2,5,7,8−ペンタメチルクロマン−6−スルホニル POA フェノキシアセチル Pr プロピル Su コハク酸イミド TBTU 2−(1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)−1,1,3,3−テ
トラメチルウロニウムテトラフルオロホウ酸 TFA トリフルオロ酢酸 Z ベンジルオキシカルボニル さらに驚くべきことに、前記のようにシクロ(Arg−Gly−Asp−DP
he−NMeVal)合成の中間体である線状ペプチドの合成においても、Ar
gにPbf、AspにBzlの側鎖保護基を特別に選択することによって、各合
成段階の収率が改善されることが判明した。その結果、シクロ(Arg−Gly
−Asp−DPhe−NMeVal)の収率が全体として増加し、その結果合成
コストが低下する。
l−OH、 H−Gly−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf
)−OH、 H−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gl
y−OH、 H−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl
)−OH、または H−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl)−DPh
e−OH、 特に、H−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−
Gly−OH の固相ペプチド合成、溶液中合成の両方においても実現される。
rinciples of Peptide Synthesis、M.Bod
ansky編、Springer Verlag Berlin 1984年;
Houben Weyl、Methoden der organishen
Chemie[Methods of Organic Chemistry]
、1974年 15/11巻、1から806ページ中の引用箇所、Georg
Thieme Verlag、Stuttgart;Calbiochem/N
ovabiochem Catalogue and Synthesis H
andbook 1999年;Methods in Molecular B
iology、35巻、Humana Press Totowa N.J.1
994年中のSynthesis Notes or Peptide Syn
thesis Protocols、M.W.PenningtonおよびB.
M.Dunn編に記載の、アミノ酸やペプチド合成の方法によって、即ち公知で
前記反応に適当な反応条件下で調製される。この場合、公知ではあるが、本明細
書でより詳細に説明していない変法も用いることができる。
field(J.Am.Chem.Soc.1972年、94、3102以降)
によって記載されている。前記の線状ペプチドの固相合成、その除去および精製
は、Peptides、Proc.8th Am.Pept.Symp.、V.
HrubyおよびD.H.Rich編、Pierce Comp.III、73
〜77ページ、1983年においてA.JonczykおよびJ.Meienh
oferに記載のように、またはAngew.Chem.1992、104、3
75〜391に記載の技法と同様にして実行される。
って集束的に行うことである。
e−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−OHの合成が、R1をアミノ保
護基とするトリペプチドR1−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−
OHと、R2をカルボキシル保護基とするジペプチドH−Arg(Pbf)−G
ly−R2の断片縮合によって集束的に実行され、次いで保護基R1およびR2が
除去されることを特徴とする、環状ペンタペプチド、シクロ(Arg−Gly−
Asp−DPhe−NMeVal)の調製法に関する。
、化学反応からアミノ基を保護(またはブロック)するために適当な基に関する
。このタイプの典型的な基は、特に、未置換の、または置換されたアシル、アリ
ール、アラルコキシメチルまたはアラルキルの各基である。所望の反応(または
一連の反応)の後にアミノ保護基は除去されるので、その性質や大きさは他の点
では重大なものではない。しかし、1〜20個のC原子を有するアミノ保護基が
好ましい。「アシル基」という表現は、本発明の方法に関してはできる限り広い
意味で解釈される。脂肪族、芳香脂肪族、脂環族、芳香族または複素環族のカル
ボン酸やスルホン酸から誘導されるアシル基、および特に、アルコキシカルボニ
ル、アルケニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、特にアラルコキ
シカルボニルの各基も、その表現の中に含まれる。このタイプのアシル基の例は
、ホルミル、またはアセチル、プロピオニル、ブチリル等のアルカノイル、フェ
ニルアセチル等のアラルカノイル、ベンゾイル、トルイル等のアロイル、フェノ
キシアセチル等のアリールオキシアルカノイル、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、Boc、2−ヨード
エトキシカルボニル等のアルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル(A
loc)等のアルケニルオキシカルボニル、CBZ(Zと同義)、4−メトキシ
ベンジルオキシカルボニル(MOZ)、4−ニトロベンジルオキシカルボニル、
または9−フルオレニルメトキシカルボニル(Fmoc)等のアラルキルオキシ
カルボニル、2−(フェニルスルホニル)エトキシカルボニル、トリメチルシリ
ルエトキシカルボニル(Teoc)、または4−メトキシ−2,3,6−トリメ
チルフェニルスルホニル(Mtr)等のアリールスルホニルである。さらに、ト
リチル(Trt)もアミノ保護基として知られている。好ましいアミノ保護基は
、Boc、FmocおよびAlocであり、さらにZ、ベンジルおよびアセチル
である。Bocは特に好ましい。
も公知であり、化学反応からカルボン酸のヒドロキシル基を保護するために適当
な基に関する。このタイプの典型的な基は、前述の未置換か、または置換された
アリール、アラルキル、アロイルまたはアシルの各基、さらにまたアルキル基、
アルキルシリル基、アリールシリル基またはアラルキルシリル基である。所望の
化学反応や一連の反応後に再び除去されるので、カルボキシル保護基およびそれ
と同義になるがヒドロキシル保護基の性質および大きさは重大なものではない。
しかし、1〜20個、特に1〜10個のC原子を有する基が好ましい。ヒドロキ
シル保護基の例は、とりわけ、ベンジル、4−メトキシベンジル、2,4−ジメ
トキシベンジル等のアラルキル基、ベンゾイルまたはp−ニトロベンゾイル等の
アロイル基、アセチル、ピバロイル等のアシル基、p−トルエンスルホニル、メ
チルまたはtert−ブチル等のアルキル基だけでなく、さらにアリル、トリメ
チルシリル(TMS)、トリイソプロピルシリル(TIPS)、tert−ブチ
ルジメチルシリル(TBS)またはトリエチルシリル等のアルキルシリル基、ト
リメチルシリルエチル、またはtert−ブチルジフェニルシリル(TBDPS
)等のアラルキルシリル基である。好ましいヒドロキシル保護基は、メチル、ベ
ンジル、アセチル、tert−ブチルまたはTBSである。メチルおよびter
t−ブチルが特に好ましい。
チル、エチル、tert−ブチル等の線状または分岐アルキル基、またはベンジ
ル等のアリールアルキル基である。本発明による方法ではベンジル基である。
c、MtrまたはPmcである。本発明による方法ではPbfである。
Greene、P.G.M.Wuts、Protective Groups
in Organic Chemistry、第2版、Wiley、New Y
ork、1991年、またはP.J.Kocienski、Protectin
g Groups、第1版、Georg Thieme Verlag、Stu
ttgart−New York、1994年)。この場合、それ自体公知では
あるが、本明細書でより詳細には説明していない変法も用いることができる。
DPhe−NMeVal−OHが、Z−DPhe−OHをH−NMeVal−O
Meと反応させることによりH−DPhe−NMeVal−OMeを与え、次い
でこれを活性化R1−Asp(OBzl)−OH誘導体と反応させ、かつそのメ
チルエステルを開裂させることによる線状合成によって調製される前記の方法に
関する。
sp(OBzl)−OSuである。使用可能なその他の活性エステルは、前記の
ようなペプチド合成に関する通常の文献から知られている。
Pbf)−Gly−R2が、Z−Arg(Pbf)−OHを反応させることによ
る線状合成によって調製され、保護基Zが除去される、前記のような方法に関す
る。
l)の合成中間体としての、 H−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVa
l−OH、 H−Gly−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf
)−OH、 H−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gl
y−OH、 H−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl
)−OH、または H−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl)−DPh
e−OH から成る群から選択される線状ペンタペプチドに関する。
の保護基Zの除去によって調製されるジペプチドH−Arg(Pbf)−Gly
−R2を b)Z−DPhe−OHのH−NMeVal−OMeとの線状合成および保護
基Zの除去によってH−DPhe−NMeVal−OMeを与え、その後にこの
ペプチドをR1−Asp(OBzl)−OHの活性エステルに結合させ、さらに
メチルエステルを除去することによって調製されるトリペプチドR1−Asp(
OBzl)−DPhe−NMeVal−OHと反応させることによって、集束的
に線状ペンタペプチドR1−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−A
rg(Pbf)−Gly−R2を与え、 c)保護基R1およびR2を除去し、 d)遊離したペンタペプチドH−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVa
l−Arg(Pbf)−Gly−OHを環化することによって、シクロ(Arg
(Pbf)−Gly−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal)を与え、 e)ベンジル保護基を除去し、 f)Pbf保護基をTFAで除去し、 任意選択的に、段階a〜f)によって生成された、シクロ(Arg−Gly−A
sp−DPhe−NMeVal)のトリフルオロ酢酸塩を、さらに別の生理的に
許容可能な塩に変換すること によって、環状ペンタペプチド シクロ(Arg−Gly−Asp−DPhe−NMeVal) を調製する方法に関する。
塩酸や臭化水素酸等のハロゲン化水素酸、たとえばオルトリン酸等のリン酸、ス
ルファミン酸等の無機酸の塩、さらに、有機酸の塩、とりわけ脂肪族、脂環族、
芳香脂肪族、芳香族、複素環族の一塩基や多塩基のカルボン酸、スルホン酸また
は硫酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、ヘキサン酸、オクタン酸、デカン酸
、ヘキサデカン酸、オクタデカン酸、ピバル酸、ジエチル酢酸、マロン酸、コハ
ク酸、ピメリン酸、フマール酸、マレイン酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン
酸、グルコン酸、アスコルビン酸、ニコチン酸、イソニコチン酸、メタンスルホ
ン酸やエタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリメトキシ安息香酸、アダマ
ンタンカルボン酸、p−トルエンスルホン酸、グリコール酸、エンボン酸、クロ
ロフェノキシ酢酸、アスパラギン酸、グルタミン酸、プロリン、グリオキシル酸
、パルミチン酸、パラクロロフェノキシイソ酪酸、シクロヘキサンカルボン酸、
グルコース−1−リン酸、ナフタレンモノスルホン酸やナフタレンジスルホン酸
、またはラウリル硫酸の塩である。
Phe−NMeVal)の塩酸塩または内部塩である。
攻撃することなく、これらのtert−ブチル様末端保護基をギ酸で開裂するこ
とができる。
リメチルクロロシラン25.3mlを滴下して加え、混合物を終夜撹拌する。反
応混合物を溶媒から取出し、残渣をメチルtert−ブチルエーテル(MTBE
)中に溶解し、5% Na2CO3および水で洗浄する。溶媒を除去後、残渣をメ
タノールおよび1N HClに溶解し、水で濡らしたPd/C(10%)と混合
し、穏やかなH2気流中で水素化する。反応終了後、触媒をろ過して除き、ろ過
物を溶媒から取出し、残渣を酢酸エチルから再結晶する。H−NMeVal−O
Me塩酸塩が75%の収率で得られる。
gおよびジイソプロピルエチルアミン10.1mlのジクロロメタン100ml
溶液を0〜5℃に冷却し、EDCI 11.35gを添加する。まず混合物を0
〜5℃で1時間撹拌し、次いで室温で終夜撹拌する。溶媒を除去し、残渣をMT
BE中に溶解し、Na2CO3(5%)、1N HClおよび水で洗浄後、乾燥す
る。溶媒を除去後、Z−DPhe−NMeVal−OMeが84.5%の収率で
得られる。
0mlの溶液に溶解し、チモールフタレイン10mgと混合し、その指示薬が青
く発色するまで、10M NaOHで滴下処理する。指示薬が脱色したとき、混
合物を10M NaOHで繰返し滴下処理する。指示薬の脱色がそれ以上認めら
れなくなったら、10% KHSO4水溶液でそれをpH2に調節し、メタノー
ルを除去し、生成物をMTBEで抽出する。Na2SO4で乾燥後、CHA 2.
9mlを添加することによって、ろ液からCHA塩を沈殿させる。Z−DPhe
−NMeVal−OH・CHAが90%の収率で得られる。
ム塩)16.4gを完全に溶解するまで、MTBE250mlとH3PO4(10
%)100mlの中で撹拌する。水相を除去後、有機相を水および飽和NaCl
溶液で洗浄し、乾燥する。溶媒を除去し、残渣を2NのNaOH 15.2ml
とTHF 150mlに溶解し、湿った触媒(Pd/C(10%)1g)を添加
後、穏やかなH2気流中で水素化する。触媒をろ過除去し、透明溶液をBoc−
Asp(OBzl)−OSu 12.1gとトリエチルアミン4.5mlで処理
し、室温で終夜撹拌する。溶媒を除去後、残渣をMTBEに溶解し、H3PO4(
10%)、水および飽和NaCl溶液で洗浄する。有機相をCHA3.3mlで
処理する。生成した塩、Boc−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal
−OH・CHAをろ過して取出し、真空乾燥する。収率は93%である。
、酢酸300mlとH3PO4 300mlの中で撹拌する。水相を除去後、有機
相を水および飽和NaCl溶液で洗浄し、乾燥する。溶媒を除去後、残渣をH−
Gly−OtBu・HCl 8.38gと共にジクロロメタン250ml中に溶
解し、0°に冷却する。次いでジイソプロピルエチルアミン17.12mlとT
BTU 16.05gを添加し、混合物を0°で60分、さらに室温で終夜撹拌
する。溶媒を除去し、酢酸エチル250mlで置換する。Na2CO3溶液(5%
)、水および飽和NaCl溶液で洗浄後、溶媒を除去する。Z−Arg(Pbf
)−Gly−OtBuが86%の収率で得られる。
液を水で濡れたPd/C(10%)3gと混合し、穏やかなH2気流下での水素
化によってZ基を除去する。次いで触媒をろ過除去し、溶媒を除去する。残渣を
酢酸エチルに溶解し、実施例2.1と同様にさらに処理する。H−Arg(Pb
f)−Gly−OtBuは86%の収率で得られる。
y−OHの合成 1.Boc−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−OH・CHA
1.23gを通常法で遊離酸に変換し、これをH−Arg(Pbf)−Gly−
OtBu 0.81gおよびDMAP 0.22gと共にジクロロメタン12.
5mlの中に溶解する。溶液を0〜5℃に冷却し、EDCI 0.345gで処
理する。それを0〜5℃で2時間、さらに室温で終夜撹拌する。溶媒を除去し、
残渣をMTBEに溶解し、さらに実施例2.1と同様にさらに処理する。Boc
−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−
OtBuが82%の収率で得られる。
NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−OtBu 2.3gを95%ギ酸2
3mlに溶解し、30分後に真空で濃縮する。生成物をエーテルと共に粉砕し、
ろ過し、真空乾燥する。H−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−A
rg(Pbf)−Gly−OH・HCOOHが95%の収率で得られる。
Val)の合成 H−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gl
y−OH・HCOOH 11.9gのNMP 60ml溶液を、TBTU 7.
25gとN−メチルモルホリン7.45mlのN−メチルピロリドン180ml
の撹拌溶液に滴下して加える。反応溶液を20時間撹拌し、次いでNaHCO3
47.5gの水1800ml溶液に滴下する。沈殿ろ過し、真空乾燥する。シク
ロ(Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal
)が73.4%の収率で得られる。
MeVal) 2gのTHF 26ml溶液を、Pd/C(10%)0.5gと
混合する。水素を2時間流通させ、混合物から触媒を除去し、溶媒を真空で除去
する。アセトン32mlを添加した後、生成物を結晶化し、ろ過、乾燥する。シ
クロ(Arg(Pbf)−Gly−Asp−DPhe−NMeVal)が83%
の収率で得られる。
ルエーテル150mlに滴下して加え、固体をろ過し、乾燥する。乾燥した生成
物を30mlのイソプロパノール/水1:2の中に溶解し、イオン交換樹脂II
I(酢酸塩型、Merck KGaA)で処理する。ろ過した溶液を濃縮し、凍
結乾燥する。シクロ(Arg−Gly−Asp−DPhe−NMeVal)が内
部塩として96%の収率で得られる。
Claims (6)
- 【請求項1】 H−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl)−DP
he−NMeVal−OH、 H−Gly−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf
)−OH、 H−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gl
y−OH、 H−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBz)
−OH、または H−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl)−DPh
e−OH から成る群から選択された線状ペンタペプチドの環化、それに続く保護基除去、
および適当であるならば、生理的に許容可能な塩へさらに変換し、環状ペンタペ
プチド シクロ(Arg−Gly−Asp−DPhe−NMeVal) を調製する方法。 - 【請求項2】 線状ペンタペプチド、H−Asp(OBzl)−DPhe−
NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−OHを環化することを特徴とする、
請求項1に記載の環状ペンタペプチド シクロ(Arg−Gly−Asp−DPhe−NMeVal) を調製する方法。 - 【請求項3】 線状ペプチド、H−Asp(OBzl)−DPhe−NMe
Val−Arg(Pbf)−Gly−OHの合成が、R1がアミノ保護基である
トリペプチド、R1−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−OHと、
R2がカルボキシル保護基であるジペプチド、H−Arg(Pbf)−Gly−
R2との断片縮合によって集束的に実行され、次いで保護基R1およびR2を除去
することを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項4】 R1がアミノ保護基であるトリペプチド、R1−Asp(OB
zl)−DPhe−NMeVal−OHが、Z−DPhe−OHをH−NMeV
al−OMeと反応させることによりH−DPhe−NMeVal−OMeを与
える線状合成によって調製され、次いでこれを活性化R1−Asp(OBzl)
−OH誘導体と反応させ、かつそのメチルエステルを開裂させることを特徴とす
る、請求項1から3に記載の方法。 - 【請求項5】 R2をカルボキシル保護基とするジペプチド、H−Arg(
Pbf)−Gly−R2が、Z−Arg(Pbf)−OHをH−Gly−R2と反
応させ、保護基Zを除去することによる線状合成によって調製されることを特徴
とする、請求項1から3に記載の方法。 - 【請求項6】 シクロ(Arg−Gly−Asp−DPhe−NMeVal
)の合成中間体としての、 H−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVa
l−OH、 H−Gly−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf
)−OH、 H−Asp(OBzl)−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gl
y−OH、 H−DPhe−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBz)
−OH、または H−NMeVal−Arg(Pbf)−Gly−Asp(OBzl)−DPh
e−OH から成る群から選択される線状ペンタペプチド。
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