JP2002504697A - 反射防止膜 - Google Patents

反射防止膜

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Abstract

(57)【要約】 反射防止コーティングは、１層以上の無機反射防止層（通常、金属酸化物またはシリカの層）、および、その場で硬化したポリマーの層を含み、このポリマーの層は４００〜７００ｎｍの波長範囲にわたる屈折率が１．５３以下でありかつ厚さが２０〜２００ｎｍである。このポリマーの層は良好な引掻に対する保護および指紋に対する保護を与え、かつ、無機反射防止層の厚さを低減させ、それにより、コーティングのコストを低減することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は基材上に反射防止膜を提供するための方法およびこの方法により形成
される製品に関する。
【０００２】 製品の表面から反射される光の量を低減し、これにより、かかる反射光によっ
て形成される「ゴースト」イメージを低減しまたはなくす反射防止膜を有する種
々の製品、例えば、レンズ、陰極線チューブ、フラットパネルディスプレー、ウ
ィンドーフィルムおよび風防を提供することが有利であることが長期にわたって
知られてきた。例えば、米国特許第５，１０６，６７１号、同第５，１７１，４
１４号および同第５，２３４，７４８号明細書は自動車の風防の内面上に配置さ
れ、それにより、風防の内面からの反射光によって生じる計器パネルのイメージ
の強度を低減する反射防止膜を記載している。
【０００３】 基材上の反射防止コーティングは、通常、複数の無機層、例えば、金属もしく
は金属酸化物の層およびシリカの層を含む（用語「シリカ」とは、本明細書にお
いて、反射防止技術における通常の意味に従って用いられ、式ＳｉＯx （式中、
ｘは必ずしも２である必要はない）の材料を意味する。当業者が気がつくように
、このようなシリカの層は酸素雰囲気中での珪素のスパッタリングまたは化学真
空蒸着によってしばしば付着され、付着された材料は純粋なシリカの理論式Ｓｉ
Ｏ2 とは正確には一致しない）。通常、シリカの層の片面は露出されており、こ
の露出面は水との低い接触角によって示されるように高い表面エネルギーを有し
、指紋および他のマークを非常に受けやすい。このようなマークはきれいにする
のが極端に困難であり、しばしば、化学洗浄剤の使用が要求される。
【０００４】 米国特許第４，７６５，７２９号明細書は、無機物質からなる表面膜を有する
単層または多層の反射防止膜、および、この反射防止膜の表面上に形成された、
、硬化性材料を含有する有機物質のコーティングを有する基材を含む反射防止性
光学製品を記載しており、この光学製品の表面反射率は３％未満であり、かつ、
水に対する静的接触角は少なくとも６０°である。無機物質は好ましくはシリカ
であり、そして、好ましい硬化性材料はシラノール末端ポリシロキサンである。
この特許によると、無機物質の厚さは０．０００５〜０．５μｍ（０．５〜５０
０ｎｍ）の範囲であるべきであり、特に０．００１〜０．３μｍ（１〜３００ｎ
ｍ）であるべきである。有機物質の層を配置することにより、光学製品の耐引掻
性および耐汚染性が向上するものと述べられている。
【０００５】 しかしながら、この特許はこのような厚さを提案しており、非常に広い範囲内
で有機物質の厚さを制御するための説明を与えておらず、そして全ての実施例は
ディップコーティングを用いており、この為、非常に薄いコーティングとなり、
その厚さはコーティングされた基材の表面上で有意に異なることが期待される。
というのは、コーティング溶液は基材上の最も低いポイントに蓄積するであろう
からである。さらに、これらの実施例において、レンズのような基材には、最初
に、λ／４の全体厚さとなるように金属酸化物とシリカの反射防止層が提供され
、その後、有機物質がディップコーティングにより塗布される。これらの環境下
で、適切な反射防止特性は、有機物質が反射防止コーティングの光学特性に本質
的に影響を及ぼさないほど非常に薄い、１０ｎｍ未満である場合にのみ得られ、
そして既に示したとおり、このよういな非常に薄いコーティングの均一性を達成
することは困難である。
【０００６】 おそらく、最も有効な市販の反射防止膜はSouthwall Technologies, 1029 Cor
poration Way, Palo Alto, California 94303, 米国、により販売されているも
のである。この材料は、耐摩耗性のハードコートを有し、次に、順番に、１７ｎ
ｍのインジウムスズオキシド（ＩＴＯ）層、２３ｎｍのシリカ層、９５ｎｍのＩ
ＴＯ層、８４ｎｍのシリカ層、そして最後に、フルオロポリマーから形成されか
つ表面へのマーキングの受けやすさおよび耐引掻性を改良すると言われる薄い「
滑層」を有する１８０μｍのポリ（エチレンテレフタレート）基材を含む。
【０００７】 この複合膜は優れた反射防止特性を有するが、反射防止膜が望まれる多くの用
途において使用を妨げるほど非常に高価である（約ＵＳ＄１０／平方フィート、
ＵＳ＄１００／平方メートル）。この膜が高価であることの主因は９５ｎｍのＩ
ＴＯ層および８４ｎｍのシリカ層である。というのは、これらの層は、通常、ス
パッタリングにより形成され、そしてスパッタリングされた層のコストはその厚
さに直接的に比例するからである。さらに、このような複合膜を生産ラインベー
スで大量に生産しようと望むならば、４つの別個のスパッタリングステーション
が必要であり、その全てが高真空に維持されねばならず、複雑でかつ高価な装置
となる。
【０００８】 無機反射防止層の上に、注意深く制御された屈折率の「厚い（即ち、光学的に
活性な）」ポリマーの層を提供すると、無機層の厚さを大きく減じることができ
、それにより、反射防止コーティングの全体のコストを低減することができるこ
とが、今回、判り、このコストの低減は特に、無機層が、コーティング装置内で
の基材の滞留時間が必要な層の厚さに直接的に比例するスパッタリングまたは化
学蒸着のような方法により適用される場合に顕著である。また、溶液コーティン
グまたは他のコーティング技術によって良好な均一性をもって容易に適用できる
、このような厚いポリマーの層を用いた反射防止コーティングは、良好な耐引掻
性および耐汚染性を有する。
【０００９】 従って、本発明は基材上に反射防止膜を提供するための方法を提供する。この
方法は、基材上に無機反射防止層を付着させることを含む。この方法は、無機反
射防止層の上に硬化性組成物の層を付着させ、そしてこの付着された硬化性組成
物のラジカル硬化を行い、厚さが２０〜２００ｎｍでありかつ４００〜７００ｎ
ｍの波長範囲にわたる屈折率が１．５３以下であるポリマーの層を形成させるこ
とを特徴とする。
【００１０】 本発明は、上記の方法による反射防止膜を有する製品をも提供する。
【００１１】 本方法において、硬化性組成物の硬化は１種以上のポリマーもしくはオリゴマ
ーの架橋、または、１種以上のモノマーもしくはオリゴマーの重合、または、架
橋と重合との組み合わせによって行うことができる。このような硬化技術はポリ
マー技術の当業者に知られている。
【００１２】 添付の図面は下記の実施例において製造した本発明の２つの好ましい反射防止
膜についての反射率曲線を示す。
【００１３】 既に示した通り、本発明の製品は１層以上の無機反射防止層および外側のポリ
マーの層を含む反射防止膜を有する。ポリマーの層は厚さが２０〜２００ｎｍで
ありかつ４００〜７００ｎｍの波長範囲にわたる屈折率が１．５３以下であり、
そして硬化性組成物の層を付着させ、その後、その場でこの層を硬化させること
により無機反射防止層に上に形成される。要求される比較的に厚い硬化性組成物
の層は溶液コーティングまたは他の従来のコーティング技術によって良好な均一
性をもって適用できる。また、厚いポリマーの層を与えることによって、無機反
射層の厚さを薄くし、この為、そのコストを低減することが可能である。例えば
、下記に記載される本発明の１つの態様は、上記のSouthwall Technologyの反射
防止膜とは対照的に、１９ｎｍのインジウムスズオキシドの層、２０ｎｍのシリ
カの層、および８５ｎｍのポリマーの層を含み、本発明のこの態様は、膜の単位
面積当たりにスパッタリングする必要がある材料の量を約８０％低減し、この為
、膜のコストを５０％を超えて低減させる。
【００１４】 本発明の製品の基材は反射防止コーティングを所望するいずれの材料であって
もよいが、但し、勿論、基材は、種々の層の付着および硬化性組成物の硬化に要
求される条件（比較的に穏やかな条件）に耐えうるものである。基材は仕上がっ
た光学製品、例えば、レンズ、陰極線チューブのディスプレー表面または自動車
の風防であってよい。しかしながら、殆どの場合において、好ましくは、基材は
プラスティック膜、通常、ポリエステル膜であり、このプラスティック膜はその
上に形成された反射防止コーティングを有し、そして得られる反射防止膜は、反
射防止特性を有することが望まれるもの、例えば、陰極線チューブ、フラットパ
ネルディスプレー、窓ガラスまたは風防に適用されてよい。適切なポリエステル
膜は容易に市販入手可能であり、例えば、ICI Americas Inc. から商標名"MELIN
EX" で販売されている４〜７ミル（１０１〜１７７μｍ）のポリ（エチレンテレ
フタレート）膜である。
【００１５】 特に、基材がプラスティック膜であるときには、硬度および耐引掻性を改良す
るために、基材に対する無機反射防止層の付着性を改良するために、または、他
の所望の特性、例えば、紫外線ろ過性または気体および／または湿分バリア性を
付与するために、片側または両側表面上にコーティングを有してよい。基材上の
ハードコーティングは、通常、約１〜約１５μｍの厚さであり、好ましくは約２
〜３μｍの厚さであり、そしてこのようなハードコーティングは適切な重合性材
料のラジカル重合（熱または紫外線により開始される）によって提供できる。本
発明における使用のために特に好ましいハードコートはTekra Corporation, 670
0 West Lincoln Avenue, New Berlin, Wisconsin 53151, 米国、により商標名"T
ERRAPIN"で販売されているアクリルポリマーコーティングである。
【００１６】 既に示した通り、本発明の製品は１層以上の無機反射防止層を含むことができ
る。これらの層は、これまで反射防止コーティングにおいて使用されている無機
材料のいずれかにより形成されてよい。硬化性組成物が付着される無機反射防止
層を形成するための好ましい材料は金属酸化物およびシリカ層である。好ましい
金属酸化物は酸化インジウム、二酸化チタン、酸化カドミウム、ガリウムインジ
ウムオキシド、五酸化ニオブ、インジウムスズオキシドおよび二酸化スズであり
、インジウムスズオキシドは特に好ましい。
【００１７】 薄膜光学および反射防止コーティングの設計の当業者に明らかなように、本発
明の製品中の無機反射防止層およびポリマー層の厚さは、これらの層の合計の厚
さが、反射防止特性が望まれる波長範囲の中心の約λ／４であるような相関関係
であるべきである。即ち、４００〜７００ｎｍの全可視範囲にわたって反射防止
特性が望まれるときには、合計の厚さは約１３５〜１４５ｎｍであるべきである
。また、無機反射防止層の厚さおよびポリマー層の厚さは、複合膜から最小の反
射率が得られるように、互いに相対的に調節できる。
【００１８】 ポリマー層と接触している金属酸化物の層を有する本発明の１つの好ましい製
品において、この金属酸化物の層は単一の無機反射防止層であり、そしてその厚
さは１０〜３０ｎｍであり、望ましくは１７〜２３ｎｍであり、一方、それと接
触しているポリマー層は厚さが８０〜１５０ｎｍであり、望ましくは１１０〜１
３０ｎｍである。この好ましい製品は、良好な反射防止性とともに製造コストが
低い。
【００１９】 ポリマー層と接触している無機層がシリカの層であるときには、本発明の好ま
しい製品は基材上に金属酸化物の層、この金属酸化物の層の上に重ねられたシリ
カの層、このシリカの層の上に重ねられたポリマーの層を含む。このような２層
の無機層の構造において、金属酸化物の層は、望ましくは、厚さが１０〜３０ｎ
ｍであり、好ましくは１０〜２０ｎｍであり、シリカの層は、望ましくは、厚さ
が１０〜１２０ｎｍであり、好ましくは１０〜５０ｎｍであり、そしてポリマー
の層は、望ましくは、厚さが５０〜１３０ｎｍであり、好ましくは６０〜１００
ｎｍである。
【００２０】 ポリマー層と接触している金属酸化物層を有する本発明の第三の好ましい製品
は、第一の金属酸化物の層、この第一の金属酸化物の層の上に重ねられたシリカ
の層、このシリカの層の上に重ねられた第二の金属酸化物の層、および、この第
二の金属酸化物の層の上に重ねられたポリマーの層を含む。この構造において、
第一の金属酸化物の層は、望ましくは、厚さが２０〜３５ｎｍであり、好ましく
は２５〜３０ｎｍであり、シリカの層は、望ましくは、厚さが１０〜２５ｎｍで
あり、好ましくは１５〜２０ｎｍであり、第二の金属酸化物の層は、望ましくは
、厚さが５０〜１００ｎｍであり、好ましくは６５〜８０ｎｍであり、そしてポ
リマーの層は、望ましくは、厚さが７０〜１２０ｎｍであり、好ましくは８５〜
１００ｎｍである。この好ましい３層の無機層の構造は上記のSouthwall Techno
logyの４層の無機層の構造と実質的に同等の反射防止特性を提供するが、４層の
構造の厚いシリカ層と薄い滑層が排除されているので、実質的に生産コストが低
減される。
【００２１】 本発明の製品の無機層を付着させるために他の技術、例えば、電子線および熱
蒸着を用いてよいが、これらの層は好ましくはスパッタリングまたは化学蒸着に
よって付着され、ｄｃスパッタリングは特に好ましい。しかしながら、ＲＦ、マ
グネトロンおよび反応スパッタリングおよび低圧プラズマ改良およびレーザー改
良化学蒸着も用いてよい。好ましいプラスティック膜の基材を使用するときには
、これらの層の各々の付着は、勿論、プラスティック基材に損傷を及ぼさない温
度で行われ、勿論、この温度制限は使用されるプラスティック基材によって厳密
に異なる。
【００２２】 既に示した通り、本発明の反射防止コーティングのポリマーの層は、４００〜
７００ｎｍの波長範囲にわたる屈折率が約１．５３以下でありかつ厚さが２０〜
２００ｎｍである。この層の好ましい厚さの範囲は５０〜１３０ｎｍであり、好
ましくは６０〜１００ｎｍである。厚さがこれらの範囲であるポリマーの層は、
従来の溶液コーティング、例えば、スロットコーティングを用いて、有機溶剤中
の適切な硬化性材料の溶液を付着させ、溶剤を除去し、そして得られた硬化性材
料の層を硬化させることにより容易に製造される。
【００２３】 ポリマー層の他の許容される特性、特に硬度並びに耐引掻性および耐汚染性と
矛盾することなく、ポリマー層の屈折率はできるかぎり低く維持することが望ま
しい。ポリマーは、膜の上で使用されることがある。洗浄溶剤、例えば、エチル
アルコール、水性アンモニア、アセトン、ガソリンおよびイソプロパノール、並
びに、食品および化粧品、例えば、接触することがあるピーナッツバターおよび
リップスティックに対しても耐性であるべきである。最後に、ポリマーは、例え
ば、スチールウールでの摩擦に耐えることができる能力によって測定されるとき
に良好な耐久性をも有するべきである。望ましくは、ポリマーの層は４００〜７
００ｎｍの全可視範囲にわたる屈折率が約１．５０を下回る。適切に低い屈折率
を提供するために、ポリマー層を形成するために使用される硬化性組成物は、望
ましくは、フルオロアルケンのポリマー、例えば、ポリ（ビニリデンフルオリド
）またはビニリデンフルオリド／テトラフルオロエチレンコポリマー、例えば、
San Diego Plastics, Inc., 2220 McKinley Avenue, National City, Californi
a 91950, 米国、により商標名"KYNAR" で販売されている材料を含む。しかしな
がら、フルオロアルケンポリマーのみからなるポリマー層は、通常、柔らかすぎ
て、良好な耐引掻保護性を与えることができないので、硬化性組成物はアルキル
アクリレートもしくはメタクリレートポリマー、例えば、ICI Acrylics, Inc.,
3411 Silverside Road-McKean 2nd, Wilmington, Delaware 19850-5391, 米国、
により"ELVACITE 2041" の商標名で販売されているか、または、Rohm and Haas,
100 Independence Mall West, Philadelphia, Pennsylvania 19106-2399, 米国
、により"ACRYLOID A21"の商標名で販売されている材料を含むことが望ましい。
ポリマー層内に架橋を促進し、そしてこの層の硬度を増加させるために、硬化性
組成物中に多官能性アクリレートモノマー（「多官能性」とは、本明細書中にお
いて従来からの意味で使用され、３以上の官能価を有する材料を意味する）を含
むことは有利である。特に好ましい多官能性アクリレートモノマーは、Sartomer
, Inc., 502 Thomas Jones Way, Exton, Pennsylvania 19341, 米国、により商
標名“SR 399”で販売されているものであり、この材料は製造業者により、ジペ
ンタエリトリトールペンタアクリレートであると言われている。
【００２４】 殆どのポリマーは可視範囲で負の分散を有し、即ち、７００ｎｍでの屈折率が
４００ｎｍでの屈折率よりも小さいということをポリマー科学の当業者はよく知
っている。このような負の分散は膜の反射防止性に悪影響を及ぼし、この為、こ
のような負の分散をできるかぎり低減することが望ましいことが計算により示さ
れる。上記のKYNAR ポリマーは低い屈折率および小さい負の分散を有し、その為
、本発明の硬化性組成物における使用に非常に好適である。ポリマー層に低い屈
折率を与えるためにフルオロアルケンポリマーを所望し、同層に硬度を与えるた
めにアクリレートもしくはメタクリレート架橋剤を所望すると、ポリマー層の特
性がこの２つの特性の間の妥協を必然的に伴わなければならないことを示唆しう
るが、もし、硬化性組成物の配合を注意深く選択するならば、硬化の間に材料の
分離が自発的に起こり、それにより、アクリレートもしくはメタクリレートポリ
マーに富む外側部分（この為、向上した硬度のもの）およびフルオロアルケンポ
リマーに富む内側部分（この為、低減された屈折率のもの）を有するポリマー層
となる。硬化の間のアクリレートもしくはメタクリレートポリマー材料のこのよ
うな分離の更なる利点は、空気のような酸素含有雰囲気中で架橋を行うことがで
き、それにより、薄膜の紫外線硬化の間に従来から行われているような窒素ブラ
ンケットを必要とせず、この為、反射防止膜の製造のコストを低減することがで
きる点である。
【００２５】 硬化性組成物は従来のいずれかの方法によって硬化できるが、望ましくは、熱
または紫外線のいずれかにより開始されるラジカル硬化によって硬化され、紫外
線により開始される硬化が一般に好ましい。ポリマー技術の当業者はこのような
ラジカル硬化において有用な適切な開始剤、酸素掃去剤および他の成分を周知し
ているであろう。しかしながら、本発明の方法において望まれるポリマー層の厚
さが極端に薄いので、要求される開始剤のタイプおよび割合はより厚いポリマー
の層の製造に意図される典型的な配合とは異なることがあることに注意されたい
。
【００２６】 本発明の好ましい態様を例示の手段としてのみ以下に説明し、本発明の方法に
用いられる好ましい試薬、条件および技術を示す。
【００２７】 例１ 好ましい方法において、４ミル（１０１μｍ）のポリ（エチレンテレフタレー
ト）膜の片面上に上記のTERRAPINアクリルポリマーコーティングを溶剤コーティ
ングし、溶剤を蒸発させ、そして膜を紫外線ランプの下に配置し、ポリマーを硬
化させた。その後、膜のコーティングされた表面に、直流スパッタリングによっ
て（別法として、化学蒸着を用いてもよい）、１９ｎｍのインジウムスズオキシ
ドの層、次に、２０ｎｍのシリカの層をコーティングした。
【００２８】 液体の硬化性組成物を、その後、次の組成（割合は溶液の乾燥重量を基準とす
る）を有するように調製した。 重量％ ポリ（ビニリデンフルオリド）(KYNAR) ４６．８ メチルメタクリレート(ACRYLOID A21) ６．９ ジペンタエリトリトールペンタアクリレート(Sartomer SR 399) ３０．７ 多官能性アクリレートモノマー(Sartomer CD9051) ３．０ コーティング添加剤(COATOSIL 35031 ) ４．０ 定着剤（SILANE A1741) １．０ 硬化開始剤（DARACURE 11732) ２．０ 硬化開始剤（QUANTACURE BMS3) ４．０ 酸素掃去剤（DIDMA4) １．６ １．両方ともOSi Specialties, 39 Old Ridgeburry Road, Danbury, Co
nnecticut 06810-5121、米国、から入手可能である。 ２．Ciba-Geigy Corporation, 540 White Plains Road, P.O. Box 2005
, Tarrytown, New York 10591-9005、米国、から入手可能である。 ３．Great Lakes Chemical Corporationにより製造され、そしてBiddle
Sawyer Corporation, 2 Penn Plaza, New York, New York 10121 、米国、から
入手可能である。 ４．Aldrich Chemical Company, 1001 West St. Paul, Milwaukee, Wis
consin 53233、米国、から入手可能である。
【００２９】 種々の成分をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）中の原料溶液として２０％ｗ／ｗ
で調製したが、 ACRYLOID A21 およびQUANTACURE BMSを１０％ｗ／ｗで調製し、
そしてDARACUREおよびDIDMA を５％ｗ／ｗで調製した。その後、種々の原料溶液
の必要量を十分なさらなる量のＭＥＫとともに混合し、２．７５％固形分ｗ／ｗ
を含むコーティング溶液２０００ｇを得た。このコーティング溶液を、金属酸化
物の層およびシリカの層を有する膜の上にスロットコーターによってコーティン
グし、溶剤を蒸発させ、そして膜を紫外線ランプの下に配置し、約８５ｎｍの厚
さのポリマーコーティングを製造した。
【００３０】 得られた本発明の反射防止製品は低い表面反射性を有し、そしてスチールウー
ルによる引掻または指紋に対して良好な耐性を示した。ポリマーコーティングを
有しない露出したシリカ表面では水との接触角が１４〜２６°であるのとは対照
的に、この製品は約８９°の水との接触角を有した。
【００３１】 例２ 例１を繰り返したが、２０ｎｍのインジウムスズオキシドの層のみを基材（ハ
ードコートを有する）に付着させ、そして形成されるポリマー層の厚さは１２０
ｎｍであった。
【００３２】 例３ 例１を繰り返したが、基材（ハードコートを有する）上に、順番に、２７．５
ｎｍのインジウムスズオキシドの層、１７．５ｎｍのシリカの層、７３ｎｍのの
インジウムスズオキシドの層、および、９４ｎｍの、例１と同一のポリマーの層
を付着させた。
【００３３】 添付の図面は本発明の２つの好ましい膜についての反射率曲線を示す。 曲線Ａ：例１と同様に製造した２層の無機層の構造であるが、１９ｎｍのイン
ジウムスズオキシドの層、４０ｎｍのシリカの層および８２．５ｎｍのポリマー
の層を有する。 曲線Ｂ：上記の例３において製造した膜。
【００３４】 これらの曲線から、両方の膜は非常に良好な反射防止特性を示しており、例3
のより高価な３層の無機層の膜は４５０〜７００ｎｍの範囲にわたり、１．５％
を下回る反射率を示していることが判るであろう（後の同様の膜の実験では、こ
の波長範囲にわたって０．８％までの低い反射率を生じた）。曲線Ａの昼間視反
射率値（ＣＩＥ １９３１に従って測定され、５５０ｎｍを中心としそしてこの
波長で最も高く重み付けした４５０〜６５０ｎｍのスペクトル範囲にわたる反射
率の加重平均値を示す）は０．６０９％であり、一方、曲線Ｂの対応する値は０
．０８５％であった（曲線Ａを生じさせた膜中に使用された４０ｎｍのシリカ層
は膜の昼間視反射率を最小化した。しかしながら、シリカの層の厚さを２０ｎｍ
にまで低下させても、この値を０．６１０％にまでしか増加させない。シリカの
層を低下させたことによりコストが低減され、事実上、例１において用いた２０
ｎｍの厚さが好ましい）。
【００３５】 上記の本発明の好ましい態様において、本発明の範囲を逸脱することなく、多
くの変更が行えることは当業者に明らかであろう。例えば、シリカと結合しそし
てそれとともに反射防止コーティングを形成する金属酸化物の層は異なる材料の
層に置き換えてもよい。それから、既に記載した様式でシリカの表面に上記のポ
リマーの層を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の２つの反射防止膜についての反射率曲線を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ネイガーカー，プラドニア ブイ． アメリカ合衆国，マサチューセッツ 02160，ニュートン，カリフォルニア ス トリート 487 (72)発明者 スミス，ウィリアム ケー． アメリカ合衆国，マサチューセッツ 01776，サッドバリー，マルボロ ロード 255 (72)発明者 ワン，シャオジア ゼット． アメリカ合衆国，マサチューセッツ 01720，アクトン，フォスター ストリー ト ６ (72)発明者 シァ，イー ホー アメリカ合衆国，ミシガン 48084，トロ イ，ランサー ドライブ 2188 Ｆターム(参考） 2K009 AA03 AA15 BB24 CC03 CC24 CC26 DD02 DD03 DD04 4D075 AE03 AE27 BB42Z BB46Z BB92Z CA02 CA34 CA36 CA44 CB02 DA04 DA06 DB13 DB48 DC13 DC24 EA21 EB01 EB16 EB22 EB24 4F100 AA00B AA17B AA17E AA18B AA20D AA21B AA28B AA33B AK17C AK25A AK25C AK42A AT00A BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10C BA44C CC00C EJ08C GB90 JB12A JB12C JN06B JN18C YY00C 4G059 AA01 AA07 AA11 AC04 GA01 GA02 GA04 GA16

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基材上に無機反射防止層を付着させることを含む、基材上に
    反射防止膜を提供するための方法であって、 前記無機反射防止層の上に硬化性組成物の層を付着させ、そして、 この付着させた硬化性組成物のラジカル硬化を行い、厚さが２０〜２００ｎｍ
    であり、かつ、４００〜７００ｎｍの波長範囲にわたる屈折率が１．５３以下で
    あるポリマーの層を形成させることを特徴とする、方法。
  2. 【請求項２】 前記無機反射防止層は、酸化インジウム、二酸化チタン、酸
    化カドミウム、ガリウムインジウムオキシド、五酸化ニオブ、インジウムスズオ
    キシドおよび二酸化スズのうちの少なくとも１種を含むことを特徴とする、請求
    項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 厚さが１０〜３０ｎｍである金属酸化物の単一の層を基材上
    に付着させ、そして、この金属酸化物の単一の層の上に、厚さが８０〜１５０ｎ
    ｍのポリマーの層を形成させることを特徴とする、請求項１または２記載の方法
    。
  4. 【請求項４】 金属酸化物の層を基材上に付着させ、この金属酸化物の層の
    上にシリカの層を付着させ、そしてこのシリカの層の上にポリマーの層を形成さ
    せることを特徴とする、請求項１または２記載の方法。
  5. 【請求項５】 第一の金属酸化物の層を基材上に付着させ、この第一の金属
    酸化物の層の上にシリカの層を付着させ、このシリカの層の上に第二の金属酸化
    物の層を付着させ、そしてこの第二の金属酸化物の層の上にポリマーの層を形成
    させることを特徴とする、請求項１または２記載の方法。
  6. 【請求項６】 前記ポリマーの層は４００〜７００ｎｍの波長範囲にわたる
    屈折率が１．５０以下であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項記
    載の方法。
  7. 【請求項７】 前記硬化性組成物は、 （ａ）フルオロアルケンのポリマー、 （ｂ）アルキルアクリレートもしくはメタクリレートのポリマー、および、 （ｃ）多官能性アクリレートモノマー、 のうちの少なくとも１種を含むことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項
    記載の方法。
  8. 【請求項８】 前記硬化性組成物は、フルオロアルケンのポリマーと、アル
    キルアクリレートもしくはメタクリレートのポリマーの両方を含み、かつ、硬化
    がポリマーの層の内部で材料の分離を生じさせ、それにより、アルキルアクリレ
    ートもしくはメタクリレートに富む外側部分と、フルオロアルケンに富む内側部
    分とを有するポリマーの層を生じることをさらに特徴とする、請求項７記載の方
    法。
  9. 【請求項９】 前記無機反射防止層を前記基材上に付着させる前に、前記基
    材上にハードコートを付着させることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１
    項記載の方法。
  10. 【請求項１０】 前記硬化性組成物の硬化を空気中にて行うことを特徴とす
    る、請求項１〜９のいずれか１項記載の方法。
  11. 【請求項１１】 反射防止膜が請求項１〜１０のいずれか１項記載の方法に
    より製造されたことを特徴とする、反射防止膜を有する製品。
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