CN105739185A - 液晶面板的制作方法和液晶面板 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板的制作方法，包括：在第一基板上分别涂布及曝光三层光阻材料，所述三层光阻材料的颜色分别为红、绿、蓝，在所述涂布及曝光步骤过程中形成红色阻块、绿色阻块及蓝色阻块，同时，通过所述三层光阻材料之中的两种不同颜色的所述光阻材料的混合形成遮光层，通过所述三层光阻材料之中的至少两种不同颜色的所述光阻材料的堆叠形成隔垫层。本发明还提供了一种液晶面板的制作方法。本发明通过简化彩膜基板的制造过程，减少了液晶面板的制造工序，降低了制造成本。

Description

液晶面板的制作方法和液晶面板
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，特别是涉及一种液晶面板的制作方法及液晶面板。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)包含彩色滤光片基板(ColorFilterSubstrate，CFSubstrate，)和薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorSubstrate，TFTSubstrate)，基板相对内侧存在透明电极。两片基板之间夹一层液晶分子(LiquidCrystal，LC)。液晶显示器是通过电场对液晶分子取向的控制，改变光的偏振状态，并藉由偏光板实现光路的穿透与阻挡，实现显示的目的。
CF基板和TFT基板通过框胶(Sealant)对组，框胶一般由压克力、环氧树脂、光起始剂等组成，通过加热或UV光照射、或者两种兼有的方式实现框胶的固化，使CF基板与TFT基板粘结在一起。
众所周知，TFT-LCD中，需要对液晶进行UV光照进行配向作用，进而使液晶具备显示效用。但整个制程过程中，不可避免的发生液晶与框胶的接触，加之制程中UV光罩的精度以及框胶涂布精度的影响，制程结束后会使得TFT-LCD出现不同程度的边框亮度不均(mura)，如所谓的漏光。经研究，绝大多数的边缘漏光均是由于框胶对液晶发生了污染作用，使得液晶内的反应单体不能够按照制程条件发生反应，造成配向异常所致。
如何能够阻止液晶与胶框接触，解决现有技术中液晶配向异常的问题，同时能够使得液晶面板的制造过程中的工序尽量减少，以节约制造成本，为业界所研究的方向。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种液晶面板的制作方法，能够阻止液晶与胶框接触，解决现有技术中液晶配向异常的问题，同时能够使得液晶面板的制造过程中的工序尽量减少，以节约制造成本。
为了实现上述目的，本发明实施方式提供如下技术方案：
一方面，本发明提供一种液晶面板的制作方法，包括：
在第一基板上涂布黑矩阵材料并曝光形成黑矩阵层，其中：所述第一基板包括显示区域及位于所述显示区域外围的周边区域；
分别涂布及曝光三层光阻材料，以在所述显示区域内制成交错排列的色阻块，且在所述周边区域形成至少一道由至少一层所述色阻块堆叠形成的挡墙；
在所述挡墙内侧滴入液晶；及
将第二基板贴合至所述彩膜基板，在所述第二基板的边缘区域、所述第一基板的边缘区域及所述挡墙的外表面之间形成粘胶区。
进一步，制作所述挡墙的过程中，每一道所述挡墙由三层所述色阻块形成。
进一步，曝光所述三层光阻材料的过程中，按制程的先后顺序三层所述色阻块的截面尺寸逐层递减。
进一步，每层所述色阻块的截面均呈梯形，且所述挡墙的截面亦呈梯形。
进一步，每层所述色阻块的截面均呈矩形，且所述挡墙的截面包括呈台阶状延伸的面对所述粘胶区的外缘。
进一步，曝光所述三层光阻材料的过程中，使用光罩形成所述挡墙，所述光罩包括至少一个狭缝间隙及一个曝光区域，所述至少一个狭缝间隙包围所述曝光区域，曝光的过程中，通过所述狭缝间隙对应形成所述挡墙，通过所述曝光区域对应将所述第一基板制成所述彩膜基板。
另一方面，本发明还提供一种液晶面板，包括层叠设置第一基板和第二基板以及设于二者之间的液晶，所述液晶面板包括显示区域和位于所述显示区域外围的周边区域，其特征在于，所述第一基板和所述第二基板之间还设有呈封闭状的挡墙，所述挡墙设于所述周边区域，所述挡墙包括一层黑矩阵材料制成的包围结构和三层色阻块，所述三层色阻块堆叠设置在所述包围结构上，所述液晶设于所述挡墙内部，在所述第二基板的边缘区域、所述第一基板的边缘区域及所述挡墙的外表面之间形成粘胶区。
进一步，所述挡墙的截面均呈梯形。
进一步，所述挡墙的截面包括呈台阶状延伸的面对所述粘胶区的外缘。
进一步，所述挡墙的数量为两个，且包括内圈挡墙和外圈挡墙，所述两个挡墙共同构成“回”形结构，所述粘胶区设置在所述外圈挡墙的外侧，所述液晶位于所述内圈挡墙的内部。
本发明通过在不额外增加工序的基础上，利用原有三层光阻涂覆同时，增加光罩边缘曝光区域，完成多道液晶挡墙设计，从而达到阻止液晶与框胶接触的效果，解决液晶配向异常的问题，提高产品品质。该液晶面板的制作方法工序较少，操作简单，获得良好预期效果的同时节约制造成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以如这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例一提供的液晶面板的制作方法步骤1对应的剖视图。
图2为本发明实施例一提供的液晶面板的制作方法步骤2对应的剖视图。
图3为本发明实施例一提供的液晶面板的制作方法步骤3对应的剖视图。
图4为本发明实施例一提供的液晶面板的制作方法步骤4对应的剖视图。
图5为本发明实施例一提供的液晶面板的制作方法步骤5对应的剖视图。
图6为本发明实施例二提供的液晶面板。
图7为本发明实施例三提供的液晶面板。
图8为本发明实施例三提供的液晶面板使用的双间隙光罩示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施方式中的附图，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述。
请参阅图1至图5，本发明实施例一提供的一种液晶面板的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、在第一基板10上涂布黑矩阵材料，第一基板10包括显示区域100及位于显示区域100外围的周边区域200；通过光罩60对黑矩阵材料进行曝光，以在第一基板10上形成黑矩阵层102。
步骤2、通过分别依次涂布及曝光红光阻材料、绿光阻材料、蓝光阻材料，在显示区域100对应形成第一色阻块104、第二色阻块106、第三色阻块108，将第一基板10制成彩膜基板，同时在周边区域200形成三层堆叠设置的色阻块，分别为红色阻块204、绿色阻块206、蓝色阻块208。三层色阻块堆叠构成挡墙210。。本发明不对红光阻材料、绿光阻材料、蓝光阻材料的涂布顺序做限定，涂布一层光阻材料后，就对这层光阻材料进行曝光显影，以形成相应的色阻块，再在色阻块的表面涂布另一层光阻材料，并对其进行曝光显影。光罩60包括边缘狭缝间隙602及曝光区域606，一种实施方式中，通过光罩60的狭缝间隙602在第一基板10上对应依次形成红色阻块204、绿色阻块206及蓝色阻块208，通过曝光区域606将第一基板10制成彩膜基板。本发明是在制作彩膜基板的位于显示区域100的色阻层的同时，在周边区域200同时形成色阻块，且通过色阻块的堆叠形成挡墙210。
上述挡墙210包含的色阻块的层数并不限制为三层，，也可以是一层或两层，挡墙210包含的色阻块的层数由曝光各光阻材料时所使用的光罩60的边缘狭缝间隙602决定。当挡墙是通过三层色阻块堆叠形成时，在依次曝光三种光阻材料的过程中使用的光罩60设有位置相同的狭缝间隙602，得到的挡墙210由红色阻块204、绿色阻块206及蓝色组块208堆叠而成；当挡墙是通过两层色阻块堆叠形成时，在依次曝光三种光阻材料的过程中，其中两次使用的光罩60设有位置相同的狭缝间隙602，另一次曝光使用的光罩60无相同位置处的狭缝间隙602，例如曝光红光阻材料与绿光阻材料时使用的光罩60设有相同位置的狭缝间隙602，曝光蓝光阻材料时使用的光罩60无处于该位置的狭缝间隙602，得到的挡墙210由红色阻块204与绿色阻块206堆叠而成；当挡墙是通过一层色阻块形成的时，在依次曝光三种光阻材料的过程中，其中一次使用设有狭缝间隙602的光罩60，另外两次曝光均使用无狭缝间隙602的光罩60，例如曝光红光阻材料时使用的光罩60设有狭缝间隙602，曝光绿光阻材料与蓝光阻材料时使用的光罩60无狭缝间隙602，得到的挡墙210由红色阻块204形成，不存在堆叠的结构，只需将一层色阻块的高度制作合适即可。
步骤3、在彩膜基板上制作间隔柱50，间隔柱50分布在显示区域100内。间隔柱50的高度可以高于或等于挡墙210的高度。间隔柱50包括两种不同高度的柱体，分别为主间隔柱和副间隔柱，间隔柱50分布在显示区域100，且分布在黑矩阵层上，用于在彩膜基板和阵列基板之间起支撑作用。
步骤4、在挡墙210内侧滴入液晶30。
步骤5、将第二基板20(即阵列基板)贴合至彩膜基板，在第二基板20的边缘区域、第一基板10的边缘区域及挡墙210的外表面之间形成粘胶区，通过框胶40将第一基板10与第二基板20粘结在一起。具体的，曝光红光阻材料、绿光阻材料、蓝光阻材料的过程中，按制程的先后顺序三层色阻的截面尺寸逐层递减；红色阻块204、绿色阻块206、蓝色阻块208的截面均呈梯形，且挡墙210的截面亦呈梯形。
通过在粘胶区以内的周边区域200形成挡墙210，该挡墙21可以位于黑矩阵层形成的包围结构202上，也可以不位于黑矩阵层形成的包围结构202上，在此不作限制，其有效的防止了液晶30与框胶40的接触，解决了液晶30配向异常的问题。同时实施例一提供的一种液晶面板的制作方法工序较少，操作简单，获得良好预期效果的同时节约制造成本。
图6为本发明实施例二提供的液晶面板，如图所示，本实施例与实施例一的区别在于，红色阻块204、绿色阻块206及蓝色阻块208的截面均呈矩形，且挡墙210的截面包括呈台阶状延伸的面对所述粘胶区的外缘。台阶状的结构增强了挡墙210的强度，更有效的防止了液晶30发生穿透。
本发明的挡墙210的数量可以为一个，也可以为多个，挡墙的具体数量根据产品规格设定。由于挡墙210由通过光罩60的狭缝间隙602曝光形成的色阻块堆叠形成，挡墙210的个数由光罩60设有的狭缝间隙602的个数控制。当涂布的光阻材料为负性光阻时，通过每一个狭缝间隙602的曝光都可以将光阻材料转化成色阻块并依次堆叠形成挡墙210，光罩60设有的狭缝间隙602的个数即为挡墙210的个数。
图7为本发明实施例三提供的液晶面板，如图所示，本实施例与实施例一的区别在于，挡墙210的数量为两个，且包括内圈挡墙2102和外圈挡墙2104，两个挡墙210共同构成“回”形结构，粘胶区设置在外圈挡墙2104的外侧，液晶30位于内圈挡墙2102的内部。一种实施方式中，将第一基板10制成彩膜基板后，在彩膜基板的表面涂布氧化铟锡(即ITO涂层)。
图8为制造实施例三提供的液晶面板使用的双间隙光罩70，如图所示，光罩70包括内狭缝间隙702、外狭缝间隙704及曝光区域706。内狭缝间隙702与外狭缝间隙704共同构成“回”形结构。依次涂布及曝光黑色矩阵材料及三层光阻材料的过程中，通过内狭缝间隙702在第一基板10的周边区域200上对应形成内圈挡墙2102；通过外狭缝间隙704在第一基板10的周边区域200上对应形成内圈挡墙2104；通过曝光区域706在第一基板10的显示区域100上对应形成第一色阻块104、第二色阻块106、第三色阻块108，将第一基板10制成彩膜基板。双间隙光罩70上多道狭缝间隙的设计可以在不增加工序的基础上完成多道挡墙210的制作，更有效的将液晶30与框胶40区隔开来，解决液晶30配向异常的问题，提高产品品质。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种液晶面板的制作方法，其特征在于，包括：
在第一基板上涂布黑矩阵材料并曝光形成黑矩阵层，其中：所述第一基板包括显示区域及位于所述显示区域外围的周边区域；
分别涂布及曝光三层光阻材料，以在所述显示区域内制成交错排列的色阻块，且在所述周边区域形成至少一道由至少一层所述色阻块堆叠形成的挡墙；
在所述挡墙内侧滴入液晶；及
将第二基板贴合至所述彩膜基板，在所述第二基板的边缘区域、所述第一基板的边缘区域及所述挡墙的外表面之间形成粘胶区。
2.如权利要求1所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，制作所述挡墙的过程中，每一道所述挡墙由三层所述色阻块形成。
3.如权利要求2所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，曝光所述三层光阻材料的过程中，按制程的先后顺序三层所述色阻块的截面尺寸逐层递减。
4.如权利要求3所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，每层所述色阻块的截面均呈梯形，且所述挡墙的截面亦呈梯形。
5.如权利要求3所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，每层所述色阻块的截面均呈矩形，且所述挡墙的截面包括呈台阶状延伸的面对所述粘胶区的外缘。
6.如权利要求1所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，曝光所述三层光阻材料的过程中，使用光罩形成所述挡墙，所述光罩包括至少一个狭缝间隙及一个曝光区域，所述至少一个狭缝间隙包围所述曝光区域，曝光的过程中，通过所述狭缝间隙对应形成所述挡墙，通过所述曝光区域对应将所述第一基板制成所述彩膜基板。
7.一种液晶面板，包括层叠设置第一基板和第二基板以及设于二者之间的液晶，所述液晶面板包括显示区域和位于所述显示区域外围的周边区域，其特征在于，所述第一基板和所述第二基板之间还设有呈封闭状的挡墙，所述挡墙设于所述周边区域，所述挡墙包括至少一层色阻块，所述液晶设于所述挡墙内部，在所述第二基板的边缘区域、所述第一基板的边缘区域及所述挡墙的外表面之间形成粘胶区。
8.如权利要求7所述的液晶面板，其特征在于，所述挡墙的截面呈梯形。
9.如权利要求7所述的液晶面板，其特征在于，所述挡墙的截面包括呈台阶状延伸的面对所述粘胶区的外缘。
10.如权利要求7任意一项所述的液晶面板，其特征在于，所述挡墙的数量为两个，且包括内圈挡墙和外圈挡墙，所述两个挡墙共同构成“回”形结构，所述粘胶区设置在所述外圈挡墙的外侧，所述液晶位于所述内圈挡墙的内部。
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