JP2002357834A - 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法Info
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- JP2002357834A JP2002357834A JP2001163693A JP2001163693A JP2002357834A JP 2002357834 A JP2002357834 A JP 2002357834A JP 2001163693 A JP2001163693 A JP 2001163693A JP 2001163693 A JP2001163693 A JP 2001163693A JP 2002357834 A JP2002357834 A JP 2002357834A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板表面に突起を形成したカラーフィルタを
有する液晶表示装置で、シール領域及びその近傍領域に
突起を形成せず、シール材料中にガラスファイバーを混
在させ、画素領域、シール領域及びその近傍領域ともに
セルギャップを均一に保持するものがある。しかし、シ
ール材料中のガラスファイバーによる配線傷、シール材
料中にガラスファイバーを分散する工程短縮等の課題が
ある。 【解決手段】 カラーフィルタ基板１ａの表示領域周縁
のシール領域及びその近傍領域にも、パネル表示領域と
同等のカラーフィルタ層６及び突起５等を設けることに
より、シール材１３ａ中にガラスファイバーを含ませ
ず、突起５によって画素領域、シール領域及びその近傍
領域ともにセルギャップを同等にすることができ、セル
ギャップの均一な表示品位の高い液晶表示装置３１ａを
実現できる。
有する液晶表示装置で、シール領域及びその近傍領域に
突起を形成せず、シール材料中にガラスファイバーを混
在させ、画素領域、シール領域及びその近傍領域ともに
セルギャップを均一に保持するものがある。しかし、シ
ール材料中のガラスファイバーによる配線傷、シール材
料中にガラスファイバーを分散する工程短縮等の課題が
ある。 【解決手段】 カラーフィルタ基板１ａの表示領域周縁
のシール領域及びその近傍領域にも、パネル表示領域と
同等のカラーフィルタ層６及び突起５等を設けることに
より、シール材１３ａ中にガラスファイバーを含ませ
ず、突起５によって画素領域、シール領域及びその近傍
領域ともにセルギャップを同等にすることができ、セル
ギャップの均一な表示品位の高い液晶表示装置３１ａを
実現できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置及び
液晶表示装置の製造方法に関する。
液晶表示装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の基板表面に散布されたビーズによ
って、セルギャップを保持する液晶表示装置の場合、ビ
ーズ散布精度が近年の高表示品位の液晶パネルに対応す
るには不十分であり、ビーズ起因による欠陥（ビーズ散
布密度のバラツキによるギャップむら、ビーズ凝集に起
因する光抜け）により、パネル製造の歩留まりを低下さ
せていた。そこで、カラーフィルタ基板上に突起を設置
し、上記突起によりセルギャップを保持するビーズレス
工法が提案されている。ビーズ散布方式の場合、シール
領域及びその近傍領域のセルギャップはシール中に混在
されたガラスファイバーにより保持されている。また、
ビーズレス方式の場合においても、カラーフィルタ基板
のシール領域及びその近傍領域に突起を形成せず、シー
ル材料中に混在させたガラスファイバー径を制御する事
により画素領域、シール領域及びその近傍領域ともにセ
ルギャップを均一に保持する方法がある。
って、セルギャップを保持する液晶表示装置の場合、ビ
ーズ散布精度が近年の高表示品位の液晶パネルに対応す
るには不十分であり、ビーズ起因による欠陥（ビーズ散
布密度のバラツキによるギャップむら、ビーズ凝集に起
因する光抜け）により、パネル製造の歩留まりを低下さ
せていた。そこで、カラーフィルタ基板上に突起を設置
し、上記突起によりセルギャップを保持するビーズレス
工法が提案されている。ビーズ散布方式の場合、シール
領域及びその近傍領域のセルギャップはシール中に混在
されたガラスファイバーにより保持されている。また、
ビーズレス方式の場合においても、カラーフィルタ基板
のシール領域及びその近傍領域に突起を形成せず、シー
ル材料中に混在させたガラスファイバー径を制御する事
により画素領域、シール領域及びその近傍領域ともにセ
ルギャップを均一に保持する方法がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、シール
材料中にガラスファイバーを混在させると、シール材料
中のガラスファイバーがアレイ基板上のパターン配線に
ダメージを与える事や、またガラスファイバーの分散が
均一でないために生ずるセルギャップのムラなど、ガラ
スファイバー起因により不良が発生する。またガラスフ
ァイバーの材料コスト，シール材料中にガラスファイバ
ーを均一に分散する際の時間，工程設備等の短縮が課題
である。
材料中にガラスファイバーを混在させると、シール材料
中のガラスファイバーがアレイ基板上のパターン配線に
ダメージを与える事や、またガラスファイバーの分散が
均一でないために生ずるセルギャップのムラなど、ガラ
スファイバー起因により不良が発生する。またガラスフ
ァイバーの材料コスト，シール材料中にガラスファイバ
ーを均一に分散する際の時間，工程設備等の短縮が課題
である。
【０００４】本発明の目的は、シール材料中にガラスフ
ァイバーを含ませずに、画素領域、シール領域及びその
近傍領域ともにセルギャップを同等にすることができる
液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供するこ
とである。
ァイバーを含ませずに、画素領域、シール領域及びその
近傍領域ともにセルギャップを同等にすることができる
液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供するこ
とである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の液晶表示
装置は、表面にギャップ形成の為の突起をカラーフィル
タ層上に有するカラーフィルタ基板と、カラーフィルタ
基板と対向するアレイ基板と、カラーフィルタ基板とア
レイ基板との間隙に挟持される液晶材料と、液晶材料を
封止するためのシールパターンとを備えた液晶表示装置
であって、カラーフィルタ基板の表示領域周縁のシール
パターンと重なる領域及びその近傍にも、カラーフィル
タ層と突起を設けた事を特徴とする。
装置は、表面にギャップ形成の為の突起をカラーフィル
タ層上に有するカラーフィルタ基板と、カラーフィルタ
基板と対向するアレイ基板と、カラーフィルタ基板とア
レイ基板との間隙に挟持される液晶材料と、液晶材料を
封止するためのシールパターンとを備えた液晶表示装置
であって、カラーフィルタ基板の表示領域周縁のシール
パターンと重なる領域及びその近傍にも、カラーフィル
タ層と突起を設けた事を特徴とする。
【０００６】請求項２記載の液晶表示装置は、請求項１
記載の液晶表示装置において、シールパターンの成分中
にガラスファイバーを含まない事を特徴とする。
記載の液晶表示装置において、シールパターンの成分中
にガラスファイバーを含まない事を特徴とする。
【０００７】請求項３記載の液晶表示装置は、請求項１
記載の液晶表示装置において、カラーフィルタ層と突起
を設けるシールパターンと重なる領域及びその近傍は、
シールパターンの中心から±０．５ｍｍ以上の範囲にわ
たる領域であることを特徴とする。
記載の液晶表示装置において、カラーフィルタ層と突起
を設けるシールパターンと重なる領域及びその近傍は、
シールパターンの中心から±０．５ｍｍ以上の範囲にわ
たる領域であることを特徴とする。
【０００８】請求項４記載の液晶表示装置の製造方法
は、表面にギャップ形成の為の突起をカラーフィルタ層
上に有するカラーフィルタ基板と、カラーフィルタ基板
と対向するアレイ基板と、カラーフィルタ基板とアレイ
基板との間隙に挟持される液晶材料と、液晶材料を封止
するためのシールパターンとを備えた液晶表示装置の製
造方法であって、カラーフィルタ基板を作製する際、シ
ールパターン以外のダミーパターンの領域にも、カラー
フィルタ層及び突起を形成する事を特徴とする。
は、表面にギャップ形成の為の突起をカラーフィルタ層
上に有するカラーフィルタ基板と、カラーフィルタ基板
と対向するアレイ基板と、カラーフィルタ基板とアレイ
基板との間隙に挟持される液晶材料と、液晶材料を封止
するためのシールパターンとを備えた液晶表示装置の製
造方法であって、カラーフィルタ基板を作製する際、シ
ールパターン以外のダミーパターンの領域にも、カラー
フィルタ層及び突起を形成する事を特徴とする。
【０００９】請求項５記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項４記載の液晶表示装置の製造方法において、
カラーフィルタ基板とアレイ基板のうちの少なくとも一
方にシールパターンを形成するときシールパターンの成
分中にガラスファイバーを含ませない事を特徴とする。
は、請求項４記載の液晶表示装置の製造方法において、
カラーフィルタ基板とアレイ基板のうちの少なくとも一
方にシールパターンを形成するときシールパターンの成
分中にガラスファイバーを含ませない事を特徴とする。
【００１０】請求項６記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項４記載の液晶表示装置の製造方法であって、
シールパターン以外のダミーパターンの領域に形成する
カラーフィルタ層及び突起は、シールパターンの中心か
ら０．５ｍｍ以上外側に離れたダミーパターンの領域に
形成することを特徴とする。
は、請求項４記載の液晶表示装置の製造方法であって、
シールパターン以外のダミーパターンの領域に形成する
カラーフィルタ層及び突起は、シールパターンの中心か
ら０．５ｍｍ以上外側に離れたダミーパターンの領域に
形成することを特徴とする。
【００１１】上記の請求項１〜３の発明によれば、カラ
ーフィルタ基板の表示領域周縁のシールパターンと重な
る領域及びその近傍にも、表示領域と同等のカラーフィ
ルタ層と突起を設けることにより、シールパターンの成
分中にガラスファイバーを含ませず、突起によって画素
領域（表示領域）、シール領域及びその近傍領域ともに
セルギャップを同等にすることができる。
ーフィルタ基板の表示領域周縁のシールパターンと重な
る領域及びその近傍にも、表示領域と同等のカラーフィ
ルタ層と突起を設けることにより、シールパターンの成
分中にガラスファイバーを含ませず、突起によって画素
領域（表示領域）、シール領域及びその近傍領域ともに
セルギャップを同等にすることができる。
【００１２】また、請求項４〜６の発明によれば、カラ
ーフィルタ基板を作製する際、シールパターン以外のダ
ミーパターンの領域にも、表示領域と同等のカラーフィ
ルタ層及び突起を形成することにより、シールパターン
の成分中にガラスファイバーを含ませず、突起によって
画素領域（表示領域）、シール領域及びその近傍領域と
もにセルギャップを同等にすることができる。
ーフィルタ基板を作製する際、シールパターン以外のダ
ミーパターンの領域にも、表示領域と同等のカラーフィ
ルタ層及び突起を形成することにより、シールパターン
の成分中にガラスファイバーを含ませず、突起によって
画素領域（表示領域）、シール領域及びその近傍領域と
もにセルギャップを同等にすることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を用いて説明する。ここで、本発明の技術を用い
て液晶表示装置を試作するとともに、比較対象の従来の
技術によって作製した液晶表示装置との比較を行った。
て図面を用いて説明する。ここで、本発明の技術を用い
て液晶表示装置を試作するとともに、比較対象の従来の
技術によって作製した液晶表示装置との比較を行った。
【００１４】図３は本実施の形態１の液晶表示装置３１
ａの断面を示し、図４は本実施の形態２の液晶表示装置
３１ｂの断面を示し、図５，図６，図７はそれぞれ比較
対象の液晶表示装置３１ｃ、３１ｄ、３１ｅの断面を示
す。これらの液晶表示装置３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３
１ｄ、３１ｅは、それぞれ後述するカラーフィルタ基板
１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅの５枚を作製し、これを
使用して作製した。
ａの断面を示し、図４は本実施の形態２の液晶表示装置
３１ｂの断面を示し、図５，図６，図７はそれぞれ比較
対象の液晶表示装置３１ｃ、３１ｄ、３１ｅの断面を示
す。これらの液晶表示装置３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３
１ｄ、３１ｅは、それぞれ後述するカラーフィルタ基板
１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅの５枚を作製し、これを
使用して作製した。
【００１５】（実施の形態１）図１(ａ)は、本実施の形
態１の液晶表示装置３１ａに用いるカラーフィルタ基板
１ａの断面の概略図である。このカラーフィルタ基板１
ａの製造方法を図２を参照して説明する。
態１の液晶表示装置３１ａに用いるカラーフィルタ基板
１ａの断面の概略図である。このカラーフィルタ基板１
ａの製造方法を図２を参照して説明する。
【００１６】図２(ａ)に示すように、全面にクロム膜が
着膜されたガラス基板２ａ上にスピンコートによるレジ
スト膜を塗布後、露光、現像、クロムエッチング、レジ
スト剥離により、所要パターン形状のクロム製の遮光膜
４をパターニングする。
着膜されたガラス基板２ａ上にスピンコートによるレジ
スト膜を塗布後、露光、現像、クロムエッチング、レジ
スト剥離により、所要パターン形状のクロム製の遮光膜
４をパターニングする。
【００１７】次に、図２（ｂ）、（ｃ）に示すように、
ＲＧＢ着色膜６（６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ）をそれぞれ塗布、
露光、現像することにより所定パターン形状に順次形成
した後、その上にスパッタリング法によりＩＴＯの透明
電極１０を形成する。ここでカラーフィルタ基板１ａに
関しては、Ｇ着色膜（６Ｇ）をシールパターンの中心か
ら±０．５ｍｍの領域に設ける（図２では図示せず）。
ＲＧＢ着色膜６（６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ）をそれぞれ塗布、
露光、現像することにより所定パターン形状に順次形成
した後、その上にスパッタリング法によりＩＴＯの透明
電極１０を形成する。ここでカラーフィルタ基板１ａに
関しては、Ｇ着色膜（６Ｇ）をシールパターンの中心か
ら±０．５ｍｍの領域に設ける（図２では図示せず）。
【００１８】最後にカラーフィルタ基板に突起形成用レ
ジスト膜を形成後、露光、現像を行う事により、突起５
を形成する。ここで図１（ａ）に示すようにカラーフィ
ルタ基板１ａに関して、突起５の形成する領域は、画素
領域（パネル表示領域７ａ）及びシールパターン中心か
ら±０．５ｍｍの領域（シール領域及びその近傍領域１
７ａ）とする。また突起５の高さは３．９μｍとした。
ジスト膜を形成後、露光、現像を行う事により、突起５
を形成する。ここで図１（ａ）に示すようにカラーフィ
ルタ基板１ａに関して、突起５の形成する領域は、画素
領域（パネル表示領域７ａ）及びシールパターン中心か
ら±０．５ｍｍの領域（シール領域及びその近傍領域１
７ａ）とする。また突起５の高さは３．９μｍとした。
【００１９】なお、カラーフィルタ基板１ａのシール領
域及びその近傍領域１７ａのカラーフィルタ層６及び突
起５の形成領域は、現行のシール形成幅０．８〜１．２
ｍｍとパターン精度を考慮し、シールパターン中心位置
より±０．５ｍｍとした。
域及びその近傍領域１７ａのカラーフィルタ層６及び突
起５の形成領域は、現行のシール形成幅０．８〜１．２
ｍｍとパターン精度を考慮し、シールパターン中心位置
より±０．５ｍｍとした。
【００２０】このカラーフィルタ基板１ａでは、画素領
域（パネル表示領域７ａ）及びシール領域及びその近傍
領域１７ａのすべての突起５は、ガラス基板２ａ上に遮
光膜４や着色膜６等を介して形成されており、全ての突
起５の下端および上端の位置（高さ）がほぼ等しくな
る。
域（パネル表示領域７ａ）及びシール領域及びその近傍
領域１７ａのすべての突起５は、ガラス基板２ａ上に遮
光膜４や着色膜６等を介して形成されており、全ての突
起５の下端および上端の位置（高さ）がほぼ等しくな
る。
【００２１】液晶表示装置３１ａの製造方法は、上記の
ように作製したカラーフィルタ基板１ａと一般的な方法
で形成されたアレイ基板１１ａとの相対向する面に配向
膜９ａ、９ｂをそれぞれ形成する。次に、カラーフィル
タ基板１ａにガラスファイバーの混在しないシール材１
３ａを所定のパターンに形成した後、両基板１ａ、１１
ａを貼り合わせ、１５０℃×３時間でシール材を硬化
し、空セルを作成した。さらに真空注入法により、液晶
材料１４を充填後、注入口を封口し、液晶表示装置３１
ａを形成した。
ように作製したカラーフィルタ基板１ａと一般的な方法
で形成されたアレイ基板１１ａとの相対向する面に配向
膜９ａ、９ｂをそれぞれ形成する。次に、カラーフィル
タ基板１ａにガラスファイバーの混在しないシール材１
３ａを所定のパターンに形成した後、両基板１ａ、１１
ａを貼り合わせ、１５０℃×３時間でシール材を硬化
し、空セルを作成した。さらに真空注入法により、液晶
材料１４を充填後、注入口を封口し、液晶表示装置３１
ａを形成した。
【００２２】（実施の形態２）図１(ｂ)は、本実施の形
態２の液晶表示装置３１ｂに用いるカラーフィルタ基板
１ｂの断面の概略図である。このカラーフィルタ基板１
ｂの製造方法を図２を参照して説明する。
態２の液晶表示装置３１ｂに用いるカラーフィルタ基板
１ｂの断面の概略図である。このカラーフィルタ基板１
ｂの製造方法を図２を参照して説明する。
【００２３】図２(ａ)に示すように、全面にクロム膜が
着膜されたガラス基板２ａ上にスピンコートによるレジ
スト膜を塗布後、露光、現像、クロムエッチング、レジ
スト剥離により、所要パターン形状のクロム製の遮光膜
４をパターニングする。ここでカラーフィルタ基板１ｂ
に関しては、シールパターン中心から外側に０．５ｍｍ
離れた領域に遮光膜４をパターニングする（図２では図
示せず）。
着膜されたガラス基板２ａ上にスピンコートによるレジ
スト膜を塗布後、露光、現像、クロムエッチング、レジ
スト剥離により、所要パターン形状のクロム製の遮光膜
４をパターニングする。ここでカラーフィルタ基板１ｂ
に関しては、シールパターン中心から外側に０．５ｍｍ
離れた領域に遮光膜４をパターニングする（図２では図
示せず）。
【００２４】次に、図２（ｂ）、（ｃ）に示すように、
ＲＧＢ着色膜６（６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ）をそれぞれ塗布、
露光、現像することにより所定パターン形状に順次形成
した後、その上にスパッタリング法によりＩＴＯの透明
電極１０を形成する。ここでカラーフィルタ基板１ｂに
関しては、Ｇ着色膜（６Ｇ）をシールパターンの中心か
ら０．５ｍｍ以上外側に離れたダミーパターンの領域に
設ける（図２では図示せず）。
ＲＧＢ着色膜６（６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ）をそれぞれ塗布、
露光、現像することにより所定パターン形状に順次形成
した後、その上にスパッタリング法によりＩＴＯの透明
電極１０を形成する。ここでカラーフィルタ基板１ｂに
関しては、Ｇ着色膜（６Ｇ）をシールパターンの中心か
ら０．５ｍｍ以上外側に離れたダミーパターンの領域に
設ける（図２では図示せず）。
【００２５】最後にカラーフィルタ基板に突起形成用レ
ジスト膜を形成後、露光、現像を行う事により、突起５
を形成する。ここで図１（ｂ）に示すようにカラーフィ
ルタ基板１ｂに関しては、突起５の形成する領域は、画
素領域（パネル表示領域７ａ）及びシールパターン中心
から０．５ｍｍ外側に離れたダミーパターンの領域とす
る。また突起５の高さは３．９μｍとした。
ジスト膜を形成後、露光、現像を行う事により、突起５
を形成する。ここで図１（ｂ）に示すようにカラーフィ
ルタ基板１ｂに関しては、突起５の形成する領域は、画
素領域（パネル表示領域７ａ）及びシールパターン中心
から０．５ｍｍ外側に離れたダミーパターンの領域とす
る。また突起５の高さは３．９μｍとした。
【００２６】なお、カラーフィルタ基板１ｂのシール近
傍領域のカラーフィルタ層及び突起の形成領域は、現行
のシール形成幅０．８〜１．２ｍｍとパターン精度を考
慮し、シールパターン中心位置から０．５ｍｍ外側に離
れたダミーパターン領域とした。
傍領域のカラーフィルタ層及び突起の形成領域は、現行
のシール形成幅０．８〜１．２ｍｍとパターン精度を考
慮し、シールパターン中心位置から０．５ｍｍ外側に離
れたダミーパターン領域とした。
【００２７】このカラーフィルタ基板１ｂでは、画素領
域（パネル表示領域７ａ）及びダミーパターン領域のす
べての突起５は、ガラス基板２ａ上に遮光膜４や着色膜
６等を介して形成されており、全ての突起５の下端およ
び上端の位置（高さ）がほぼ等しくなる。
域（パネル表示領域７ａ）及びダミーパターン領域のす
べての突起５は、ガラス基板２ａ上に遮光膜４や着色膜
６等を介して形成されており、全ての突起５の下端およ
び上端の位置（高さ）がほぼ等しくなる。
【００２８】液晶表示装置３１ｂの製造方法は、上記の
ように作製したカラーフィルタ基板１ｂと一般的な方法
で形成されたアレイ基板１１ａとの相対向する面に配向
膜９ａ、９ｂをそれぞれ形成する。
ように作製したカラーフィルタ基板１ｂと一般的な方法
で形成されたアレイ基板１１ａとの相対向する面に配向
膜９ａ、９ｂをそれぞれ形成する。
【００２９】次に、カラーフィルタ基板１ｂにガラスフ
ァイバーの混在しないシール材１３ａを所定のパターン
に形成した後、両基板１ｂ、１１ａを貼り合わせ、１５
０℃×３時間でシール材を硬化し、空セルを作成した。
さらに真空注入法により、液晶材料１４を充填後、注入
口を封口し、液晶表示装置３１ｂを形成した。
ァイバーの混在しないシール材１３ａを所定のパターン
に形成した後、両基板１ｂ、１１ａを貼り合わせ、１５
０℃×３時間でシール材を硬化し、空セルを作成した。
さらに真空注入法により、液晶材料１４を充填後、注入
口を封口し、液晶表示装置３１ｂを形成した。
【００３０】以下に比較対象の液晶表示装置３１ｃ，３
１ｄ，３１ｅについて以下に示す。
１ｄ，３１ｅについて以下に示す。
【００３１】それぞれのカラーフィルタ基板１ｃ，１
ｄ，１ｅの製造方法は、まず図２(ａ)に示すように、全
面にクロム膜が着膜されたガラス基板２ａ上にスピンコ
ートによるレジスト膜を塗布後、露光、現像、クロムエ
ッチング、レジスト剥離により、所要パターン形状のク
ロム製の遮光膜４をパターニングする。
ｄ，１ｅの製造方法は、まず図２(ａ)に示すように、全
面にクロム膜が着膜されたガラス基板２ａ上にスピンコ
ートによるレジスト膜を塗布後、露光、現像、クロムエ
ッチング、レジスト剥離により、所要パターン形状のク
ロム製の遮光膜４をパターニングする。
【００３２】次に、図２（ｂ）、（ｃ）に示すように、
ＲＧＢ着色膜６（６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ）をそれぞれ塗布、
露光、現像することにより所定パターン形状に順次形成
した後、その上にスパッタリング法によりＩＴＯの透明
電極１０を形成する。
ＲＧＢ着色膜６（６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ）をそれぞれ塗布、
露光、現像することにより所定パターン形状に順次形成
した後、その上にスパッタリング法によりＩＴＯの透明
電極１０を形成する。
【００３３】最後に、カラーフィルタ基板に突起形成用
レジスト膜を形成後、露光、現像を行う事により、突起
５を形成する。比較対象のカラーフィルタ基板１ｄに関
しては、突起５の形成する領域は、画素領域及びシール
パターン中心から±０．５ｍｍの領域とする。比較対象
のカラーフィルタ基板１ｃ、１ｅに関しては、突起５の
形成する領域は画素領域のみであり、シール領域及びそ
の近傍領域において突起は形成しない。なお突起５の高
さはカラーフィルタ基板１ｃ、１ｄ、１ｅとも３．９μ
ｍとした。
レジスト膜を形成後、露光、現像を行う事により、突起
５を形成する。比較対象のカラーフィルタ基板１ｄに関
しては、突起５の形成する領域は、画素領域及びシール
パターン中心から±０．５ｍｍの領域とする。比較対象
のカラーフィルタ基板１ｃ、１ｅに関しては、突起５の
形成する領域は画素領域のみであり、シール領域及びそ
の近傍領域において突起は形成しない。なお突起５の高
さはカラーフィルタ基板１ｃ、１ｄ、１ｅとも３．９μ
ｍとした。
【００３４】次に、カラーフィルタ基板１ｃを有する液
晶表示装置３１ｃを製造する際には、画素領域に突起５
を形成し、シール領域及びその近傍領域に突起５を形成
しないカラーフィルタ基板１ｃと一般的な方法で形成さ
れたアレイ基板１１ａとの相対向する面に配向膜９ａ、
９ｂをそれぞれ形成する。次に、カラーフィルタ基板１
ｃにガラスファイバーの混在したシール材１３ｂを所定
のパターンに形成した後、両基板１ｃ、１１ａを貼り合
わせ、１５０℃×３時間でシール材を硬化し、空セルを
作成した。このときガラスファイバー径は５．０ｕｍと
する。さらに真空注入法により、液晶材料１４を充填
後、注入口を封口し、液晶表示装置３１ｃを形成した。
晶表示装置３１ｃを製造する際には、画素領域に突起５
を形成し、シール領域及びその近傍領域に突起５を形成
しないカラーフィルタ基板１ｃと一般的な方法で形成さ
れたアレイ基板１１ａとの相対向する面に配向膜９ａ、
９ｂをそれぞれ形成する。次に、カラーフィルタ基板１
ｃにガラスファイバーの混在したシール材１３ｂを所定
のパターンに形成した後、両基板１ｃ、１１ａを貼り合
わせ、１５０℃×３時間でシール材を硬化し、空セルを
作成した。このときガラスファイバー径は５．０ｕｍと
する。さらに真空注入法により、液晶材料１４を充填
後、注入口を封口し、液晶表示装置３１ｃを形成した。
【００３５】また、カラーフィルタ基板１ｄを有する液
晶表示装置３１ｄを製造する際には、画素領域とシール
領域及びその近傍領域に突起５が形成されたカラーフィ
ルタ基板１ｄと一般的な方法で形成されたアレイ基板１
１ａとの相対向する面に配向膜９ａ、９ｂをそれぞれ形
成する。次に、カラーフィルタ基板１ｄにガラスファイ
バーの混在しないシール材１３ａを所定のパターンに形
成した後、両基板１ｄ、１１ａを貼り合わせ、１５０℃
×３時間でシール材を硬化し、空セルを作成した。さら
に真空注入法により、液晶材料１４を充填後、注入口を
封口し、液晶表示装置３１ｄを形成した。
晶表示装置３１ｄを製造する際には、画素領域とシール
領域及びその近傍領域に突起５が形成されたカラーフィ
ルタ基板１ｄと一般的な方法で形成されたアレイ基板１
１ａとの相対向する面に配向膜９ａ、９ｂをそれぞれ形
成する。次に、カラーフィルタ基板１ｄにガラスファイ
バーの混在しないシール材１３ａを所定のパターンに形
成した後、両基板１ｄ、１１ａを貼り合わせ、１５０℃
×３時間でシール材を硬化し、空セルを作成した。さら
に真空注入法により、液晶材料１４を充填後、注入口を
封口し、液晶表示装置３１ｄを形成した。
【００３６】カラーフィルタ基板１ｅを有する液晶表示
装置３１ｅを製造する際には、画素領域に突起５を形成
し、シール領域及びその近傍領域に突起５を形成しない
カラーフィルタ基板１ｅと一般的な方法で形成されたア
レイ基板１１ａとの相対向する面に配向膜９ａ、９ｂを
それぞれ形成する。次に、カラーフィルタ基板１ｅにガ
ラスファイバーの混在しないシール材１３ａを所定のパ
ターンに形成した後、両基板１ｅ、１１ａを貼り合わ
せ、１５０℃×３時間でシール材を硬化し、空セルを作
成した。さらに真空注入法により、液晶材料１４を充填
後、注入口を封口し、液晶表示装置３１ｅを形成した。
装置３１ｅを製造する際には、画素領域に突起５を形成
し、シール領域及びその近傍領域に突起５を形成しない
カラーフィルタ基板１ｅと一般的な方法で形成されたア
レイ基板１１ａとの相対向する面に配向膜９ａ、９ｂを
それぞれ形成する。次に、カラーフィルタ基板１ｅにガ
ラスファイバーの混在しないシール材１３ａを所定のパ
ターンに形成した後、両基板１ｅ、１１ａを貼り合わ
せ、１５０℃×３時間でシール材を硬化し、空セルを作
成した。さらに真空注入法により、液晶材料１４を充填
後、注入口を封口し、液晶表示装置３１ｅを形成した。
【００３７】これらの液晶表示装置（３１ａ、３１ｂ、
３１ｃ、３１ｄ、３１ｅ）についてセルギャップの測
定、シール密着力の測定、シール下配線部の傷の調査を
実施した。結果をセル作成条件と共に表１に示す。
３１ｃ、３１ｄ、３１ｅ）についてセルギャップの測
定、シール密着力の測定、シール下配線部の傷の調査を
実施した。結果をセル作成条件と共に表１に示す。
【００３８】
【表１】
【００３９】表１に示すように、液晶表示装置３１ａ、
液晶表示装置３１ｂでは、シール材中にガラスファイバ
ーを混入した液晶表示装置３１ｃと同等のギャップの均
一性が得られた。一方、シール材中にガラスファイバー
を混入していない液晶表示装置３１ｅ、シールパターン
中の遮光膜４上に突起５を形成した液晶表示装置３１ｄ
に関しては、画素領域のセルギャップと異なり、目視結
果においてもシール近傍の均一性が不十分である。シー
ルした配線傷に関しては、液晶表示装置３１ｃにおいて
確認された。シール密着度に関して、液晶表示装置３１
ａがカラーフィルタ層６とシール材１３ａとの密着が悪
いため若干低い。
液晶表示装置３１ｂでは、シール材中にガラスファイバ
ーを混入した液晶表示装置３１ｃと同等のギャップの均
一性が得られた。一方、シール材中にガラスファイバー
を混入していない液晶表示装置３１ｅ、シールパターン
中の遮光膜４上に突起５を形成した液晶表示装置３１ｄ
に関しては、画素領域のセルギャップと異なり、目視結
果においてもシール近傍の均一性が不十分である。シー
ルした配線傷に関しては、液晶表示装置３１ｃにおいて
確認された。シール密着度に関して、液晶表示装置３１
ａがカラーフィルタ層６とシール材１３ａとの密着が悪
いため若干低い。
【００４０】以上のように本実施の形態１の液晶表示装
置３１ａによれば、カラーフィルタ基板１ａの表示領域
周縁のシール領域及びその近傍領域１７ａにも、パネル
表示領域７ａと同等のカラーフィルタ層６及び突起５等
を設けることにより、シール材１３ａ中にガラスファイ
バーを含ませず、突起５によって画素領域（表示領域７
ａ）、シール領域及びその近傍領域１７ａともにセルギ
ャップを同等にすることができ、セルギャップの均一な
表示品位の高い液晶表示装置を実現できる。
置３１ａによれば、カラーフィルタ基板１ａの表示領域
周縁のシール領域及びその近傍領域１７ａにも、パネル
表示領域７ａと同等のカラーフィルタ層６及び突起５等
を設けることにより、シール材１３ａ中にガラスファイ
バーを含ませず、突起５によって画素領域（表示領域７
ａ）、シール領域及びその近傍領域１７ａともにセルギ
ャップを同等にすることができ、セルギャップの均一な
表示品位の高い液晶表示装置を実現できる。
【００４１】また、本実施の形態２の液晶表示装置３１
ｂによれば、カラーフィルタ基板１ｂを作製する際、シ
ールパターン以外のダミーパターンの領域にも、パネル
表示領域７ａと同等のカラーフィルタ層６及び突起５等
を形成することにより、シールパターンの成分中にガラ
スファイバーを含ませず、突起５によって画素領域（表
示領域７ａ）、シール領域及びその近傍領域１７ａとも
にセルギャップを同等にすることができ、セルギャップ
の均一な表示品位の高い液晶表示装置を実現できる。
ｂによれば、カラーフィルタ基板１ｂを作製する際、シ
ールパターン以外のダミーパターンの領域にも、パネル
表示領域７ａと同等のカラーフィルタ層６及び突起５等
を形成することにより、シールパターンの成分中にガラ
スファイバーを含ませず、突起５によって画素領域（表
示領域７ａ）、シール領域及びその近傍領域１７ａとも
にセルギャップを同等にすることができ、セルギャップ
の均一な表示品位の高い液晶表示装置を実現できる。
【００４２】これら本実施の形態１，２の場合、シール
材料中にガラスファイバーを含ませた場合の課題、例え
ばガラスファイバー起因による不良の発生や、ガラスフ
ァイバーの材料コスト，シール材料中にガラスファイバ
ーを均一に分散する際の時間，工程の短縮等の課題を解
決できることは明らかである。なお、実施の形態１にお
いて、シール材１３ａとカラーフィルタ層６との密着生
が懸念される場合は実施の形態２が好ましい。
材料中にガラスファイバーを含ませた場合の課題、例え
ばガラスファイバー起因による不良の発生や、ガラスフ
ァイバーの材料コスト，シール材料中にガラスファイバ
ーを均一に分散する際の時間，工程の短縮等の課題を解
決できることは明らかである。なお、実施の形態１にお
いて、シール材１３ａとカラーフィルタ層６との密着生
が懸念される場合は実施の形態２が好ましい。
【００４３】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、カラー
フィルタ基板の表示領域周縁のシールパターンと重なる
領域及びその近傍にも、表示領域と同等のカラーフィル
タ層と突起を設けることにより、シールパターンの成分
中にガラスファイバーを含ませず、突起によって画素領
域（表示領域）、シール領域及びその近傍領域ともにセ
ルギャップを同等にすることができ、セルギャップの均
一な表示品位の高い液晶表示装置を実現できる。
フィルタ基板の表示領域周縁のシールパターンと重なる
領域及びその近傍にも、表示領域と同等のカラーフィル
タ層と突起を設けることにより、シールパターンの成分
中にガラスファイバーを含ませず、突起によって画素領
域（表示領域）、シール領域及びその近傍領域ともにセ
ルギャップを同等にすることができ、セルギャップの均
一な表示品位の高い液晶表示装置を実現できる。
【００４４】また、本発明によれば、カラーフィルタ基
板を作製する際、シールパターン以外のダミーパターン
の領域にも、表示領域と同等のカラーフィルタ層及び突
起を形成することにより、シールパターンの成分中にガ
ラスファイバーを含ませず、突起によって画素領域（表
示領域）、シール領域及びその近傍領域ともにセルギャ
ップを同等にすることができ、セルギャップの均一な表
示品位の高い液晶表示装置を製造することができる。
板を作製する際、シールパターン以外のダミーパターン
の領域にも、表示領域と同等のカラーフィルタ層及び突
起を形成することにより、シールパターンの成分中にガ
ラスファイバーを含ませず、突起によって画素領域（表
示領域）、シール領域及びその近傍領域ともにセルギャ
ップを同等にすることができ、セルギャップの均一な表
示品位の高い液晶表示装置を製造することができる。
【図１】本発明の実施の形態１，２におけるカラーフィ
ルタ基板の断面図
ルタ基板の断面図
【図２】本発明の実施の形態におけるカラーフィルタ基
板の製造工程毎の断面図
板の製造工程毎の断面図
【図３】本発明の実施の形態１の液晶表示装置の断面図
【図４】本発明の実施の形態２の液晶表示装置の断面図
【図５】比較対象の液晶表示装置の断面図
【図６】比較対象の液晶表示装置の断面図
【図７】比較対象の液晶表示装置の断面図
【符号の説明】 １ａ，１ｂ カラーフィルタ基板 ２ａ，２ｂ ガラス基板 ３ スイッチング能動素子 ４ 遮光膜 ５ 突起 ６ 着色膜（カラーフィルタ層） ７ パネル表示領域 ８ 画素電極 ９ａ，９ｂ 配向膜 １０ 透明電極 １１ａ アレイ基板 １３ａ ガラスファイバーを混在しないシール材 １３ｂ ガラスファイバーを混在したシール材 １４ 液晶 １６ アライメントマーク １７ シール領域及びその近傍領域 ３１ａ，３１ｂ 液晶表示装置
フロントページの続き (72)発明者 松川 秀樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 BB02 BB08 BB44 2H089 LA09 MA12 QA12 QA14
Claims (6)
- 【請求項１】 表面にギャップ形成の為の突起をカラー
フィルタ層上に有するカラーフィルタ基板と、前記カラ
ーフィルタ基板と対向するアレイ基板と、前記カラーフ
ィルタ基板とアレイ基板との間隙に挟持される液晶材料
と、前記液晶材料を封止するためのシールパターンとを
備えた液晶表示装置であって、 前記カラーフィルタ基板の表示領域周縁の前記シールパ
ターンと重なる領域及びその近傍にも、前記カラーフィ
ルタ層と前記突起を設けた事を特徴とする液晶表示装
置。 - 【請求項２】 シールパターンの成分中にガラスファイ
バーを含まない事を特徴とする請求項１記載の液晶表示
装置。 - 【請求項３】 カラーフィルタ層と突起を設けるシール
パターンと重なる領域及びその近傍は、前記シールパタ
ーンの中心から±０．５ｍｍ以上の範囲にわたる領域で
あることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。 - 【請求項４】 表面にギャップ形成の為の突起をカラー
フィルタ層上に有するカラーフィルタ基板と、前記カラ
ーフィルタ基板と対向するアレイ基板と、前記カラーフ
ィルタ基板とアレイ基板との間隙に挟持される液晶材料
と、前記液晶材料を封止するためのシールパターンとを
備えた液晶表示装置の製造方法であって、 前記カラーフィルタ基板を作製する際、前記シールパタ
ーン以外のダミーパターンの領域にも、前記カラーフィ
ルタ層及び前記突起を形成する事を特徴とする液晶表示
装置の製造方法。 - 【請求項５】 カラーフィルタ基板とアレイ基板のうち
の少なくとも一方にシールパターンを形成するとき前記
シールパターンの成分中にガラスファイバーを含ませな
い事を特徴とする請求項４記載の液晶表示装置の製造方
法。 - 【請求項６】 シールパターン以外のダミーパターンの
領域に形成するカラーフィルタ層及び突起は、前記シー
ルパターンの中心から０．５ｍｍ以上外側に離れた前記
ダミーパターンの領域に形成することを特徴とする請求
項４記載の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001163693A JP2002357834A (ja) | 2001-05-31 | 2001-05-31 | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001163693A JP2002357834A (ja) | 2001-05-31 | 2001-05-31 | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002357834A true JP2002357834A (ja) | 2002-12-13 |
Family
ID=19006610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001163693A Pending JP2002357834A (ja) | 2001-05-31 | 2001-05-31 | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002357834A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8120743B2 (en) | 2006-09-07 | 2012-02-21 | Hitachi Displays, Ltd. | Liquid crystal display device and production method thereof |
Citations (20)
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|---|---|---|---|---|
| JPH0949916A (ja) * | 1995-08-07 | 1997-02-18 | Toray Ind Inc | カラーフィルタおよびカラー液晶表示装置 |
| JPH10148836A (ja) * | 1996-11-19 | 1998-06-02 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶パネル及びその製造方法 |
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| JP2001021902A (ja) * | 1999-07-09 | 2001-01-26 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
| JP2001051266A (ja) * | 1999-06-01 | 2001-02-23 | Toray Ind Inc | カラーフィルタ及び液晶表示装置 |
| JP2001051283A (ja) * | 1999-08-06 | 2001-02-23 | Advanced Display Inc | 液晶表示装置のパネル素形材 |
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| JP2001142061A (ja) * | 1999-11-16 | 2001-05-25 | Toshiba Corp | アクティブマトリクス型の液晶表示装置 |
-
2001
- 2001-05-31 JP JP2001163693A patent/JP2002357834A/ja active Pending
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