JPH1090693A - 液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 表示領域の大きさを変えずに小型化するのに
適した液晶表示素子を提供する。 【解決手段】 額縁遮光層として絶縁物質を用い、かつ
シール材形成領域をまたがった形状で額縁状遮光層を形
成するので、シール領域と額縁遮光層との合わせ精度を
考慮しなくて良い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】特開平６−３０８５０６号には、シール
材形成領域をまたがって額縁状遮光層が配置された構造
の液晶表示素子が記載されている。この液晶表示素子
は、シール材形成領域に着色層パターンを形成しない構
成とすることにより、着色層の厚さが基板毎に異なって
も常に、シール材形成領域と表示領域のそれぞれのギャ
ップを常に一定に保つものであり、シール材形成領域と
表示領域それぞれのギャップを保持するためのスペーサ
は異なっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この場
合においても着色層の厚さが基板毎に異なれば、表示領
域のセルギャップは常に一定に保たれるものの、シール
材形成領域のセルギャップは変化してしまい、表示領域
のセルギャップと基板周辺部のセルギャップの違いによ
る基板周辺部の表示不良が発生する可能性がある。本発
明は、上記事情に鑑みなされたもので、基板外周部の非
表示領域を狭くするのに最適な構造の液晶表示素子を提
供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の特許請求の範囲
第１項に示す液晶表示装置は、外周部に配置されるシー
ル材を介して対向配置される第１及び第２基板の間隙に
光学変調層を備えており、前記第１の基板、第２の基板
のいづれか一方に有機物質からなる額縁状遮光層が形成
され、前記額縁状遮光層が前記シール材形成領域をまた
がって形成されていることを特徴とする。

【０００５】本発明では、額縁状遮光層として絶縁物質
である有機物質を用いることにより、シール材形成領域
をまたがって額縁遮光層が形成されても、絶縁物質であ
る額縁遮光層の外側周縁部と、額縁遮光層が形成された
基板と対向する基板上の電極との間の短絡を防止でき
る。同様の構造で額縁遮光層としてクロム等の導電性の
物質を用いた場合、額縁遮光層上には対向電極が重なっ
て形成されているため、シール材形成領域の外側に形成
された額縁状遮光層部分と、シール材形成領域の外側に
形成されたアレイ基板上の電極を駆動させるための駆動
回路との接続のための配線との間で短絡を起こす可能性
が高くなる。短絡が生じた場合、表示領域の液晶層に適
当な電圧を印加できなくなり、表示不良の原因となる可
能性が高い。そのためシール領域内に額縁遮光層の外周
周縁部が形成されるようにしなければならず、これでは
小型化を実現するには不適当な構造になってしまう。

【０００６】また、一般に着色層は有機樹脂からなるた
め、額縁状遮光層と着色層の厚さはほぼ同一の厚さに形
成することが可能となる。従って、本請求項記載の液晶
表示素子ではシール領域には着色層は形成されないた
め、２枚の基板を対向配置したときの表示領域の基板間
距離とシール領域における基板間距離はほぼ等しくな
り、基板間距離を保持するためのスペーサの大きさを表
示画素領域とシール領域とで変更する必要が無く、基板
間距離の制御、さらには液晶膜厚の均一性の確保が容易
となる。

【０００７】本発明では絶縁物質である額縁状遮光層を
用いることにより、シール材形成領域をまたがって額縁
遮光層を形成することが可能となり、このような構造を
とることにより非表示領域を狭くすることが可能とな
る。また、遮光層材料としては、有機樹脂の他、酸化ク
ロム等の酸化金属等の絶縁性物質を用いることもできる
が、額縁状遮光層として有機樹脂を用いることにより、
クロムや酸化クロム等を用いて形成した場合と比較し、
真空成膜装置が必要でなくなるため低コストで製造で
き、更には２枚の基板を対向配置したときの表示領域の
基板間距離とシール領域における基板間距離はほぼ等し
くなり、基板間距離を保持するためのスペーサの大きさ
を表示画素領域とシール領域とで変更する必要が無くな
る。額縁遮光層形成領域のＯＤ値は３．０以上、さらに
は３．５以上が望ましい。

【０００８】特許請求の範囲第２項に記載される液晶表
示素子は、前記額縁状遮光層が形成された基板上に、額
縁状遮光層の内周周縁部と重なるように額縁状遮光層の
内側の領域に着色層が形成されていることを特徴とする
請求項１記載の液晶表示素子である。額縁状遮光層の内
周周縁部と重なるように着色層を形成することにより、
この重なり合う領域は、額縁状遮光層のみの場合と比べ
光透過率を低くすることができ、表示領域の外周部から
の光もれをより一層確実に防止する。

【０００９】特許請求の範囲第３項に記載される液晶表
示素子は、着色層と額縁状遮光層との厚みの差が、前記
画素電極と前記対向電極とで形成される表示領域におけ
る前記第１の基板と第２の基板間の基板間距離の３０％
以内であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素
子である。着色層と額縁状遮光層との厚みとの差を基板
間距離の３０％、更には２５％以内にすることにより、
液晶表示素子とした時の表示領域外周部の表示むらの発
生を防止できる。液晶表示素子では、３０％より大きく
なると、液晶層厚に局部的変動が生じ、この結果透過率
の差による表示むらが生じる。

【００１０】特許請求の範囲第４項に記載される液晶表
示素子は、着色層と額縁状遮光層とが重なった厚みと着
色層の厚みとの差が、前記画素電極と前記対向電極とで
形成される表示領域における前記第１の基板と第２の基
板間の基板間距離の３０％以内であることを特徴とする
請求項２記載の液晶表示素子である。着色層と額縁状遮
光層とが重なった厚みと着色層の厚みとの差を基板間距
離の３０％更には２５％以内にすることにより、液晶表
示素子とした時の表示領域外周部の表示むらの発生を防
止できる。液晶表示素子では、３０％より大きくなる
と、液晶層厚に局部的変動が生じ、この結果透過率の差
による表示むらが生じる。

【００１１】特許請求の範囲第５項に記載される液晶表
示素子は、額縁状遮光層が形成された基板上に、額縁状
遮光層の内側に着色層が形成され、着色層はシール材形
成領域をまたがって額縁状遮光層上に形成され、着色層
と額縁状遮光層とが重なった厚みと着色層の厚みとの差
が、前記画素電極と前記対向電極とで形成される表示領
域における前記第１の基板と第２の基板間の基板間距離
の３０％以内であることを特徴とする液晶表示素子であ
る。たとえシール材形成領域で着色層と額縁状遮光層が
重なっていても、着色層と額縁状遮光層とが重なった厚
みと着色層の厚みとの差を基板間距離の３０％更には２
５％以内にすることにより、液晶表示素子とした時の表
示領域外周部の表示むらの発生を防止することが可能と
なる。液晶表示素子では、３０％より大きくなると、液
晶層厚に局部的変動が生じ、この結果透過率の差による
表示むらが生じる。有機樹脂を用いて額縁状遮光層を形
成した場合、遮光性を得るために有機樹脂中に黒色顔料
やカーボンブラックや赤、青、緑等の顔料を混合したも
のを分散させるが、十分な黒を得ることが比較的難し
い。このため、着色層と額縁状遮光層とを重なり合わせ
ることにより、この重なり合う領域は、額縁状遮光層の
みの場合と比べ、光透過率を低くすることができ、表示
領域の外周部からの光もれをより一層確実に防止し、液
晶表示素子のコントラストを向上することができる。額
縁遮光層形成領域のＯＤ値は３．０以上、さらには３．
５以上が望ましく、例えば、額縁遮光層のみのＯＤ値が
３．０、これに青色着色層を積層した場合、全体で３．
５のＯＤ値となり、額縁遮光層のみと比べＯＤ値があが
る。この重なり合う領域の着色層の色は単色あるいは複
数色でもよいが、赤色、緑色と比べ青色を重ねた場合が
もっとも遮光効果があがる。

【００１２】特許請求の範囲第６項に記載される液晶表
示素子は、画素電極と対向電極とで形成される表示領域
における第１の基板と第２の基板間との基板間距離を保
持するためのスペーサ径と、シール材形成領域に形成さ
れているスペーサ径とがほぼ同じであることを特徴とす
る請求項１乃至４記載の液晶表示素子である。表示領域
におけるスペーサ径とシール材形成領域に形成されるス
ペーサ径とがほぼ同じであるので、１回のスペーサ形成
工程のみで表示領域及びシール材形成領域のスペーサを
形成することができる。従って、シール材形成領域の基
板間距離制御が容易となる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の１つ
を図１、図２、図３を用いて説明する。図１は液晶表示
素子２０のシール材形成領域９と額縁状遮光層３との位
置関係を示す概略平面図である。図２は図１の線Ａ−Ａ
´で切ったときの縦断面図、図３は図１の線Ｂ−Ｂ´で
切ったときの縦断面図を示す。

【００１４】図１、２、３に示すように、液晶表示素子
２１は、アレイ基板１９と対向基板２０とを対向配置さ
せ、両基板間に液晶１０を狭持して形成される。２枚の
基板は基板外周部に形成されたシール材９により貼りあ
わさっている。アレイ基板１９は、第１の基板２上に、
交差するように形成された複数の信号線（図示せず）と
複数の走査線（図示せず）、これら走査線と信号線との
各交差部毎にスイッチング素子（図示せず）およびこの
スイッチング素子に電気的に接続して形成された複数の
画素電極１７が形成され、更に配向膜８が形成されてな
る。一方、対向基板２０は、第２の基板１上に、カラー
表示するための着色層５がストライプ状に形成され、こ
れら着色層同士の間隙部に黒色有機樹脂からなる遮光層
４が格子状に、基板外周部には黒色樹脂からなる額縁状
に額縁状遮光層３が形成されている。更に、対向電極
７、配向膜８が形成されており、額縁状遮光層３はシー
ル材形成領域９をまたがった形状で形成されている。

【００１５】次にこの液晶表示素子の製造方法について
具体的に説明する。第１の基板２として絶縁基板上に、
複数の走査線を形成した。その上に、絶縁膜を形成し、
走査線と直交するように複数の信号線を形成し、これら
走査線と信号線との交差部毎にスイッチング素子、この
スイッチング素子毎に画素電極１７を形成し、ポリイミ
ドを塗布、焼成後配向処理を行って配向膜を形成してア
レイ基板１９を作成した。

【００１６】次に、第２の基板１として絶縁基板上に感
光性の黒色樹脂をスピンナーを用いて塗布し９０℃１０
分の乾燥後、額縁状遮光層パターンと表示領域上に形成
される格子状の遮光層パターンの形状に開口したフォト
マスクを用いて３６５ｎｍの波長で、３００ｍＪ／ｃｍ
２の露光量で露光した。この後、ｐＨ１１．５のアルカ
リ水溶液にて現像し、２００℃で６０分間焼成して約
１．０μｍの厚さの額縁状遮光層３と表示領域上の遮光
層４を形成した。次に、赤色顔料を分散させた紫外線硬
化型アクリル樹脂レジストＣＲ−２０００（商品名、富
士ハントテクノロジー（株）製）をスピンナーにて全面
塗布し、赤色着色層５Ｒのストライプパターン形状に開
口したフォトマスクを介して３６５ｎｍの波長で１００
ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光した。その後、ＫＯＨの１
％水溶液で１０秒間現像し、２３０℃、１時間の焼成に
て膜厚１．０μｍの着色層５Ｒを形成した。同様に、膜
厚１．０μｍの緑、青の着色層５Ｇ，５Ｂを形成した。
ここでは、緑の着色材料はＣＧ−２０００（富士ハント
テクノロジー（株）製）、青の着色材料はＣＢ−２００
０（富士ハントテクノロジー（株）製）を用いた。着色
層５の一部は、額縁遮光層３の内周周縁部と重なるよう
に形成した。その後、全面にアクリル樹脂をスピンナー
にて塗布し、膜厚１．０μｍの保護膜６を形成した。保
護膜６形成後、ＩＴＯ膜をスパッタ法にて成膜し、１３
００オングストロームの対向電極７を形成し、次に全面
にラビング処理を行ったポリイミドからなる膜厚８００
オングストロームの配向膜８を形成して対向基板２０を
得た。保護膜６は額縁遮光層３形成領域までほぼ覆うよ
うに形成し、対向電極７、配向膜８はシール形成領域の
内側に配置されるように形成した。対向電極７は、基板
外周部の一部に、額縁遮光層をまたがって形成された引
き出し電極（図示せず）を有する。

【００１７】次に、対向基板の外周部、詳しくは対向基
板１９の配向膜８の周辺に沿って額縁状遮光層３上に、
シール材を液晶注入口２２をのぞいて印刷した。このと
き、引き出し電極はシール材形成領域の外側に配置され
るようにシール材を形成した。対向基板には、アレイ基
板２０上に配置する回路から対向電極７に電圧を印加す
るための電極転移材（図示せず）を引き出し電極上に形
成し、２枚の基板間距離を保持するための直径５．３μ
ｍのスペーサ１２を基板上に散布した。

【００１８】次に、両基板の配向膜８のラビング方向が
９０°になるように対向配置し、加熱してシール材を硬
化させて両基板を貼り合わせた。液晶注入口から、液晶
組成物としてＺＬ１−１５６５（Ｅ．メルク社製）にＳ
８１１（Ｅ．メルク社製）を０．１重量％添加したもの
を両基板間に注入し液晶層１０を形成し、この後液晶注
入口を紫外線硬化樹脂で封止して液晶表示素子を得た。

【００１９】本実施形態では、絶縁物質である有機樹脂
を額縁状遮光層に用いることにより、シール材形成領域
をまたがって額縁遮光層を形成することができるので、
シール領域と額縁遮光層端との合わせ精度を考慮しなく
ても良い。これにより、非表示領域を狭くすることが可
能となり、表示領域大きさを変えずに小型が可能とな
る。更には、絶縁物質である有機樹脂を額縁状遮光層に
用いることにより、２枚の基板を対向配置したときの表
示領域の基板間距離とシール領域における基板間距離は
ほぼ等しくなり、基板間距離を保持するためのスペーサ
の大きさを表示画素領域とシール領域とで変更する必要
が無くなる。

【００２０】また、本実施形態では、着色層と額縁状遮
光層とを重なり合わせることにより、この重なり合う領
域は、額縁状遮光層のみの場合と比べ、光透過率を低く
することができ、表示領域の外周部からの光もれをより
一層確実に防止し、液晶表示素子のコントラストを向上
することができる。また、対向電極、配向膜の厚さは、
額縁遮光層、着色層と比較し十分に薄く、また、シール
領域には着色層は形成されないため、図２に示すよう
に、２枚の基板を対向配置したときの表示領域の基板間
距離ｂとシール領域における基板間距離ａはほぼ等しく
なる。これにより、シール材形成領域９における基板間
距離を保持するスペーサ１１と表示領域の基板間距離を
保持するスペーサ１２は、同じスペーサ径のものを使用
することができ、シール材に他の径のスペーサを混入す
ることなく、スペーサ散布の工程のみで表示領域及びシ
ール材形成領域の両方の基板間距離を制御することも可
能となる。従って、シール材形成領域の基板間距離の制
御が容易となる。

【００２１】更に、本実施形態では、着色層と額縁上遮
光層とが重なった厚みは２．０μｍ、着色層の厚みは
１．０μｍとなり、その差は１．０μｍとなる。この差
を基板間距離５．０μｍの３０％以内である２０％と設
定したことにより、液晶表示素子とした時の表示領域外
周部の表示むらの発生を防止できる。

【００２２】尚、本実施形態では、対向基板上に保護膜
を形成しているが、保護膜が形成されていなくとも同様
の効果を得ることができる。保護膜を形成している場
合、保護膜は額縁遮光層、着色層とほぼ同様の膜厚で形
成されるため、このような効果を得るためには、額縁遮
光層上にも保護膜を形成したほうが良いが、シール材領
域に保護膜が形成されていなくとも、額縁状遮光層の厚
さと着色層及び保護膜が重なり合った厚さの差が、表示
領域の基板間距離の３０％以内であれば、表示領域外周
の表示むらの発生を防止できる。

【００２３】次に、本発明の他の実施形態を図１、図４
を用いて説明する。本実施の形態は上記実施の形態のう
ち、着色層と額縁遮光層との位置関係、基板間距離を保
持するために用いるスペーサの種類を変えたものであ
る。なお、図１は液晶表示素子２１の平面図、図４は図
１の線Ａ−Ａ´で切ったときの縦断面図を示す。

【００２４】図４に示すように、本実施形態の液晶表示
素子２１は、アレイ基板１９と対向基板２０とを対向配
置させ、両基板間に液晶１０を狭持して形成される。２
枚の基板は基板外周部に形成されたシール材９により貼
りあわさっている。アレイ基板１９は、第１の基板２上
に、交差するように形成された複数の走査線（図示せ
ず）、これら走査線と信号線との各交差部毎にスイッチ
ング素子（図示せず）およびこのスイッチング素子に電
気的に接続して形成された複数の画素電極１７が形成さ
れ、更に配向膜８が全面に形成されてなる。一方、対向
基板２０は、第２の基板１上に、カラー表示するための
着色層５がストライプ状に形成され、これら着色層同士
の間隙部に黒色有機樹脂からなる遮光層４が格子状に、
基板外周部には黒色樹脂からなる額縁状に額縁状遮光層
３が形成されている。更に、対向電極７、配向膜８が形
成されており、額縁状遮光層３はシール材形成領域９を
またがった形状で形成されている。着色層と額縁状遮光
層とは重なりあわずに接触して形成されている。

【００２５】本実施形態では、上記実施形態と同様に、
額縁遮光層として絶縁物質を用いることにより、シール
材形成領域をまたがって遮光層を形成することができ
る。これにより、非表示領域を狭くすることが可能とな
り、表示領域大きさを変えずに小型化が可能となる。

【００２６】また、柱状スペーサ１３、１４はそれぞれ
シール材形成領域９、表示領域に形成されたスペーサで
あり、それぞれスペーサ用着色層１４Ｒ（赤）、１４Ｇ
（緑）、１４Ｂ（青）が積層、１３Ｒ（赤）、１３Ｇ
（緑）、１３Ｂ（青）が積層されて形成されている。こ
れらスペーサ用着色層は、着色層５の形成と同一工程で
形成されたものであり、スペーサ散布した場合とくら
べ、任意の位置にスペーサを形成でき、かつスペーサ散
布工程が削除できるというメリットがある。

【００２７】また、本実施の形態ではシール材形成領域
と着色層と額縁状遮光層との厚みの差をほぼ０にして差
を基板間距離の３０％以内にすることにより、液晶表示
素子とした時の表示領域外周部の表示むらの発生を防止
できる。

【００２８】更に、本発明の他の実施形態を図１、図５
を用いて説明する。本実施の形態は上記実施の形態のう
ち、着色層と額縁遮光層との位置関係を変えたものであ
る。なお、図１は液晶表示素子２１の平面図、図５は図
１の線Ａ−Ａ´で切ったときの縦断面図を示す。

【００２９】図５に示すように、本実施形態の液晶表示
素子２１は、アレイ基板１９と対向基板２０とを対向配
置させ、両基板間に液晶１０を狭持して形成される。２
枚の基板は基板外周部に形成されたシール材９により貼
りあわさっている。アレイ基板１９は、第１の基板２上
に、交差するように形成された複数の走査線（図示せ
ず）、これら走査線と信号線との各交差部毎にスイッチ
ング素子（図示せず）およびこのスイッチング素子に電
気的に接続して形成された複数の画素電極１７が形成さ
れ、更に配向膜８が全面に形成されてなる。一方、対向
基板２０は、第２の基板１上に、カラー表示するための
着色層５がストライプ状に形成され、これら着色層同士
の間隙部に黒色有機樹脂からなる遮光層４が格子状に、
基板外周部には黒色樹脂からなる額縁状に額縁状遮光層
３が形成されている。更に、額縁状遮光層の内側に着色
層が形成され、着色層はシール材形成領域をまたがって
額縁状遮光層上に形成されている。

【００３０】このように額縁状遮光層上にも着色層が形
成されることにより、額縁状遮光層の内周周縁部のみが
着色層と重なり合う場合とくらべ、非表示領域のほぼ全
ての領域の光透過率を、額縁状遮光層のみの場合と比べ
低くすることができ、表示領域の外周部からの光もれを
より一層確実に防止し、液晶表示素子のコントラストを
向上することができる。また、この場合、シール材形成
領域で着色層と額縁状遮光層が重なっていても、着色層
と額縁状遮光層とが重なった厚みと着色層の厚みとの差
を基板間距離の３０％更には２５％以内にすることによ
り、液晶表示素子とした時の表示領域外周部の表示むら
の発生を防止することが可能となる。

【００３１】

【発明の効果】本発明では、額縁遮光層として絶縁物質
を用いることにより、シール材形成領域をまたがって遮
光層を形成することができるのでシールと額縁遮光層端
との合わせ精度を考慮しなくてよい。これにより、非表
示領域を狭くすることが可能となって、表示領域大きさ
を変えずに小型化が可能となる。そして、絶縁物質とし
て有機樹脂を用いることにより、２枚の基板を対向配置
したときの表示領域の基板間距離とシール領域における
基板間距離はほぼ等しくなり、基板間距離を保持するた
めのスペーサの大きさを表示画素領域とシール領域とで
変更する必要が無くなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶表示素子の概略平面図。

【図２】図１の線Ａ−Ａ´で切った時の本発明の実施形
態の１つである液晶表示素子の縦断面図。

【図３】図１の線Ｂ−Ｂ´で切った時の本発明の実施形
態の１つである液晶表示素子の縦断面図。

【図４】図１の線Ａ−Ａ´で切った時の本発明の他の実
施形態の１つである液晶表示素子の縦断面図。

【図５】図１の線Ａ−Ａ´で切った時の本発明の更に他
の実施形態の１つである液晶表示素子の縦断面図。

【符号の説明】

１…第２の基板 ２…第１の基板 ３…額縁状遮光層 ４…遮光層 ５…着色層 ６…保護膜 ７…対向電極 ８…配向膜 ９…シール材 １０…液晶 １１…シール材形成領域上のスペーサ １２…表示領域上のスペーサ １３…シール材形成領域上の柱状スペーサ １４…表示領域上の柱状スペーサ １７…画素電極 １９…アレイ基板 ２０…対向基板 ２１…液晶表示素子

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 外周部に配置されるシール材を介して対
   向配置される第１及び第２基板の間隙に光学変調層を備
   えた液晶表示素子において、前記第１の基板、第２の基
   板のいづれか一方に有機物質からなる額縁状遮光層及び
   前記額縁状遮光層の内側の領域に着色層が形成され、前
   記額縁状遮光層が前記シール材形成領域をまたがって形
   成されていることを特徴とする液晶表示素子。
2. 【請求項２】 前記額縁状遮光層が形成された基板上に
   は、前記額縁状遮光層の内周周縁部と重なるように前記
   着色層が形成されていることを特徴とする請求項１記載
   の液晶表示素子。
3. 【請求項３】 前記着色層の厚みと前記額縁状遮光層の
   厚みとの差が、前記額縁状遮光層の内側の領域における
   前記第１の基板と第２の基板間の基板間距離の３０％以
   内であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素
   子。
4. 【請求項４】 前記着色層と額縁状遮光層が重なった厚
   みと前記着色層の厚みとの差が、前記額縁状遮光層の内
   側の領域における前記第１の基板と第２の基板間の基板
   間距離の３０％以内であることを特徴とする請求項２記
   載の液晶表示素子。
5. 【請求項５】 外周部に配置されるシール材を介して対
   向配置される第１及び第２基板の間隙に光学変調層を備
   えた液晶表示素子において、前記第１の基板、第２の基
   板のいづれか一方に絶縁物質からなる額縁状遮光層が前
   記シール材形成領域をまたがって形成され、前記額縁状
   遮光層の内側に着色層が形成され、前記着色層は、前記
   シール材形成領域をまたがって額縁状遮光層上に形成さ
   れ、前記着色層と額縁状遮光層が重なった厚みと前記着
   色層の厚みとの差が、前記額縁状遮光層における前記第
   １の基板と第２の基板間の基板間距離の３０％以内であ
   ることを特徴とする液晶表示素子。
6. 【請求項６】 前記額縁状遮光層と前記画素電極と前記
   対向電極とで形成される表示領域における前記第１の基
   板と第２の基板間との基板間距離を保持するためのスペ
   ーサの高さと、シール材形成領域に配置されているスペ
   ーサ高さとがほぼ同じであることを特徴とする請求項１
   乃至４いづれか１つ記載の液晶表示素子。