JPH1124082A - 表示素子用基板及び液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フォトリソグラフィ法を用いて形成したスペ
ーサを有する液晶表示素子のスペーサの検査に最適な表
示素子基板の構造を提供する。 【解決手段】 表示領域中のスペーサとは別に検査用ス
ペーサパターンを設けるため、スペーサの評価を表示と
は無関係の箇所で行うことができ、表示領域中のスペー
サを傷つけることがない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルタ基板
及び液晶表示素子の製造方法に係わり、特に２枚の基板
間距離を保持するスペーサに関する。

【０００２】

【従来の技術】一般的に用いられている液晶表示素子
は、着色層を有するカラーフィルタ基板と対向基板との
２枚の基板の間に液晶層を挟持し、２枚の基板の周囲が
液晶封入口を除いて接着剤で固定されていて液晶封入口
が封止剤で封止された構成をしている。２枚の基板間の
距離を一定に保つためのスペーサとして、フォトリソグ
ラフィ法にて所定の位置にパターニングした樹脂を用い
る方法がある。このようなスペーサの高さやエッチング
の過多等の評価は、触針式の段差測定器で行うことが考
えられる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、触針式
の段差測定器を用いる方法では、針が直接スペーサに接
触するためにスペーサを傷つけてしまい、該傷が液晶表
示素子の表示欠陥となってしまうという問題があった。

【０００４】また、レーザー干渉を用いてスペーサの評
価を行う方法も考えられるが、樹脂からなるスペーサと
して着色層を積層してスペーサを構成した場合では、ス
ペーサを構成する最上層の着色層の吸収波長とレーザー
との波長が同一の場合、測定を行うことが困難であっ
た。

【０００５】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
表示領域中のスペーサの高さ、形状及びエッチング過多
等の評価を、表示領域中のスペーサを傷つけることな
く、精度良く行うことができる表示用基板及び液晶表示
素子の製造方法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の構成によれば、
表示領域中のスペーサとは別に検査用スペーサパターン
を設けるため、スペーサの評価を表示とは無関係の箇所
で行うことができ、表示領域中のスペーサを傷つけるこ
とがない。

【０００７】更に、本発明ではスペーサの形状が第１の
辺と第２の辺を有するほぼ長方形の形状をとった場合
に、検査用スペーサパターンが第１の辺とほぼ同じ長さ
の辺と第２の辺より十分長い辺とを有するほぼ長方形の
形状をとることを特徴とする。これにより、検査用スペ
ーサパターンの第１の辺とほぼ同じ長さの辺とほぼ平行
な線で切断したときのスペーサの高さ、形状の評価を行
うことができる。すなわち、例えば、第１の辺とほぼ同
じ長さの辺とほぼ平行な線に沿って針を動かす触針方式
により検査用スペーサパターンの評価を行う場合に、検
査用スペーサパターンはスペーサの第２の辺より十分長
い辺を有しているため、触針の設定位置を厳密に設定し
なくとも、第２の辺より十分長い辺のどの位置からも検
査が可能であり、精度良く検査用スペーサパターンを評
価することができる。

【０００８】更に、本発明ではスペーサの形状を第１の
辺と第２の辺を有するほぼ長方形の形状をとった場合
に、検査用スペーサパターンを、第１の辺とほぼ同じ長
さの辺と第２の辺より十分長い辺とを有するほぼ長方形
の形状と第１の辺より長い長さの辺と第２の辺より十分
長い辺とを有するほぼ長方形の形状とを有することを特
徴とする。この場合、第１の辺とほぼ同じ長さの辺を有
する検査用スペーサパターンの第１の辺とほぼ同じ長さ
の辺とほぼ平行な方向で切断したときのスペーサの高さ
と、第１の辺より長い長さの辺を有する検査用スペーサ
パターンの第１の辺より長い辺とほぼ平行な方向で切断
したときのスペーサの高さとが一致した場合、第１の辺
に対応した辺の長さによるスペーサ形成条件による影響
がないと考えられるため、第１の辺より長い長さの辺を
有する検査用スペーサパターンでスペーサの評価をする
ことができ、評価の精度が更に向上する。

【０００９】また、この検査用パターンは、第１の辺に
対応した辺の長さは、段階的に種々の長さの辺を設定し
て、階段状の検査用パターンをパターニング形成しても
良い。この構成においても、検査用スペーサパターンは
第２の辺より十分に長い辺を有するために、検査用スペ
ーサパターンの第１の辺とほぼ同じ長さの辺とほぼ平行
な方向で切断したときのスペーサの高さ、形状の評価
を、第１の辺とほぼ同じ長さの辺とほぼ平行な線に沿っ
て針を動かす触針方式により触針の設定位置を厳密に設
定しなくとも、精度良く検査用スペーサパターンを評価
することができる。

【００１０】また、スペーサ及び検査用スペーサが複数
層が積層してなる場合、検査用スペーサをスペーサと同
じ積層条件とすることにより、積層の仕方が異なる複数
のスペーサが配置されている表示素子基板の場合におい
ても、積層条件の異なる個々のスペーサの評価を正確に
行うことができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下本発明の第１の実施形態につ
いて、図１、２を用いて説明する。図１は、液晶表示素
子の非表示領域内に配置されている検査用スペーサパタ
ーン１４ａ、１４ｂ及び検査用着色層パターン２３を有
する表示素子基板３０の部分平面図を示し、図２は液晶
表示素子の部分概略断面図を示す。

【００１２】液晶表示素子２０は、図２に示すように表
示素子基板である２枚の基板３０、３１を周辺部のシー
ル材９によって貼り合わせ、２枚の基板の間隙に液晶層
３３を狭持した構成となっている。基板３１には、交差
する複数の信号線６及び走査線（図示せず）と、これら
信号線と走査線との交差毎にスイッチング素子（図示せ
ず）及び画素電極３が配置され、それらの上に配向膜４
が配置されている。一方、シール材形成領域より内側に
ある表示領域内の基板３０上には、液晶表示素子とした
ときに信号線及び走査線にほぼ沿った形状の格子状に形
成されてなる黒色樹脂からなる遮光層５が配置されてい
る。この遮光層５の間隙を埋めるように画素電極３に対
応して、信号線とほぼ平行にストライプ形状の着色層１
２Ｒ（赤）、１２Ｇ（緑）、１２Ｂ（青）が配置されて
いる。遮光層５上には２枚の基板間距離を保持するため
の柱状のスペーサ１１が樹脂により形成され、１画素に
１つの割合で配置されている。スペーサ１１は、液晶表
示素子としたときに信号線上に配置される。これら着色
層１２、スペーサ１１上には共通電極１０、配向膜４が
順次配置されている。表示領域内のスペーサ１１は、基
板１に投影したときに第１の辺と第２の辺を有するほぼ
長方形の形状を有している。また、基板３０上の非表示
領域内には検査用スペーサパターン１４ａ、１４ｂ及び
検査用着色層パターンが配置されている。図２の検査用
スペーサパターン１４ａの断面図は、図１の線Ａ−Ａ´
で切断したときの断面である。検査用スペーサパターン
１４ａ、１４ｂは表示領域中のスペーサ１１の形成工程
と同一工程で形成され、フォトリソグラフィ法を用いて
形成されている。基板３０上の非表示領域内には、図１
に示すように表示領域中の着色層及びスペーサと大きさ
が同一の着色層パターン２３Ｒ，Ｇ，Ｂ及びスペーサ２
２を有する検査用着色層パターン２３と、表示領域中の
スペーサを評価するための検査用スペーサパターン１４
ａ、１４ｂとが配置されている。検査用着色層パターン
２３は、表示領域内の配置条件と同一とするために、遮
光層８上にスペーサ２２が配置され、検査用着色層２４
Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂが配置される部分は遮光層８は形成
されていない構造となっている。検査用着色層２４間同
士の距離、検査用着色層２４とスペーサ２２との距離、
検査用着色層の横幅の長さ、スペーサの大きさなどの構
成は、すべて表示領域の構成条件と同一となっている。

【００１３】また、検査用スペーサパターン１４ａ、１
４ｂは、それぞれ遮光層８上に検査用スペーサ２１ａ、
２１ｂが配置された構成となっている。検査用スペーサ
パターン１４は、２種類の第１の検査用スペーサパター
ン１４ａ、第２の検査用スペーサパターン１４ｂとから
なる。検査用着色層パターン２３のスペーサ２２は、基
板に投影したときに表示領域内のスペーサと同じ第１の
辺と第２の辺とを有する長方形形状を有している。ここ
で、図１においてほぼ長方形であるスペーサ２２の第１
の辺に相当する部分を４０、第２の辺に相当する部分を
４１とする。本実施形態では表示領域中のスペーサが第
１の辺と第２の辺を有するほぼ長方形の形状を有してお
り、図１に示すように、第１の検査用スペーサパターン
１４ａの検査用スペーサ２１ａを基板１に投影したとき
の形状は３つの長方形Ｂ，Ｃ，Ｄが連なった形状となっ
ている。長方形Ｂ，Ｃ，Ｄのスペーサ２２の第２の辺４
１とほぼ平行の辺５１Ｂ、５１Ｃ、５１Ｄは、第２の辺
４１よりも十分長い辺となっている。また、長方形Ｂの
スペーサの第１の辺４０とほぼ平行の辺５０Ｂは第１の
辺４０とほぼ同じ長さの辺となっており、長方形Ｃ，Ｄ
のスペーサの第１の辺４０とほぼ平行の辺５０Ｃ、５０
Ｄは第１の辺４０よりも長く、更に長方形Ｃより長方形
Ｄのそれの方が長い形状となっている。第２の検査用ス
ペーサパターン１４ｂの検査用スペーサ２１ｂを基板１
に投影したときの形状は３つの長方形Ｅ、Ｆ、Ｇが連な
った形状となっている。長方形Ｅ、Ｆ、Ｇの、スペーサ
の第１の辺４０とほぼ平行の辺５０Ｅは、第１の辺４０
よりも十分長い辺となっている。また、長方形Ｅのスペ
ーサの第２の辺４１とほぼ平行の辺５１Ｅは、第２の辺
４１とほぼ同じ長さの辺となっており、長方形Ｆ、Ｇの
スペーサの第２の辺４１とほぼ平行の辺５１Ｆ、５１Ｇ
は、第２の辺４１よりも長く、更に長方形Ｆより長方形
Ｇのそれの方が長い形状となっている。

【００１４】以下に、スペーサの評価法について説明す
る。スペーサの評価は、２枚の基板を貼り合わせる前で
あって、着色層及びスペーサが配置された基板３０をス
ペーサ形成後に行った。第１の検査用パターンを構成す
る長方形Ｂの辺５０Ｂとほぼ平行な線に沿って長方形Ｂ
上を針が移動するように触針方式でスペーサの凹凸状態
を評価した。この際、長方形Ｂの辺５１Ｂは、スペーサ
の第２の辺４１より十分に長いため、長方形Ｂの辺５１
Ｂのどの位置からでも針を設定することが可能となり、
評価精度が向上した。表示領域内のスペーサが小さく、
表示領域内のスペーサと同じ大きさのスペーサパターン
を検査パターンとして用いる場合と比較して評価が容易
となる。ここでは、検査用スペーサ１４ａを第１の辺４
０とほぼ平行な線で切断したときスペーサ形状の評価を
行うことができる。

【００１５】ここで、例えば検査用スペーサパターン１
４ａの長方形ＢとＣとの高さが等しい場合、長方形Ｂと
Ｃとは、辺５０Ｂと辺５０Ｃとの長さの違いによる、検
査用スペーサパターン形成時のフォトリソグラフィ法に
おけるエッチングによるスペーサ高さの影響がないと考
えられる。すなわち、長方形Ｂと長方形Ｃとにおけるパ
ターン形状の大きさの違いによるパターニングの精度が
ほぼ同じと考えられる。この場合、長方形Ｂの代わりに
長方形Ｃの評価を行うことによってスペーサの評価をす
る事が可能となり、長方形Ｂと比較して長方形Ｃの方
が、パターンの大きさが大きくなる分、評価が容易とな
る。また、同様に、例えば検査用スペーサパターン１４
ａの長方形ＢとＤとの高さが等しければ、長方形Ｄの評
価を行えば良く、更に容易に評価を行うことが可能とな
る。

【００１６】次に、第１の検査用パターンと同様に、第
２の検査用パターンを構成する長方形Ｅのスペーサの第
１の辺４１とほぼ平行な線に沿って触針方式でスペーサ
の凹凸状態を評価した。この場合においても、長方形Ｅ
の辺５０Ｅは、第１の辺４０より十分に長いため、長方
形Ｅの辺５０Ｅのどの位置からでも、検査用スペーサの
第２の辺４１とほぼ平行な線で切断したときスペーサ形
状の評価を行うことができた。また、第１の検査用パタ
ーン同様長方形Ｆ、Ｇを用いることにより更に簡便な評
価が可能となる。

【００１７】このように本実施形態では、第１の検査用
パターンと第２の検査用パターンとを有するため、スペ
ーサの評価を２つの断面から行うことができ、精度良く
容易にスペーサの評価を行うことが可能となる。

【００１８】また、着色層検査パターン２３を表示領域
内の着色層の形成工程と同一工程で形成することによ
り、表示領域外で着色層の各色の透過率等、色の評価を
行うことが可能となる。

【００１９】次に、本発明の第２の実施形態について図
３、４を用いて説明する。第１の実施形態ではスペーサ
及び検査用スペーサが単層であったのに対し本実施形態
では着色層を積層した形状である点、第１の実施形態で
はスペーサが信号線上に配置されていたのに対し本実施
形態では走査線上に配置されている点、遮光層を配置し
なかった点で異なる。本実施形態ではスペーサ及び検査
用スペーサパターンについて特に詳細に説明する。

【００２０】図３は、液晶表示素子の非表示領域内に配
置されている検査用スペーサパターン６０、６１及び検
査用着色層パターン２３を有する表示素子基板３０の部
分平面図を示し、図４は液晶表示素子の部分概略断面図
を示す。

【００２１】液晶表示素子２０は、図４に示すように表
示素子基板である２枚の基板３０、３１を周辺部のシー
ル材９によって貼り合わせ、２枚の基板の間隙に液晶層
３３を狭持した構成となっている。基板３１には、絶縁
膜１５を介して交差して配置された複数の信号線６及び
走査線１３と、これら信号線と走査線との交差毎にスイ
ッチング素子（図示せず）及び画素電極（図示せず）が
配置され、それらの上に配向膜４が配置されている。一
方、シール材形成領域より内側にある表示領域内の基板
３０上には、画素電極３に対応して信号線とほぼ平行に
ストライプ形状の着色層１２Ｒ（赤）、１２Ｇ（緑）、
１２Ｂ（青）が配置されている。着色層１２上には、２
枚の基板間距離を保持するために柱状スペーサ１１が配
置されている。スペーサ１１は着色層１２が積層した構
成となっており、１画素に１つの割合で配置され、走査
線上に配置されている。そして、これら着色層１２、ス
ペーサ１１上には共通電極１０、配向膜４が順次配置さ
れている。

【００２２】図３は、シール材形成領域外の非表示領域
を示す平面図であり、表示領域内の着色層及びスペーサ
を評価するための検査用スペーサパターン６０、６１及
び検査用着色層パターン２３が配置されている。図４の
検査用スペーサパターン６０の断面図は、図１の線Ｂ−
Ｂ´で切断したときの断面である。検査用スペーサパタ
ーン６０、６１は表示領域中の着色層の形成工程と同一
工程で形成され、フォトリソグラフィ法を用いて形成さ
れている。検査用着色層パターン２３は表示領域内の構
成条件と同一条件で構成されており、図３の線Ｃ−Ｃ´
で切断したときの断面は、図４に示されるシール形成領
域内に配置される着色層形成領域の断面と同じとなるた
め、表示領域内の着色層及びスペーサの構成を図３に示
す検査用着色層２３と図４を用いて説明する。

【００２３】着色層の各色毎にスペーサは配置され、ス
ペーサは配置される異なる色の着色層毎にその積層条件
が異なり、本実施形態では積層条件が異なるスペーサが
３種類ある。１種類目である着色層１２Ｒ上に配置され
るスペーサは、着色層１２Ｒ上に他の着色層１２Ｇ、１
２Ｂの形成と同一工程で形成される島状パターン７０
Ｇ、７１Ｂが積層されて構成され、７０Ｇを基板に投影
したときの領域内に７１Ｂが配置される。２種類目であ
る着色層１２Ｇ上に配置されるスペーサは、１２Ｒと同
一工程で形成される島状パターン７２Ｒ上に着色層１２
Ｇが積層され、更に着色層１２Ｂと同一工程で形成され
る島状パターン７１Ｂが配置されて構成される。島状パ
ターン７１Ｂは着色層１２Ｇと島状パターン７２Ｒとが
重なり合った領域内に配置される。３種類目である着色
層１２Ｂ上に配置されるスペーサは、着色層１２Ｒ、１
２Ｇの形成と同一工程で形成される島状パターン７２
Ｒ、７０Ｇが積層した上に着色層１２Ｂが配置されて構
成される。尚、積層の色の順は着色層の形成工程順によ
るものであり、本実施形態ではＲ、Ｇ、Ｂの順に着色層
を形成している。

【００２４】そして、第１の検査用スペーサパターン６
０、第２の検査用スペーサパターン６１も表示領域中の
積層条件と同様に構成され、それぞれ異なる積層条件の
３種の検査用スペーサパターンが配置されている。すな
わち、１種類目である着色層１２Ｒ上に配置されたスペ
ーサに対応した検査用スペーサパターンとして６０ａ、
６１ａ、２種類目である着色層１２Ｇ上に配置されたス
ペーサに対応した検査用スペーサパターンとして６０
ｂ、６１ｂ、３種類目である着色層１２Ｂ上に配置され
たスペーサに対応した検査用スペーサパターンとして６
０ｃ、６１ｄが配置されている。

【００２５】検査用スペーサパターンにおいては、基板
に投影したときにスペーサを構成する複数層のうちの島
状パターンに対応する層は複数の長方形が連なった階段
状のパターン形状とし、スペーサを構成する複数層のう
ちの着色層に対応する層はほぼ長方形のパターン形状と
なっている。スペーサを構成する島状パターンは第１の
辺と第２の辺とを有するほぼ長方形の形状をなしてお
り、島状パターンとこの島状パターンに対応する複数の
長方形が連なった階段形状のパターンの層との形状関係
は、上記第１の実施形態で説明した表示領域内のスペー
サとスペーサ検査パターンとの形状関係と同じとなって
いる。よって、検査用スペーサパターンは、スペーサを
構成する複数層の層の大小関係も反映した形状となって
いる。例えば、着色層１２Ｒ上に配置されたスペーサに
対応する検査用スペーサパターン６０ａを例にあげる
と、スペーサを構成する層は１２Ｒ、７０Ｇ、７１Ｂの
順に小さい形状とっていくのと同様に、検査用スペーサ
パターン６０ａもＲ、Ｇ、Ｂの順に小さい形状となって
いる。尚、図３の検査用スペーサパターンの点線部は、
上に他の層が積層されて図面上では層が見えない状態の
ものである。

【００２６】このように、本発明はスペーサを複数層積
層した構成とする場合にも適用でき、第１の実施形態と
同様、スペーサの評価を精度良く容易に行うことができ
る。次に、本発明の第３の実施形態について図５〜７を
用いて説明する。

【００２７】本実施形態は、第２の実施形態と比較し
て、スペーサ及び検査用スペーサパターンの構成条件が
異なる点、検査用スペーサパターンがシール領域内であ
って液晶表示素子としたときに非表示領域となる領域に
配置されている点、実施例１と同様遮光層が配置されて
いる点において異なり、スペーサ及び検査用スペーサパ
ターンの構成条件について特に詳細に説明する。

【００２８】図５は表示領域内の着色層及びスペーサの
構成を示す部分平面図、図６は検査用スペーサパターン
を示す部分平面図、図７は液晶表示素子の表示領域中に
配置される着色層形成領域及び非表示領域中に配置され
る検査用スペーサパターン形成領域の縦断面図を示す。

【００２９】本実施形態のスペーサの構成条件と第２の
実施形態のスペーサの構成条件とは、着色層１２Ｂ上に
配置されるスペーサの構成のみが異なるため、着色層１
２Ｂ上に配置されるスペーサの構成のみ説明する。着色
層１２Ｂ上に配置されるスペーサでは、最上層の青色の
島状パターン８１Ｂは、着色層１２Ｂと同一工程で形成
されており、着色層１２Ｂと分離してパターニングされ
ている。着色層１２Ｂ上に配置されるスペーサを構成す
る他の層８０Ｇ、８２Ｒは島状パターンに形成されてお
り、それぞれの島状パターンの周縁部は着色層１２Ｂと
重なっている。島状パターン８２Ｒ、８０Ｇ、８１Ｂが
順に積層してスペーサを構成している。最上層である青
色島状パターン８１Ｂは、他の赤色の島状パターン８２
Ｒ、緑色の島状パターン８０Ｇをそれぞれ基板に投影し
たときの投影領域内に配置されている。これにより、３
種類のスペーサは全て最上層に島状パターン８１Ｂを有
することになり、液晶表示素子としたときに２枚の基板
間距離を保持するスペーサの実効的な太さはこの島状パ
ターン８１Ｂの大きさに因ることになり、３種類とも基
板間距離を保持するうえで実効的に同じ太さのスペーサ
を有する事となる。

【００３０】また、実施形態２と同様に、着色層１２Ｒ
上に配置されるスペーサに対する検査用スペーサは図６
に示す９０ａ、着色層１２Ｇ上に配置されるスペーサに
対する検査用スペーサは図６に示す９０ｂとなる。一
方、着色層１２Ｂ上に配置されるスペーサに対する検査
用スペーサは、図６に示す検査用スペーサ９０ｃとな
る。この検査用スペーサ９０ｃは、表示領域内のスペー
サと同様に、青色の島状パターン１００Ｂと着色層９１
Ｂとが分離した構造をしており、着色層９１Ｂは、スペ
ーサを構成する他の層である緑色の島状スペーサ１０１
Ｇ、赤色の島状スペーサ１０２Ｒの周縁部の一部と重な
る構造をしている。

【００３１】このように、本実施形態では、表示領域内
の異なる構成条件を有する３種のスペーサと同一構成条
件の３種類の検査用スペーサを有する構造、すなわちス
ペーサと検査用スペーサとの積層条件及び配置条件が同
一となっており、正確な表示領域内のスペーサの評価を
行う事ができる。

【００３２】また、本実施形態では、遮光層を配置し、
この遮光層上にスペーサを配置しているため、検査用ス
ペーサにおいても同様に遮光層８上に検査用スペーサパ
ターンを配置している。

【００３３】また、第１及び第２の実施形態では、シー
ル形成領域の外側に検査用スペーサを配置したが、第３
の実施形態のようにシール形成領域の内側に配置するこ
とも可能である。この際、検査用スペーサは液晶表示素
子としたときに非表示領域となることが望ましい。ま
た、検査用スペーサは最終的に基板を切断して取り除い
ても、どちらでも良い。また、検査用スペーサを残した
まま２枚の基板を貼りあわせる場合、非表示領域である
基板周辺部に検査用スペーサが存在すると基板のたわみ
が少ないという効果もある。上記実施形態では、基板側
にスペーサを配置したが、液晶表示素子としたときに画
素電極が配置されたアレイ基板にスペーサを配置しても
良く、アレイ基板側に着色層を配置し、スペーサを着色
層の積層によって形成しても良い。また第２、第３の実
施形態では、積層毎にスペーサの大きさを徐々に小さく
なるように変えていたが、各層の大きさは同じでも、異
なっていても構わない。また、上記実施例では、第１の
検査パターンと第２の検査パターンを設けることによ
り、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向の両方向からスペーサの検査を
行うことができるが、いずれか一方でも構わない。ま
た、上記実施例では、基板に投影したときの形状が長方
形の場合を例にあげたが、例えば、円形や多角形の形状
となるようスペーサを形成してもよい。

【００３４】

【発明の効果】本発明では、表示領域中のスペーサとは
別に検査用スペーサパターンを設けるため、スペーサの
評価を表示とは無関係の箇所で行うことができ、表示領
域中のスペーサを傷つけることがない。更に、本発明は
スペーサの形状が第１の辺と第２の辺を有するほぼ長方
形の形状をとった場合に、検査用スペーサパターンが第
１の辺とほぼ同じ長さの辺と第２の辺より十分長い辺と
を有するほぼ長方形の形状をとることを特徴とする。こ
れにより、検査用スペーサパターンの第１の辺とほぼ同
じ長さの辺とほぼ平行な線で切断したときのスペーサの
高さ、形状の評価を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態を示す表示素子基板の
部分平面図。

【図２】本発明の第１の実施形態を示す液晶表示素子の
断面図。

【図３】発明の第２の実施形態を示す表示素子基板の部
分平面図。

【図４】本発明の第２の実施形態を示す液晶表示素子の
断面図。

【図５】本発明の第３の実施形態を示す表示素子基板の
スペーサの配置構造を示す部分平面図。

【図６】本発明の第３の実施形態を示す表示素子基板の
検査用スペーサの配置構造を示す部分平面図。

【図７】本発明の第３の実施形態を示す液晶表示素子の
断面図。

【符号の説明】

１…基板 １１…スペーサ １２…着色層 １４…検査用スペーサパターン ２０…液晶表示素子 ３０…表示素子基板 ３３…液晶層 ６０…検査用スペーサパターン ９０…検査用スペーサパターン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 室内 克徳 兵庫県姫路市余部区上余部50番地 株式会 社東芝姫路工場内 (72)発明者 本田 端 埼玉県深谷市幡羅町一丁目９番地２号 株 式会社東芝深谷電子工場内 (72)発明者 田中 孝臣 兵庫県姫路市余部区上余部50番地 株式会 社東芝姫路工場内 (72)発明者 倉内 昭一 埼玉県深谷市幡羅町一丁目９番地２号 株 式会社東芝深谷電子工場内

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の一主面上に配置されたフォトリソ
   グラフィ法により形成されてなるスペーサを有する表示
   素子用基板において、 前記基板上には前記スペーサの検査用スペーサパターン
   が配置されていることを特徴とする表示素子用基板。
2. 【請求項２】 前記スペーサ及び前記検査用スペーサパ
   ターンは、複数層積層されてなることを特徴とする請求
   項１記載の表示素子用基板。
3. 【請求項３】 前記基板の一主面上には複数色からなる
   着色層が配置され、前記スペーサ及び前記検査用スペー
   サパターンは、前記着色層のうち少なくとも異なる２色
   が積層されてなることを特徴とする請求項２記載の表示
   素子用基板。
4. 【請求項４】 前記スペーサ及び前記検査用スペーサパ
   ターンを構成する複数層は、最上層が他の層を前記基板
   に投影したときの投影領域内に配置されることを特徴と
   する請求項２または３記載の表示素子用基板。
5. 【請求項５】 前記検査用スペーサは、前記スペーサと
   同一積層条件で形成されてなることを特徴とする請求項
   ３または４いずれか１つ記載の表示素子用基板。
6. 【請求項６】 前記スペーサは、前記基板に投影したと
   きに第１の辺と第２の辺を有するほぼ長方形の形状をな
   し、前記検査用スペーサパターンを前記基板に投影した
   ときの形状は、前記長方形の第１の辺とほぼ同じ長さの
   辺と前記長方形の第２の辺よりも十分長い辺を有するほ
   ぼ長方形の形状を有することを特徴とする請求項１記載
   の表示素子用基板。
7. 【請求項７】 前記スペーサは、前記基板に投影したと
   きに第１の辺と第２の辺を有するほぼ長方形の形状をな
   し、前記検査用スペーサパターンを前記基板に投影した
   ときの形状は、前記長方形の第１の辺とほぼ同じ長さの
   辺と前記長方形の第２の辺よりも十分長い辺を有するほ
   ぼ長方形の形状の第１の検査用スペーサパターンと、前
   記長方形の第２の辺とほぼ同じ長さの辺と前記長方形の
   第１の辺よりも十分長い辺を有するほぼ長方形の形状の
   第２の検査用スペーサパターンとを有することを特徴と
   する請求項１記載の表示素子用基板。
8. 【請求項８】 前記基板上には複数色の着色層が配置さ
   れ、前記スペーサ及び前記検査用スペーサパターンは、
   前記着色層のうち少なくとも異なる２色が積層されてな
   ることを特徴とする請求項６または７記載の表示素子用
   基板。
9. 【請求項９】 前記スペーサ及び前記検査用スペーサパ
   ターンを構成する複数層は、最上層が他の層を前記基板
   に投影したときの投影領域内に配置されることを特徴と
   する請求項８記載の表示素子用基板。
10. 【請求項１０】 前記検査用スペーサは、前記スペーサ
    と同一積層条件で形成されてなることを特徴とする請求
    項８または９記載の表示素子用基板。
11. 【請求項１１】 ２枚の基板のいずれか一方の基板上に
    フォトリソグラフィ法によりスペーサを形成する工程
    と、 前記スペーサにより前記２枚の基板間間隙を保持するよ
    うに前記２枚の基板を対向配置して、前記２枚の基板間
    隙に液晶層とを狭持する工程とからなる液晶表示素子の
    製造方法において、 前記２枚の基板のうち前記スペーサが配置されている基
    板上に前記スペーサの形成と同一工程で検査用スペーサ
    パターンを形成することを特徴とする液晶表示素子の製
    造方法。
12. 【請求項１２】 前記２枚の基板のうち前記スペーサが
    配置される基板上に複数色からなる着色層を形成する工
    程と、 前記着色層の形成と同一工程で、前記スペーサ及び前記
    検査用スペーサパターンを前記着色層のうち少なくとも
    異なる２色を積層して形成することを特徴とする請求項
    １１記載の液晶表示素子の製造方法。
13. 【請求項１３】 前記スペーサ及び前記検査用スペーサ
    パターンを構成する着色層の各々は、最上層が他の層の
    前記基板に投影したときの投影領域内に配置されるよう
    に形成されることを特徴とする請求項１２記載の液晶表
    示素子の製造方法。
14. 【請求項１４】 前記検査用スペーサパターンは、前記
    スペーサと同一積層条件で形成することを特徴とする請
    求項１２または１３記載の液晶表示素子の製造方法。
15. 【請求項１５】 前記スペーサを前記基板に投影したと
    きの形状が第１の辺と第２の辺を有するほぼ長方形の形
    状、前記検査用スペーサパターンを前記基板に投影した
    形状が前記長方形の第１の辺とほぼ同じ長さの辺と前記
    長方形の第２の辺よりも十分長い辺を有するほぼ長方形
    の形状となるように、前記スペーサ及び前記検査用スペ
    ーサパターンをパターニング形成することを特徴とする
    請求項１１乃至１４いずれか１つ記載の液晶表示素子の
    製造方法。
16. 【請求項１６】 前記スペーサを前記基板に投影したと
    きの形状が第１の辺と第２の辺を有するほぼ長方形の形
    状、前記検査用スペーサパターンを前記基板に投影した
    ときに前記検査用スペーサパターンが前記長方形の第１
    の辺とほぼ同じ長さの辺と前記長方形の第２の辺よりも
    十分長い辺を有するほぼ長方形の形状の第１の検査用ス
    ペーサパターンと、前記長方形の第２の辺とほぼ同じ長
    さの辺と前記長方形の第１の辺よりも十分長い辺を有す
    るほぼ長方形の形状の第２の検査用スペーサパターンと
    を有するように、前記スペーサ及び前記検査用スペーサ
    パターンをパターニング形成することを特徴とする請求
    項１１乃至１４いずれか１つ記載の液晶表示素子の製造
    方法。