JP2000089233A

JP2000089233A - 液晶表示素子及びその製造方法

Info

Publication number: JP2000089233A
Application number: JP10260670A
Authority: JP
Inventors: Masami Kido; 政美城戸
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1998-09-14
Filing date: 1998-09-14
Publication date: 2000-03-31

Abstract

(57)【要約】【課題】工程数や露光マスクの増加を伴わず、表示品
位を低下させないで、感光性高分子材料からなるスペー
サーを所望の位置に制御性良く形成する。【解決手段】カラーフィルタ基板上の着色層１１の一
部又はブラックマトリクス１２の一部に開口部１３を設
け、感光性高分子材料１４ａを塗布して基板側から露光
することにより、その開口部１３上にスペーサー１４を
形成する。ＡＳＭモードの液晶表示素子に対しても適用
可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、テレビジ
ョンセット、パーソナルコンピュータ、ワードプロセッ
サ、ＯＡ（ＯｆｆｉｃｅＡｕｔｏｍａｔｉｏｎ）機器
などの表示装置に用いられる、カラー表示が可能な液晶
表示素子及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子においてカラー表示を行う
ためには、液晶層を挟んで対向配置される一対の基板の
うちの一方をカラーフィルタ基板とするのが一般的であ
る。このカラーフィルタ基板は、通常、ガラスや透明樹
脂等からなる透明基板上に赤、青、緑の３色からなるス
トライプ状またはドット状の着色層を画素領域に対応さ
せて配置し、それらの境界を黒色材料からなるブラック
マトリクスで遮光したものである。

【０００３】これらの着色層の製造方法としては、染色
法、印刷法、電着法、着色レジスト法などが知られてい
る。また、ブラックマトリクスの形成方法としては、
（１）スパッタリング法等により基板上にＣｒ等の金属
薄膜を成膜し、これをフォトリソグラフィ技術を用いて
パターニングする方法や、（２）基板上に黒色樹脂を塗
布し、これをエッチングまたはリフトオフ法などにより
パターニングする方法等が知られている。

【０００４】このうち、金属薄膜を用いる方法は、高価
で大掛かりな真空成膜設備が必要であるというコスト面
でのデメリットに加え、有害なエッチング廃液（例えば
Ｃｒ廃液）の処理施設を必要とするなどの問題を抱えて
いる。これに対して、黒色樹脂を用いる方法では、有機
廃液処理の問題は有るものの、成膜設備や廃液処理設備
ともに、金属薄膜を用いる方法ほどに大掛かりなものを
必要としないため、コスト的に有利である。

【０００５】ところで、液晶表示素子の基板間隔を決定
するためには、シリカビーズ等のスペーサーを基板に散
布するという方法が一般に用いられている。しかし、こ
の方法では、画素領域上にスペーサーが散布されること
により表示品位が低下するという問題があり、この問題
は近年の液晶表示素子の高精細化による画素の小型化に
よって一層顕著になりつつある。さらに、近年の液晶表
示素子の大型化に伴って、大型基板全体に均等にスペー
サーを散布することが困難になってきている。

【０００６】そこで、特開昭６１−１７３２２１号公報
や特開平２−２２３９２２号公報等に開示されているよ
うに、配向膜に配向処理を行った後で、感光性高分子材
料を基板に塗布し、露光及び現像工程を行うことにより
スペーサーとしての高分子壁を形成する方法が提案され
ている。

【０００７】一方、特開平６−３０１０１５号公報や特
開平７−１２０７２８号公報等には、画素領域を基板間
隔の少なくとも一部を占める高さの高分子壁によって包
囲された１乃至複数の液晶領域に分割し、各液晶領域内
の液晶を基板表面に垂直な軸に対して軸対称状に配向さ
せる（軸対称配向：ＡｘｉａｌｌｙＳｙｍｍｅｔｒｉ
ｃａｌｌｙＡｌｉｇｎｅｄＭｉｃｒｏｃｅｌｌ：Ａ
ＳＭと称される）方法が開示されている。この方法は、
液晶表示素子の視角依存性を改善するために非常に有効
な方法として知られている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
特開昭６１−１７３２２１号公報や特開平２−２２３９
２２号公報等に開示されているように配向膜の配向処理
後にスペーサーとしての高分子壁を作製する方法では、
工程数の増加によるコストアップや歩留まりの低下とい
う欠点がある。さらに、配向膜上に感光性高分子材料を
塗布して露光及び現像工程を行うために配向膜の劣化や
破壊が起こり、液晶分子の配向乱れの原因となる等の問
題がある。

【０００９】さらに、近年では、液晶表示素子の高精細
化及び高開口率化の要求に伴って、ブラックマトリクス
の幅を可能な限り細くしたいという要求が高まってい
る。そして、高開口率化及び表示品位向上の要求に対応
するためには、上記感光性高分子材料からなるスペーサ
ーをブラックマトリクス上に形成するのが好ましい。こ
のため、両者の重ね合わせに必要な露光マージン等が極
めて小さくなって、表示品位の低下や歩留り低下等の問
題を引き起こすことになる。

【００１０】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、工程数の著しい増加を伴
わず、重ね合わせマージンを考慮する必要がなく、しか
も表示品位の低下を生じずに、感光性高分子材料からな
るスペーサーを所望の位置に制御性良く形成することが
できる液晶表示素子及びその製造方法を提供することを
目的とする。さらに、本発明は、ＡＳＭモードにおいて
も、工程数の著しい増加を伴わず、重ね合わせマージン
を考慮する必要がなく、表示品位の低下を生じずに、感
光性高分子材料からなるスペーサーを所望の位置に制御
性良く形成することができる液晶表示素子及びその製造
方法を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子
は、液晶層を間に挟んでカラーフィルタ基板と対向基板
とが対向配置され、該カラーフィルタ基板が、透明基板
上に画素領域に対応して複数色の着色層を有すると共に
各着色層の間にブラックマトリクスを有する液晶表示素
子において、該着色層又は該ブラックマトリクスは、そ
の一部に開口部を有し、該開口部上に感光性高分子材料
からなるスペーサーが設けられ、そのことにより上記目
的が達成される。

【００１２】前記液晶層は、壁状構造体によって分割さ
れた複数の液晶領域を有し、該複数の液晶領域内の液晶
分子は、前記基板の表面に垂直な軸を中心に軸対称配向
していてもよい。

【００１３】前記液晶領域は画素領域毎に少なくとも１
つ設けられていてもよい。

【００１４】前記壁状構造体は、前記着色層又は前記ブ
ラックマトリクスの開口部を開けて設けられていてもよ
い。

【００１５】前記壁状構造体は、前記スペーサーに用い
る感光性高分子材料を硬化するために必要な光の少なく
とも一部を透過可能な材料及び膜厚で形成されていても
よい。

【００１６】本発明の液晶表示素子の製造方法は、液晶
層を間に挟んでカラーフィルタ基板と対向基板とが対向
配置され、該カラーフィルタ基板が、透明基板上に画素
領域に対応して複数色の着色層を有すると共に各着色層
の間にブラックマトリクスを有する液晶表示素子を製造
する方法において、透明基板上に、該着色層及び該ブラ
ックマトリクスを、該着色層の一部又は該ブラックマト
リクスの一部に開口部を設けて形成する工程と、該着色
層及び該ブラックマトリクスを形成した基板上に感光性
高分子材料を塗布し、基板側から露光を行って現像する
ことにより該開口部上にスペーサーを形成する工程とを
含み、そのことにより上記目的が達成される。

【００１７】以下、本発明の作用について説明する。

【００１８】本発明にあっては、カラーフィルタ基板上
の着色層の一部又はブラックマトリクスの一部を形成せ
ずに開口部として開けておく。そして、基板側から露光
を行うことにより、その開口部を通して感光性高分子材
料が露光され、その部分にスペーサーが形成される。こ
のため、スペーサー形成時の露光マスクが不要であり、
スペーサーをカラーフィルタ基板の所望の位置に制御性
良く形成することができる。よって、従来の方法に比べ
て製造工程の増加を防ぐことができ、配向膜の劣化等も
生じない。さらに、従来ブラックマトリクスとスペーサ
等を重ねて作製する際に必要とされていた露光アライメ
ント等のマージンが不要となるので、より高開口率の液
晶表示素子を製造することができる。

【００１９】本発明はＡＳＭモードの液晶表示素子に対
しても、製造工程の著しい増加を伴わず、表示品位に優
れた液晶表示素子を得ることができる。このＡＳＭモー
ドにおいて、液晶領域は画素領域毎に少なくとも１つ設
けられていれば、２つ以上であってもよい。

【００２０】この場合、後述する実施形態３に示すよう
に、着色層又はブラックマトリクスの開口部を開けて壁
状構造体を設けることにより、その壁状構造体の開口部
（壁開口部）を通して感光性高分子材料を露光すること
ができる。よってＡＳＭモードにおいても、所望の部分
に制御性良くスペーサーを形成することができる。

【００２１】或いは、後述する実施形態２に示すよう
に、スペーサーに用いる感光性高分子材料を硬化するた
めに必要な光の少なくとも一部を透過可能な材料及び膜
厚で壁状構造体を形成することにより、その壁状構造体
を通して感光性高分子材料を露光することができる。よ
って、ＡＳＭモードにおいても、所望の部分に制御性良
くスペーサーを形成することができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて図面を参照しながら説明する。

【００２３】（実施形態１）図１は本実施形態の液晶表
示素子におけるカラーフィルタ基板１の平面図であり、
図２（ｃ）はその上にスペーサーを形成したときの断面
図である。

【００２４】このカラーフィルタ基板１は、液晶層を挟
んで対向配置される一対の基板のうちの一方の基板であ
り、透明基板上に緑、赤、青の各色の着色層（着色画
素）１１が画素領域に対応して設けられていると共に、
各着色層１１の間にブラックマトリクス１２が設けられ
ている。ブラックマトリクス１２は、その一部が形成さ
れずに開口部１３となっている。このカラーフィルタ基
板上にはＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）
等からなる透明電極（図示せず）が設けられている。そ
して、ブラックマトリクス１２の開口部１３にスペーサ
ー１４が設けられて、対向基板との間隔を規定してい
る。

【００２５】この液晶表示素子は、例えば以下のように
して作製することができる。

【００２６】まず、図２（ａ）に示すように、１．１ｍ
ｍ厚のガラス基板１上に黒色感光性樹脂を塗布し、マス
クによる露光及び現像を行ってブラックマトリクス１２
を作製する。このとき、ブラックマトリクス１２の一部
を形成せずに開けておき、開口部１３とした。本実施形
態では、黒色感光性樹脂として新日鐡化学社製Ｖ２５９
−ＢＫＯを用い、焼成後のブラックマトリクス１２の膜
厚を１．５μｍとする。

【００２７】次に、緑、赤、青の各色のカラーレジスト
を順次塗布し、マスクによる露光及び現像を行って各色
の着色層１１を各色の画素領域に対応して形成する。本
実施形態では、カラーレジストとして富士フィルム社製
ＣＧ−２０００（緑）、ＣＲ−２０００（赤）、ＣＢ−
２０００（青）を用い、焼成後の着色層１１の膜厚を
１．５μｍとする。なお、このときの各色の形成順序
は、他の順番であってもよい。

【００２８】その上に、ＩＴＯからなる透明電極を形成
する。本実施形態では、日本ゼオン社製レジストＺＰＮ
１１００を用いてリフトオフ法により透明電極をパター
ン形成する。

【００２９】続いて、図２（ｂ）に示すように、感光性
高分子材料を塗布し、プリベイク後に基板側から露光及
び現像を行う。これにより、ブラックマトリクス１２の
開口部１３を通して感光性高分子材料が露光され、図２
（ｃ）に示すようなスペーサー１４が形成される。本実
施形態では、感光性高分子材料として新日鐵化学社製の
Ｖ２５９−ＰＡを用い、高さ５．０μｍのスペーサー１
４を形成する。

【００３０】その後、このカラーフィルタ基板上に配向
膜を形成し、透明電極及び配向膜を形成した対向基板と
貼り合わせ、ネマティック液晶材料を注入することによ
り高開口率の液晶表示素子を低コスト及び高歩留りで作
製することができる。

【００３１】なお、本実施形態において、使用する配向
膜材料や液晶材料については、公知の材料から必要に応
じて任意に選択・使用可能であることは言うまでもない
が、ラビング工程によるスペーサーの損傷を防ぐために
は、配向膜として垂直配向膜を用い、液晶材料としてＮ
型ネマティック液晶を用いるのが特に好ましい。

【００３２】（実施形態２）本実施形態では、軸対称状
配向（ＡＳＭ）モードの液晶表示素子に本発明を適用し
た例について説明する。

【００３３】図３（ｂ）は本実施形態の液晶表示素子に
おけるカラーフィルタ基板１の平面図である。

【００３４】ここでは、実施形態１と同様の着色層１
１、ブラックマトリクス１２を有するカラーフィルタ基
板において、画素領域を囲むようにブラックマトリクス
１２上に壁状構造体１５を形成している。この壁状構造
体１５は、スペーサーに用いる感光性高分子材料を硬化
するのに必要な光の少なくとも一部を透過する材料及び
膜厚で形成されている。

【００３５】この壁状構造体１５を、画素領域を十字に
区切るように形成してあるのは、以下の理由からであ
る。液晶層の軸対称配向は、印加電圧と壁状構造体によ
る配向規制力によって実現されるが、画素領域が非常に
大きい場合、例えば１辺２００μｍ以上の場合等、壁状
構造体による配向規制力が画素領域全体に働かなくな
る。このため、１つの画素領域を分割する必要が生じる
ためである。

【００３６】このカラーフィルタ基板１は、以下のよう
にして作製することができる。

【００３７】まず、実施形態１と同様にして、図３
（ａ）に示すように、透明基板上に、開口部１３を有す
るブラックマトリクス１２と着色層１１を形成し、その
上に透明電極（図示せず）をパターン形成する。

【００３８】その上に、図３（ｂ）に示すように、壁状
構造体１５を形成する。本実施形態では、日本ゼオン社
製レジストＺＰＮ１１００を用いてリフトオフ法により
高さ１．０μｍのＳｉＯ₂からなる壁状構造体１５をパ
ターン形成する。

【００３９】続いて、実施形態１と同様にして、感光性
高分子材料を塗布し、プリベイク後に基板側から露光及
び現像を行う。これにより、ブラックマトリクス１２の
開口部１３及び壁状構造体１５を通して感光性高分子材
料が露光され、実施形態１と同様なスペーサーが形成さ
れる。本実施形態では、感光性高分子材料として新日鐵
化学社製のＶ２５９−ＰＡを用い、高さ５．０μｍのス
ペーサー１４を形成する。

【００４０】その後、このカラーフィルタ基板を対向基
板と貼り合わせ、ネマティック液晶材料を注入すること
により高開口率のＡＳＭモード液晶表示素子を低コスト
及び高歩留りで作製することができる。

【００４１】（実施形態３）本実施形態においても、軸
対称状配向（ＡＳＭ）モードの液晶表示素子に本発明を
適用した例について説明する。

【００４２】図４（ｂ）は本実施形態の液晶表示素子に
おけるカラーフィルタ基板１の平面図である。

【００４３】基本的には実施形態２と同様であるが、
（１）壁状構造体１５が感光性高分子材料からなるこ
と、及び（２）ブラックマトリクス１２の開口部１３に
壁状構造体１５を設けずに開けておき、壁開口部１６と
している点が異なっている。

【００４４】このカラーフィルタ基板１は、以下のよう
にして作製することができる。

【００４５】まず、実施形態１及び実施形態２と同様に
して、図４（ａ）に示すように、透明基板上に、開口部
１３を有するブラックマトリクス１２と着色層１１を形
成し、その上に透明電極（図示せず）を形成する。

【００４６】その上に、図４（ｂ）に示すように、ブラ
ックマトリクス１２の開口部１３上に壁開口部１６を有
する壁状構造体１５を形成する。本実施形態では、感光
性高分子材料として東京応化社製のＯＦＰＲ−８００を
用い、高さ１．０μｍの壁状構造体１５を形成する。

【００４７】続いて、実施形態１及び実施形態２と同様
にして、感光性高分子材料を塗布し、プリベイク後に基
板側から露光及び現像を行う。これにより、ブラックマ
トリクス１２の開口部１３及び壁開口部１６を通して感
光性高分子材料が露光され、実施形態１及び実施形態２
と同様なスペーサーが形成される。本実施形態では、感
光性高分子材料として新日鐵化学社製のＶ２５９−ＰＡ
を用い、高さ５．０μｍのスペーサー１４を形成する。

【００４８】その後、このカラーフィルタ基板を対向基
板と貼り合わせ、ネマティック液晶材料を注入すること
により高開口率のＡＳＭモード液晶表示素子を低コスト
及び高歩留りで作製することができる。

【００４９】なお、上記実施形態１〜実施形態３で使用
したスペーサー材料は淡黄色で透光性が高いので、この
液晶表示素子のスペーサー形成部にはバックライト光を
遮光する部材が存在しないことになるが、２枚の偏光板
をクロスニコルに使用することにより、この部分で光抜
けが生じることはない。但し、基板表面での反射光を防
止するために、スペーサー材料として着色材料、特に黒
色材料を用いても、スペーサーの形状を損なわない限り
において問題はない。

【００５０】さらに、上記実施形態１〜実施形態３で用
いたスペーサー材料は感光性の液状レジスト材料である
が、一定の膜厚を規定できる感光性材料であればこれに
限られず、例えばドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）等
を用いてもよい。

【００５１】上記実施形態１〜実施形態３ではブラック
マトリクス１２の一部に開口部１３を形成したが、以下
の実施形態４に示すように、着色層１１の一部に開口部
を設けてもよい。

【００５２】（実施形態４）本実施形態では、プラズマ
アドレス液晶表示素子（ＰＡＬＣ）に本発明を適用した
例について説明する。

【００５３】図５（ａ）は本実施形態の液晶表示素子に
おけるカラーフィルタ基板２１の平面図であり、図５
（ｂ）はその上にスペーサーを形成したときの平面図で
ある。また、図６（ａ）は本実施形態のＰＡＬＣの概略
構成を示す断面図であり、図６（ｂ）はその画素部の概
略構成を示す平面図である。

【００５４】このカラーフィルタ基板２１は、液晶層２
７を挟んでプラズマチャンネル基板２６と対向配置され
ており、ガラス等からなる透明基板２１ａ上に緑、赤、
青の各色の着色層（着色画素）１１が設けられていると
共に、各着色層１１の間にブラックマトリクス１２が設
けられている。

【００５５】ここでは、実施形態１〜実施形態３とは異
なり、着色層１１及びブラックマトリクス１２をストラ
イプ状に形成してある。その理由は、図６に示すよう
に、ＰＡＬＣにおいてはカラーフィルタ基板のストライ
プ（ブラックマトリクス）とプラズマチャンネル基板の
プラズマチャンネル（リブ隔壁）で囲まれた部分が画素
領域となるので、図３（ａ）や図４（ａ）に示したよう
なマトリクス状の着色層を形成する必要がないためであ
る。そして、この着色層１１は、その一部が形成されず
に開口部１７となっている。

【００５６】このカラーフィルタ基板上にはＩＴＯ等か
らなる透明電極１８が設けられている。そして、着色層
１１の開口部１７にスペーサー１４が設けられて、プラ
ズマチャンネル基板２６との間隔を規定している。

【００５７】一方、プラズマチャンネル基板２６は、ガ
ラス等の透明基板２１ｂ上にリブ隔壁２４が着色層１１
と交差する方向にストライプ状に形成され、そのリブ隔
壁２４の間に２本のプラズマ発生用電極２２が形成され
ている。そして、ガラス基板２１ｂ、リブ隔壁２４及び
誘電セパレータ２５で区切られた空間にガスが封入され
てプラズマチャンネル２３となっている。

【００５８】このＰＡＬＣは、以下のようにして作製す
ることができる。

【００５９】まず、実施形態１と同様の材料を用いて、
図５（ａ）に示すように、透明基板２１ａ上に、開口部
１７を有する着色層１１とブラックマトリクス１２を形
成し、その上に透明電極１８をパターン形成する。この
とき、着色層１１の開口部１７は、プラズマチャンネル
基板２６のリブ隔壁２４上に重なり、かつ、リブ隔壁２
４の幅で完全に隠れるような形状に設計しておく。

【００６０】次に、実施形態１と同様にして、感光性高
分子材料を塗布し、プリベイク後に基板側から露光及び
現像を行う。これにより、着色層１１の開口部１７を通
して感光性高分子材料が露光され、実施形態１と同様な
スペーサー１４が形成される。本実施形態では、感光性
高分子材料として新日鐵化学社製のＶ２５９−ＰＡを用
い、図５（ｂ）に示すように高さ５．０μｍのスペーサ
ー１４を形成する。

【００６１】その後、このカラーフィルタ基板２１に配
向膜を形成し、公知の方法で作製したプラズマチャンネ
ル基板２６と貼り合わせ、ネマティック液晶材料を注入
することにより、高開口率のＰＡＬＣを低コスト及び高
歩留りで作製することができる。

【００６２】ところで、実施形態１でも述べたように、
ラビング工程によるスペーサーの損傷を防いだり、或い
はスペーサーによるラビング不良を防ぐためには、垂直
配向膜とＮ型ネマティック液晶とを組み合わせるのが好
ましい。

【００６３】しかし、本実施形態のようにＰＡＬＣに本
発明を適用した場合には、このようなスペーサーの一部
損傷やラビング不良は必ずしも重要な問題とはならな
い。その理由は、ＰＡＬＣにおいて、リブ隔壁上部は表
示に寄与しない部分であるため、図７に示すようにリブ
隔壁に重なるようにスペーサーを形成してリブ隔壁のス
トライプ方向にラビングを行えば、スペーサーによるラ
ビング不良、即ち局所的な配向不良は液晶表示素子の表
示品位に影響を与えないからである。また、このリブ隔
壁上部は表示に寄与しない部分であるため、ここにスペ
ーサーを設けても表示が暗くなることはない。

【００６４】さらに、実施形態１〜実施形態３において
は、スペーサーの損傷部が表示不良に結びつくこともあ
るが、本実施形態では必ずしもそのような表示不良は生
じない。よって、現実的に基板ギャップを規定できるだ
けの数のスペーサーが存在すれば、いくつかのスペーサ
ーに損傷が生じても問題は生じず、より歩留まりを向上
させることができる。

【００６５】以上のように、本発明においてカラーフィ
ルタ基板とＰＡＬＣとは好ましい組み合わせである。こ
の場合には平行（ホモジニアス）配向膜とＰ型ネマティ
ック液晶とを用いてもそれほど問題が生じず、高表示品
位の液晶表示素子を高歩留まりで作製することができ
る。

【００６６】なお、上記実施形態１〜実施形態４におい
て、着色層の開口部とブラックマトリクスの開口部とを
組み合わせて、基板ギャップを規定できるだけの数のス
ペーサーを形成してもよい。

【００６７】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明による場合
には、カラーフィルタ基板上の着色層の一部又はブラッ
クマトリクスの一部を形成せずに開口部として開けてお
き、基板側から露光を行って、その開口部を通した露光
を行うので、感光性高分子材料からなるスペーサー形成
時に露光マスクが不要であり、スペーサーをカラーフィ
ルタ基板の所望の位置に制御性良く形成することができ
る。これにより、工程数や露光マスク等の増加を必要と
せず、配向膜の劣化等が生じず、さらに、ブラックマト
リクスとスペーサとの露光アライメント等のマージンが
不要となるので、より高開口率で表示品位の高い液晶表
示素子を低コスト、かつ高歩留りで作製することができ
る。

【００６８】さらに、視野角依存性の改善に極めて有効
なＡＳＭモードの液晶表示素子に対しても、製造工程や
露光マスク等の増加を必要とせず、低コスト、かつ高歩
留りで作製することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態１の液晶表示素子におけるカラーフィ
ルタ基板を示す平面図である。

【図２】実施形態１の液晶表示素子におけるカラーフィ
ルタ基板の製造工程を説明するための斜視図である。

【図３】実施形態２の液晶表示素子におけるカラーフィ
ルタ基板の製造工程を説明するための平面図である。

【図４】実施形態３の液晶表示素子におけるカラーフィ
ルタ基板の製造工程を説明するための平面図である。

【図５】実施形態４の液晶表示素子におけるカラーフィ
ルタ基板を示す平面図である。

【図６】実施形態４の液晶表示素子を示す断面図及び平
面図である。

【図７】実施形態４の液晶表示素子の表示品位について
説明するための平面図である。

【符号の説明】

１、２１カラーフィルタ基板１ａ透明基板１１着色層１２ブラックマトリクス１３ブラックマトリクスの開口部１４スペーサー１４ａ感光性高分子材料１５壁状構造体１６壁開口部１７着色層の開口部１８透明電極２１ａ、２１ｂ透明基板２２プラズマ発生用電極２３プラズマチャンネル２４リブ隔壁２５誘電セパレータ２６プラズマチャンネル基板２７液晶層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】液晶層を間に挟んでカラーフィルタ基板
と対向基板とが対向配置され、該カラーフィルタ基板
が、透明基板上に画素領域に対応して複数色の着色層を
有すると共に各着色層の間にブラックマトリクスを有す
る液晶表示素子において、該着色層又は該ブラックマトリクスは、その一部に開口
部を有し、該開口部上に感光性高分子材料からなるスペ
ーサーが設けられている液晶表示素子。
【請求項２】前記液晶層は、壁状構造体によって分割
された複数の液晶領域を有し、該複数の液晶領域内の液
晶分子は、前記基板の表面に垂直な軸を中心に軸対称配
向している請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項３】前記液晶領域は画素領域毎に少なくとも
１つ設けられている請求項２に記載の液晶表示素子。
【請求項４】前記壁状構造体は、前記着色層又は前記
ブラックマトリクスの開口部を開けて設けられている請
求項２又は請求項３に記載の液晶表示素子。
【請求項５】前記壁状構造体は、前記スペーサーに用
いる感光性高分子材料を硬化するために必要な光の少な
くとも一部を透過可能な材料及び膜厚で形成されている
請求項２又は請求項３に記載の液晶表示素子。
【請求項６】液晶層を間に挟んでカラーフィルタ基板
と対向基板とが対向配置され、該カラーフィルタ基板
が、透明基板上に画素領域に対応して複数色の着色層を
有すると共に各着色層の間にブラックマトリクスを有す
る液晶表示素子を製造する方法において、透明基板上に、該着色層及び該ブラックマトリクスを、
該着色層の一部又は該ブラックマトリクスの一部に開口
部を設けて形成する工程と、該着色層及び該ブラックマトリクスを形成した基板上に
感光性高分子材料を塗布し、基板側から露光を行って現
像することにより該開口部上にスペーサーを形成する工
程とを含む液晶表示素子の製造方法。