KR102170393B1 - 컬러 필름 기판의 제조방법 및 액정 패널의 제조방법 - Google Patents

컬러 필름 기판의 제조방법 및 액정 패널의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102170393B1
KR102170393B1 KR1020187034059A KR20187034059A KR102170393B1 KR 102170393 B1 KR102170393 B1 KR 102170393B1 KR 1020187034059 A KR1020187034059 A KR 1020187034059A KR 20187034059 A KR20187034059 A KR 20187034059A KR 102170393 B1 KR102170393 B1 KR 102170393B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
red
blue
layer
light
block
Prior art date
Application number
KR1020187034059A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20180133519A (ko
Inventor
휘 헤
Original Assignee
티씨엘 차이나 스타 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 티씨엘 차이나 스타 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 filed Critical 티씨엘 차이나 스타 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드
Publication of KR20180133519A publication Critical patent/KR20180133519A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102170393B1 publication Critical patent/KR102170393B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13396—Spacers having different sizes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13398—Spacer materials; Spacer properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1341—Filling or closing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1341—Filling or closing of cells
    • G02F1/13415—Drop filling process
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
    • G02F2001/13398—
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

컬러 필름 기판의 제조방법이 개시된다. 상기 제조방법은 다음을 포함한다: 3개 층의 포토레지스트 물질들을 제1 기판 상에 코팅하고 노출시키는 단계로서, 상기 3개 층의 포토레지스트 물질들은 각각 적색, 녹색 및 청색인 것인, 단계; 상기 코팅 및 노출 공정에서, 적색 레지스트 블록, 녹색 레지스트 블록 및 청색 레지스트 블록이 형성되는 것인, 단계; 상기 3개 층의 포토레지스트 물질들 중 2개의 상이한 색의 포토레지스트 물질들의 혼합을 통해 광-차단 층을 형성하는 단계; 및 상기 3개 층의 포토레지스트 물질들 중 2개의 상이한 색의 포토레지스트 물질들의 적층을 통해 스페이싱 층을 형성하는 단계. 액정 패널의 제조방법 또한 개시된다. 본 발명은 컬러 필름 기판의 제조방법을 단순화할 수 있고, 액정 패널의 공정을 감소시키고 제조 비용을 감소시킬 수 있다.

Description

컬러 필름 기판의 제조방법 및 액정 패널의 제조방법
교차 참조
이 출원의 청구항은 2016년 4월 26일자로 출원번호 제201610270239.X호로 중화인민공화국의 특허청 (State Intellectual Property Office of the People's Republic of China; SIPO)에 제출되었다. 중국 출원에 기초한 우선권은 표제 "컬러 필름 기판의 제조방법 및 액정 패널의 제조방법"을 갖는다. 앞서-언급된 특허 출원의 전체 내용은 인용을 통해 본 출원에 포함될 것이다.
발명의 분야
본 발명은 액정 디스플레이 기술 분야, 더 구체적으로 컬러 필름 기판의 제조방법 및 액정 패널의 제조방법에 관한 것이다.
박막 트랜지스터-액정 디스플레이 (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display; TFT-LCD)는 컬러 필터 기판 (Color Filter Substrate; CF Substrate) 및 박막 트랜지스터 기판 (Thin Film Transistor Substrate; TFT Substrate)을 포함하고, 상기 기판의 내부의 대향하는 면에는 투명 전극이 구비된다. 액정 (LC)의 층은 2개의 기판들 사이에 구비된다. 액정 디스플레이는 전기장을 통해 액정의 배열 방향을 조절한다. 분극 상태를 변화시키고 분극 시트를 통해 광 경로의 블로킹을 침투하는 것을 실현시켜서 디스플레이를 실현시킨다.
컬러 필름 기판은 액정 디스플레이를 컬러화하는 데에 있어서 중요한 구성이다. 종래의 기술에서, 컬러 필름 기판의 제조방법은 순차적으로 흑색 매트릭스 물질, 적색, 녹색, 청색 포토레지스트 물질을 코팅하고 노출시키고, 스페이싱(spacing) 칼럼을 제조한다. 상기의 제조의 단계들은 많고, 생산 효율은 낮다.
디스플레이 기술의 발전에 따라, 제조 비용을 절약하기 위해 액정 패널의 제조 공정에서 어떻게 공정들을 감소시키는 지가 산업의 연구 방향이다.
발명의 요약
본 발명에 의해 해결되는 기술적인 문제는 컬러 필름 기판의 제조방법을 단순화시켜, 액정 패널의 재조방법에서 공정들을 감소시키고 제조 비용을 절약하는 액정 패널의 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 실현시키기 위해서, 본 발명의 구현예에 의해 채택되는 기술은 다음과 같다:
한편으로는, 본 발명은 컬러 필름 기판의 제조방법으로서, 상기 제조방법은, 3개 층의 포토레지스트(photoresist) 물질들을 제1 기판 상에 코팅하고 노출시키는 단계로서, 상기 3개 층의 포토레지스트 물질들은 각각 적색, 녹색 및 청색인 것인, 단계; 상기 코팅 및 노출 공정에서, 적색 레지스트 블록(resist block), 녹색 레지스트 블록 및 청색 레지스트 블록이 형성되는 것인, 단계; 상기 3개 층의 포토레지스트 물질들 중 2개의 상이한 색의 포토레지스트 물질들의 적층을 통해 광-차단(light-shielding) 층을 형성하는 단계; 및 상기 3개 층의 포토레지스트 물질들 중 2개의 상이한 색의 포토레지스트 물질들의 적층(stacking)을 통해 스페이싱 층(spacing layer)을 형성하는 단계를 포함하는, 컬러 필름 기판의 제조방법을 제공한다.
또한, 3개 층의 포토레지스트 물질들을 제1 기판 상에 코팅하고 노출시키는 단계는, 적색 포토레지스트 물질을 제1 기판 상에 코팅시키고, 상기 제1 기판을 노출시키고 전개시켜, 적색 레지스트 블록, 적색 스페이싱 블록, 및 광-차단 영역에 위치된 제1 컬러 레지스트 층을 형성하는 단계; 녹색 포토레지스트 물질을 제1 기판 상에 코팅시키고, 상기 제1 기판을 노출시키고 전개시켜, 녹색 레지스트 블록을 형성하는 단계; 및 청색 포토레지스트 물질을 제1 기판 상에 코팅시키고, 상기 제1 기판을 노출시키고 전개시켜, 청색 레지스트 블록, 청색 스페이싱 블록, 및 상기 광-차단 영역에 위치된 제2 컬러 레지스트 층을 형성하는 단계를 포함하고, 여기서, 상기 제1 컬러 레지스트 층의 적색 포토레지스트 물질 및 상기 제2 컬러 레지스트 층의 청색 포토레지스트 물질은 상기 광-차단 영역 내에서 적층되어, 광-차단 층을 형성하는 것이고; 상기 청색 스페이싱 블록 및 상기 적색 스페이싱 블록은 적층되어 스페이싱 층을 형성한다.
또한, 상기 적색 레지스트 블록, 상기 녹색 레지스트 블록 및 상기 청색 레지스트 블록은 모두, 노출을 위한 완전한 광-투과(light-trasmitting) 마스크의 적용을 통해 형성된다.
또한, 상기 제1 컬러 레지스트 층 및 상기 제2 컬러 레지스트 층은 노출을 위한 부분적인 광-투과 마스크의 적용을 통해 형성되는 것이고, 상기 광-차단 층의 높이 및 상기 적색 레지스트 층의 높이는 동일하다.
또한, 상기 스페이싱 층은 교대로 배열된 메인 스페이싱 층 및 보조 스페이싱 층을 포함한다; 상기 메인 스페이싱 층은 완전한 광-투과 마스크를 통해 적색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 적색 메인 스페이싱 블록을 포함하고, 상기 메인 스페이싱 층은 완전한 광-투과 마스크를 통해 청색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 청색 메인 스페이싱 블록을 포함하고, 상기 청색 메인 스페이싱 블록 및 상기 적색 메인 스페이싱 블록은 적층되어 상기 메인 스페이싱 층을 형성한다; 상기 보조 스페이싱 층은 부분적인 광-투과 마스크를 통해 적색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 적색 보조 스페이싱 블록을 포함하고, 상기 보조 스페이싱 층은 부분적인 광-투과 마스크를 통해 청색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 청색 보조 스페이싱 블록을 포함하고, 상기 적색 보조 스페이싱 블록 및 상기 청색 보조 스페이싱 블록은 적층되어 상기 보조 스페이싱 층을 형성한다.
또한, 상기 메인 스페이싱 층의 높이는 3.2 ㎛~3.7 ㎛의 범위이다.
또한, 상기 부분적인 광-투과 마스크의 투과율은 20%~50%의 범위이다.
또한, 상기 광-차단 층은, 상기 코팅 및 노출 단계 내 적색 포토레지스트 물질 및 청색 포토레지스트 물질의 적층 또는 적색 포토레지스트 물질 및 녹색 포토레지스트 물질의 적층을 통해 형성되고, 상기 광-차단 층은 흑색으로 나타난다.
여기서, 상기 스페이싱 층은 교대로 배열된 메인 스페이싱 층 및 보조 스페이싱 층을 포함하고, 상기 메인 스페이싱 층은 노출을 위한 완전한 광-투과 마스크의 적용을 통해, 2개의 상이한 색을 갖는 2개의 포토레지스트 물질들의 적층에 의해 형성되는 것이고; 상기 보조 스페이싱 층은 노출을 위한 부분적인 광-투과 마스크의 적용을 통해 2개의 상이한 색을 갖는 2개의 포토레지스트 물질들의 적층에 의해 형성된다.
다른 한편으로는, 본 발명은 또한 액정 패널의 제조방법으로서, 상기의 어느 하나에서 설명되는 컬러 필름 기판을 제조하는 방법; 액정을 컬러 필름 기판 상에 적하하는(dropping) 단계; 및 제2 기판을 상기 컬러 필름 기판에 부착하고, 상기 제2 기판의 모서리 영역 및 상기 제1 기판의 모서리 영역을 프레임 접착제(frame adhesive)를 통해 접합시키는 단계를 포함하는, 액정 패널의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 의해 제공되는 액정 패널의 컬러 필름 기판은 2개 층의 포토레지스트 물질들을 적용하여 적층하여 광-차단 층을 형성하고, 다중 층의 포토레지스트 물질들을 적용하여 적층하여 스페이싱 층을 형성한다. 액정 패널의 제조하는 공정들은 적고, 작동은 단순하고, 좋은 효과를 얻고 동시에 제조 비용을 절약한다.
본 발명 내 또는 선행 기술 내 기술적인 해결방법을 더 분명하게 설명하기 위해서, 다음은 구현예를 또는 선행기술을 설명하기 위해 사용된 도면을 설명할 것이다. 다음의 도면은 본 발명의 단지 일부의 구현예들이라는 것은 분명하다. 창조적인 노력 없이도, 당해 기술 분야에서 통상의 기술을 가진 자라면 이러한 도면에 따라 다른 도면을 얻는 것이 또한 가능하다.
도 1은 본 발명의 제1 구현예의 액정 패널의 컬러 필름 기판의 상면도(top view)이다;
도 2는 본 발명의 제1 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 제조방법의 단계 1의 상면도이다;
도 3은 본 발명의 제1 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 제조방법의 단계 1의 A-A 선의 단면도(cross-sectional view)이다;
도 4는 본 발명의 제1 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 제조방법의 단계 1의 B-B 선의 단면도이다;
도 5는 본 발명의 제1 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 제조방법의 단계 2의 상면도이다;
도 6은 본 발명의 제1 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 제조방법의 단계 2의 A-A 선의 단면도이다;
도 7은 본 발명의 제1 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 제조방법의 단계 2의 B-B 선의 단면도이다;
도 8은 본 발명의 제1 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 제조방법의 단계 3의 상면도이다;
도 9는 본 발명의 제1 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 제조방법의 단계 3의 A-A 선의 단면도이다;
도 10은 본 발명의 제1 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 제조방법의 단계 3의 B-B 선의 단면도이다;
도 11은 본 발명의 제1 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 단면도이다.
도 12는 본 발명의 제2 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 컬러 필름 기판의 단면도이다.
다음의 내용은 본 발명을 자세히 설명하는 도면과 구현예를 결합한다.
도 1은 본 발명의 제1 구현예의 액정 패널의 컬러 필름 기판의 상면도이다. 도 1에서 보여지는 것과 같이, 상기 컬러 필름 기판은 단일 컬러 레지스트 층 (10), 광-차단 층 (20), 메인 스페이싱 층 (32), 및 보조 스페이싱 층 (34)을 포함한다. 메인 스페이싱 층 (32) 및 보조 스페이싱 층 (34)은 총괄하여 스페이싱 층으로 지칭된다. 일 구현예에서, 메인 스페이싱 층 (32) 및 보조 스페이싱 층 (34)은 높이 차를 갖고, 이 때 상기 단일 컬러 레지스트 층 (10)은 적색 레지스트 블록 (102), 녹색 레지스트 블록 (104) 및 청색 레지스트 블록 (106)을 포함한다. 단일 컬러 레지스트 층 (10)의 컬러 레지스트 블록 (즉 적색 레지스트 블록 (102), 녹색 레지스트 블록 (104) 및 청색 레지스트 블록 (106))은 광-차단 층 (20)에 의해 분리된다. 스페이싱 층은 액정 패널 내 지지 기능을 제공한다.
도 2 내지 10을 참고로 하여, 본 발명의 제1 구현예는 컬러 필름 기판의 제조방법 및 액정 패널의 제조방법을 제공한다. 본 발명은 각각 3개 층의 포토레지스트 물질들을 제1 기판 (1) 상에 코팅하고 노출시키고, 상기 3개 층의 포토레지스트 물질들은 각각 적색, 녹색 및 청색이다. 코팅 및 노출 공정에서, 적색 레지스트 블록 (102), 녹색 레지스트 블록 (104) 및 청색 레지스트 블록 (106)이 형성된다. 동시에, 상기 3개 층의 포토레지스트 물질들 중 2개의 상이한 색의 포토레지스트 물질들의 적층을 통해, 광-차단 층 (20) 및 스페이싱 층이 형성된다.
일 구현예예서, 본 발명의 구체적인 단계들은 다음과 같다:
단계 1, 도 2 내지 4를 참고로 하여, 적색 포토레지스트 물질을 제1 기판 (1) 상에 코팅하고, 적색 레지스트 물질이 코팅된 제1 기판 (1)을 노출시키고 전개시켜, 적색 레지스트 블록 (102), 적색 메인 스페이싱 블록 (332), 적색 보조 스페이싱 블록 (342) 및 광-차단 영역에 위치된 제1 컬러 레지스트 층 (202)를 형성한다. 일 구현예에서, 적색 레지스트 블록 (102), 적색 메인 스페이싱 블록 (322)를 형성하기 위하여 완전한 광-투과 마스크를 통해 노출을 수행하고, 제1 컬러 레지스트 층(202) 및 적색 보조 스페이싱 블록 (342)을 형성하기 위하여 부분적인 광-투과 마스크를 통해 노출을 수행한다. 여기서, 부분적인 광-투과 마스크의 투과율은 20%~50% 범위이다.
적색 레지스트 블록 (102), 적색 메인 스페이싱 블록 (322), 적색 보조 스페이싱 블록 (342) 및 제1 컬러 레지스트 층 (202)의 각각의 개수는 다수이고, 매트릭스처럼 배열된다. 도 2는 제1 기판 (1)의 부분적인 상면도이고 설명을 위한 예시로서 제1 열(row)을 이용한다. 상기 제1 열은 분리된 2개의 제1 컬러 레지스트 층 (202)을 포함한다. 상기 2개의 제1 컬러 레지스트 층 (202)의 하나는 적색 레지스트 블록 (102)의 측면에 연결되고, 상기 2개의 제1 컬러 레지스트 층 (202)의 다른 하나의 두 측면은 노출 영역(bare region)을 형성한다. 상기 노출 영역은 녹색 레지스트 블록 및 청색 레지스트 블록을 제조하기 위해 사용된다. 적색 메인 스페이싱 블록 (322), 적색 보조 스페이싱 블록 (342)은 제1 컬러 레지스트 층 (202)의 위치에서 배열된다.
도 3을 참고로 하여, 제1 컬러 레지스트 층 (202)의 높이는 적색 레지스트 블록 (102)의 2분의 1이다. 제1 컬러 레지스트 층 (202)의 표면은 다른 색을 갖는 다른 컬러 레지스트 블록을 형성하기 위해 사용되어, 상이한 색을 갖는 컬러 레지스트 블록들의 적층을 통해, 광-차단 기능이 달성되도록 한다. 도 4에서 보여지는 것과 같이, 적색 메인 스페이싱 블록 (322)의 높이는 적색 레지스트 블록 (102)와 같고, 적색 보조 스페이싱 블록 (342)의 높이는 적색 레지스트 블록 (102)보다 낮다.
단계 2, 도 5 내지 7을 참고로 하여, 녹색 레지스트 물질을 제1 기판 (1) 상에 코팅하고, 녹색 레지스트 물질이 코팅된 제1 기판 (1)을 노출시키고 전개시켜, 제1 기판 (1) 상에 녹색 레지스트 블록 (104)을 형성한다. 일 구현예에서, 녹색 레지스트 블록 (104)를 형성하기 위해, 완전한 광-투과 마스크를 통해 노출을 수행한다.
녹색 레지스트 블록 (104)의 개수는 다수이고, 매트릭스처럼 배열된다. 도 5는 제1 기판 (1)의 부분적인 상면도이다. 설명을 위한 예시로서 제1 열(row)을 이용하여, 녹색 레지스트 블록 (104)는 2개의 제1 컬러 레지스트 층 (202)의 사이에 배치된다.
도 6을 참고로 하여, 녹색 레지스트 블록 (104)의 높이는 제1 컬러 레지스트 층 (202)의 높이의 2배이다. 도 7에서 보여지는 것과 같이, 녹색 레지스트 블록 (104)의 높이는 적색 레지스트 블록 (102)의 높이 및 적색 메인 스페이싱 블록 (322)의 높이와 같다.
단계 3, 도 8 내지 10을 참고로 하여, 청색 포토레지스트 물질을 제1 기판 (1) 상에 코팅하고, 적색 포토레지스트 물질 및 녹색 포토레지스트 물질이 코팅된 제1 기판 (1)을 노출시키고 전개시켜, 청색 레지스트 블록 (106), 청색 메인 스페이싱 블록 (326), 광-차단 영역에 위치된 제2 컬러 레지스트 층 (206) 및 광-차단 영역에 위치된 청색 보조 스페이싱 블록 (346)을 제1 기판 (1) 상에 형성한다. 일 구현예에서, 청색 레지스트 블록 (106), 청색 메인 스페이싱 블록 (326)을 형성하기 위하여 완전한 광-투과 마스크를 통해 노출을 수행하고, 동시에 제2 컬러 레지스트 층(206) 및 청색 보조 스페이싱 블록 (346)을 형성하기 위하여 부분적인 광-투과 마스크를 통해 노출을 수행한다. 여기서, 부분적인 광-투과 마스크의 투과율은 20%~50% 범위이다.
청색 레지스트 블록 (106), 청색 메인 스페이싱 블록 (326), 청색 보조 스페이싱 블록 (346) 및 제2 컬러 레지스트 층 (206)의 각각의 개수는 다수이고, 매트릭스처럼 배열된다. 도 8은 제1 기판 (1)의 부분적인 상면도이다. 설명을 위한 예시로서 제1 열(row)을 이용하여, 청색 레지스트 블록 (106)은 제2 컬러 레지스트 층 (206)의 오른쪽 측면에 배치된다.
도 9를 참고로 하여, 제2 컬러 레지스트 층 (206)의 높이는 청색 레지스트 블록 (106)의 높이의 2분의 1이고, 제2 컬러 레지스트 층 (206)은 제1 컬러 레지스트 층 (202)의 표면 상에 형성된다. 제2 컬러 레지스트 층 (206) 및 제1 컬러 레지스트 층 (202)는 혼합되어, 광-차단 층 (20)을 형성한다 (도 11 참조). 도 10을 또한 참고로 하여, 청색 메인 스페이싱 블록 (326)의 높이는 청색 레지스트 블록 (106)의 높이와 같고, 청색 메인 스페이싱 블록 (326)은 적색 메인 스페이싱 블록 (322)의 표면 상에 형성되고, 청색 메인 스페이싱 블록 (326) 및 적색 메인 스페이싱 블록 (322)은 적층되어 메인 스페이싱 층 (32)을 형성한다 (도 11 참조). 메인 스페이싱 층의 높이는 3.2 ㎛~3.7㎛의 범위이다. 청색 보조 블록 (346)의 높이는 적색 보조 블록 (342)의 높이와 같다. 청색 보조 스페이싱 블록 (346)은 적색 보조 스페이싱 블록 (342)의 표면 상에 형성된다. 청색 보조 스페이싱 블록 (346) 및 적색 보조 스페이싱 블록 (342)는 적층되어 보조 스페이싱 층 (34)를 형성한다 (도 11 참조). 광-차단 층 (20)의 높이는 단일 컬러 레지스트 층 (10)의 높이와 같다. 보조 스페이서 (34)의 높이는 높이 차를 형성하기 위해 메인 스페이싱 층(32)보다 낮다.
광-차단 영역에 위치된 제2 컬러 레지스트 층 (206) 및 제1 컬러 레지스트 층 (202)은 혼합되어, 흑색으로 나타나는 광-차단 층 (20)을 형성한다. 다른 구현예에서, 본 발명은 또한 광-차단 영역에서 부분적인 광-투과 마스크에 의해 노출하는 녹색 포토레지스트 물질 및 제1 컬러 레지스트 층 (202)의 혼합을 통해, 흑색 광-차단 층을 형성할 수 있다.
본 발명에서, 3개 층의 포토레지스트 물질들을 제1 기판 (1) 상에 순차적으로 코팅하고 노출시키는 단계를 거쳐서, 상기 코팅 및 노출 공정에서, 컬러 레지스트 층들을 혼합하여 광-차단 층 (20)을 형성하고, 컬러 레지스트 층의 적층을 거쳐서 메인 스페이싱 층 (32) 및 보조 스페이싱 층 (34)을 형성한다. 따라서, 제1 기판 (1)을 3번 코팅하고 노출하는 단계를 통해, 컬러 필름 기판이 형성되어, 공정들을 절약하고 제조 비용을 감소시키도록 한다.
단계 4, 액정 (3)을 컬러 필름 기판 상에 적하하고 제2 기판 (2)을 컬러 필름 기판에 부착한다. 제2 기판 (2)의 모서리 영역 및 제1 기판 (1)의 모서리 영역에서, 접착을 위해 프레임 접착제(4)를 이용한다. 제2 기판 (2)은 어레이 기판(array substrate)이다.
본 발명의 제1 구현예에 의해 제공되는 액정 패널을 제조하는 과정들이 적고, 광-차단 영역에 위치된 제1 컬러 레지스트 층 (202) 및 제2 컬러 레지스트 층을 적용하여 혼합하여 광-차단 층(20)을 형성한다. 적색 메인 스페이싱 블록 (322) 및 청색 메인 스페이싱 블록 (326)은 적층되어 메인 스페이싱 층 (32)을 형성한다. 적색 보조 스페이싱 블록 (342) 및 청색 보조 스페이싱 블록 (346)은 적층되어 보조 스페이싱 층 (34)을 형성한다. 따라서, 제조과정은 단순해지고 물질의 비용은 절약된다.
도 11은 본 발명의 제1 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 단면도이다. 상기 도면에서 보여지는 것과 같이, 액정 패널은 적층된 제1 기판 (1) 및 제2 기판 (2) 및 이들 둘 사이에 배치된 액정 (3)을 포함한다. 제1 기판 (1) 및 제2 기판 (2) 사이에, 단일 컬러 레지스트 층 (10), 광-차단 층 (20), 메인 스페이싱 층 (32) 및 보조 스페이싱 층 (34). 제2 기판 (2)의 모서리 영역 및 제1 기판 (1)의 모서리 영역에서, 접착을 위해 프레임 접착제 (4)를 이용한다. 제2 기판 (2)은 어레이 기판이다. 액정 패널은 좋은 효과를 얻을 수 있고 동시에 제조 비용을 절약할 수 있다.
도 12는 본 발명의 제2 구현예에 의해 제공되는 액정 패널의 컬러 필름 기판의 단면도이다. 상기 도면에서 보여지는 것과 같이, 차이점은, 보조 스페이싱 층 (34)가 적색 보조 스페이싱 블록(342), 녹색 보조 스페이싱 블록 (344) 및 청색 보조 스페이싱 블록 (346)의 적층에 의해 형성된다는 것이다. 즉, 보조 스페이싱 층 (34)는 2개의 상이한 색을 갖는 적어도 2개의 포토레지스트 물질들을 적층하여 형성될 수 있다. 물론, 메인 스페이싱 층 (32)은 유사한 디자인을 가질 수 있다. 적색 보조 블록 (342), 녹색 보조 스페이싱 블록 (344) 및 청색 보조 스페이싱 블록 (346)은 단일 포토레지스트 물질의 노출을 위한 부분적인 광-투과 마스크를 이용하여 형성되어, 액정 패널의 제조 공정들이 적고 액정 패널의 물질의 비용을 감소시키도록 한다.
상기 구현예는 본 기술적인 해결방안의 보호 범위의 제한을 구성하지 않는다. 상기 구현예의 본질 및 원리에 기초한 임의의 변형, 균등한 치환 및 개선 또한 본 기술적인 해결방안의 보호 범위 내에 포함되어야 한다.

Claims (18)

  1. 컬러 필름 기판의 제조방법으로서, 상기 제조방법은
    3개의 층의 포토레지스트(photoresist) 물질들을 제1 기판 상에 코팅하고 노출시키는 단계로서, 상기 3개의 층의 포토레지스트 물질들은 각각 적색, 녹색 및 청색인 것인, 단계;
    상기 코팅 및 노출 공정에서, 적색 레지스트 블록(resist block), 녹색 레지스트 블록 및 청색 레지스트 블록이 형성되는 것인, 단계;
    상기 3개의 층의 포토레지스트 물질들 중 2개의 상이한 색의 포토레지스트 물질들의 적층을 통해 광-차단(light-shielding) 층을 형성하는 단계; 및
    상기 3개의 층의 포토레지스트 물질들 중 적어도 2개의 상이한 색의 포토레지스트 물질들의 적층(stacking)을 통해 스페이싱 층(spacing layer)을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 3개의 층의 포토레지스트 물질들을 제1 기판 상에 코팅하고 노출시키는 단계는,
    적색 포토레지스트 물질을 제1 기판 상에 코팅시키고, 상기 제1 기판을 노출시키고 전개시켜, 적색 레지스트 블록, 적색 스페이싱 블록, 및 광-차단 영역에 위치된 제1 컬러 레지스트 층을 형성하는 단계;
    녹색 포토레지스트 물질을 제1 기판 상에 코팅시키고, 상기 제1 기판을 노출시키고 전개시켜, (i) 녹색 레지스트 블록, 또는 (ii) 녹색 레지스트 블록 및 녹색 스페이싱 블록을 형성하는 단계; 및
    청색 포토레지스트 물질을 제1 기판 상에 코팅시키고, 상기 제1 기판을 노출시키고 전개시켜, 청색 레지스트 블록, 청색 스페이싱 블록, 및 상기 광-차단 영역에 위치된 제2 컬러 레지스트 층을 형성하는 단계를 포함하고,
    여기서, 상기 제1 컬러 레지스트 층의 적색 포토레지스트 물질 및 상기 제2 컬러 레지스트 층의 청색 포토레지스트 물질은 상기 광-차단 영역 내에서 적층되어, 광-차단 층을 형성하는 것이고; 상기 청색 스페이싱 블록 및 상기 적색 스페이싱 블록은 적층되어 스페이싱 층을 형성하고,
    상기 스페이싱 층은 교대로 배열된 메인 스페이싱 층 및 보조 스페이싱 층을 포함하는 것이고;
    여기서 상기 메인 스페이싱 층은,
    (i) 완전한 광-투과 마스크를 통해 적색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 적색 메인 스페이싱 블록, 및 완전한 광-투과 마스크를 통해 청색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 청색 메인 스페이싱 블록을 포함하거나,
    (ii) 완전한 광-투과 마스크를 통해 적색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 적색 메인 스페이싱 블록, 완전한 광-투과 마스크를 통해 녹색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 녹색 메인 스페이싱 블록, 및 완전한 광-투과 마스크를 통해 청색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 청색 메인 스페이싱 블록을 포함하고;
    상기 보조 스페이싱 층은,
    (i) 부분적인 광-투과 마스크를 통해 적색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 적색 보조 스페이싱 블록, 및 부분적인 광-투과 마스크를 통해 청색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 청색 보조 스페이싱 블록을 포함하거나,
    (ii) 부분적인 광-투과 마스크를 통해 적색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 적색 보조 스페이싱 블록, 부분적인 광-투과 마스크를 통해 녹색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 녹색 보조 스페이싱 블록, 및 부분적인 광-투과 마스크를 통해 청색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 청색 보조 스페이싱 블록을 포함하고,
    상기 메인 스페이싱 층과 상기 보조 스페이싱 층은 높이 차를 갖는 것인, 컬러 필름 기판의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 적색 레지스트 블록, 상기 녹색 레지스트 블록 및 상기 청색 레지스트 블록은 모두, 노출을 위한 완전한 광-투과(light-transmitting) 마스크의 적용을 통해 형성되는 것인, 컬러 필름 기판의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1 컬러 레지스트 층 및 상기 제2 컬러 레지스트 층은 노출을 위한 부분적인 광-투과 마스크의 적용을 통해 형성되는 것이고, 상기 광-차단 층의 높이 및 상기 적색 레지스트 블록의 높이는 동일한 것인, 컬러 필름 기판의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 메인 스페이싱 층의 높이는 3.2 ㎛~3.7 ㎛의 범위인, 컬러 필름 기판의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 부분적인 광-투과 마스크의 투과율은 20%~50%의 범위인, 컬러 필름 기판의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 광-차단 층은 흑색으로 나타나는 것인, 컬러 필름 기판의 제조방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 메인 스페이싱 층은 노출을 위한 완전한 광-투과 마스크의 적용을 통해, 2개의 상이한 색을 갖는 포토레지스트 물질들의 적층에 의해 형성되는 것인, 컬러 필름 기판의 제조방법.
  8. 액정 패널의 제조방법으로서, 상기 제조방법은
    3개 층의 포토레지스트 물질들을 제1 기판 상에 코팅하고 노출시키는 단계로서, 상기 3개 층의 포토레지스트 물질들은 각각 적색, 녹색 및 청색인 것인, 단계; 상기 코팅 및 노출 공정에서, 적색 레지스트 블록, 녹색 레지스트 블록 및 청색 레지스트 블록이 형성되는 것인, 단계; 상기 3개 층의 포토레지스트 물질들 중 2개의 상이한 색의 포토레지스트 물질들의 적층을 통해 광-차단 층을 형성하는 단계; 및 상기 3개 층의 포토레지스트 물질들 중 적어도 2개의 상이한 색의 상기 포토레지스트 물질들의 적층을 통해 스페이싱 층을 형성하는 단계를 포함하여, 컬러 필름 기판을 제조하는 단계
    액정을 컬러 필름 기판 상에 적하하는(dropping) 단계; 및
    제2 기판을 상기 컬러 필름 기판에 부착하고, 상기 제2 기판의 모서리 영역 및 상기 제1 기판의 모서리 영역을 프레임 접착제(frame adhesive)를 통해 접합시키는 단계를 포함하고,
    상기 3개의 층의 포토레지스트 물질들을 제1 기판 상에 코팅하고 노출시키는 단계는,
    적색 포토레지스트 물질을 제1 기판 상에 코팅시키고, 상기 제1 기판을 노출시키고 전개시켜, 적색 레지스트 블록, 적색 스페이싱 블록, 및 광-차단 영역에 위치된 제1 컬러 레지스트 층을 형성하는 단계;
    녹색 포토레지스트 물질을 제1 기판 상에 코팅시키고, 상기 제1 기판을 노출시키고 전개시켜, (i) 녹색 레지스트 블록, 또는 (ii) 녹색 레지스트 블록 및 녹색 스페이싱 블록을 형성하는 단계; 및
    청색 포토레지스트 물질을 제1 기판 상에 코팅시키고, 상기 제1 기판을 노출시키고 전개시켜, 청색 레지스트 블록, 청색 스페이싱 블록, 및 상기 광-차단 영역에 위치된 제2 컬러 레지스트 층을 형성하는 단계를 포함하고,
    여기서, 상기 제1 컬러 레지스트 층의 적색 포토레지스트 물질 및 상기 제2 컬러 레지스트 층의 청색 포토레지스트 물질은 상기 광-차단 영역 내에서 적층되어, 광-차단 층을 형성하는 것이고; 상기 청색 스페이싱 블록 및 상기 적색 스페이싱 블록은 적층되어 스페이싱 층을 형성하고,
    상기 스페이싱 층은 교대로 배열된 메인 스페이싱 층 및 보조 스페이싱 층을 포함하는 것이고;
    여기서 상기 메인 스페이싱 층은,
    (i) 완전한 광-투과 마스크를 통해 적색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 적색 메인 스페이싱 블록, 및 완전한 광-투과 마스크를 통해 청색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 청색 메인 스페이싱 블록을 포함하거나,
    (ii) 완전한 광-투과 마스크를 통해 적색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 적색 메인 스페이싱 블록, 완전한 광-투과 마스크를 통해 녹색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 녹색 메인 스페이싱 블록, 및 완전한 광-투과 마스크를 통해 청색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 청색 메인 스페이싱 블록을 포함하고;
    상기 보조 스페이싱 층은,
    (i) 부분적인 광-투과 마스크를 통해 적색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 적색 보조 스페이싱 블록, 및 부분적인 광-투과 마스크를 통해 청색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 청색 보조 스페이싱 블록을 포함하거나,
    (ii) 부분적인 광-투과 마스크를 통해 적색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 적색 보조 스페이싱 블록, 부분적인 광-투과 마스크를 통해 녹색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 녹색 보조 스페이싱 블록, 및 부분적인 광-투과 마스크를 통해 청색 포토레지스트 물질의 노출에 의해 형성된 청색 보조 스페이싱 블록을 포함하고,
    상기 메인 스페이싱 층과 상기 보조 스페이싱 층은 높이 차를 갖는 것인, 액정 패널의 제조방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 적색 레지스트 블록, 상기 녹색 레지스트 블록 및 상기 청색 레지스트 블록은 모두, 노출을 위한 완전한 광-투과 마스크의 적용을 통해 형성되는 것인, 액정 패널의 제조방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 제1 컬러 레지스트 층 및 상기 제2 컬러 레지스트 층은 노출을 위한 부분적인 광-투과 마스크의 적용을 통해 형성되는 것이고, 상기 광-차단 층의 높이 및 상기 적색 레지스트 블록의 높이는 동일한 것인, 액정 패널의 제조방법.
  11. 제8항에 있어서, 상기 메인 스페이싱 층의 높이는 3.2 ㎛~3.7 ㎛의 범위인, 액정 패널의 제조방법.
  12. 제8항에 있어서, 상기 부분적인 광-투과 마스크의 투과율은 20%~50%의 범위인, 액정 패널의 제조방법.
  13. 제8항에 있어서, 상기 광-차단 층은 흑색으로 나타나는 것인, 액정 패널의 제조방법.
  14. 제8항에 있어서, 상기 메인 스페이싱 층은 노출을 위한 완전한 광-투과 마스크의 적용을 통해, 2개의 상이한 색을 갖는 포토레지스트 물질들의 적층에 의해 형성되는 것인, 액정 패널의 제조방법.
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 삭제
  18. 삭제
KR1020187034059A 2016-04-26 2016-05-27 컬러 필름 기판의 제조방법 및 액정 패널의 제조방법 KR102170393B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610270239.XA CN105717695A (zh) 2016-04-26 2016-04-26 彩膜基板的制作方法和液晶面板的制作方法
CN201610270239.X 2016-04-26
PCT/CN2016/083648 WO2017185447A1 (zh) 2016-04-26 2016-05-27 彩膜基板的制作方法和液晶面板的制作方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180133519A KR20180133519A (ko) 2018-12-14
KR102170393B1 true KR102170393B1 (ko) 2020-10-28

Family

ID=56161803

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020187034059A KR102170393B1 (ko) 2016-04-26 2016-05-27 컬러 필름 기판의 제조방법 및 액정 패널의 제조방법

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10048531B2 (ko)
JP (1) JP6691974B2 (ko)
KR (1) KR102170393B1 (ko)
CN (1) CN105717695A (ko)
WO (1) WO2017185447A1 (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018218548A1 (zh) * 2017-05-31 2018-12-06 深圳市柔宇科技有限公司 显示面板及显示面板制作方法
US11300875B2 (en) 2020-04-15 2022-04-12 Tcl China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Photoresist, display panel and display device
CN111458977A (zh) * 2020-04-15 2020-07-28 Tcl华星光电技术有限公司 一种光刻胶及其制备的显示面板
CN113253520B (zh) * 2021-04-30 2023-01-24 滁州惠科光电科技有限公司 一种显示面板及显示设备
CN116259079A (zh) * 2021-12-09 2023-06-13 群创光电股份有限公司 电子装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102681067A (zh) * 2011-12-15 2012-09-19 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片及其制备方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW594231B (en) * 2002-11-20 2004-06-21 Hannstar Display Corp A method of utilizing color photoresist to form black matrix and spacers on a control circuit substrate
KR100993101B1 (ko) * 2003-07-10 2010-11-08 엘지디스플레이 주식회사 액정표시패널 및 그 제조방법
KR20070066216A (ko) * 2005-12-21 2007-06-27 삼성전자주식회사 쇼트 패턴, 이를 구비한 컬러 필터 기판과 그 제조 방법 및액정 표시 장치
KR20070078000A (ko) * 2006-01-25 2007-07-30 삼성전자주식회사 칼라 필터 기판 및 이의 제조 방법
KR20080082718A (ko) * 2007-03-09 2008-09-12 엘지디스플레이 주식회사 컬러필터기판 및 그 제조방법
KR20090066459A (ko) * 2007-12-20 2009-06-24 삼성전자주식회사 액정 표시 장치용 컬러 필터 기판 및 그 제조 방법
KR101848827B1 (ko) * 2011-08-04 2018-04-17 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
CN102707354B (zh) * 2011-08-10 2015-12-02 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片及其制造方法及液晶显示装置
CN104597656B (zh) * 2015-02-13 2018-04-06 深圳市华星光电技术有限公司 彩膜基板、制造方法及液晶面板
TWI564597B (zh) * 2015-05-29 2017-01-01 鴻海精密工業股份有限公司 彩色濾光片基板及其製造方法
CN104932139A (zh) * 2015-07-10 2015-09-23 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板的制作方法及其结构
CN105353567B (zh) * 2015-12-02 2019-01-15 深圳市华星光电技术有限公司 采用无黑色矩阵技术的va型液晶显示面板及其制作方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102681067A (zh) * 2011-12-15 2012-09-19 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019515343A (ja) 2019-06-06
KR20180133519A (ko) 2018-12-14
US10048531B2 (en) 2018-08-14
CN105717695A (zh) 2016-06-29
US20180107054A1 (en) 2018-04-19
JP6691974B2 (ja) 2020-05-13
WO2017185447A1 (zh) 2017-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102170393B1 (ko) 컬러 필름 기판의 제조방법 및 액정 패널의 제조방법
WO2011045952A1 (ja) カラーフィルタ基板及び液晶表示装置
JP4381217B2 (ja) 液晶表示パネル、およびその製造方法
CN105739185A (zh) 液晶面板的制作方法和液晶面板
JP2013225033A (ja) 表示装置及びその製造方法
WO2015165185A1 (zh) 柔性液晶面板及其制作方法
US20160103361A1 (en) Color filter, method of fabricating the same and display panel having the same
JPH0493924A (ja) 液晶表示装置
US20140192301A1 (en) Color Filter Substrate, Manufacturing Method Thereof and Liquid Crystal Panel
KR960706103A (ko) 액정 표시장치에 사용되는 칼라필터 제조방법
KR20030007148A (ko) 컬러 필터 기판 및 전기 광학 장치, 컬러 필터 기판의제조 방법 및 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전자 기기
US10852578B2 (en) Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof
CN105974643B (zh) 彩膜基板及其制造方法
US20140146410A1 (en) Liquid Crystal Display Device and Color Filter Substrate Thereof
KR101717653B1 (ko) 액정표시패널
JP2751392B2 (ja) 液晶表示装置
JP5376393B2 (ja) カラーフィルターの製造方法、フォトマスクセット
JP4851651B2 (ja) 液晶表示素子
JP5292859B2 (ja) カラーフィルタ形成基板と液晶パネル
CN106226958B (zh) 一种显示基板及其制作方法、显示装置
JP4720336B2 (ja) 電気光学装置の製造方法及び電気光学装置
WO2007122891A1 (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
JP2008039802A (ja) カラーフィルタ及びそれを用いた液晶表示装置
JPH05203925A (ja) 液晶表示素子
KR20020034285A (ko) 색 필터 기판 및 그 제조 방법, 이를 포함하는 액정 표시장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant