JP2000187229A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JP2000187229A
JP2000187229A JP10367170A JP36717098A JP2000187229A JP 2000187229 A JP2000187229 A JP 2000187229A JP 10367170 A JP10367170 A JP 10367170A JP 36717098 A JP36717098 A JP 36717098A JP 2000187229 A JP2000187229 A JP 2000187229A
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JP
Japan
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liquid crystal
crystal composition
injection
shielding layer
gap
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JP10367170A
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English (en)
Inventor
Minako Kurosaki
美奈子 黒崎
Hitoshi Hado
仁 羽藤
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 絶縁性の額縁遮光層により液晶組成物の注入
操作が妨げられるのを防止して液晶表示装置の生産性向
上を図り、且つ液晶組成物の注入口からの光漏れによる
注入口近傍のコントラストの低下を防止し表示品位の向
上を図る。 【解決手段】 シール剤16の注入口16a位置にて、
額縁遮光層31の黒色樹脂を除去してなる注入領域31
aを設け、注入口16a位置にてより広い隙間を形成
し、液晶組成物14の注入を容易にする。又注入領域3
1aにおける液晶組成物14にレーザ光を照射して配向
方向をランダムにする事により、光透過をせず、黒表示
する遮光性液晶組成物40を形成し、注入領域31aか
らの光漏れを防止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電極基板上にて表
示領域周縁に絶縁性の額縁遮光層を有する液晶表示装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】アクティブマトリクス型のカラー液晶表
示装置は、薄膜トランジスタ(以下TFTと略称す
る。)を有するアレイ基板及び対向基板との間に液晶組
成物を挟持した構造となっている。対向基板には赤
(R)、緑(G)、青(B)の絶縁性着色層及び、アレ
イ基板上の配線及びTFTに対応した位置にクロム(C
r)等からなる遮光層並びに、表示領域周縁を被覆する
クロム(Cr)等からなる額縁遮光層が配置され、カラ
ー表示を行うと共にTFT遮光層や額縁遮光層によりT
FTへの光の進入を防いだり表示領域周辺からの光漏れ
を防いでいた。
【0003】しかしながら、遮光層及び額縁遮光層を有
するカラーフィルタを対向基板側に設けた場合、TFT
及び画素電極が形成されるアレイ基板と対向基板との合
わせズレや、TFT遮光層とTFTとのピッチずれ等に
よるマージンを考慮して、TFT遮光層及び額縁遮光層
等の遮光幅を広く設計しなければならず、液晶表示装置
の開口率を低減してしまい、輝度の低下により液晶表示
装置の表示品位の低下を来たすという問題を有してい
た。
【0004】このため近年、アレイ基板と対向基板との
合わせズレやTFT遮光層とTFTとのピッチずれを配
慮して遮光層を拡大する事により生じる開口率の低下を
解消するため、カラーフィルタをアレイ基板側に設ける
液晶表示装置が開発されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】カラーフィルタをアレ
イ基板側に設けようとすると、TFT遮光層や額縁遮光
層等の遮光膜材料として金属等の導電性の材料を使用す
る事が出来ず、樹脂等の絶縁性の高い材料を用いる必要
が有る。
【0006】しかしながら絶縁性の遮光層である有機樹
脂絶縁膜等は、クロム(Cr)等の金属に比し遮光性が
低く、十分な遮光性を得るには膜厚を厚くする必要があ
る。このため表示領域周縁に絶縁性の額縁遮光層を設け
ようとすると、アレイ基板及び対向基板間への液晶組成
物の注入口を大きく取れず、注入口にて液晶組成物を注
入するのに十分な隙間を得られず注入が妨げられ注入効
率が低下し、ひいては生産性の低下を来たすという問題
を生じていた。一方、液晶組成物の注入をスムースに行
うために注入口部分に額縁遮光層を形成しないようにす
ると、注入口からの光漏れにより注入口近傍にあっては
部分的にコントラストの低下を来たし表示品位を低下す
るという問題を生じていた。
【0007】そこで本発明は上記課題を除去するもの
で、液晶表示装置の開口率の向上を図り且つ額縁遮光層
が液晶組成物の注入を妨げる事無く、その注入効率を向
上する事により生産性の向上を図れ、しかも注入口から
の光漏れを防止して表示品位の高い画像を得る事が出来
る液晶表示装置を提供する事を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
する為の第1の手段として、対向配置される2枚の基板
の周囲を注入口を設けてシール手段にて固着し、前記シ
ール手段により囲繞される間隙に液晶組成物を封入して
成る液晶表示装置において、少なくとも何れか一方の基
板に設けられ前記シール手段に囲繞される表示領域周縁
を遮光する額縁遮光層と、前記注入口位置にて前記液晶
組成物を通過するよう前記額縁遮光層に形成される注入
領域とを有し、この注入領域にて前記2枚の基板間に介
在された前記液晶組成物はランダム配向されているもの
である。
【0009】上記構成により本発明は、注入口からの液
晶組成物の注入をスムースにし生産性向上を図り且つ、
注入領域からの光漏れを防止して、表示品位の向上を図
るものである。
【0010】又本発明は上記課題を解決する為の手段と
して、前述第1の手段において、額縁遮光層と同層で形
成され、シール手段に囲繞される表示領域内にて間隙を
一定に保持する間隙保持手段を設けるものである。
【0011】上記構成により本発明は、注入口からの液
晶組成物の注入をスムースにし生産性向上を図り且つ、
注入領域からの光漏れを防止し、更には注入領域の間隙
を一定に保持して、表示品位の向上を図るものである。
【0012】
【発明の実施の形態】以下本発明を図1乃至図4に示す
第1の実施の形態を参照して説明する。10は、ノーマ
リーホワイト(NW)モードで作動するアクティブマト
リクス型の透光型カラー液晶表示装置であり、TFT1
1を有するアレイ基板12及び対向基板13を対向配置
して成り、シール剤16で囲繞される表示領域内の所定
の間隙に配向膜15a、15bを介しツイステッドネマ
ティック(TN)型の液晶組成物14を封入してなって
いる。更に50、51は、相互にクロスニコルに配置さ
れる偏光板である。
【0013】ここでアレイ基板12は、ガラス基板17
上に酸化シリコン(SiO2)膜及び窒化シリコン(S
iN)の二層構造からなるアンダーコーティング層19
が成膜され、その上にポリシリコン(p−Si)からな
り、チャネル領域18aを挟んでソース領域18b、ド
レイン領域18cを形成してなる半導体層18がパター
ン形成され、半導体層18を被覆する酸化シリコン(S
iO2)膜等からなるゲート絶縁膜20上のチャネル領
域18aに対応する領域には走査線(図示せず)と一体
のゲート電極21がパターン形成されている。ゲート電
極21を覆う酸化シリコン(SiO2)膜からなる層間
絶縁膜22上にはモリブデン(Mo)とアルミニウム
(Al)の二層構造からなる信号線(図示せず)と一体
のドレイン電極23、及びソース電極24がパターン形
成され、ゲート絶縁膜20、層間絶縁膜22に形成され
るスルーホールを介して半導体層18のドレイン領域1
8cあるいはソース領域18bに夫々接続されている。
【0014】これ等の上には酸化シリコン(SiO2
膜及び窒化シリコン(SiN)の二層構造からなる無機
絶縁膜26が成膜され、更に有機樹脂絶縁膜からなる赤
(R)色の着色層27、緑(G)色の着色層28、青
(B)色の着色層(図示せず)の3原色の着色層27、
28がストライプ状にパターン形成されている。着色層
27、28上のTFT11上方には、赤(R)、緑
(G)、青(B)の顔料が混入されてなる黒色樹脂から
なり、アレイ基板12及び対向基板13間の間隙を一定
に保持する間隙保持手段である柱状スペーサ30が形成
され、着色層27、28周縁のシール剤塗布領域には、
シール剤16で囲繞される表示領域周縁を遮光するよう
黒色樹脂からなる枠状の額縁遮光層31が設けられ、カ
ラーフィルタ32を形成している。
【0015】但しシール剤16に開口される注入口16
a位置では、アレイ基板及び対向基板13間にて、より
広い間隙を形成するよう額縁遮光層31の黒色樹脂が除
去されており、注入口16aからの液晶組成物14の注
入をスムースに行うための注入領域31aが形成されて
いる。このようにしてなるカラーフィルタ32上にイン
ジウム錫酸化物(以下ITOと称する。)からなる画素
電極34がマトリクス状にパターン形成され、この画素
電極34は、着色層27、28に形成されるスルーホー
ルを介しソース電極24に接続されている。
【0016】一方対向基板13は、ガラス基板36上に
ITOからなる対向電極37を有している。そしてアレ
イ基板12及び対向基板13はシール剤16により固着
され、更に注入口16a及び注入領域31aを封止剤3
8により封止される両基板12、13間の間隙には液晶
組成物14が配向膜15a、15bにより配向された状
態で封入されている。但し注入口16a及び注入領域3
1aにあっては、液晶組成物14の配向方向がランダム
にされることから、光透過作用を有せず、黒表示する遮
光性液晶組成物40が形成されている。
【0017】この様にして成るカラー液晶表示装置10
のアレイ基板12にあっては、ガラス基板17上にTF
T11、ゲート絶縁膜20、ゲート電極21、層間絶縁
膜22更にはドレイン電極23及びソース電極24を形
成後、次のような製造方法によりアレイ基板12上にカ
ラーフィルタ32を形成する。
【0018】即ち信号線(図示せず)、ドレイン電極2
3、ソース電極24のパターン上方に赤色の顔料を分散
させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストCR−200
0 (富士ハントテクノロジ(株)製)をスピンナーにて全
面塗布し、赤(R)を着色したい部分に光を照射するフ
ォトマスクを介し、365nmの波長光を100mJ/
cm照射し、水酸化カリウム(KOH)の1%水溶液
で10秒間現像し、赤(R)のレジストCR−2000
を配置し230℃で1時間焼成して膜厚2.0μmの赤
(R)色の着色層27を形成する。
【0019】同様にフォトリソグラフィにより緑色
(G)の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レ
ジストCG−2000(富士ハントテクノロジ(株)製)
及び青色(B)の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリ
ル樹脂レジストCB−2000(富士ハントテクノロジ
(株)製)を必要部分に配置し、230℃で1時間焼成
し、膜厚2.0μmの緑(G)色の着色層28、青
(B)色の着色層(図示せず)を夫々形成して、表示領
域に3原色の着色層27、28をストライプ状に形成す
る。
【0020】次いで感光性の黒色樹脂CK−2000
(富士ハントテクノロジ(株)製)をスピンナーを用いて
塗布し90℃で10分の乾燥後、直径20μmの柱状ス
ペーサ30及び幅2000μmの額縁遮光層31を残す
所定のパターン形状のフォトマスクを用いて365nm
の波長で、300mJ/cmの露光量で露光したあと
pH11.5のアルカリ水溶液にて現像し、200℃6
0分の焼成にて膜厚5.0μmの柱状スペーサ30及び
膜厚5μmの額縁遮光層31をパターン形成する。但し
額縁遮光層31の、シール剤16の注入口16aに相当
する領域にあっては、黒色樹脂を除去した注入領域31
aを設けたパターンを形成している。
【0021】この様にしてカラーフィルタ32形成後フ
ォトエッチング法によりソース電極24に達するスルー
ホールを形成して、これ等の上にITOをスパッタ法に
より1500オングストローム成膜し、フォトエッチン
グ法により所定の形状にパターン形成して画素電極34
を形成する。これにより、画素電極34はスルーホール
を介しソース電極24に電気的に接続する。その後、ポ
リイミドであるAL−1051(日本合成ゴム(株)製)を
全面に500オングストローム厚さで塗布して配向膜1
5aを形成しさらにラビング処理する。
【0022】次に対向基板13にあっては、ガラス基板
36上にスパッタ法によりITOから成る厚さ1500
オングストロームの対向電極37を全面に形成し、ポリ
イミドであるAL−1051(日本合成ゴム(株)製)を全
面に500オングストローム厚さで塗布して配向膜15
aを形成しさらにラビング処理する。
【0023】この後アレイ基板12の表示領域周縁の額
縁遮光層31上に、開口16aを設けてシール剤16を
印刷し、配向膜15a、15bのそれぞれの配向方向が
90度となるようアレイ基板12及び対向基板12、1
3を対向配置後、シール剤16を加熱硬化して両基板1
2、13を固着して液晶セルを形成する。
【0024】次に減圧注入法等によりシール剤16の注
入口16a及び額縁遮光層31に形成される注入領域3
1aから液晶組成物14であるZLI−1565(E.
メルク社製)にカイラル剤を0.lwt%添加したもの
を注入する。この液晶組成物14の注入時、注入口16
a位置に注入領域31aが形成され、アレイ基板12及
び対向基板13間の間隙が広くされる事から、液晶組成
物14は、額縁遮光層t31により妨げられる事無く注
入口16a及び注入領域31aからスムースに注入され
る。
【0025】この液晶組成物14注入後、注入口16a
及び注入領域31aを紫外線硬化樹脂からなる封止剤3
8で封止し、更にレーザ照射装置(図示せず)により注
入口16a及び注入領域31aにてアレイ基板12及び
対向基板13間に封入される液晶組成物14にNd:Y
AGレーザ(波長1.06μm)によるレーザ光を照射
してその配向方向をランダムにし、遮光性液晶組成物4
0を形成する。そして両基板12、13の両側に、配向
方向と平行に2枚の偏光板50、51を貼りNWモード
で作動する透光型カラー液晶表示装置10を完成する。
尚この様にして得られたカラー液晶表示装置10は、注
入口16aにおける光漏れによる注入口16a近傍のコ
ントラストの低下が見られず、表示領域全域にわたり均
一且つ良好なコントラストを得られた。
【0026】このように構成すれば、液晶組成物14の
注入を妨げない様、注入口16aの隙間を拡大するため
に厚膜の額縁遮光層31に注入領域31aを形成して
も、その部分に封入される液晶組成物14の配向方向を
ランダムにする事により、黒表示する遮光性液晶組成物
40を形成しているので、この注入領域31aからの光
漏れを防止出来る。従って、十分な輝度を有するカラー
液晶表示装置10の製造時にあっては、液晶組成物14
の注入操作をスムースに行えその生産性の向上を図れ、
画像表示時にあっては注入領域31aからの光漏れの防
止によりコントラストの低下を防止出来、表示品位の向
上を図れる。
【0027】次に本発明を図5乃至図7に示す第2の実
施の形態を参照して説明する。本実施の形態は額縁遮光
層の注入領域の液晶組成物にレーザ光を照射する際の位
置決め精度の緩和を図り、遮光性液晶組成物の形成を容
易にするために、注入領域に帯状の黒色樹脂を形成する
ものであり、他は第1の実施の形態と同一である事から
同一部分については同一符号を付しその説明を省略す
る。
【0028】即ち柱状スペーサ30及び額縁遮光層31
のパターン形成と同時に、注入領域31aに幅500μ
mの帯状樹脂41をパターン形状し、この帯状樹脂41
を有するアレイ基板42と対向基板13とを張り合わせ
て液晶セルを形成し、シール剤16の注入口16a及び
帯状樹脂41を有する注入領域31aから液晶組成物1
4を注入する。
【0029】この液晶組成物14の注入時、注入領域3
1aには帯状樹脂41が形成されるものの、その幅が細
い事から、注入操作の妨げとならず液晶組成物14はス
ムースに注入される。そして液晶組成物14注入後、注
入口16a及び注入領域31aを紫外線硬化樹脂からな
る封止剤38で封止後、更にレーザ照射装置(図示せ
ず)により注入口16a及び注入領域31aに封入され
る液晶組成物14にレーザ光を照射してその配向方向を
ランダムにする。このレーザ光照射時、帯状樹脂41を
境に、帯状樹脂41bから外側を照射してその配向方向
をランダムにし、遮光性液晶組成物40とし、カラー液
晶表示装置50を完成する。尚この様にして得られたカ
ラー液晶表示装置50は、第1の実施の形態と同様、注
入口16aにおける光漏れが見られず、表示領域全域に
わたり均一且つ良好なコントラストを得られた。
【0030】このように構成すれば、第1の実施の形態
と同様液晶組成物14の注入時にあっては注入操作をス
ムースに行え且つ、注入領域31aからの光漏れを防止
してコントラストの均一化を図れ、表示品位を向上出来
る。しかも帯状樹脂41によりアレイ基板12及び対向
基板13間に封入される液晶組成物14の表示領域と、
遮光領域との境における遮光性がある程度確保されるの
で、遮光性液晶組成物40を形成するための、表示領域
と遮光領域との境におけるレーザ光照射の位置決め精度
の緩和が可能となり、遮光性液晶組成物40の形成が容
易とされる。
【0031】次に本発明を図8乃至図10に示す第3の
実施の形態を参照して説明する。本実施の形態は額縁遮
光層の注入領域に位置するアレイ基板及び対向基板の配
向膜のラビング処理を行わない事により、注入領域にお
ける液晶組成物の配向方向をランダムにして遮光性液晶
組成物を形成するものであり、他は第1の実施の形態と
同一である事から同一部分については同一符号を付しそ
の説明を省略する。
【0032】即ちアレイ基板12及び対向基板13に配
向膜15a、15bを塗布しラビング処理する際に、配
向膜15a、15bの額縁遮光層31の注入領域31a
に対応する領域を夫々マスク(図示せず)で覆ってラビ
ングされないようにするマスクラビングにより、ラビン
グ処理されない未処理領域45a、45bを形成する。
この後液晶セルを形成し、シール剤16の注入口16a
及び額縁遮光層31の注入領域31aから液晶組成物1
4を注入し、注入口16a及び注入領域31aを紫外線
硬化樹脂からなる封止剤38で封止する。これによりア
レイ基板12及び対向基板13間に封入される液晶組成
物14のうち額縁遮光層31に囲繞される表示領域にあ
っては、ラビング処理された配向膜15a、15bによ
り配向方向が揃えられるが、額縁遮光層31の注入領域
31aにあっては配向膜15a、15bがラビング処理
されていないのでその配向方向がランダムとなり、黒表
示する遮光性液晶組成物40が形成され、カラー液晶表
示装置60を完成する。尚この様にして得られたカラー
液晶表示装置60は、第1の実施の形態と同様注入口1
6aにおける光漏れが見られず、表示領域全域にわたり
均一且つ良好なコントラストを得られた。
【0033】このように構成すれば、第1の実施の形態
と同様液晶組成物14の注入時にあっては注入操作をス
ムースに行え且つ、注入領域41aにあっては配向方向
がランダムであり光透過作用を為さず、黒表示する遮光
性液晶組成物40により光漏れを防止出来、周縁のコン
トラストを低下する事無くその均一化を図れ、表示品位
を向上出来る。更に配向膜15a、15bをマスクを用
いてラビング処理して未処理領域45a、45bを形成
するのみで注入領域31aの液晶組成物14の配向方向
をランダムに出来るので、注入領域31aにて液晶組成
物14に高い位置決め精度でレーザ光を照射する必要が
無く、遮光性液晶組成物40の製造が容易となる。
【0034】次に本発明を図11乃至図13に示す第4
の実施の形態を参照して説明する。本実施の形態は額縁
遮光層の注入領域に、表示領域に形成される柱状スペー
サと同一構造からなる注入領域保持手段を設け、アレイ
基板及び対向基板間の間隙を一定に保持するものであ
り、他は第1の実施の形態と同一である事から同一部分
については同一符号を付し、その説明を省略する。
【0035】即ちカラーフィルタ32形成時、赤(R)
色の着色層27、緑(G)色の着色層28、青(B)色
の着色層(図示せず)の何れかにより、注入領域31a
に直径20μm×高さ5μmのダミー着色層47を形成
する。次いで柱状スペーサ30及び額縁遮光層31形成
時に、柱状スペーサ30及び額縁遮光層31を残すと共
に、注入領域31aのダミー着色層47上に直径20μ
mの注入領域保持手段である柱状の注入領域スペーサ4
8を残すパターン形状のフォトマスクを用いて感光性の
黒色樹脂CK−2000(富士ハントテクノロジ(株)
製)を露光し、次いで現像、焼成することにより、注入
領域31aに注入領域スペーサ48を形成する。この注
入領域スペーサ48を有するアレイ基板13及び対向基
板13を張り合わせ液晶セルを形成し、シール剤16の
注入口16a及び額縁遮光層31の注入領域スペーサ4
8を有する注入領域31aから液晶組成物14を注入す
る。
【0036】この液晶組成物14の注入時、注入領域3
1aには注入領域スペーサ48が形成されているが、注
入操作の妨げとならずスムースに注入される。そして液
晶組成物14注入後、注入口16a及び注入領域31a
を紫外線硬化樹脂からなる封止剤38で封止したら、更
にレーザ照射装置(図示せず)により注入口16a及び
注入領域31aにてアレイ基板12及び対向基板13間
に封入される液晶組成物14にレーザ光を照射してその
配向方向をランダムにし、遮光性液晶組成物40を形成
し、カラー液晶表示装置70を完成する。尚この様にし
て得られたカラー液晶表示装置70は、第1の実施の形
態と同様、注入口16aにおける光漏れが見られず、表
示領域全域にわたり均一且つ良好なコントラストを得ら
れた。
【0037】このように構成すれば、第1の実施の形態
と同様液晶組成物14の注入時にあっては注入操作をス
ムースに行え且つ、注入領域31aからの光漏れを防止
してコントラストの均一化を図れ、表示品位を向上出来
る。更に注入領域31aに注入領域スペーサ48を設け
た事により、注入領域31aにおけるアレイ基板12及
び対向基板13間の間隙を均一に保持出来、注入領域3
1a周縁にて均一な表示画像を得られ表示品位をより向
上出来る。
【0038】尚本発明は上記実施の形態に限られるもの
でなくその趣旨を変えない範囲での変更は可能であっ
て、例えば柱状スペーサ及び額縁遮光層の材質は絶縁性
を有するものであれば任意であるし、形成方法あるいは
層厚等も限定されず、黒色樹脂ではなくカラーフィルタ
に用いる3原色の着色層を積層して柱状スペーサあるい
は額縁遮光層を形成しても良いし、柱状スペーサと額縁
遮光層を夫々別の材質あるいは製造工程にて形成する等
任意である。また必要に応じて絶縁性の額縁遮光層を対
向基板側に設ける等しても良い。
【0039】また遮光性液晶組成物を形成するために液
晶組成物の配向方向をランダムにする手段は任意であ
り、例えば第3の実施の形態ではマスクラビングにより
配向膜にラビング処理されない未処理領域を形成する事
により液晶組成物の配向方向をランダムにしたが、配向
膜塗布時にマスクで覆い、注入領域に対応する領域に配
向膜を塗布しないことにより液晶組成物の配向方向をラ
ンダムにしても良い。
【0040】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、絶
縁部材にて表示領域周縁に額縁遮光層を形成する場合
に、液晶組成物の注入口において額縁遮光層に液晶組成
物を通過するための注入領域を形成する事により、液晶
組成物の注入時、額縁遮光層に注入操作を妨げられる事
無くスムースに行え、液晶表示装置の生産性を向上出来
る。そして注入領域においては、液晶組成物の配向方向
をランダムにして光透過作用を有せずに黒表示する遮光
性液晶組成物を形成する事により、注入領域近傍のに光
漏れによるコントラストの低下を防止出来、表示領域全
域にわたりコントラストの均一化を図れ、表示品位を向
上出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態のカラー液晶表示装
置を示す概略断面図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態のカラー液晶表示装
置の額縁遮光層及びシール剤を示す一部説明図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態のカラー液晶表示装
置の図2のA−A´線における概略断面図である。
【図4】本発明の第1の実施の形態のカラー液晶表示装
置の図2のB−B´線における概略断面図である。
【図5】本発明の第2の実施の形態のカラー液晶表示装
置の額縁遮光層及びシール剤を示す一部説明図である。
【図6】本発明の第2の実施の形態のカラー液晶表示装
置の図5のC−C´線における概略断面図である。
【図7】本発明の第2の実施の形態のカラー液晶表示装
置の図5のD−D´線における概略断面図である。
【図8】本発明の第3の実施の形態のカラー液晶表示装
置の額縁遮光層及びシール剤を示す一部説明図である。
【図9】本発明の第3の実施の形態のカラー液晶表示装
置の図8のE−E´線における概略断面図である。
【図10】本発明の第3の実施の形態のカラー液晶表示
装置の図8のF−F´線における概略断面図である。
【図11】本発明の第4の実施の形態のカラー液晶表示
装置の額縁遮光層及びシール剤を示す一部説明図であ
る。
【図12】本発明の第4の実施の形態のカラー液晶表示
装置の図11のG−G´線における概略断面図である。
【図13】本発明の第4の実施の形態のカラー液晶表示
装置の図11のH−H´線における概略断面図である。
【符号の説明】
10…カラー液晶表示装置 11…TFT 12…アレイ基板 13…対向基板 14…液晶組成物 16…シール剤 16a…注入口 17…ガラス基板 18…半導体層 21…ゲート電極 22…層間絶縁膜 23…ドレイン電極 24…ソース電極 26…無機絶縁膜 27…赤(R)色の着色層 28…緑(G)色の着色層 30…柱状スペーサ 31…額縁遮光層 31a…注入領域 32…カラーフィルタ 34…画素電極 38…封止剤 40…遮光性液晶組成物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 HA30 LA09 LA10 LA16 LA20 MA04X NA17 QA11 QA12 QA14 RA18 SA19 TA09 TA12 TA13

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対向配置される2枚の基板の周囲を注入
    口を設けてシール手段にて固着し、前記シール手段によ
    り囲繞される間隙に液晶組成物を封入して成る液晶表示
    装置において、少なくとも何れか一方の基板に設けられ
    前記シール手段に囲繞される表示領域周縁を遮光する額
    縁遮光層と、前記注入口位置にて前記液晶組成物を通過
    するよう前記額縁遮光層に形成される注入領域とを有
    し、この注入領域にて前記2枚の基板間に介在された前
    記液晶組成物はランダム配向されていることを特徴とす
    る液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 額縁遮光層と同層で形成され、シール手
    段に囲繞される表示領域内にて間隙を一定に保持する間
    隙保持手段を有することを特徴とする請求項1に記載の
    液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 走査線及び信号線との交点に配列される
    スイッチング素子に駆動されマトリクス状に配置される
    画素電極を有するアレイ基板と、対向電極を有し前記ア
    レイ基板と間隙を隔てて対向配置される対向基板と、前
    記画素電極が配置される表示領域周囲にて注入口を設け
    て前記間隙を囲繞するシール手段と、このシール手段に
    囲繞される前記間隙に封入される液晶組成物とを具備す
    る液晶表示装置において、 前記アレイ基板に設けられ複数の絶縁性着色層を順次配
    列してなるカラーフィルタ層と、前記シール手段に囲繞
    される表示領域内に設けられ前記間隙を一定に保持する
    間隙保持手段と、前記アレイ基板に設けられ前記シール
    手段に囲繞される表示領域周縁を遮光する額縁遮光層
    と、前記注入口位置にて前記液晶組成物を通過するよう
    前記額縁遮光層に形成される注入領域とを有し、この注
    入領域にて前記アレイ基板及び前記対向基板間に介在さ
    れた前記液晶組成物はランダム配向されていることを特
    徴とする液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 アレイ基板上に額縁遮光層と同層で形成
    され、シール手段に囲繞される表示領域内にて間隙を一
    定に保持する間隙保持手段を有することを特徴とする請
    求項3に記載の液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 液晶組成物が、レーザー照射により配向
    方向を乱されてランダム配向することを特徴とする請求
    項1又は請求項3のいずれかに記載の液晶表示装置。
  6. 【請求項6】 対向配置される2枚の基板には液晶組成
    物に接して配向膜が配置され、注入領域に対応する領域
    にあっては配向処理された配向膜が配置されないことに
    より前記液晶組成物がランダム配向されている事を特徴
    とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  7. 【請求項7】 対向配置されるアレイ基板及び対向基板
    には液晶組成物に接して配向膜が配置され、注入領域に
    対応する領域にあっては配向処理された配向膜が配置さ
    れないことにより前記液晶組成物がランダム配向されて
    いる事を特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。
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