JP2007183530A - アクティブアレイカラーフィルタ構造体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】親油性と疎油性の表面性質間の相違を利用した、アクティブアレイカラーフィルタ構造体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】インクがアクティブアレイ基板上に塗布されると、アクティブアレイ基板上の疎油性領域におけるインクは自然にはじかれるので、アクティブアレイ基板上のカラーフィルタ画素は自然に接点ビアを有し、画素電極及びスイッチ素子の電気的結合を促進する。製造中、カラーフィルタ基板とアクティブアレイ基板に必要な配列及び積層プロセスがないため、配列誤差が生じない。また、画素電極は対応するスイッチ素子の上を覆うために拡張できるので、スイッチ素子の悪化が減少する。
【選択図】図３

Description

本発明は液晶ディスプレイ（LCD）に関し、より具体的には、アクティブアレイカラーフィルタ構造体およびその製造方法に関するものである。
尚、この非仮出願は、2005年12月29日に台湾（中華民国）で出願された特許出願番号第094147324号の35U.S.C§119(a)下での優先権を主張し、この出願の全内容は参照によってここに組み込まれる。

近年、液晶ディスプレイ（LCD）や、プラズマディスプレイパネル（PDP）、電界放出ディスプレイ（FED）、ELディスプレイ（ELD）といった、様々な種類のフラットパネルディスプレイが開発されている。これらのフラットパネルディスプレイの中では、LCDは高解像度、軽量、小型、及び低駆動電圧という利点を有し、したがって、可搬性を重視した様々な情報、通信、及び家庭用電化製品に広く適用されている。

一般的に言って、LCDは隔てられ向かい合った２つの基板を有し、それらの基板同士間に液晶材料を挟み込んでいる。2つの基板は正反対の電極を有している。その電極に電圧が印加されると、電界が生じ、液晶材料を貫通する。ここで、液晶材料において、液晶分子の配列が誘導電界の強度に従って誘導電界の方向に変化し、これによって、LCDの光透過率が変化する。従って、LCDは誘導電界の強度を変化することによって撮像する。

製造プロセスにおいては、カラーフィルタ基板およびアクティブアレイ基板が共に積層された後、液晶材料はその間に充填される。積層される時、２つの基板は互いに正確に配列されなければならず、固定されたセルギャップの厚みは維持されなければならない。従って、配列及び積層プロセスは、通常、LCD製造のための全プロセスにおいて最も収益性の低いステップである。

現在、LCDは大型、高輝度、及び高解像度の傾向にある。しかしながら、解像度が増すと、誤差空間が狭まるので、カラーフィルタ基板及びアクティブアレイ基板の積層精度が低下し、開口率も低下し、LCDの輝度に直接影響する。大型化の要請に応えるために誤差を増大させると、カラーフィルタ基板及びアクティブアレイ基板の積層の収率が低下する。

従来のLCDの斜視図である図１を参照する。図１に示されるように、LCD１００はカラーフィルタ基板１２０、アクティブアレイ基板１４０、及び液晶材料１６０を含む。ここで、カラーフィルタ基板１２０は色を表示するために使用され、アクティブアレイ基板１４０の向かい側に配置され、カラーフィルタ構造体１２２、黒マトリクス１２４、及び共通電極１２６を有する。黒マトリクス１２４はカラーフィルタ構造体１２２同士間に配置される。共通電極１２６はその上にカラーフィルタ構造体１２２及び黒マトリクス１２４を有する。アクティブアレイ基板１４０はデータ線１４２、ゲート線１４４、画素電極１４６、及び薄膜トランジスタ（TFT）Tを含む。データ線１４２及びゲート線１４４は交互配置され、画素電極１４６及びTFT Tが配置される画素領域Pを形成する。TFT Tはデータ線１４２とゲート線１４４との交点近傍に配置され、アクティブアレイ基板１４０上にマトリクス状に配列される。TFT Tはスイッチ素子として使用され、画素電極１４６のスイッチ動作を制御する。また、蓄積電極１４８及びゲート線１４４は重なり合い、記憶キャパシタを形成する。

データ線はTFT Tのソースに接続され、ゲート線はTFTのゲートに接続される。スキャン信号がゲート線に入力され、TFTのゲートに電圧が印加されると、TFTはオンになる。このとき、信号線はTFTのソースからTFTのドドレーン電荷を入力するので、画素電極に電圧が印加される。続いて、ゲート線は元の状態に戻るので、TFTはオフになる。そして、次のゲート線がオン状態になり、次のステージの駆動動作が継続的に繰り返される。

しかしながら、従来のアクティブアレイ基板は、時間が経つとTFTの性質が急激に変化するという問題があった。即ち、TFTに電圧が印加されると、ある時間後に性質が変化するという問題が生じる。これはトランジスタのオフ特性と呼ばれる。トランジスタの悪化により、基板の寿命は減少される。

上記の問題を考慮し、本発明の目的は、アクティブアレイカラーフィルタ構造体およびその製造方法を提供し、基板の正確な位置合わせ及び積層の困難やトランジスタの悪化といった先行技術における問題を解決することである。

本発明の別の目的は、アクティブアレイカラーフィルタ構造体およびその製造方法を提供し、製造コスト及び機器コストを削減するために製造手順を簡素化し、且つ露光及び現像プロセスの使用頻度を減少することによって、製品の競争力を高めることである。

本発明の別の目的は、基板の寿命を延長し、製品の信頼性を向上し、高品質の表示効果を達成するため、スイッチ素子の悪化を減少することである。

本発明の更に別の目的は、スイッチ素子の光漏れを防ぐために光漏れを防ぐ機能で黒マトリクスを取り替えることである。

本発明の一態様に従えば、本発明に開示されるアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法は以下のステップを含む、即ち、複数のスイッチ素子を有するアクティブアレイ基板を提供するステップと、アクティブアレイ基板上に複数の疎油性領域を形成するために表面処理を施すステップと、各カラーフィルタ画素が疎油性領域に対応する少なくとも一つの接点ビアを有する、複数のカラーフィルタ画素を形成するために、少なくとも一つのインクをアクティブアレイ基板上に塗布するステップと、画素電極が接点ビアを通じて対応するスイッチ素子と電気的に結合している、複数の画素電極をカラーフィルタ画素上に形成するステップと、を含む。

本発明の別の態様に従えば、アクティブアレイ基板、複数のカラーフィルタ画素、及び複数の画素電極を含む、アクティブアレイカラーフィルタ構造体が提供される。アクティブアレイ基板はマトリクス状に配列された複数のスイッチ素子を備える。カラーフィルタ画素はそれぞれスイッチ素子に対応するアクティブアレイ基板上に置かれ、各カラーフィルタ画素は少なくとも一つの接点ビアを有する。加えて、複数の画素電極は、それぞれカラーフィルタ画素上に配置され、接点ビアを通じて対応するスイッチ素子に電気的に結合される。

本発明の更なる適用範囲は、これ以降の詳細な説明から明らかになる。しかしながら、この詳細な説明から、本発明の精神及び範囲内での様々な変更および修正は当業者には明らかになるので、詳細な説明及び具体例は、本発明の好適な実施形態を示す一方で、例示に過ぎないということが理解されるべきである。

本発明は、単に例示のためになされるこれ以降の詳細な説明からより完全に理解され、したがって、それは本発明を制限するものではない。

本発明の内容は、添付の図面を参照し、具体的な実施形態を通じて以下に詳細に説明される。説明文に記される参照番号は図面上の番号に対応する。

図２A乃至２D及び図３を参照する。図２A乃至２Dは、本発明の一実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造するための方法を示す。図３は、図２Dにおけるアクティブアレイカラーフィルタ構造体の部分Aの拡大斜視図である。

図２Aに示すように、アクティブアレイ基板２１０が設けられ、アクティブアレイ基板２１０は複数のスイッチ素子２１２を有する。アクティブアレイ基板２１０は、スイッチ素子２１２に接続された透明導電層２１６をさらに有する。

次に、図２Bに示すように、表面処理を通じてアクティブアレイ基板２１０上に複数の疎油性領域２１４が形成される。疎油性領域２１４は透明導電層２１６上に形成される。

次に、図２Cに示すように、複数のカラーフィルタ画素２２０をアクティブアレイ基板２１０上に形成するため、レッド、グリーン、及びブルーのインクがアクティブアレイ基板２１０上に塗布される。それらのインクがアクティブアレイ基板２１０上に塗布されると、親油性と疎油性の表面性質間の相違から、疎油性領域２１４上のインクは自然にはじかれるので、カラーフィルタ画素２２０上に接点ビア２２２が自然に形成される。

そして、図２D及び図３に示すように、画素電極２３０は、カラーフィルタ画素２２０上に形成され、接点ビア２２２を通じてカラーフィルタ画素２２０の下のスイッチ素子２１２と電気的に結合する。言い換えれば、接点ビア２２２内で露出される透明導電層２１６を覆うように、画素電極２３０は接点ビア２２２まで延出されており、透明導電層２１６はスイッチ素子２１２と接続されているので、スイッチ素子２１２及び画素電極２３０は透明電導層２１６を通じて電導される。画素電極は接点ビア内で露光される透明電導層を部分的または全面的に覆うために延出され得る。

従って、従来のカラーフィルタ基板はアクティブアレイ基板と一体化しており、製造中、カラーフィルタ基板とアクティブアレイ基板との配列または積層プロセスがなく、故に、配列誤差は生じず、開口率及び製造プロセスの収益性は自然に上昇し得る。特に、高解像度仕様の要求があるとき、ここで達成される効果はより一層著しいものとなる。このようにして、製造コスト及び機器コストを削減するために、開口率及びプロセスの収率を上げることに加えて、このプロセスは製造手順を簡素化し、且つ露光及び現像プロセスの使用頻度を減少することができ、それによって製品の競争力を高める。

疎油性表面処理に関しては、疎油性材料は、接点ビアが形成されるべき透明電導層２１６上の位置に、例えばインクジェットによって直接被覆されるか、または、スタンプされ、それによって、図２Bに示される疎油性領域２１４が得られる。

しかしながら、塗布された疎油性材料の疎油性が十分でない場合、図２Bに示される疎油性領域２１４を形成するために、プラズマ処理が更に適用され得る。プラズマ処理は、（CF₄やSF₆のような）フッ素含有ガス、またはフッ素含有ガスと（N₂やO₂、Arのような）フッ素を含まない他のガスを適切な比率で混合したガスを有するアクティブアレイ基板に適用可能である。従って、透明電導層２１６は、ガス濃度や、圧力、適用エネルギーといったパラメータを調節することによって適切な疎油性を有する。例えば、６０秒間処理される、１トールの圧力の下で、２００sccmのフロー及び７５Wのエネルギーを有するCF₄ガスを通じて、インクと粗油性材料の接触角は６０度を超えてもよい。従って、粗油性材料の上にインクが塗布された後、粗油性領域上のインクは自然にはじかれる。

この粗油性材料は、非導電性の粗油性または親水性材料、或いは自己組織化単分子層、例えば、ポリ（ビニルアルコール）（PVA）やポリ（スチレンスルホン酸）（PSSA）のような、極性群を有する材料であり得る。従って、カラーフィルタ画素の製造が終了した後、疎油性材料は極性溶媒または水によって落とされ、その後、画素電極が製造される。この疎油性材料も、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（PEDOT）や電導性金属ナノ粒子の溶液のような、導電性疎油性材料であり得る。したがって、カラーフィルタ画素が製造された後、画素電極は疎油性材料を落とす必要なく製造され得る。

アクティブアレイ基板２１０はスイッチ素子２１２、データ線２１８、及びゲート線２１９を備える。データ線２１８及びゲート線２１９は交互配置され画素領域Pを形成する。図２A及び図４Aに示すように、スイッチ素子２１２は各画素領域Pに配置される。図２A及び図３を参照、或いは図４A及び図５を参照すると、スイッチ素子２１２は、データ線２１８及びゲート線２１９の交点近傍に配置され、アクティブアレイ基板２１０上にマトリクス状に配列され、画素電極２３０のスイッチ動作を制御するために使用される。カラーフィルタ画素２２０は画素領域Pに重なる。

画素電極２３０はスイッチ素子２１２の上を覆うために拡張され得る。従って、基板の寿命を延長し、製品の信頼性を向上し、高品質の表示効果を達成するように、スイッチ素子の悪化は減少され得る。

次に、図６を参照すると、まず基板が設けられ（ステップ３１０）、次に、複数の平行ゲート線及びゲート線に対して垂直な複数の平行信号線が基板上に形成され、任意の隣接する２つのゲート線及び任意の隣接する２つのデータ線の間の領域が画素領域であり（ステップ３２０）、次に、マトリクス状のスイッチ素子が基板上のゲート線とデータ線との交点近傍に形成され（ステップ３３０）、このようにしてアクティブアレイ基板が形成される。ここで、アクティブアレイ基板は複数のマスク処理によって形成される。

図３及び図５に示すように、スイッチ素子はTFTであり得る。TFTのゲート２１２ａは対応するゲート線２１９に電気的に結合され、TFTのソース２１２ｂは対応するデータ線２１８に電気的に結合される。更に、画素電極２３０は接点ビアを通じてTFTのドレーン２１２ｃに電気的に結合される。また、画素電極２３０はTFTの対応するチャネル領域２１２ｄの上方を覆うように延出され得る。

画素電極は接点ビアを通じてスイッチ素子を直接被覆することもでき、スイッチ素子と電気的に結合することが可能である。同様にして、図４Aに示すように、アクティブアレイ基板２１０が最初に提供され、そこでは、アクティブアレイ基板が複数のスイッチ素子２１２を有する。

次に、図４Bに示すように、複数の疎油性領域２１４が表面処理を通じてアクティブアレイ基板２１０上に形成される。疎油性領域２１４はスイッチ素子２１２上に形成される。

次に、レッド、グリーン、及びブルーのインクがアクティブアレイ基板２１０上に塗布される。親油性と疎油性の表面性質間の相違から、疎油性領域２１４上のインクは自然にはじかれるので、図４Cに示すように、接点ビア２２２を有するカラーフィルタ画素２２０がアクティブアレイ基板２１０上に形成される。接点ビア２２２は疎油性領域２１４上に形成される。即ち、スイッチ素子２１２の一部を露出するために、カラーフィルタ画素２２０はスイッチ素子２１２上に接点ビア２２２を有する。

次に、図４D及び図５に示すように、画素電極２３０は、カラーフィルタ画素２２０上に形成され、接点ビア２２２を通じてカラーフィルタ画素２２０の下のスイッチ素子２１２と電気的に結合する。言い換えれば、接点ビア２２２内で露光されるスイッチ素子２１２を覆うように、画素電極２３０は接点ビア２２２まで延出されており、従って、画素電極２３０はスイッチ素子２１２と接続される。画素電極は接点ビア内に露出されるスイッチ素子を部分的または全面的に覆うために延出され得る。

加えて、図７及び図８に示すように、画素電極２３０が形成された後に、画素電極２３０は、スイッチ素子２１２の上方を覆うように延出されることはできないが、スイッチ素子２１２に対してカラーフィルタ画素２２０上に導電電極２４０を形成することができる。導電電極はスイッチ素子を部分的または全面的に覆うために拡張され得る。従って、基板の寿命を延長し、製品の信頼性を向上し、高品質の表示効果を達成するように、スイッチ素子の悪化は減少される。

図９及び図１０に示すように、スイッチ素子２１２がTFTの時、導電電極２４０はTFTのチャネル領域２１２ｄの上を覆うことができる。従って、TFTの異常現象は遅らされ、それによって、スイッチ素子の悪化は減少し、基板の寿命を延長し、製品の信頼性を向上し、高品質の表示効果を達成する。加えて、導電電極はTFTの対応するドレーンと同じ電位を有することができる。

導電電極の材料は、透明導電材料（インジウムスズ酸化物（ITO）のような金属酸化物）または（不透明導電粒子ペーストや金属薄膜のような）遮光導電材料であり得る。導電電極の材料が遮光導電材料の時、導電電極はTFTの光漏れを防ぐために使用され、光漏れを防止する機能で黒マトリクスを取り替える。

更に、導電電極２４０は、（図１１及び１２に示すように）接点ビアを通じて対応するスイッチ素子２１２と電気的に結合、或いは、（図１３及び１４に示すように）接点ビアを通じて対応するスイッチ素子２１２に浮動されることができる。スイッチ素子がTFTの時、導電電極はTFTの対応するドレーンまたはソースと電気的に結合されるか、或いは、浮動状態になる。

このように本発明は説明され、本発明は様々に変更されることができることは明らかである。そのような変更は、本発明の精神及び範囲からの逸脱と見なされるべきではなく、当業者に明らかな変更の全てが以下の請求項の範囲に含まれることが意図される。

従来のLCDの概要の斜視図である。 本発明の第１の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造するための方法の流れ図である。 本発明の第１の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造するための方法の流れ図である。 本発明の第１の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造するための方法の流れ図である。 本発明の第１の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造するための方法の流れ図である。 図２Dにおけるアクティブアレイカラーフィルタ構造体の部分Aの拡大斜視図である。 本発明の第２の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造するための方法の流れ図である。 本発明の第２の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造するための方法の流れ図である。 本発明の第２の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造するための方法の流れ図である。 本発明の第２の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造するための方法の流れ図である。 図４Dにおけるアクティブアレイカラーフィルタ構造体の部分Aの拡大斜視図である。 アクティブアレイ基板を製造するための流れ図である。 本発明の第３の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体の部分拡大斜視図である。 本発明の第４の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体の部分拡大斜視図である。 本発明の第５の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体の部分拡大斜視図である。 本発明の第６の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体の部分拡大斜視図である。 本発明の第７の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体の部分拡大斜視図である。 本発明の第８の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体の部分拡大斜視図である。 本発明の第９の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体の部分拡大斜視図である。 本発明の第１０の実施形態に従うアクティブアレイカラーフィルタ構造体の部分拡大斜視図である。

Claims (28)

1. アクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法であって、
   マトリクス状に配列された複数のスイッチ素子を有するアクティブアレイ基板を提供するステップと、
   アクティブアレイ基板上に複数の疎油性領域を形成するための表面処理を施すステップと、
   各カラーフィルタ画素が疎油性領域に対応する少なくとも一つの接点ビアを有する、複数のカラーフィルタ画素を形成するために、少なくとも一つのインクをアクティブアレイ基板上に塗布するステップと、
   画素電極が接点ビアを通じて対応するスイッチ素子と電気的に結合している、複数の画素電極をカラーフィルタ画素上に形成するステップと、を備える、
   アクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
2. それぞれスイッチ素子に対応するカラーフィルタ画素上に複数の導電電極を形成するステップを更に備える、
   請求項１に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
3. 導電電極の材料は透明導電材料または遮光導電材料である、
   請求項２に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
4. スイッチ素子は薄膜トランジスタ（TFT）であり、導電電極は対応するTFTのチャネル領域を覆う、
   請求項２に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
5. 導電電極は接点ビアを通じて対応するスイッチ素子と電気的に結合或いは浮動される、
   請求項２に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
6. 導電電極は対応するスイッチ素子と電気的に結合しない、
   請求項２に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
7. カラーフィルタ画素上に複数の画素電極を形成するステップにおいて、画素電極は対応するスイッチ素子の上方を覆うために拡張される、
   請求項１に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
8. 複数の疎油性領域を形成するための表面処理を施すステップは、
   疎油性領域を形成するために、接点ビアが形成されるべきアクティブアレイ基板上の部分に疎油性材料を塗布するステップを備える、
   請求項１に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
9. 画素電極が形成される前に、疎油性材料を取り去るステップを更に備える、
   請求項８に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
10. アクティブアレイ基板上の部分に疎油性材料を塗布するステップは、
    インクジェット技術によって接点ビアが形成されるアクティブアレイ基板上の部分に疎油性材料を塗布するステップを備える、
    請求項８に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
11. アクティブアレイ基板上の部分に疎油性材料を塗布するステップの後、
    疎油性領域を形成するために、接点ビアが形成されるアクティブアレイ基板にプラズマ処理を適用するステップを更に備える、
    請求項８に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
12. アクティブアレイ基板上に複数の疎油性領域を形成するための表面処理を施すステップは、
    疎油性領域を形成するために、接点ビアが形成されるべきアクティブアレイ基板上の部分に疎油性材料を押圧するステップを備える、
    請求項１に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
13. 画素電極が形成される前に、疎油性材料を取り去るステップを更に備える、
    請求項１２に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
14. アクティブアレイ基板上の部分に疎油性材料を押圧するステップの後、
    疎油性領域を形成するために、接点ビアが形成されるべきアクティブアレイ基板にプラズマ処理を適用するステップをさらに備える、
    請求項１２に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
15. アクティブアレイ基板を提供するステップは、
    基板を提供するステップと、
    複数の平行ゲート線及びゲート線に対して垂直な複数の平行信号線を基板上に形成するステップであって、任意の隣接する２つのゲート線及び任意の隣接する２つのデータ線の間の領域が画素領域であるステップと、
    スイッチ素子を基板上のゲート線とデータ線との交点近傍に形成し、従って、アクティブアレイ基板を得るステップと、を備える、
    請求項１に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
16. スイッチ素子はTFTであり、TFTのゲートは対応するゲート線に電気的に結合され、TFTのソースは対応するデータ線に電気的に結合される、
    請求項１５に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
17. カラーフィルタ画素は画素領域に重なる、
    請求項１５に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
18. カラーフィルタ画素上に複数の画素電極を形成するステップにおいて、画素電極は対応するスイッチ素子の上を覆うために拡張される、
    請求項１に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体を製造する方法。
19. アクティブアレイカラーフィルタ構造体であって、
    複数のスイッチ素子をマトリクス状に含むアクティブアレイ基板と、
    スイッチ素子に対応するアクティブアレイ基板上にそれぞれ置かれ、各々が少なくとも一つの接点ビアを有する、複数のカラーフィルタ画素と、
    カラーフィルタ画素にそれぞれ配置され、接点ビアを通じて対応するスイッチ素子と電気的に結合する、複数の画素電極と、
    を備えるアクティブアレイカラーフィルタ構造体。
20. アクティブアレイ基板は、
    基板と、
    基板に配置される複数のゲート線と、
    隣接する２つのゲート線及び隣接する２つのデータ線の間の領域が画素領域である、基板に配置される複数のデータ線と、を備え、
    スイッチ素子は、それぞれゲート線とデータ線との交点近傍に配置され、それぞれ対応するゲート線及びデータ線と電気的に結合される、
    請求項１９に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体。
21. カラーフィルタ画素は画素領域に重なる、
    請求項２０に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体。
22. スイッチ素子はTFTであり、TFTのゲートは対応するゲート線に電気的に結合され、TFTのソースは対応するデータ線に電気的に結合される、
    請求項２０に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体。
23. 画素電極は対応するスイッチ素子の上を覆うために拡張される、
    請求項２０に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体。
24. それぞれスイッチ素子に対応するカラーフィルタ画素に配置される、複数の導電電極を更に備える、
    請求項１９に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体。
25. スイッチ素子はTFTであり、導電電極はTFTのチャネル領域に配置される、
    請求項２４に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体。
26. 導電電極は接点ビアを通じて対応するスイッチ素子と電気的に結合する、
    請求項２４に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体。
27. 導電電極は接点ビアを通じて対応するスイッチ素子に浮動される、
    請求項２４に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体。
28. 接点ビアの底に、スイッチ素子を対応する画素電極と導電するために使用される、疎油性材料を更に備える、
    請求項１９に記載のアクティブアレイカラーフィルタ構造体。
    

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