JP2007052262A - 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】製造コストを削減することが可能であるとともに、表示品位の優れた液晶表示装置及びこの液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】アレイ基板100と対向基板200との間に液晶層300を保持して構成された液晶表示装置において、画像を表示する表示領域102にマトリクス状に配置されそれぞれ対応する色のカラーフィルタ層24(R、G、B)を備えた複数の色画素PX(R、G、B)と、各色画素を区画するバンクBKと、を有し、バンクBKは、青色画素PXBに配置された青色カラーフィルタ層24Bと同一の着色樹脂材料によって形成されたことを特徴とする。
【選択図】 図3
【解決手段】アレイ基板100と対向基板200との間に液晶層300を保持して構成された液晶表示装置において、画像を表示する表示領域102にマトリクス状に配置されそれぞれ対応する色のカラーフィルタ層24(R、G、B)を備えた複数の色画素PX(R、G、B)と、各色画素を区画するバンクBKと、を有し、バンクBKは、青色画素PXBに配置された青色カラーフィルタ層24Bと同一の着色樹脂材料によって形成されたことを特徴とする。
【選択図】 図3
Description
この発明は、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法に係り、特に、インクジェット方式によりカラーフィルタ層を形成した液晶表示装置に関する。
アクティブマトリクス型液晶表示装置は、マトリクス状に配置された画素を備え、電極を有する一対の基板間に液晶層を保持して構成されている。すなわち、アレイ基板は、互いに直交するように配列された走査線及び信号線と、走査線と信号線との交差部近傍に配置された薄膜トランジスタ(TFT)と、画素毎にTFTに接続された画素電極と、を備えている。対向基板は、複数の画素に共通の対向電極を備えている。
また、カラー表示用液晶表示装置は、いずれか一方の基板に、画素毎に配置された赤(R)、緑(G)、青(B)にそれぞれ着色されたカラーフィルタ層を備えている。すなわち、赤色画素は赤色カラーフィルタ層を備えている。緑色画素は緑色カラーフィルタ層を備えている。青色画素は青色カラーフィルタ層を備えている。このような構成の一対の基板は、粒径の均一なプラスティックビーズなどのスペーサを挟持した状態で貼り合わせられ、スペーサによって形成された基板間のセルギャップに液晶層を保持している。
このような液晶表示装置においては、フォトリソグラフィプロセスによりカラーフィルタ層を一方の基板上に形成するのが一般的である。フォトリソグラフィプロセスは、塗布工程、露光工程、現像工程、焼成工程などといった多くの処理が必要であり、製造コストの削減が困難である。
そこで、インクジェット方式によりカラーフィルタ層を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。また、インクジェット方式では、受容層を設けてその上から染色する方式(例えば、特許文献2参照)や、バンクを設けてその間にインクを塗布する方式(例えば、特許文献3参照)などが提案されている。
特開2000−122072号公報
特開平10−148713号公報
特開2000−353594号公報
上述したように、インクジェット方式によりカラーフィルタ層を形成する場合、バンクによって各色画素を区画する方式がパターニング精度の点で優れている。しかしながら、バンクを形成するプロセスとして、別途のフォトリソグラフィプロセスが必要となり、製造コストの増大を招く。
そこで、この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、製造コストを削減することが可能であるとともに、表示品位の優れた液晶表示装置及びこの液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
この発明の第1の態様による液晶表示装置は、
第1基板と第2基板との間に液晶層を保持して構成された液晶表示装置において、
画像を表示する表示領域にマトリクス状に配置され、それぞれ対応する色のカラーフィルタ層を備えた複数の色画素と、
各色画素を区画するバンクと、を有し、
前記バンクは、第1色画素に配置された第1カラーフィルタ層と同一の着色樹脂材料によって形成されたことを特徴とする。
第1基板と第2基板との間に液晶層を保持して構成された液晶表示装置において、
画像を表示する表示領域にマトリクス状に配置され、それぞれ対応する色のカラーフィルタ層を備えた複数の色画素と、
各色画素を区画するバンクと、を有し、
前記バンクは、第1色画素に配置された第1カラーフィルタ層と同一の着色樹脂材料によって形成されたことを特徴とする。
この発明の第2の態様による液晶表示装置の製造方法は、
第1基板と第2基板との間に液晶層を保持して構成され、画像を表示する表示領域にマトリクス状に配置された複数の色画素を備える液晶表示装置の製造方法であって、
第1基板において、着色樹脂材料をパターニングすることにより第1色画素に対応した領域に第1カラーフィルタ層を形成するとともに、各色画素を区画するバンクを形成する工程と、
前記バンクによって区画された第2色画素に対応した領域にインクジェット方式により第2カラーフィルタ層を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする。
第1基板と第2基板との間に液晶層を保持して構成され、画像を表示する表示領域にマトリクス状に配置された複数の色画素を備える液晶表示装置の製造方法であって、
第1基板において、着色樹脂材料をパターニングすることにより第1色画素に対応した領域に第1カラーフィルタ層を形成するとともに、各色画素を区画するバンクを形成する工程と、
前記バンクによって区画された第2色画素に対応した領域にインクジェット方式により第2カラーフィルタ層を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする。
この発明によれば、製造コストを削減することが可能であるとともに、表示品位の優れた液晶表示装置及びこの液晶表示装置の製造方法を提供することができる。
以下、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置及びその製造方法について図面を参照して説明する。
図1及び図2に示すように、この実施の形態に係る液晶表示装置、例えばアクティブマトリクス型液晶表示装置は、液晶表示パネル10を備えている。この液晶表示パネル10は、アレイ基板100と、このアレイ基板100に対向配置された対向基板200と、アレイ基板100と対向基板200との間に保持された液晶層300とを備えている。これらのアレイ基板100と対向基板200とは、液晶層300を保持するための所定のギャップを形成しつつシール材106によって貼り合わせられている。液晶層300は、アレイ基板100と対向基板200との間のギャップに封入された液晶組成物によって構成されている。
このような液晶表示パネル10において、画像を表示する表示領域102は、マトリクス状に配置された複数の画素PXによって構成されている。表示領域102の周縁は、額縁状に形成された遮光層SPによって遮光されている。
表示領域102において、アレイ基板100は、図2に示すように、m×n個の画素電極151、m本の走査線Y1〜Ym、n本の信号線X1〜Xn、m×n個のスイッチング素子121などを有している。一方、表示領域102において、対向基板200は、対向電極204などを備えている。
画素電極151は、表示領域102においてマトリクス状に配置されている。走査線Yは、これら画素電極151の行方向に沿って配列されている。信号線Xは、これら画素電極151の列方向に沿って配列されている。スイッチング素子121は、例えばポリシリコン半導体層を有する薄膜トランジスタすなわち画素TFTによって構成されている。このスイッチング素子121は、複数の画素PXにそれぞれ対応して走査線Y及び信号線Xの交差部近傍に配置されている。対向電極204は、すべての画素PXに対して共通に配置されており、液晶層300を介してm×n個の画素電極151すべてに対向する。
表示領域102周辺の周辺領域104において、アレイ基板100は、走査線Y1〜Ymを駆動する駆動TFTを含む走査線駆動回路18及び信号線X1〜Xnを駆動する駆動TFTを含む信号線駆動回路19の少なくとも一部などを備えている。これらの走査線駆動回路18及び信号線駆動回路19に含まれる駆動TFTは、ポリシリコン半導体層を有するnチャネル型薄膜トランジスタ及びpチャネル型薄膜トランジスタによって構成されている。
図3に示した液晶表示装置の表示領域102において、アレイ基板100は、ガラス基板などの透明な絶縁性基板11上に、画素PX毎に配置された画素TFT121、各画素TFT121を覆うように形成されたカラーフィルタ層24(R、G、B)、カラーフィルタ層24上に画素PX毎に配置された画素電極151、カラーフィルタ層24上に形成された柱状スペーサ31、複数の画素電極151全体を覆うように形成された配向膜13Aなどを備えている。また、アレイ基板100は、周辺領域104において、表示領域102の外周を取り囲むように配置された遮光層SPを備えている。
赤色画素PXRは、主に赤色成分の光を透過する赤色カラーフィルタ層24Rを備えている。緑色画素PXGは、主に緑色成分の光を透過する緑色カラーフィルタ層24Gを備えている。青色画素PXBは、主に青色成分の光を透過する青色カラーフィルタ層24Bを備えている。これらのカラーフィルタ層24(R、G、B)は、赤色(R)、緑色(G)、及び、青色(B)にそれぞれ着色された着色樹脂材料によって構成されている。
画素電極151は、ITO(インジウム・ティン・オキサイド)等の光透過性導電部材によって形成されている。各画素電極151は、各カラーフィルタ層24(R、G、B)を貫通するスルーホール26を介して対応する画素TFT121にそれぞれ接続されている。
各画素TFT121は、図4に、より詳細な構造を示すように、ポリシリコン膜によって形成された半導体層112を有している。この半導体層112は、絶縁性基板11上に配置されたアンダーコーティング層60上に配置され、チャネル領域112Cの両側にそれぞれ不純物をドープすることによって形成されたドレイン領域112D及びソース領域112Sを有している。
画素TFT121のゲート電極63は、走査線Yと一体に形成され、ゲート絶縁膜62を介して半導体層112に対向して配置されている。ドレイン電極88は、信号線Xと一体に形成され、ゲート絶縁膜62及び層間絶縁膜76を貫通するコンタクトホール77を介して半導体層112のドレイン領域112Dに電気的に接続されている。ソース電極89は、ゲート絶縁膜62及び層間絶縁膜76を貫通するコンタクトホール78を介して半導体層112のソース領域112Sに電気的に接続されている。また、ソース電極89は、カラーフィルタ層24(R、G、B)に形成されたスルーホール26を介して画素電極151に電気的に接続されている。これにより、画素TFT121は、走査線Y及び信号線Xに接続され、走査線Yからの駆動電圧により導通し、信号線Xからの信号電圧を画素電極151に印加する。
画素電極151は、液晶容量CLと電気的に並列な補助容量CSを形成する補助容量素子に電気的に接続されている。すなわち、補助容量電極61は、不純物がドープされたポリシリコン膜によって形成されている。この補助容量電極61は、半導体層112と同様に、アンダーコーティング層60上に配置されている。また、コンタクト電極80は、ゲート絶縁膜62及び層間絶縁膜76を貫通するコンタクトホール79を介して補助容量電極61に電気的に接続されている。画素電極151は、カラーフィルタ層24を貫通するコンタクトホール81を介してコンタクト電極80に電気的に接続されている。これにより、画素TFT121のソース電極89、画素電極151、及び補助容量電極61は、同電位となる。一方、補助容量線52は、その少なくとも一部がゲート絶縁膜62を介して補助容量電極61に対向配置され、所定電位に設定されている。
これら信号線X、走査線Y、及び補助容量線52等の配線部は、アルミニウムや、モリブデン−タングステンなどの遮光性を有する低抵抗材料によって形成されている。この実施の形態では、互いに略平行に配置された走査線Y及び補助容量線52は、モリブデン−タングステンによって形成されている。また、層間絶縁膜76を介して走査線Yに対して略直交するように配置された信号線Xは、主にアルミニウムによって形成されている。また、信号線Xと一体のドレイン電極88、ソース電極89、及び、コンタクト電極80も、信号線と同様に主にアルミニウムによって形成されている。
一方、図3に示すように、遮光層SPは、光の透過を遮るために遮光性を有する感光性樹脂材料、例えば黒色樹脂などの有色樹脂によって形成されている。柱状スペーサ31は、黒色樹脂などの有色樹脂によって形成されている。この柱状スペーサ31は、遮光性を有する配線部上(画素TFT121上も含む)に位置するように配置されている。配向膜13Aは、液晶層300に含まれる液晶分子を所定方向に配向する。
対向基板200は、ガラス基板などの透明な絶縁性基板21上に形成された対向電極204、この対向電極204を覆う配向膜13Bなどを有している。対向電極204は、ITO等の光透過性導電部材によって形成されている。配向膜13Bは、液晶層300に含まれる液晶分子を所定方向に配向する。アレイ基板100の外面には、偏光板PL1が設けられている。対向基板200の外面には、偏光板PL2が設けられている。
ところで、上述した液晶表示パネル10は、図3に示すように、各色画素PX(R、G、B)を区画するバンクBKを備えている。つまり、バンクBKは、各色画素PX(R、G、B)の境界、例えば色画素間に配置された配線部上に沿って配置されている。このバンクBKは、複数の色画素PX(R、G、B)のうちの特定の色画素に配置されたカラーフィルタ層と同一の着色樹脂材料を用いて形成されている。つまり、バンクBKは、少なくともそれ自身を形成する着色樹脂材料(例えば青色着色樹脂材料)とは異なる色画素の間(例えば赤色画素と緑色画素との間)に配置される。
この実施の形態では、バンクBKは、アレイ基板100において青色画素PXBに配置された青色カラーフィルタ層24Bを形成するのと同一の青色に着色された樹脂材料によって形成されている。つまり、バンクBKは、青色カラーフィルタ層24Bと同一工程で形成することが可能である。また、例えば、ストライプ状に同一色の色画素PX(R、G、B)が並んだ表示領域102においては、バンクBKは、少なくとも赤色画素PXRと緑色画素PXGとの間にストライプ状に配置される。なお、バンクBKの形状は、ストライプ状に限らず、各色画素PX(R、G、B)をそれぞれ個別に区画するように格子状に形成しても良い。
バンクBKを形成する樹脂材料は、以下の少なくとも1つの条件を満足するように選択されることが望ましい。
1)複数の色画素PX(R、G、B)にそれぞれ配置されたカラーフィルタ層24(R、G、B)のうち、最も先に形成されるカラーフィルタ層(例えば青色カラーフィルタ層)と同一の着色樹脂材料によってバンクBKを形成することが望ましい。これにより、バンクBKは最先のカラーフィルタ層と同時に形成することが可能となるため、バンクBKを形成するための別個の製造工程(フォトリソグラフィプロセス)が不要となり、製造コストを低減することができる。
また、後に形成されるカラーフィルタ層(例えば赤色カラーフィルタ層及び緑色カラーフィルタ層)はインクジェット方式によって形成することが可能となる。すなわち、バンクBK(さらには青色カラーフィルタ層)によって囲まれた領域内にインクジェット方式により液滴を吐出することにより、他の色のカラーフィルタ層を形成することが可能である。これにより、これらのカラーフィルタ層をそれぞれフォトリソグラフィプロセスによって形成する場合よりも工程数の削減が可能であり、製造コストを低減することができる。
なお、色画素が3種類の場合、最先に形成されるカラーフィルタ層と同一の着色樹脂材料を用いてバンクBKを形成することが望ましいが、2番目に形成されるカラーフィルタ層と同一の着色樹脂材料を用いてバンクBKを形成し、3番目に形成されるカラーフィルタ層をインクジェット方式で形成しても、全カラーフィルタ層をフォトリソグラフィプロセスで形成する場合より工程数の削減が可能であり、製造コストを低減できるので有効である。
2)複数の色画素PX(R、G、B)にそれぞれ配置されたカラーフィルタ層24(R、G、B)のうち、最も低い透過率を有するカラーフィルタ層(例えば青色カラーフィルタ層)と同一の着色樹脂材料によってバンクBKを形成することが望ましい。このバンクBKは、配線部に沿って配置され、ブラックマトリクスとしての機能も兼ねるため、透過率の低い材料を用いて形成することにより、コントラストなどの表示品位を向上させることが可能である。
3)複数の色画素PX(R、G、B)にそれぞれ配置されたカラーフィルタ層24(R、G、B)のうち、最も厚い膜厚を有するカラーフィルタ層(例えば青色カラーフィルタ層)と同一の着色樹脂材料によってバンクBKを形成することが望ましい。バンクBKを形成した後に他のカラーフィルタ層をインクジェット方式により形成しようとすると、液滴がバンクBKから溢れないようにすることが要求される。このため、最も厚い膜厚でバンクBKを形成することにより、混色などが防止され、表示品位を向上させることが可能である。
次に、上述した液晶表示パネル10の製造方法について説明する。
アレイ基板100の製造工程では、まず、絶縁性基板11上にアンダーコーティング層60を形成した後、画素TFT121などのポリシリコン半導体層112及び補助容量電極61を形成する。続いて、ゲート絶縁膜62を形成した後、走査線Y、補助容量線52、及び、走査線Yと一体のゲート電極63などの各種配線を形成する。
続いて、ゲート電極63をマスクとして、ポリシリコン半導体層112に不純物を注入し、ドレイン領域112D及びソース領域112Sを形成した後、基板全体をアニールすることにより不純物を活性化する。続いて、層間絶縁膜76を形成した後、信号線Xを形成するとともに、信号線Xと一体に画素TFT121のドレイン電極88、ソース電極89、及びコンタクト電極80を形成する。このとき、ドレイン電極88はコンタクトホール77を介してドレイン領域112Dにコンタクトし、ソース電極89はコンタクトホール78を介してソース領域112Sにコンタクトし、コンタクト電極80はコンタクトホール79を介して補助容量電極61にコンタクトする。
続いて、図5A乃至図5Cに示すように、各色の画素に対応する色のカラーフィルタ層24(R、G、B)を形成する。すなわち、スピンナーにより、青色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジスト膜CBV−S625C(富士フィルムアーチ(株)製)を基板全面に塗布する。そして、このレジスト膜を、青色画素に対応したパターン及びバンクに対応したパターン(例えば画素TFT121を含む配線部に対応したパターン)を有するフォトマスクを用いて365nmの波長で100mJ/cm2の露光量で露光する。そして、このレジスト膜をKOHの1%水溶液で20秒間現像し、さらに水洗した後、焼成する。これにより、図5Aに示したように、3.5μmの膜厚を有する青色カラーフィルタ層24B及びバンクBKが形成される。このとき、青色カラーフィルタ層24B及びバンクBKに画素TFT121とのコンタクトを可能とする20μm×20μmのスルーホール26も同時に形成する。
続いて、インクジェット方式により赤色画素PXRに対応して赤色カラーフィルタ層24Rを形成する。すなわち、インクジェットノズルを用いて赤色の顔料を20wt%分散させたポリイミド樹脂を、バンクBK及び青色カラーフィルタ層24Bで囲まれた赤色画素PXRが形成されるべき部分に塗布した後、100℃で2分間加熱処理する。これにより、図5Bに示したように、3.0μmの膜厚を有する赤色カラーフィルタ層24Rが形成される。
続いて、同様に、インクジェット方式により緑色画素PXGに対応して緑色カラーフィルタ層24Gを形成する。すなわち、インクジェットノズルを用いて緑色の顔料を20wt%分散させたポリイミド樹脂を、バンクBK及び青色カラーフィルタ層24Bで囲まれた緑色画素PXGが形成されるべき部分に塗布した後、100℃で2分間加熱処理する。これにより、図5Cに示したように、3.2μmの膜厚を有する緑色カラーフィルタ層24Gが形成される。
続いて、カラーフィルタ層24(R、G、B)上に、画素電極151を形成する。すなわち、ITO金属材料を1500オングストロームの膜厚でスパッタ法により成膜した後、フォトリソグラフィプロセスによりパターニングする。これにより、各色画素PX(R、G、B)に対応して、スルーホール26を介して画素TFT121にコンタクトした画素電極151が形成される。
続いて、基板間に所望のギャップを形成するための柱状スペーサ31を形成する。すなわち、スピンナーにより、例えば透明な紫外線硬化型アクリル樹脂レジスト膜を基板全面に所定の膜厚で塗布する。そして、このレジスト膜を乾燥した後に、所定のパターンを有するフォトマスクを用いて365nmの波長で、100mJ/cm2の露光量で露光する。そして、このレジスト膜をpH11.5のアルカリ水溶液にて現像し、200℃で60分間焼成する。これにより、柱状スペーサ31が形成される。
続いて、基板全面に、垂直配向膜材料AL−3046(JSR(株)製)を800オングストロームの膜厚で塗布した後に、焼成し、配向膜13Aを形成する。これにより、アレイ基板100が製造される。
一方、対向基板200の製造工程では、まず、絶縁性基板21上に対向電極22を形成する。その後、基板全体に垂直配向膜材料AL−3046(JSR(株)製)を800オングストロームの膜厚で塗布した後に、焼成し、配向膜13Bを形成する。これにより、対向基板200が製造される。
この液晶表示パネル10の製造工程では、アレイ基板100の外縁に沿ってシール材106を印刷塗布する。このとき、シール材106は、液晶注入口32を確保するよう塗布される。その後、アレイ基板100から対向電極204に電圧を印加するための電極転移材をシール材106の周辺の電極転移電極上に形成する。続いて、アレイ基板100の配向膜13Aと対向基板200の配向膜13Bとが互いに対向するようにアレイ基板100と対向基板200とを配置する。その後、両基板を加圧しながら加熱してシール材106を硬化させる。これにより、両基板を貼り合わせる。続いて、例えば正の誘電率異方性を有する液晶組成物ZLI−1565(MERCK社製)を液晶注入口32から注入する。その後、液晶注入口32を封止部材33によって封止する。これにより、液晶層300を形成する。
以上のような製造方法によって液晶表示パネルが製造される。液晶表示装置における表示モードとしては、本実施形態の他に、例えばTN(ツイステッド ネマティック)モード、ST(スーパー ツイステッド ネマティック)モード、GH(ゲスト−ホスト)モード、ECB(電界制御複屈折)モード、強誘電性液晶などが適用可能である。
このようにして製造したカラー液晶表示装置によれば、画素開口率は約60%であり、点灯したところ、各色のカラーフィルタ層をすべてフォトリソグラフィプロセスで形成した場合と同等の優れた表示品位が得られた。
なお、この発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々変更が可能である。以下に、この発明の他の実施の形態について説明する。なお、上述した実施の形態と同一の構成については、同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。
すなわち、図6に示すように、他の実施の形態に係る液晶表示パネル10のアレイ基板100は、表示領域102において、透明な絶縁性基板11上に、マトリクス状に配置された複数の画素にそれぞれ対応して形成された画素TFT121、画素TFT121に接続された画素電極151、複数の画素電極151全体を覆うように配置された配向膜13Aなどを備えている。
対向基板200は、透明な絶縁性基板21上の表示領域102内において画素毎に形成されたカラーフィルタ層24(R、G、B)を備えている。また、対向基板200は、カラーフィルタ層24(R、G、B)上に形成されすべての画素に共通の対向電極204、この対向電極204を覆うように配置された配向膜13Bなどを有している。さらに、対向基板200は、周辺領域104において、表示領域102の周縁に沿って配置された遮光層SPを備えている。さらにまた、対向基板200は、アレイ基板100との間に所望のギャップを形成するための柱状スペーサ31を備えている。
ところで、上述した液晶表示パネル10は、各色画素PX(R、G、B)を区画するバンクBKを備えている。つまり、バンクBKは、各色画素PX(R、G、B)の境界、例えば色画素間に配置された配線部上に沿って配置されている。このバンクBKは、複数の色画素PX(R、G、B)のうちの特定の色画素に配置されたカラーフィルタ層と同一の着色樹脂材料を用いて形成されている。つまり、バンクBKは、少なくともそれ自身を形成する着色樹脂材料(例えば青色着色樹脂材料)とは異なる色画素の間(例えば赤色画素と緑色画素との間)に配置される。
この実施の形態では、バンクBKは、対向基板200において青色画素PXBに配置された青色カラーフィルタ層24Bを形成するのと同一の青色に着色された樹脂材料によって形成されている。つまり、バンクBKは、青色カラーフィルタ層24Bと同一工程で形成することが可能である。また、例えば、ストライプ状に同一色の色画素PX(R、G、B)が並んだ表示領域102においては、バンクBKは、少なくとも赤色画素PXRと緑色画素PXGとの間にストライプ状に配置される。なお、バンクBKの形状は、ストライプ状に限らず、各色画素PX(R、G、B)をそれぞれ個別に区画するように格子状に形成しても良い。
これにより、バンクBKは、いずれかのカラーフィルタ層と同時に形成することが可能となるため、バンクBKを形成するための別個の製造工程(フォトリソグラフィプロセス)が不要となり、製造コストを低減することができる。また、後に形成されるカラーフィルタ層(例えば赤色カラーフィルタ層及び緑色カラーフィルタ層)はインクジェット方式によって形成することが可能となるため、これらのカラーフィルタ層をそれぞれフォトリソグラフィプロセスによって形成する場合よりも工程数の削減が可能であり、製造コストを低減することができる。
また、バンクBKは、配線部に沿って配置され、ブラックマトリクスとしての機能も兼ねるため、透過率の低い材料を用いて形成することにより、コントラストなどの表示品位を向上させることが可能である。
さらに他の実施の形態について説明する。
図8に示す液晶表示パネル10は、色画素毎に液晶層300を保持する基板間のギャップが異なるマルチギャップ構造を有している。すなわち、各画素PXにおける基板間のギャップ(すなわちアレイ基板100の配向膜13Aと対向基板200の配向膜13Bとで保持される液晶層300の厚さに対応する)は、各画素PXに配置されたカラーフィルタ層24(R、G、B)を透過する光の主波長に応じて決定される。つまり、液晶層300の屈折率異方性Δnを考慮した実効的な液晶層300の厚さ(d・Δn)は、液晶層300を透過する透過光(各画素PXに配置されたカラーフィルタ層24(R、G、B)を透過する光の主波長)の透過率Tが最大となるように設定される。
図8に示した実施の形態では、アレイ基板100と対向基板200とを互いに平行に配置した場合、赤色カラーフィルタ層24Rの膜厚が最も小さく、青色カラーフィルタ層24Bの膜厚が最も大きい。すなわち、
赤色カラーフィルタ層の膜厚<緑色カラーフィルタ層の膜厚<青色カラーフィルタ層の膜厚
の関係が成り立っている。
赤色カラーフィルタ層の膜厚<緑色カラーフィルタ層の膜厚<青色カラーフィルタ層の膜厚
の関係が成り立っている。
これにより、表示領域102には、ギャップの異なる2種類以上の画素が形成される。つまり、赤色カラーフィルタ層24Rを有する赤色画素PXRでのギャップが最も大きく、青色カラーフィルタ層24Bを有する青色画素PXBでのギャップが最も小さいマルチギャップ構造が構成される。すなわち、
赤色画素のギャップ>緑色画素のギャップ>青色画素のギャップ
の関係が成り立っている。
赤色画素のギャップ>緑色画素のギャップ>青色画素のギャップ
の関係が成り立っている。
上述したマルチギャップ構造について、さらに具体的に説明する。例えば、図8に示した構造において、赤色画素PXR及び青色画素PXBに着目する。
すなわち、表示領域102は、マトリクス状に配置されたギャップの異なる少なくとも2種類の画素を有している。赤色画素(第1色画素)PXRは、液晶層300を保持するための第1ギャップを有している。青色画素(第2色画素)PXBは、第1ギャップより小さい第2ギャップを有している。
このような第1ギャップ及び第2ギャップは、それぞれの画素に配置されたカラーフィルタ層の膜厚によって制御可能である。すなわち、アレイ基板(第1基板)100は、赤色画素(第1色画素)PXRに対応して赤色カラーフィルタ層(第1カラーフィルタ層)24Rを有するとともに、青色画素(第2色画素)PXBに対応して青色カラーフィルタ層(第2カラーフィルタ層)24Bを有している。
このようなマルチギャップ構造においても、上述した各実施の形態と同様に、液晶表示パネル10は、図8に示すように、各色画素PX(R、G、B)を区画するバンクBKを備えている。つまり、バンクBKは、各色画素PX(R、G、B)の境界、例えば色画素間に配置された配線部上に沿って配置されている。このバンクBKは、複数の色画素PX(R、G、B)のうちの特定の色画素に配置されたカラーフィルタ層と同一の着色樹脂材料を用いて形成されている。つまり、バンクBKは、少なくともそれ自身を形成する着色樹脂材料(例えば青色着色樹脂材料)とは異なる色画素の間(例えば赤色画素と緑色画素との間)に配置される。
この実施の形態では、バンクBKは、アレイ基板100において青色画素PXBに配置された青色カラーフィルタ層24Bを形成するのと同一の青色に着色された樹脂材料によって形成されている。つまり、バンクBKは、青色カラーフィルタ層24Bと同一工程で形成することが可能である。また、例えば、ストライプ状に同一色の色画素PX(R、G、B)が並んだ表示領域102においては、バンクBKは、少なくとも赤色画素PXRと緑色画素PXGとの間にストライプ状に配置される。なお、バンクBKの形状は、ストライプ状に限らず、各色画素PX(R、G、B)をそれぞれ個別に区画するように格子状に形成しても良い。
この実施の形態では、複数の色画素PX(R、G、B)にそれぞれ配置されたカラーフィルタ層24(R、G、B)のうち、最も厚い膜厚を有するカラーフィルタ層(例えば青色カラーフィルタ層)と同一の着色樹脂材料によってバンクBKを形成することが望ましい。これにより、バンクBKはいずれかのカラーフィルタ層と同時に形成することが可能となるため、バンクBKを形成するための別個の製造工程(フォトリソグラフィプロセス)が不要となり、製造コストを低減することができる。
また、後に形成されるカラーフィルタ層(例えば赤色カラーフィルタ層及び緑色カラーフィルタ層)はインクジェット方式によって形成することが可能となり、これらのカラーフィルタ層をそれぞれフォトリソグラフィプロセスによって形成する場合よりも工程数の削減が可能であり、製造コストを低減することができる。バンクBKを形成した後に他のカラーフィルタ層をインクジェット方式により形成しようとすると、液滴がバンクBKから溢れないようにすることが要求される。このため、最も厚い膜厚でバンクBKを形成することにより、混色などが防止され、表示品位を向上させることが可能である。
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
上述した各実施の形態において、液晶表示パネル10は、透過型であってもよいし反射型であっても良い。透過型の液晶表示パネル10として適用した液晶表示装置は、液晶表示パネル10を照明する面光源装置を備え、さらに、画素電極151は、光透過性を有する導電性部材によって形成される。反射型の液晶表示パネル10として適用した液晶表示装置では、画素電極151は、光反射性を有する導電性部材によって形成される。
10…液晶表示パネル
24(R、G、B)…カラーフィルタ層
100…アレイ基板
102…表示領域
200…対向基板
300…液晶層
PX(R、G、B)…色画素
BK…バンク
24(R、G、B)…カラーフィルタ層
100…アレイ基板
102…表示領域
200…対向基板
300…液晶層
PX(R、G、B)…色画素
BK…バンク
Claims (10)
- 第1基板と第2基板との間に液晶層を保持して構成された液晶表示装置において、
画像を表示する表示領域にマトリクス状に配置され、それぞれ対応する色のカラーフィルタ層を備えた複数の色画素と、
各色画素を区画するバンクと、を有し、
前記バンクは、第1色画素に配置された第1カラーフィルタ層と同一の着色樹脂材料によって形成されたことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第1カラーフィルタ層は、第2色画素に配置された第2カラーフィルタ層より低い透過率を有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記第1カラーフィルタ層は、第2色画素に配置された第2カラーフィルタ層より厚い膜厚を有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 第2色画素に配置された第2カラーフィルタ層は、前記第1カラーフィルタ層及び前記バンクを形成した後に、インクジェット方式により形成されたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記第1色画素は、前記第1基板と前記第2基板との間に前記液晶層を保持するための第1ギャップを有し、
第2色画素は、前記第1ギャップより大きい第2ギャップを有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - さらに、前記複数の画素は、前記第2ギャップより大きい第3ギャップを有する第3色画素を含むことを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置。
- 前記第1カラーフィルタ層は、前記第2色画素に配置された第2カラーフィルタ層及び前記第3色画素に配置された第3カラーフィルタ層より低い透過率を有することを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置。
- 前記第1カラーフィルタ層は、前記第2色画素に配置された第2カラーフィルタ層及び前記第3色画素に配置された第3カラーフィルタ層より厚い膜厚を有することを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置。
- 前記第2色画素に配置された第2カラーフィルタ層及び前記第3色画素に配置された第3カラーフィルタ層は、前記第1カラーフィルタ層及び前記バンクを形成した後に、インクジェット方式により形成されたことを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置。
- 第1基板と第2基板との間に液晶層を保持して構成され、画像を表示する表示領域にマトリクス状に配置された複数の色画素を備える液晶表示装置の製造方法であって、
第1基板において、着色樹脂材料をパターニングすることにより第1色画素に対応した領域に第1カラーフィルタ層を形成するとともに、各色画素を区画するバンクを形成する工程と、
前記バンクによって区画された第2色画素に対応した領域にインクジェット方式により第2カラーフィルタ層を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005237617A JP2007052262A (ja) | 2005-08-18 | 2005-08-18 | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010122660A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体薄膜トランジスタ基板とその製造方法 |
WO2010143467A1 (ja) * | 2009-06-09 | 2010-12-16 | シャープ株式会社 | カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ |
US7932986B2 (en) | 2008-01-17 | 2011-04-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display comprising a first signal line including a first portion and second portion, wherein the cross-section of the second portion is thinner than the cross-section of the first portion, and wherein a spacer overlaps the second portion |
JP2012098619A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ付tft基板 |
-
2005
- 2005-08-18 JP JP2005237617A patent/JP2007052262A/ja active Pending
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