JP2001318205A - 反射防止フィルム - Google Patents
反射防止フィルムInfo
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- JP2001318205A JP2001318205A JP2000136037A JP2000136037A JP2001318205A JP 2001318205 A JP2001318205 A JP 2001318205A JP 2000136037 A JP2000136037 A JP 2000136037A JP 2000136037 A JP2000136037 A JP 2000136037A JP 2001318205 A JP2001318205 A JP 2001318205A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光透過性に優れ、高透明性で色調が良く、成
膜性に富み、安価で高性能な機能を有し、防汚性にも優
れた反射防止フィルムを提供する。 【解決手段】 有機フィルム２の有機系ハードコート７
を施した表面に、高屈折率透明無機薄膜４と低屈折率透
明無機薄膜３との積層膜であって、高屈折率透明無機薄
膜４が最表面となる無機積層膜と、この無機積層膜上の
非フッ素系有機薄膜６の低屈折率薄膜とからなる反射防
止膜５が形成されてなる反射防止フィルム１。
膜性に富み、安価で高性能な機能を有し、防汚性にも優
れた反射防止フィルムを提供する。 【解決手段】 有機フィルム２の有機系ハードコート７
を施した表面に、高屈折率透明無機薄膜４と低屈折率透
明無機薄膜３との積層膜であって、高屈折率透明無機薄
膜４が最表面となる無機積層膜と、この無機積層膜上の
非フッ素系有機薄膜６の低屈折率薄膜とからなる反射防
止膜５が形成されてなる反射防止フィルム１。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は反射防止フィルムに
係り、特に、光透過性に優れ、高透明性で色調が良く、
成膜性に富み、安価で高性能な機能を有し、防汚性にも
優れた反射防止フィルムに関する。
係り、特に、光透過性に優れ、高透明性で色調が良く、
成膜性に富み、安価で高性能な機能を有し、防汚性にも
優れた反射防止フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】ＯＡ機器のＰＤＰ（プラズマディスプレ
イパネル）や液晶板、車輛ないし特殊建築物の窓枠には
光の反射を防止して高い光透過性を確保するために反射
防止フィルムが適用されている。
イパネル）や液晶板、車輛ないし特殊建築物の窓枠には
光の反射を防止して高い光透過性を確保するために反射
防止フィルムが適用されている。
【０００３】従来、この種の用途に用いられる反射防止
フィルムは、ＴｉＯ２，ＩＴＯ，ＳｎＯ２等の屈折率の
高い無機透明膜と、ＳｉＯ２，ＭｇＦ２等の屈折率の低
い無機透明膜を有機フィルム上に積層した構成とされて
いる。
フィルムは、ＴｉＯ２，ＩＴＯ，ＳｎＯ２等の屈折率の
高い無機透明膜と、ＳｉＯ２，ＭｇＦ２等の屈折率の低
い無機透明膜を有機フィルム上に積層した構成とされて
いる。
【０００４】また、フッ素系の有機薄膜を有機フィルム
上に形成したものもある。
上に形成したものもある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】フッ素系の有機薄膜は
多層化が困難であるため、従来においては、単層で反射
防止膜とされているが、単層では十分な反射防止性能を
得ることができず、実用性に劣る。
多層化が困難であるため、従来においては、単層で反射
防止膜とされているが、単層では十分な反射防止性能を
得ることができず、実用性に劣る。
【０００６】一方、ＴｉＯ２等の無機薄膜であれば、多
層に積層した反射防止膜とすることができるが、このよ
うな無機系の反射防止膜は、その最表面も低屈折率の無
機物質で構成されるため、反射防止性能には優れるもの
の、防汚性が劣るため、更に、別途、特別な防汚処理が
必要となるという欠点がある。
層に積層した反射防止膜とすることができるが、このよ
うな無機系の反射防止膜は、その最表面も低屈折率の無
機物質で構成されるため、反射防止性能には優れるもの
の、防汚性が劣るため、更に、別途、特別な防汚処理が
必要となるという欠点がある。
【０００７】また、無機系薄膜の成膜方法としては膜厚
の均一性の点からスパッタリング法が用いられるが、薄
膜といえどもその成膜速度は遅く、反射防止フィルムと
して高価なものとなっている。一方、塗工により、Ｔｉ
Ｏ２やＩＴＯ等の高屈折率無機充填剤を含んだ薄膜を形
成する方法もあるが、無機充填剤を１００％膜中に充填
することはできず、屈折率や導電性などの物理的性能を
バルクのものと同じ性能で引き出すことはできない。そ
のため、反射防止性能も上述の無機積層タイプに比べる
と劣り、また、他の性能となる帯電防止性能も無機積層
タイプに比べ劣るといった問題点があった。
の均一性の点からスパッタリング法が用いられるが、薄
膜といえどもその成膜速度は遅く、反射防止フィルムと
して高価なものとなっている。一方、塗工により、Ｔｉ
Ｏ２やＩＴＯ等の高屈折率無機充填剤を含んだ薄膜を形
成する方法もあるが、無機充填剤を１００％膜中に充填
することはできず、屈折率や導電性などの物理的性能を
バルクのものと同じ性能で引き出すことはできない。そ
のため、反射防止性能も上述の無機積層タイプに比べる
と劣り、また、他の性能となる帯電防止性能も無機積層
タイプに比べ劣るといった問題点があった。
【０００８】本発明は上記従来の問題点を解決し、光透
過性に優れ、高透明性で色調が良く、成膜性に富み、安
価で高性能な機能を有し、防汚性にも優れた反射防止フ
ィルムを提供することを目的とする。
過性に優れ、高透明性で色調が良く、成膜性に富み、安
価で高性能な機能を有し、防汚性にも優れた反射防止フ
ィルムを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の反射防止フィル
ムは、有機フィルムの表面に、少なくとも最上層が高屈
折率透明無機薄膜とされた透明無機膜と該透明無機膜上
に形成された非フッ素系有機薄膜とで構成される反射防
止膜が形成されていることを特徴とする。
ムは、有機フィルムの表面に、少なくとも最上層が高屈
折率透明無機薄膜とされた透明無機膜と該透明無機膜上
に形成された非フッ素系有機薄膜とで構成される反射防
止膜が形成されていることを特徴とする。
【００１０】本発明では、反射防止膜の最表面層として
非フッ素系有機薄膜を形成することで反射防止機能に加
えて防汚機能を付与することができる。即ち、非フッ素
系有機薄膜は防汚性に優れるため、非フッ素系有機薄膜
を最表面に形成することで、防汚機能を付与することが
できる。また、この非フッ素系有機薄膜の直下の透明無
機膜は高屈折率透明無機薄膜であるので、この高屈折率
透明無機薄膜上に低屈折率の非フッ素系有機薄膜を形成
することで高屈折率膜と低屈折率膜の多層化による高性
能な反射防止機能を得ることができる。
非フッ素系有機薄膜を形成することで反射防止機能に加
えて防汚機能を付与することができる。即ち、非フッ素
系有機薄膜は防汚性に優れるため、非フッ素系有機薄膜
を最表面に形成することで、防汚機能を付与することが
できる。また、この非フッ素系有機薄膜の直下の透明無
機膜は高屈折率透明無機薄膜であるので、この高屈折率
透明無機薄膜上に低屈折率の非フッ素系有機薄膜を形成
することで高屈折率膜と低屈折率膜の多層化による高性
能な反射防止機能を得ることができる。
【００１１】本発明において、前記透明無機膜は、低屈
折率透明無機薄膜と高屈折率透明無機薄膜とを交互に積
層した無機積層膜であり、前記非フッ素系有機薄膜は該
無機積層膜の最上層の高屈折率透明無機薄膜上に形成さ
れていることが好ましく、このように構成することで、
高屈折率透明無機薄膜と低屈折率透明無機膜との積層構
造による光の干渉作用で光の反射を効果的に防止し、光
透過性に優れ、高透明性で色調の良い反射防止フィルム
を実現できる。
折率透明無機薄膜と高屈折率透明無機薄膜とを交互に積
層した無機積層膜であり、前記非フッ素系有機薄膜は該
無機積層膜の最上層の高屈折率透明無機薄膜上に形成さ
れていることが好ましく、このように構成することで、
高屈折率透明無機薄膜と低屈折率透明無機膜との積層構
造による光の干渉作用で光の反射を効果的に防止し、光
透過性に優れ、高透明性で色調の良い反射防止フィルム
を実現できる。
【００１２】この非フッ素系有機薄膜は、５０〜５００
ｎｍの光学的な膜厚の低屈折率薄膜であることが、光の
干渉による反射防止機能と防汚機能の両立の上で好適で
ある。また、直下の高屈折率無機薄膜の屈折率が１．８
以上と高い場合、この非フッ素系有機薄膜の屈折率は
１．５程度でも充分反射防止性能を導き出すことができ
る。
ｎｍの光学的な膜厚の低屈折率薄膜であることが、光の
干渉による反射防止機能と防汚機能の両立の上で好適で
ある。また、直下の高屈折率無機薄膜の屈折率が１．８
以上と高い場合、この非フッ素系有機薄膜の屈折率は
１．５程度でも充分反射防止性能を導き出すことができ
る。
【００１３】この非フッ素系有機薄膜は、プラズマ重合
法や、ウェットコーティング、或いはウェットコーティ
ングした後、熱、電子線、放射線又は紫外線等により架
橋する方法により成膜することができる。
法や、ウェットコーティング、或いはウェットコーティ
ングした後、熱、電子線、放射線又は紫外線等により架
橋する方法により成膜することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の反
射防止フィルムの実施の形態を詳細に説明する。
射防止フィルムの実施の形態を詳細に説明する。
【００１５】図１は本発明の反射防止フィルムの実施の
形態を示す模式的な断面図である。
形態を示す模式的な断面図である。
【００１６】図示の如く、本発明の反射防止フィルム１
は、有機フィルム２上に、高屈折率透明無機薄膜４と低
屈折率透明無機薄膜３とを、表面層が高屈折率透明無機
薄膜４となるように交互に積層した無機積層膜と、この
無機積層膜上に形成された非フッ素系有機薄膜６とから
なる反射防止膜５を形成したものである。
は、有機フィルム２上に、高屈折率透明無機薄膜４と低
屈折率透明無機薄膜３とを、表面層が高屈折率透明無機
薄膜４となるように交互に積層した無機積層膜と、この
無機積層膜上に形成された非フッ素系有機薄膜６とから
なる反射防止膜５を形成したものである。
【００１７】本発明において、有機フィルム２として
は、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタア
クリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル、ポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート、ポリビニル
アルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレ
タン、セロファン等、好ましくはＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭ
Ａの透明フィルムが挙げられる。
は、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタア
クリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル、ポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート、ポリビニル
アルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレ
タン、セロファン等、好ましくはＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭ
Ａの透明フィルムが挙げられる。
【００１８】有機フィルム２の厚さは得られる反射防止
フィルムの用途による要求特性（例えば、強度、薄膜
性）等によって適宜決定されるが、通常の場合、１μｍ
〜１０ｍｍの範囲とされる。
フィルムの用途による要求特性（例えば、強度、薄膜
性）等によって適宜決定されるが、通常の場合、１μｍ
〜１０ｍｍの範囲とされる。
【００１９】この有機フィルム２上には、反射防止フィ
ルムとして必要な耐擦傷性向上のために、ハードコート
層７が形成されている。このハードコート材料として特
に規定はないが、多官能アクリル樹脂、多官能シリコン
樹脂等が用いられる。これら樹脂は熱、光、電子線等で
架橋を施すことが好ましく、特に光の場合、紫外線硬化
樹脂が用いられる。
ルムとして必要な耐擦傷性向上のために、ハードコート
層７が形成されている。このハードコート材料として特
に規定はないが、多官能アクリル樹脂、多官能シリコン
樹脂等が用いられる。これら樹脂は熱、光、電子線等で
架橋を施すことが好ましく、特に光の場合、紫外線硬化
樹脂が用いられる。
【００２０】高屈折率透明無機薄膜４としては、ＩＴＯ
（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、Ａｌをドープし
たＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ等の屈折率１．
８以上の薄膜を採用することができる。
（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、Ａｌをドープし
たＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ等の屈折率１．
８以上の薄膜を採用することができる。
【００２１】ところで、有機フィルム上に透明無機薄膜
を積層する方式の従来の反射防止フィルムでは、材料に
十分な透明性がなく、特に４００ｎｍ付近から短い波長
での光の透過率が急激に下がってしまう。そのため、反
射防止フィルムが黄色味がかって見えるという欠点があ
る。透明性の高い材料も提案されてはいるが、成膜速度
が著しく遅い、或いは、３５０ｎｍ付近よりも波長の短
い紫外線に対してかなりの光透過があるため、紫外線カ
ット性が得られないという欠点があった。
を積層する方式の従来の反射防止フィルムでは、材料に
十分な透明性がなく、特に４００ｎｍ付近から短い波長
での光の透過率が急激に下がってしまう。そのため、反
射防止フィルムが黄色味がかって見えるという欠点があ
る。透明性の高い材料も提案されてはいるが、成膜速度
が著しく遅い、或いは、３５０ｎｍ付近よりも波長の短
い紫外線に対してかなりの光透過があるため、紫外線カ
ット性が得られないという欠点があった。
【００２２】これに対して、高屈折率透明無機薄膜の材
料として４００ｎｍ付近の光の透過性が高く、３５０ｎ
ｍ付近及びそれ以下の光の吸収が多い材料を用いること
により、より一層優れた可視光透過性と紫外線カット性
とを兼備する反射防止フィルムを実現できる。また、成
膜速度の速い材料を用いることで、生産性を高めること
ができる。
料として４００ｎｍ付近の光の透過性が高く、３５０ｎ
ｍ付近及びそれ以下の光の吸収が多い材料を用いること
により、より一層優れた可視光透過性と紫外線カット性
とを兼備する反射防止フィルムを実現できる。また、成
膜速度の速い材料を用いることで、生産性を高めること
ができる。
【００２３】特に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）は、４００ｎｍ
付近の光の透過性が高く、３５０ｎｍ付近及びそれ以下
の光の吸収が多い材料であり、かつ、成膜速度の速い材
料であるため、高屈折率透明無機薄膜４の材料として酸
化亜鉛を用いることにより、優れた可視光透過性と紫外
線カット性とを兼備し、しかも生産性も良好な反射防止
フィルムを提供することができる。
付近の光の透過性が高く、３５０ｎｍ付近及びそれ以下
の光の吸収が多い材料であり、かつ、成膜速度の速い材
料であるため、高屈折率透明無機薄膜４の材料として酸
化亜鉛を用いることにより、優れた可視光透過性と紫外
線カット性とを兼備し、しかも生産性も良好な反射防止
フィルムを提供することができる。
【００２４】一方、低屈折率透明無機薄膜３としてはＳ
ｉＯ２、ＭｇＦ２、Ａｌ２Ｏ３等の屈折率が１．６以下
の低屈折率材料よりなる薄膜を採用することができる。
これら高屈折率透明無機薄膜３及び低屈折率透明無機薄
膜４の膜厚は光の干渉で可視光領域での反射率を下げる
ため、膜構成、膜種、中心波長により異なってくるが、
図１に示すような３層構造の場合、有機フィルム２側の
第１層（高屈折率透明無機薄膜４）が５〜５０ｎｍ、第
２層（低屈折率透明無機薄膜３）が５〜５０ｎｍ、第３
層（高屈折率透明無機薄膜４）が５０〜１５０ｎｍ程度
の膜厚で形成するのが好ましい。
ｉＯ２、ＭｇＦ２、Ａｌ２Ｏ３等の屈折率が１．６以下
の低屈折率材料よりなる薄膜を採用することができる。
これら高屈折率透明無機薄膜３及び低屈折率透明無機薄
膜４の膜厚は光の干渉で可視光領域での反射率を下げる
ため、膜構成、膜種、中心波長により異なってくるが、
図１に示すような３層構造の場合、有機フィルム２側の
第１層（高屈折率透明無機薄膜４）が５〜５０ｎｍ、第
２層（低屈折率透明無機薄膜３）が５〜５０ｎｍ、第３
層（高屈折率透明無機薄膜４）が５０〜１５０ｎｍ程度
の膜厚で形成するのが好ましい。
【００２５】このような高屈折率透明無機薄膜４及び低
屈折率透明無機薄膜３は、蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング、ＣＶＤ法等により形成することがで
きるが、特に、高屈折率透明無機薄膜としての酸化亜鉛
膜は、金属亜鉛をターゲットとする反応性スパッタ法で
形成するのが好ましい。この場合、スパッタ条件は、Ｏ
２１００％又はＯ２−ＡｒでＯ２４０％以上の雰囲気条
件とするのが好ましい。
屈折率透明無機薄膜３は、蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング、ＣＶＤ法等により形成することがで
きるが、特に、高屈折率透明無機薄膜としての酸化亜鉛
膜は、金属亜鉛をターゲットとする反応性スパッタ法で
形成するのが好ましい。この場合、スパッタ条件は、Ｏ
２１００％又はＯ２−ＡｒでＯ２４０％以上の雰囲気条
件とするのが好ましい。
【００２６】なお、図１に示す反射防止フィルム１の反
射防止膜５は、有機フィルム２上に高屈折率透明無機薄
膜４、低屈折率透明無機薄膜３、高屈折率透明無機薄膜
４、非フッ素系有機薄膜６の順で合計４層積層された多
層膜とされたものであるが、この反射防止膜５の無機積
層膜の部分の積層構造は、最上層が高屈折率透明無機薄
膜であれば良く、図示のものの他、次のようなものであ
っても良い。
射防止膜５は、有機フィルム２上に高屈折率透明無機薄
膜４、低屈折率透明無機薄膜３、高屈折率透明無機薄膜
４、非フッ素系有機薄膜６の順で合計４層積層された多
層膜とされたものであるが、この反射防止膜５の無機積
層膜の部分の積層構造は、最上層が高屈折率透明無機薄
膜であれば良く、図示のものの他、次のようなものであ
っても良い。
【００２７】（ａ） 高屈折率透明無機薄膜を１層のみ
設けたもの （ｂ） 中屈折率透明無機薄膜／高屈折率透明無機薄膜
の順で１層ずつ、合計２層に積層したもの （ｃ） 中屈折率透明無機薄膜／低屈折率透明無機薄膜
／高屈折率透明無機薄膜の順で１層ずつ、合計３層に積
層したもの （ｄ） 低屈折率透明無機薄膜／高屈折率透明無機薄膜
／低屈折率透明無機薄膜／高屈折率透明無機薄膜の順で
１層ずつ、合計４層に積層したもの このような反射防止膜５の最上層として形成される非フ
ッ素系有機薄膜６としては、ハードコートに用いられる
ようなアクリル系樹脂、シリコン樹脂、アクリルシリコ
ン系樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。また、防汚
性、易滑性等を付与するために、フッ素系、シリコン系
の添加物を加えることもある。中でも、シリコン樹脂又
はアクリル樹脂が、安価であることもあり、好適であ
る。
設けたもの （ｂ） 中屈折率透明無機薄膜／高屈折率透明無機薄膜
の順で１層ずつ、合計２層に積層したもの （ｃ） 中屈折率透明無機薄膜／低屈折率透明無機薄膜
／高屈折率透明無機薄膜の順で１層ずつ、合計３層に積
層したもの （ｄ） 低屈折率透明無機薄膜／高屈折率透明無機薄膜
／低屈折率透明無機薄膜／高屈折率透明無機薄膜の順で
１層ずつ、合計４層に積層したもの このような反射防止膜５の最上層として形成される非フ
ッ素系有機薄膜６としては、ハードコートに用いられる
ようなアクリル系樹脂、シリコン樹脂、アクリルシリコ
ン系樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。また、防汚
性、易滑性等を付与するために、フッ素系、シリコン系
の添加物を加えることもある。中でも、シリコン樹脂又
はアクリル樹脂が、安価であることもあり、好適であ
る。
【００２８】このような非フッ素系有機薄膜６は、一般
に屈折率１．３〜１．６の低屈折率薄膜であったため、
この非フッ素系有機薄膜６を反射防止膜５の最表面層と
して高屈折率透明無機薄膜４上に形成することで、防汚
性及び耐擦傷性と共に優れた反射防止機能を得ることが
できる。
に屈折率１．３〜１．６の低屈折率薄膜であったため、
この非フッ素系有機薄膜６を反射防止膜５の最表面層と
して高屈折率透明無機薄膜４上に形成することで、防汚
性及び耐擦傷性と共に優れた反射防止機能を得ることが
できる。
【００２９】この非フッ素系有機薄膜５は、光の干渉に
よる反射防止機能と防汚機能を両立させるためには、防
汚機能を得ることができる範囲で光学的な膜厚であるこ
とが好ましく、５０〜５００ｎｍの範囲、例えば５００
ｎｍの波長の光の１／４λ（＝１２５ｎｍ）程度とする
のが好ましい。
よる反射防止機能と防汚機能を両立させるためには、防
汚機能を得ることができる範囲で光学的な膜厚であるこ
とが好ましく、５０〜５００ｎｍの範囲、例えば５００
ｎｍの波長の光の１／４λ（＝１２５ｎｍ）程度とする
のが好ましい。
【００３０】このような非フッ素系有機薄膜５は、ウェ
ットコーティング又はプラズマ重合法により成膜するこ
とができ、具体的には、次のような方法で形成される。
ットコーティング又はプラズマ重合法により成膜するこ
とができ、具体的には、次のような方法で形成される。
【００３１】ウェットコーティング法の場合には、アク
リルモノマーをトルエンで溶液化した塗布液をグラビア
コータによりコーティングし、その後乾燥する。ウェッ
トコーティング法であれば、高速で均一に成膜できると
いう利点がある。特に、熱硬化系樹脂の場合、このコー
ティング後に１５０℃でキュアするのが好ましく、これ
により密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が奏さ
れる。なお、熱硬化系樹脂以外にも電子線硬化系、放射
線硬化系、紫外線硬化系など、高エネルギー線の照射に
より架橋する樹脂も用いることができ、これらは膜硬度
が高いという長所を有する。また、この高エネルギー線
の照射による硬化をＮ２雰囲気で行うことにより、膜硬
度をさらに高いものとすることができる。
リルモノマーをトルエンで溶液化した塗布液をグラビア
コータによりコーティングし、その後乾燥する。ウェッ
トコーティング法であれば、高速で均一に成膜できると
いう利点がある。特に、熱硬化系樹脂の場合、このコー
ティング後に１５０℃でキュアするのが好ましく、これ
により密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が奏さ
れる。なお、熱硬化系樹脂以外にも電子線硬化系、放射
線硬化系、紫外線硬化系など、高エネルギー線の照射に
より架橋する樹脂も用いることができ、これらは膜硬度
が高いという長所を有する。また、この高エネルギー線
の照射による硬化をＮ２雰囲気で行うことにより、膜硬
度をさらに高いものとすることができる。
【００３２】プラズマ重合法の場合には、高周波プラズ
マ電力１００Ｗで５分間という条件で成膜する。プラズ
マ重合法であれば、非重合性のガスでも均一に成膜でき
るという利点がある。
マ電力１００Ｗで５分間という条件で成膜する。プラズ
マ重合法であれば、非重合性のガスでも均一に成膜でき
るという利点がある。
【００３３】このような本発明の反射防止フィルムは、
ＯＡ機器のＰＤＰや液晶板の前面フィルタ、或いは、車
輛や特殊建築物の窓材に適用することで、良好な光透過
性と防汚性を確保することができる。
ＯＡ機器のＰＤＰや液晶板の前面フィルタ、或いは、車
輛や特殊建築物の窓材に適用することで、良好な光透過
性と防汚性を確保することができる。
【００３４】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の反射防止フ
ィルムによれば、光透過性に優れ、高透明性で色調が良
く、成膜性に富み、安価で高性能な機能を有し、防汚性
にも優れた反射防止フィルムが提供される。
ィルムによれば、光透過性に優れ、高透明性で色調が良
く、成膜性に富み、安価で高性能な機能を有し、防汚性
にも優れた反射防止フィルムが提供される。
【図１】図１は本発明の反射防止フィルムの実施の形態
を示す模式的な断面図である。
を示す模式的な断面図である。
１ 反射防止フィルム ２ 有機フィルム ３ 低屈折率透明無機薄膜 ４ 高屈折率透明無機薄膜 ５ 反射防止膜 ６ 非フッ素系有機薄膜 ７ ハードコート層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ Ｆターム(参考） 2K009 AA04 AA05 AA06 AA07 AA15 BB11 CC03 CC21 CC24 CC42 DD02 DD03 DD04 DD05 DD06 DD07 4F100 AA00B AA21 AA25 AA28B AA33B AK01A AK01C AK25 AK25C AK41 AK42 AK52C AR00B BA03 BA07 BA10A BA10C EH66B EJ05C EJ53C EJ54C EJ59B JG01B JL02 JL06 JM02B JM02C JN01 JN01B JN08 JN18B
Claims (11)
- 【請求項１】 有機フィルムの表面に、少なくとも最上
層が高屈折率透明無機薄膜とされた透明無機膜と該透明
無機膜上に形成された非フッ素系有機薄膜とで構成され
る反射防止膜が形成されていることを特徴とする反射防
止フィルム。 - 【請求項２】 請求項１において、前記透明無機膜は、
低屈折率透明無機薄膜と高屈折率透明無機薄膜とを交互
に積層した無機積層膜であり、前記非フッ素系有機薄膜
は該無機積層膜の最上層の高屈折率透明無機薄膜上に形
成されていることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、該非フッ素系
有機薄膜はシリコン樹脂又はアクリル樹脂の薄膜である
ことを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれか１項におい
て、該非フッ素系有機薄膜は膜厚５０〜５００ｎｍの低
屈折率薄膜であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれか１項におい
て、該非フッ素系有機薄膜はプラズマ重合法で成膜され
た薄膜であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項６】 請求項１ないし４のいずれか１項におい
て、該非フッ素系有機薄膜はウェットコーティングによ
り成膜された薄膜であることを特徴とする反射防止フィ
ルム。 - 【請求項７】 請求項６において、該非フッ素系有機薄
膜はウェットコーティングした後、熱、電子線、放射線
又は紫外線等により架橋することにより成膜された薄膜
であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項８】 請求項１ないし７のいずれか１項におい
て、前記無機薄膜は、ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＳｎＯ２、Ｉｎ
２Ｏ３等の透明導電膜であることを特徴とする反射防止
フィルム。 - 【請求項９】 請求項１ないし８のいずれか１項におい
て、前記透明無機膜が、真空蒸着、イオンプレーティン
グ、スパッタリング等の方法で形成された薄膜であるこ
とを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項１０】 請求項１ないし９のいずれか１項にお
いて、該無機薄膜は膜厚５０〜５００ｎｍの高屈折率薄
膜であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項１１】 請求項１ないし１０のいずれか１項に
おいて、該有機フィルムは、その成膜表面に有機系ハー
ドコートが施されていることを特徴とする反射防止フィ
ルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000136037A JP2001318205A (ja) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | 反射防止フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000136037A JP2001318205A (ja) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | 反射防止フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001318205A true JP2001318205A (ja) | 2001-11-16 |
Family
ID=18644040
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000136037A Pending JP2001318205A (ja) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | 反射防止フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001318205A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8039065B2 (en) | 2003-12-26 | 2011-10-18 | Fujifilm Corporation | Antireflection film, polarizing plate, method for producing them, liquid crystal display element, liquid crystal display device, and image display device |
| CN102375164A (zh) * | 2010-08-18 | 2012-03-14 | 素塔电子科技(上海)有限公司 | 一种防反射塑料薄膜及其制备方法 |
| KR20220060629A (ko) * | 2020-11-04 | 2022-05-12 | 존스미디어 주식회사 | 시인성이 향상된 장식패널 및 그의 제조방법 |
-
2000
- 2000-05-09 JP JP2000136037A patent/JP2001318205A/ja active Pending
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| CN102375164A (zh) * | 2010-08-18 | 2012-03-14 | 素塔电子科技(上海)有限公司 | 一种防反射塑料薄膜及其制备方法 |
| KR20220060629A (ko) * | 2020-11-04 | 2022-05-12 | 존스미디어 주식회사 | 시인성이 향상된 장식패널 및 그의 제조방법 |
| KR102436008B1 (ko) * | 2020-11-04 | 2022-08-25 | 존스미디어 주식회사 | 시인성이 향상된 장식패널 및 그의 제조방법 |
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