JP2012098619A - カラーフィルタ付tft基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板と、上記基板上に形成された複数のTFT素子と、上記基板上に形成された複数色の画素部と、上記画素部上に形成された画素電極と、上記画素部間に配置され、上記TFT素子のドレイン電極と上記画素電極とを接続するためのコンタクトホールとを有し、上記コンタクトホール内には、上記ドレイン電極および上記画素電極の間に導電材料が配置されていることを特徴とするカラーフィルタ付TFT基板を提供することにより、上記目的を達成する。
【選択図】図1
Description
ここで、上記コンタクトホールは、上記画素電極および上記TFT素子のドレイン電極を接続するために設けられるものであるが、上記画素電極の断線は、上記コンタクトホールを設けることにより、上記画素電極を形成する前のカラーフィルタ付TFT基板の上記コンタクトホール部分の表面が平坦なものとならず、上記コンタクトホールの壁面において形成される画素電極の厚みを十分なものとすることができなかったり、画素電極が形成されない部分を生じてしまうことによって発生するものである。本発明者らは、上記の点に着目し、鋭意検討した結果、上記コンタクトホール内に導電材料を設置して、画素電極形成前のカラーフィルタ付TFT基板の上記コンタクトホール部分の表面の段差を小さくすることによって、上記コンタクトホール内、もしくは、上記コンタクトホール上に形成される画素電極についても十分な厚みで形成することができることを見出し、本発明を完成させるに至ったのである。
本発明のカラーフィルタ付TFT基板は、基板と、上記基板上に形成された複数のTFT素子と、上記基板上に形成された複数色の画素部と、上記画素部上に形成された画素電極と、上記画素部間に配置され、上記TFT素子のドレイン電極と上記画素電極とを接続するためのコンタクトホールとを有し、上記コンタクトホール内には、上記ドレイン電極および上記画素電極を接続する導電材料が配置されていることを特徴とするものである。
そこで、本発明者らは、上記課題を解決するため、上記画素電極の断線を防止する方法として、上記コンタクトホールの形状を制御する方法以外の新たな方法を用いることを検討した。
ここで、上記コンタクトホールは、上記画素電極および上記TFT素子のドレイン電極を接続するために設けられるものであるが、上記画素電極の断線は、上記コンタクトホールを設けることにより、上記画素電極を形成する前のカラーフィルタ付TFT基板のコンタクトホール部分の表面が平坦なものとならず、上記コンタクトホールの壁面において形成される画素電極の厚みを十分なものとすることができなかったり、画素電極が形成されない部分を生じてしまうことによって発生するものである。本発明者らは、上記の点に着目し、鋭意検討した結果、上記コンタクトホール内に導電材料を設置して、画素電極形成前のカラーフィルタ付TFT基板の上記コンタクトホール部分の表面の段差を小さくすることによって、上記コンタクトホール内、もしくは、上記コンタクトホール上に形成される画素電極についても十分な厚みで形成することができることを見出し、本発明を完成させるに至ったのである。
本発明によれば、上記コンタクトホール内に上記導電材料が配置されていることから、画素電極形成前のカラーフィルタ付TFT基板の上記コンタクトホール部分の表面の段差を小さくすることが可能となるので、上記コンタクトホール内、もしくは上記コンタクトホール上に上記画素電極を十分な厚みで形成することが可能となることから、上記画素電極の断線を防止することが可能となる。
以下、各態様についてそれぞれ説明する。
まず、本発明のカラーフィルタ付TFT基板の第1態様について説明する。
本態様のカラーフィルタ付TFT基板は、複数の画素部のうち少なくとも1色の画素部がインクジェット方式を用いて形成されたものである。
図1は、本態様のカラーフィルタ付TFT基板の一例を示す概略断面図である。図1に示すように、本態様のカラーフィルタ付TFT基板10は、基板1と、基板1上に形成された複数のTFT素子2と、TFT素子2上に形成され、少なくとも1色がインクジェット方式で形成された複数色の画素部3(図1では、緑色画素部3G、青色画素部3B、および赤色画素部3R)と、画素部3上に形成された画素電極4と、画素部3間に形成され、TFT素子2のドレイン電極25と画素電極4とを接続するためのコンタクトホールcとを有するものである。また、図1に示すように、上記コンタクトホールc内には、ドレイン電極25と画素電極4とを接続する導電材料5が配置されている。また、通常、画素部3およびコンタクトホールcは隔壁6(図1においては、画素部用隔壁6aおよびコンタクトホール用隔壁6b)によって区画されている。なお、図1においては、隔壁6が樹脂製遮光部用組成物からなる場合について示している。
また、本態様におけるTFT素子2は、通常、ゲート電極21と、ゲート電極21上に形成されたゲート絶縁膜22と、ゲート絶縁膜22上に形成された半導体層23と、半導体層23上に所定の間隔をあけて対向するように形成されたソース電極24およびドレイン電極25とを有するものである。
以下、本態様のカラーフィルタ付TFT基板に用いられる各構成について説明する。
本態様に用いられる導電材料は、上記コンタクトホール内の上記画素電極およびドレイン電極を接続するために配置されるものである。
本態様に用いられるコンタクトホールは、上記画素部間に形成され、上記TFT素子のドレイン電極と上記画素電極とを接続するために設けられるものである。また、本態様においては、上記コンタクトホールは、通常、後述する隔壁によって区画されているものである。
また、コンタクトホールの平面視上の形状を図2(a)、(b)に示すような四角形状とした場合は、上述した他の形状に比べて、コンタクトホールを小さく形成した場合もドレイン電極および画素電極を接続させるために必要な面積を確保しやすくなるからである。
本態様においては、コンタクトホールの形状が断線を起こしやすい逆テーパー形状であっても、上述した導電材料が配置されていることにより、画素電極の断線を防止することが可能となることから、上述した導電材料を配置することによる作用効果を大きく発揮することが可能となる。
なお、図3(a)、(b)は、本態様のカラーフィルタ付TFT基板の他の一例を示す概略断面図であり、説明していない符号については、図1と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本態様に用いられる画素部は、上記基板上に形成され、少なくとも1色がインクジェット方式で形成されたものである。また、本態様における画素部は、本態様のカラーフィルタ付TFT基板を液晶表示装置に用いた際に、画像表示に寄与する領域を指す。
また、通常、赤色画素部、緑色画素部、および青色画素部を有するものであるが、上記3色以外の画素部を有していてもよい。
本態様におけるTFT素子は、後述する基板上に複数設けられるものである。
TFT素子としては、特に限定されるものではなく、用いられる液晶表示装置の種類に応じて適宜選択され、例えば、a−Si TFT構造を有するものであってよく、p−Si TFT構造を有するものであってもよい。a−Si TFT構造を有するTFT素子の場合、正スタガ型(トップゲート構造)および逆スタガ型(ボトムゲート構造)のいずれであってもよい。また、逆スタガ型の場合、チャネルエッチ型およびチャネルプロテクト型のいずれであってもよい。一方、p−Si TFT構造を有するTFT素子の場合、プレーナ型およびスタガ型のいずれであってもよい。
本態様に用いられる画素電極は、上記画素部上にパターン状に形成され、かつ、上記コンタクトホール内で上記TFT素子と接続するように形成されるものである。
本態様に用いられる基板は、一般に液晶表示素子の基板として用いられるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ガラス板、プラスチック板などが好ましく挙げられる。
本態様のカラーフィルタ付TFT基板は上述した導電材料、コンタクトホール、画素部、TFT素子、画素電極、および基板を有するものであれば特に限定されるものではなく、他にも必要な部材を適宜選択して追加することが可能である。
本態様においては、通常は、画素部間には画素部を区画する隔壁が形成される。以下、隔壁について説明する。
本態様に用いられる隔壁は、上記コンタクトホールと上記画素部とをそれぞれ区画するために形成されるものである。なお、上記画素部を区画する隔壁は、通常、遮光部として用いられるものである。遮光部については、後述する「(b)遮光部」の項で説明するため、ここでの説明は省略する。
なお、図4は、本態様のカラーフィルタ付TFT基板の他の一例を示す概略断面図であり、青色画素部3Bと、隔壁6とが同一の青色画素部用組成物からなる例について示している。なお、図4において説明していない符号については、図1と同様とすることができるのでここでの説明は省略する。
本態様における隔壁の形態としては、上記コンタクトホールと上記画素部とを区画することができるものであれば、特に限定されるものではない。このような隔壁の形態としては、具体的には、図5に示すように、コンタクトホールcと画素部3とを区画する隔壁6が一体で形成されている態様(以下、Aの態様とする。)と、上述した図2で示したように、コンタクトホールcと画素部3とを区画する隔壁6が別体(図2においては、画素部用隔壁6aおよびコンタクトホール用隔壁6b)で形成されている態様(以下、Bの態様とする。)との2つの態様に分けて考えることができる。なお、図5は、本態様のカラーフィルタ付TFT基板の他の一例を示す概略平面図であり、画素部3間が、隔壁6が形成されている領域からなる例について示している。説明していない符号については、図1と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本態様の隔壁は、コンタクトホールと画素部とを区画する隔壁が一体で形成されているものである。
なお、本態様の「隔壁の線幅」とは、図5(b)に示すように画素部3間の最短距離xを指すものである。また、図5(b)は、図5(a)のB部分の拡大図を示している。
なお、本態様の隔壁における「上記画素部と上記コンタクトホールとの間の距離」とは、図5(b)に示すように、画素部3の端部からコンタクトホールcの端部までの最短距離yを指すものである。
本態様の隔壁は、コンタクトホールと画素部とを区画する隔壁が別体で形成されているものである。以下、コンタクトホールを区画する隔壁をコンタクトホール用隔壁、画素部を区画する隔壁を画素部用隔壁と称して説明する場合がある。
なお、本態様におけるコンタクトホール用隔壁の線幅とは、図2(b)に示すように、コンタクトホール用隔壁6bの一方の端部から他方までの端部の最短距離zを指すものである。
本態様における隔壁の形態としては、上述したAの態様とBの態様とのうち、特にAの態様であることが好ましい。上記コンタクトホールと上記画素部とを区画する隔壁が一体で形成されていることにより、上記隔壁をより容易に形成することが可能となるため、スループットを向上させることが可能となることから、本態様のカラーフィルタ付TFT基板をより低コストで得ることができるからである。
次に、本態様における隔壁に用いられる着色樹脂材料について説明する。上記着色樹脂材料としては、具体的には、上記樹脂製遮光部用組成物と、複数色の画素部のうちいずれか1色の画素部と同一の画素部用組成物とを挙げることができる。以下、それぞれについて説明する。
本態様に用いられる樹脂製遮光部用組成物について説明する。
本態様に用いられる樹脂製遮光部用組成物としては、上述した隔壁を形成することが可能なものであれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタの樹脂製遮光部に用いられるものと同様とすることができ、通常、樹脂および遮光材料を有するものである。
本態様における隔壁に用いられる画素部用組成物について説明する。
上記画素部用組成物は、上述した複数色の画素部のうち、いずれか1色の画素部に用いられるものであり、通常、フォトリソグラフィー方式により画素部を形成する際に用いられるものである。また、本態様において、上記画素部用組成物を用いて隔壁が形成される場合には、上記1色の画素部と同時に形成されるものである。
本態様に用いられる隔壁は、上記画素部をインクジェット方式を用いて形成した場合に、上記画素部形成用塗工液の混色や、上記コンタクトホール内に上記画素部形成用塗工液が流れ込むことを防止することが可能なものであれば特に限定されるものではない。本態様においてはなかでも、上記隔壁が撥液性を有するものであることが好ましい。上記隔壁が撥液性を有することにより、上記画素部形成用塗工液の混色やコンタクトホール内に上記画素部形成用塗工液が流れ込むことを好適に防止することが可能となるからである。
なお、表面張力が28mN/mの液体としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(BCA)を例示することができる。
また、上記接触角は、接触角測定器(例えば協和界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測定(マイクロシリンジから液滴を滴下して30秒後)することにより得ることができる。
また、上記フッ素含有物質の微粒子としては、例えば、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテル系共重合体、3フッ化エチレン−フッ化ビニリデン共重合体等からなる微粒子を挙げることができる。
さらに、上記フッ素含有基と親水基または親油基とを有するモノマーまたはオリゴマーとしては、例えば、下記一般式(1)〜(6)で表される化合物を例示することができる。
上記プラズマ照射方法では、樹脂を含む親液性隔壁の表面のみを撥液化することができ、上記基板表面の撥液化を抑制することができる。したがって、画素部形成用塗工液を塗布した際に、上記基板表面で、上記画素部形成用塗工液が十分に濡れ広がるものとすることができるからである。
本態様においては、上記TFT素子からの光漏れを防止するために、通常、上記TFT素子上に、遮光部を有することが好ましい。
このような遮光部としては、上記TFT素子からの光漏れを防止することが可能な程度の遮光性を有するものであれば特に限定されるものではない。
本態様においては、通常、上述した画素部を区画する隔壁が遮光部として用いられる。
本態様においては、上述した隔壁以外にも、必要な構成を適宜選択して用いることができる。このような部材としては、配向膜、オーバーコート層、柱状スペーサ等を挙げることができる。なお、これらの部材については、一般的なカラーフィルタ付TFT基板に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
次に、本発明のカラーフィルタ付TFT基板の第2態様について説明する。
本態様のカラーフィルタ付TFT基板は、複数の画素部の全てがフォトリソグラフィー方式を用いて形成されたものである。
図6は、本態様のカラーフィルタ付TFT基板の一例を示す概略断面図である。図6に示すように、本態様のカラーフィルタ付TFT基板10は、基板1と、基板1上に形成された複数のTFT素子2と、TFT素子2上に形成され、全てフォトリソグラフィー方式で形成された複数色の画素部3(図6では、緑色画素部3G、青色画素部3B、および赤色画素部3R)と、画素部3上に形成された画素電極4と、画素部3間に形成され、TFT素子2のドレイン電極25と画素電極4とを接続するためのコンタクトホールcとを有するものである。また、図6に示すように、コンタクトホールc内には、ドレイン電極25と画素電極4とを接続する導電材料5が配置されている。
本態様においては、通常、画素部3を区画するために遮光部6’が形成されている。なお、図6においては、遮光部6’が樹脂製遮光部用組成物からなる例について示している。また、TFT素子2については、図1と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本態様に用いられる導電材料は、上記コンタクトホール内に配置されるものであり、上記画素電極およびドレイン電極を接続するものである。
具体的には、上記画素部上に形成される画素電極の厚みを1としたときに、上記画素部表面から上記導電材料表面(上記カラーフィルタ付TFT基板のコンタクトホール部分の表面の段差)までの距離が、0〜5の範囲内、なかでも1〜4の範囲内、特に1〜3の範囲内となるように、上記導電材料の厚みを調整することが好ましい。上記画素電極の厚みに対して、上記カラーフィルタ付TFT基板のコンタクトホール部分の表面の段差を上記数値範囲のものとすることにより、上記コンタクトホール内、もしくはコンタクトホール上に形成される画素電極の断線を好適に防止することが可能となるからである。
本態様に用いられる画素部は、上記基板上に形成されるものであり、複数の画素部が全てフォトリソグラフィー方式で形成されたものである。
本態様のカラーフィルタ付TFT基板は、上記導電材料、コンタクトホール、画素部、TFT素子、画素電極、および基板を有するものであれば特に限定されるものではなく、必要な構成を適宜選択して追加することが可能である。
本態様においては、上記TFT素子上に形成される遮光部を有することが好ましい。ここで、本態様においては、上記画素部を全てフォトリソグラフィー方式を用いて形成することから、上述した第1態様のカラーフィルタ付TFT基板において形成される、画素部を区画する隔壁(遮光部)については、必ずしも形成しなければならないものではないが、上記TFT素子上に遮光部を形成することにより、本態様のカラーフィルタ付TFT基板を用いて液晶表示装置とする際に、共通電極基板との貼り合わせを容易に行うことが可能となるからである。また、TFT素子が形成されている領域のみに遮光部を形成することが可能となることから、上記画素部の開口率を高いものとすることが可能となる。
次に、本発明の液晶表示装置について説明する。
本発明の液晶表示装置は、上述した「A.カラーフィルタ付TFT基板」の項で説明したカラーフィルタ付TFT基板と、共通電極を有する共通電極基板と、上記カラーフィルタ付TFT基板および上記共通電極基板の間に設けられた液晶層とを有することを特徴とするものである。
図7におけるカラーフィルタ付TFT基板10については、図1と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、共通電極基板30は、第2基板31と、第2基板31上に形成された共通電極32とを有するものである。
以下、本発明の液晶表示装置に用いられる各構成についてそれぞれ説明する。
本発明に用いられるカラーフィルタ付TFT基板については、「A.カラーフィルタ付TFT基板」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明に用いられる共通電極基板は、共通電極を有するものである。また、通常、上記共通電極は自己支持性を有する基板上に形成されるものである。
なお、本発明に用いられる共通電極は、上記基板全面に形成されるものであってもよいし、上記カラーフィルタ付TFT基板上に形成された画素部に対向するように、パターン状に形成されているものであってもよい。
本発明に用いられる液晶層は、上記カラーフィルタ付TFT基板および共通電極基板の間に設けられるものである。上記液晶層については、一般的な液晶表示装置に用いられる液晶層と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明の液晶表示装置は、上述したカラーフィルタ付TFT基板、共通電極基板、および液晶層を有するものであれば特に限定されるものではなく、必要に応じて、他の構成についても適宜選択して用いることが可能である。このような構成としては、上記液晶表示装置の端部に設けられ、液晶層を封止する封止部材を挙げることができる。上記封止部材については、一般的な液晶表示装置に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
次に、カラーフィルタ付TFT基板の製造方法について説明する。
本発明のカラーフィルタ付TFT基板の製造方法は、複数のTFT素子が形成された基板上に、画素部を形成し、かつ、上記TFT素子のドレイン電極上にコンタクトホールを形成する画素部形成工程と、上記コンタクトホール内、もしくは上記コンタクトホール内に、導電材料をインクジェット方式を用いて配置する導電材料配置工程と、上記画素部上に画素電極を形成し、かつ、上記コンタクトホール内、もしくは上記コンタクトホール上に上記導電材料と接するように上記画素電極を形成する画素電極形成工程とを有することを特徴とするカラーフィルタ付TFT基板の製造方法である。
図8は本発明のカラーフィルタ付TFT基板の製造方法の一例を示す工程図である。本発明のカラーフィルタ付TFT基板の製造方法は、複数のTFT素子2が形成された基板1上に、画素部を区画する画素部用隔壁6aと、TFT素子2のドレイン電極25上に、コンタクトホールcを区画するコンタクトホール用隔壁6bとを形成し、ついでインクジェット方式を用いて複数色の画素部3(図8においては、緑色画素部3G、青色画素部3B、および赤色画素部3R)を形成する画素部形成工程(図8(a))と、コンタクトホールc内に、導電材料5をインクジェット方式を用いて配置する導電材料配置工程(図8(b))と、上記複数色の画素部上に画素電極4を形成し、かつ、コンタクトホールc内に導電材料5と接するように画素電極4を形成する画素電極形成工程(図8(c))とを有することを特徴とする製造方法である。なお、TFT素子2については、図1と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
以下、本発明のカラーフィルタ付TFT基板の製造方法における各工程についてそれぞれ説明する。
本工程は、複数のTFT素子が形成された基板上に、画素部を形成し、かつ、上記TFT素子のドレイン電極上にコンタクトホールを形成する工程である。
上記画素部の形成方法としては、例えば、画素部およびコンタクトホールを区画する隔壁を予め形成したのち、複数色の画素部を全てインクジェット方式を用いて形成する方法を挙げることができる。また、例えば、複数色の画素部を全てフォトリソグラフィー方式を用いて形成する方法を挙げることができる。また、フォトリソグラフィー方式を用いて1色の画素部と、画素部およびコンタクトホールを区画する隔壁を同時に形成したのち、他の色の画素部についてインクジェット方式を用いて形成する方法を挙げることができる。
また、本発明においては、上述した画素部の形成方法以外にも、一般的なカラーフィルタ付TFT基板の製造工程に用いられる画素部の形成方法を用いることができる。
上記コンタクトホール内に、導電材料をインクジェット方式を用いて配置する工程である。
本工程は、上記画素部上に画素電極を形成し、かつ、上記コンタクトホール内、もしくはコンタクトホール上に上記導電材料と接するように画素電極を形成する工程である。
本発明のカラーフィルタ付TFT基板の製造方法は、上述した画素部形成工程、導電材料配置工程、および画素電極形成工程を有する製造方法であれば特に限定されず、他にも必要な工程を適宜選択して追加することができる。このような工程としては、上記画素部をインクジェット方式で形成する場合において用いられる隔壁を形成する隔壁工程を挙げることができる。上記隔壁形成工程に用いられる隔壁の形成方法については、一般的なフォトリソグラフィー方式等と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、本発明においては、上記隔壁形成工程以外にも、上記画素部上にオーバーコート層を形成するオーバーコート層形成工程や、配向膜を形成する配向膜形成工程、柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程等を必要に応じて行うことができる。これらの工程については、一般的なカラーフィルタを製造する際に用いられる工程と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
上述した「A.カラーフィルタ付TFT基板」の項で説明したカラーフィルタ付TFT基板は、上述したカラーフィルタ付TFT基板の製造方法の他にも、例えば以下に示す製造方法を用いても製造することが可能である。
複数のTFT素子を形成したガラス基板上に撥液剤を含有する樹脂製遮光部用組成物(東京応化社製ネガ型レジストCFPR BK-IJ)をスピンコータで膜厚が2.7μmになるように塗布した後、この基板をホットプレートで加熱した。次に、所定のパターンを有するフォトマスクを用いUV露光装置にてマスク露光を実施し、続いてアルカリ現像を実施した後に純水で洗浄し、更にオーブンにて230℃で30分間、基板にベークを施すことにより、基板上に2.5μmの遮光性隔壁が形成された。この隔壁は開口部140μm×420μmの画素部用隔壁と30μmΦの円形状のコンタクトホール用隔壁とを有するものである。
次いで画素電極としてITO膜を成膜し、所定のパターン形状にパターニングしてカラーフィルタ付TFT基板を得た。
2 … TFT素子
3 … 画素部
3R … 赤色画素部
3G … 緑色画素部
3B … 青色画素部
4 … 画素電極
5 … 導電材料
6 … 隔壁
6’ … 遮光部
10 … カラーフィルタ付TFT基板
30 … 共通電極基板
31 … 第2基板
32 … 共通電極
40 … 液晶層
100 … 液晶表示装置
c … コンタクトホール
Claims (6)
- 基板と、前記基板上に形成された複数のTFT素子と、前記基板上に形成された複数色の画素部と、前記画素部上に形成された画素電極と、前記画素部間に配置され、前記TFT素子のドレイン電極と前記画素電極とを接続するためのコンタクトホールとを有し、
前記コンタクトホール内には、前記ドレイン電極および前記画素電極を接続する導電材料が配置されていることを特徴とするカラーフィルタ付TFT基板。 - 前記導電材料が導電性ペーストであることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ付TFT基板。
- 前記コンタクトホールの形状が、逆テーパー形状であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のカラーフィルタ付TFT基板。
- 前記画素部および前記コンタクトホールを区画する隔壁を有し、少なくとも1色の画素部がインクジェット方式で形成されたものであることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ付TFT基板。
- 基板、前記基板上に形成された複数のTFT素子、前記基板上に形成された複数色の画素部、前記画素部上に形成された画素電極、および前記画素部間に配置され、前記TFT素子のドレイン電極と前記画素電極とを接続するためのコンタクトホールを有し、前記コンタクトホール内には、前記ドレイン電極および前記画素電極を接続する導電材料が配置されているカラーフィルタ付TFT基板と、
共通電極を有する共通電極基板と、
前記カラーフィルタ付TFT基板および前記共通電極基板の間に設けられた液晶層と、
を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 複数のTFT素子が形成された基板上に、画素部を形成し、かつ、前記TFT素子のドレイン電極上にコンタクトホールを形成する画素部形成工程と、
前記コンタクトホール内に、導電材料をインクジェット方式を用いて配置する導電材料配置工程と、
前記画素部上に画素電極を形成し、かつ、前記コンタクトホール内、もしくは前記コンタクトホール上に前記導電材料と接するように前記画素電極を形成する画素電極形成工程と
を有することを特徴とするカラーフィルタ付TFT基板の製造方法。
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