JP4432914B2 - 液晶表示装置、電子機器 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置、および電子機器に関する。

近年、テレビ用の表示装置として、液晶表示装置（ＬＣＤ）や、プラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイが普及している。このうち、液晶表示装置（ＬＣＤ）は、大型の液晶テレビなどに採用されており、液晶表示装置の大型化、高画質化、視認性の向上などの表示品質の追求が進んでいる。

例えば特許文献１に開示されているように、液晶表示装置では、視野角が狭いことが短所であったが、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）方式などが開発され、広視野角化が実現されてきている。このＶＡ方式では、一つの画素の中に配向方向の異なる複数の領域（マルチドメインと呼ぶ）を形成して、液晶分子の倒れ方を制御することによって、広視野角化を実現している。一方、特許文献２に開示されているように、アクティブマトリクス型の液晶表示装置の製造方法では、多色のカラーフィルタを製造するときの製造過程において、気泡の発生を抑制する製造方法を採用しており、液晶表示装置の表示品質の向上を実現している。

特許第２９４７３５０号公報 特開２００５−１８９４５１号公報

ところが、特許文献１に示すＶＡ方式による液晶表示装置では、液晶分子の倒れ方を制御するために、突起部を色要素領域部に配置するので、液晶を通過する光を部分的に遮断してしまう。特許文献２に示す液晶表示装置では、多色のカラーフィルタが搭載されているので、表示品質の向上の期待はできるものの、ＶＡ方式ではないので、広視野角化を実現することは、困難であった。通常、液晶表示装置で使用されるカラーフィルタは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の色要素を配置した３色配置である。その他の例としては、例えば配置される色要素の数を増やして、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、Ｍ（マゼンダ）、Ｙ（黄）、Ｃ（シアン）の６色の色要素を配置した６色配置がある。このような６色配置のカラーフィルタは、色要素の数を増やすことによって、３色配置に比べてきめの細かい色表現を再現することが実現可能になる（色再現性）。その反面、色要素が多い分だけコントラストを低下させる要因になることがあった。

本発明の目的は、カラーフィルタの色要素の数を増やしたとしても、各色要素領域部の周囲を囲む遮光部の幅を変えることで、色再現性を保持しながら、コントラストの低下を抑制して、視認性に優れ、表示性能の良好な液晶表示装置を提供することである。

本発明の液晶表示装置は、第１基板と、前記第１基板と対向する位置に配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に挟持された液晶と、前記第２基板上に設けられた複数の色要素領域部と、前記色要素領域部の周囲を囲むように形成された遮光部と、を備え、前記遮光部の幅が、前記色要素領域部で異なることを特徴とする。

この発明によれば、遮光部の幅が、色要素領域部で異なるように形成されているから、液晶を透過するときの透過光の光強度をバランスよく調整して、色要素領域部ごとの色バランスを向上させることが可能になるので、視認性に優れた液晶表示装置を提供できる。

本発明の液晶表示装置は、前記色要素領域部が、第１の色要素領域部と、前記第１の色要素領域部より面積の小さい第２の色要素領域部と、を備え、前記第１の色要素領域部は、前記第１の色要素領域部の列方向に延伸するように形成された第１遮光部を備えており、前記第２の色要素領域部は、前記第２の色要素領域部の列方向に延伸するように形成された第２遮光部を備えており、前記第２遮光部の幅が、前記第１遮光部の幅より広く形成されていることが望ましい。

この発明によれば、第２遮光部の幅が、第１遮光部の幅より広いから、液晶を透過する透過光が第２の色要素領域部を透過するときに、第１の色要素領域部に影響を及ぼすことが少なくなるので、コントラストの低下を抑制することが実現可能になり、しかも、色再現性を保持しながら視認性に優れた表示性能の良好な液晶表示装置を提供することができる。

本発明の電子機器は、液晶表示装置を有する電子機器であって、前述に記載の液晶表示装置を備えていることを特徴とする。

この発明によれば、色バランスが向上して、視認性に優れた液晶表示装置を備えているので、より表示性能を向上させることが可能な電子機器を提供できる。

以下、本発明の液晶表示装置について実施形態を挙げ、添付図面に沿って詳細に説明する。

（実施形態）
本実施形態では、アクティブマトリクス型の液晶表示装置について説明する。なお、配向制御用の突起部が、画素の中に複数配置されている。

図１は、本実施形態の液晶表示装置の概略平面図である。図２は、図１の液晶表示装置を説明するための図であり、同図（ａ）は、拡大平面図であり、同図（ｂ）は、図（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面図である。

図１に示すように、本実施形態の液晶表示装置１００は、画素トランジスタ２と、信号線４と、ゲート線６と、容量線８と、色要素領域部１とで概略構成されている。色要素領域部１は、第１の色要素領域部としての画素１０および第２の色要素領域部としての画素２０とで構成されている。各画素１０（２０）は、信号線４と、この信号線４と略直交する方向に形成されたゲート線６と、で区切られており、矩形状に形成されている。各画素１０および画素２０は、カラーフィルタ層３２（図２（ｂ）参照）に形成されたＲ、Ｇ、Ｂ、Ｃ、Ｍ、Ｙ（Ｒ：赤、Ｇ：緑、Ｂ：青、Ｃ：シアン、Ｍ：マゼンダ、Ｙ：黄）の各色に対応している。なお、画素２０の大きさは、画素１０の面積より小さく形成されているとともに、画素２０の色要素Ｃ、Ｍ、Ｙは、画素１０の色要素Ｒ、Ｇ、Ｂに対して補色の関係にある。例えば画素１０の色要素Ｒ（赤）の近傍には、色要素Ｃ（シアン）が画素２０に配置されており、画素１０の色要素Ｇ（緑）の近傍には、色要素Ｍ（マゼンダ）が画素２０に配置されている。さらに、画素１０の色要素Ｂ（青）の近傍には、色要素Ｙ（黄）が画素２０にそれぞれ配置されている。

画素トランジスタ２は、画素１０および画素２０にそれぞれ一つずつ形成されており、ゲート信号により画素電極３（図２（ａ）、（ｂ）参照）を制御することができる。

図２（ａ）に示すように、信号線４は、画素電極３と電気的に接続されており、供給された映像信号を画素電極３に印加することができる。ゲート線６は、信号線４と略直交するように形成されている。容量線８は、対向電極３３（図２（ｂ）参照）と同電位になっており、画素電極３との間で容量を保持している。画素トランジスタ２と、信号線４と、ゲート線６と、容量線８とは、金属などの光を透過しにくい材料で形成されている。このため、バックライトから照射された光を透過しにくい。

図２（ａ）において、本実施形態での液晶表示装置１００について説明する。ここでは、液晶表示装置１００に有する色要素領域部１を右側と、左側と、に分けて説明をする。

図２（ａ）の右側の色要素領域部１には、画素電極３と、スリット５と、突起部としてのリブ７とを示している。なお、同図に示すように、画素２０の面積は画素１０の面積より小さく形成されている。そこで、右側の色要素領域部１において、画素電極３は、スリット５を有している。また、カラーフィルタ形成基板３１（図２（ｂ）参照）は、突起部としてのリブ７を備えている。スリット５およびリブ７は、画素電極３と、対向電極３３（図２（ｂ）参照）との間に電圧が印加された時の液晶分子の倒れ方向を規制する働きをすることができる。

図２（ａ）の左側の色要素領域部１には、画素１０および画素２０を区画するドメイン境界１１と、このドメイン境界１１で区画されたドメイン９と、を示している。なお、同図に示すように、左側の画素１０において、一つの画素内に８つのドメイン９（斜線部分）が形成されており（マルチドメイン）、このドメイン９は、ドメイン境界１１によって区画されている。ドメイン９の境界部分であるドメイン境界１１では、画素電極３と対向電極３３との間に電圧が印加されても、液晶分子が垂直配向のままであるため、光を透過しにくい。同様に、画素２０においても、一つの画素内に３つのドメイン９（斜線部分）が形成されており、このドメイン９は、ドメイン境界１１によって区画されている。

ここで、ＶＡ方式における液晶表示装置１００は、画素電極３と対向電極３３との間に電圧が印加されていない時は、液晶分子が垂直方向に向く垂直配向である。本実施形態での液晶表示装置１００では、画素１０および画素２０内がドメイン境界１１で区画形成されており、画素１０内における液晶分子が、倒れ方向Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈの４つの方向に倒れる。その結果、視野角依存性が４方向に分散されることによって広視野角化を実現することができる。同様に、画素２０内においても視野角依存性が２方向に分散される。

次に、図２（ｂ）に示すように、液晶表示装置１００は、素子形成基板２１と、カラーフィルタ形成基板３１と、これら素子形成基板２１およびカラーフィルタ形成基板３１とで挟持された液晶２４とで概略構成されている。そして、液晶表示装置１００は、バックライトから照射された光を液晶２４に透過するように構成されている。

図２（ｂ）において、素子形成基板２１の面には、素子形成層２３と、画素電極３と、スリット５とが形成されており、素子形成基板２１の他方の面には、光学フィルム２２が形成されている。

素子形成基板２１は、ホウ珪酸ガラス（屈折率：１．５２）などの透過性材料から形成されているので、バックライトから照射された光を透過しやすい。

素子形成層２３は、画素トランジスタ２、信号線４、ゲート線６、容量線８を含んでおり、半導体材料、金属材料および絶縁材料から形成されている。素子形成層２３は、素子形成基板２１の上に形成されている。画素電極３は、インジウム錫酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、以下ＩＴＯと略する）などの導電性機能を有する透明導電性材料から形成されており、画素電極３が素子形成層２３の上に形成されている。画素電極３は、透明導電性材料であるので、光を透過しやすい。また、ポリイミドなどからなる垂直配向機能を有する配向膜（図示省略）が画素電極３の上に形成されている。

光学フィルム２２は、光を偏光することが可能な偏光機能を有している材料で形成されており、バックライトから照射された光を偏光することができる。

図２（ｂ）において、カラーフィルタ形成基板３１の面には、カラーフィルタ層３２と、対向電極３３と、バンク３４と、突起部としてのリブ７とが形成されている。そして、カラーフィルタ形成基板３１の他方の面には、光学フィルム３５が形成されている。

カラーフィルタ形成基板３１は、ホウ珪酸ガラス（屈折率：１．５２）などの透過性材料から形成されているので、光を透過しやすい。カラーフィルタ層３２は、各画素１０に対応しており、各色要素Ｒ、Ｇ、Ｂを透過するカラーフィルタ層であり、有機材料で形成されている。対向電極３３は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの導電性機能を有する透明導電性材料から形成されており、カラーフィルタ層３２の上に対向電極３３が形成されている。対向電極３３は、透明導電性材料であるので、光を透過しやすい。また、ポリイミドなどからなる垂直配向機能を有する配向膜（図示省略）が、対向電極３３の上に形成されている。バンク３４は、カラーフィルタ層３２に形成されている各色要素Ｒ、Ｇ、Ｂや、各色要素Ｃ、Ｍ、Ｙ、（図１参照）を区画している。

光学フィルム３５は、光を偏光することが可能な偏光機能を有している材料で形成されており、液晶２４を通過した光を偏光することができる。

液晶２４の液晶分子の配向は、素子形成基板２１に形成された画素電極３と、カラーフィルタ形成基板３１に形成された対向電極３３との間に印加された電圧によって、変化させることができる。

図２（ｂ）に示すように、突起部としてのリブ７は、カラーフィルタ層３２の上に形成されており、各色要素Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、ごとに配置されている。同様に、各色要素Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンダ）、Ｙ（黄）、ごとに配置（図示省略）されている。

次に、本実施形態の液晶表示装置に用いられるカラーフィルタについて説明する。

図３は、カラーフィルタの構造を説明するための図であり、同図（ａ）は、概略平面図であり、同図（ｂ）は、（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う概略断面図。

図３（ａ）に示すように、カラーフィルタ３８には、色要素領域部１が形成されている。この色要素領域部１は、第１の色要素領域部としての画素１０と、この画素１０より面積の小さい第２の色要素領域部としての画素２０とで構成されている。色要素領域部１の周囲には、遮光部Ｅが、色要素領域部１を囲むように形成されている。そして、画素１０には第１遮光部Ｅ１が列方向（Ｙ方向）に延伸するように形成されている。ここで、画素１０と、Ｘ方向に隣り合う画素１０と、の間が、第１遮光部Ｅ１である。この間隔が第１遮光部Ｅ１の幅Ｄ１である。同様に、画素２０には第２遮光部Ｅ２が列方向（Ｙ方向）に形成されている。画素２０とＸ方向に隣り合う画素２０と、の間が、第２遮光部Ｅ２である。この間隔が第２遮光部Ｅ２の幅Ｄ２である。そして、第２遮光部Ｅ２の幅Ｄ２は、第１遮光部Ｅ１の幅Ｄ１より広くなるように形成されている。なお、第１遮光部Ｅ１と、第２遮光部Ｅ２とは接続しており、遮光部Ｅを構成している。

図３（ｂ）に示すように、カラーフィルタ３８は、カラーフィルタ形成基板３１の上に形成された隔壁３４と、この隔壁３４で囲まれたカラーフィルタ層３２とで概略構成されている。第１の色要素領域部としての画素１０は、第１遮光部Ｅ１で区画されており、第２の色要素領域部としての画素２０は、第２遮光部Ｅ２で区画されている。なお、第１遮光部Ｅ１と、第２遮光部Ｅ２とで構成されている遮光部Ｅは、液晶２４への透過光を遮光するものであればよいので、遮光部Ｅの下に下地層としてのブラックマトリクスなどを形成した構成としてもかまわない。

次に、本実施形態におけるカラーフィルタの製造方法について説明する。

図４は、カラーフィルタの製造工程を示す図であり、（ａ）〜（ｊ）は、工程断面図である。図５は、カラーフィルタの製造工程の手順を示す概略フローチャートである。

図４（ａ）および図５のステップＳ３１に示すように、透光性を有するガラス材料であるカラーフィルタ形成基板３１の表面上に、液滴吐出装置（図示省略）を用い、液滴吐出法によって放射線感応性素材３４Ａを塗布する（図４（ｂ）参照）。この放射線感応性素材３４Ａとしては、樹脂組成物であることが好ましい。塗布後における上記放射線感応性素材３４Ａの厚さは、通常０．１〜１０μｍであり、好ましくは０．５〜３．０μｍである。なお、放射線感応性素材３４Ａの塗布方法は、液滴吐出法にこだわることはなく、スピンコーティング（回転塗布）法、流延塗布法、ロール塗布法、など、その他の製造方法を採用しても構わない。

この樹脂組成物は、例えば、（ｉ）バインダー樹脂、多官能性単量体、光重合開始剤等を含有する、放射線の照射により硬化する放射線感応性樹脂組成物や、（ｉｉ）バインダー樹脂、放射線の照射により酸を発生する化合物、放射線の照射により発生した酸の作用により架橋し得る架橋性化合物等を含有する、放射線の照射により硬化する放射線感応性樹脂組成物などを用いることができる。これらの樹脂組成物は、通常、その使用に際して溶媒を混合して液状組成物として調製されるが、この溶媒は、高沸点溶媒でも低沸点溶媒でもよい。放射線感応性素材３４Ａとしては、特開平１０−８６４５６号公報に記載されているような、（ａ）ヘキサフルオロプロピレンと不飽和カルボン酸（無水物）と他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体との共重合体、（ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）放射線の照射により発生した酸の作用により架橋しうる架橋性化合物、（ｄ）前記（ａ）成分以外の含フッ素有機化合物、並びに、（ｅ）前記（ａ）〜（ｄ）成分を溶解しうる溶媒、を含有する組成物であることが好ましい。

次に、図４（ｂ）および図５のステップＳ３２に示すように、放射線感応性素材３４Ａに所定のパターンマスク（図示省略）を介して放射線を照射（露光）する。なお、放射線とは、可視光、紫外線、Ｘ線、電子線などが含まれるが、波長が１９０〜４５０ｎｍの範囲にある放射線（光）が好ましい。そして、パターンマスク（図示省略）は、第２遮光部Ｅ２の幅Ｄ２が第１遮光部Ｅ１の幅Ｄ１より広く形成できるような形状であることが好ましい。このパターンマスクを使用することで、第２の色要素領域部としての画素２０の方が第１の色要素領域部としての画素１０より面積を小さく形成することができる。

次に、図４（ｃ）および図５のステップＳ３３に示すように、放射線感応性素材３４Ａを現像することによって、隔壁（バンク）３４Ｂを形成する。この隔壁３４Ｂは、上記パターンマスクに対応した形状（ネガパターン又はポジパターン）に構成される。隔壁３４Ｂの形状としては、例えば、方形状のフィルタエレメント形成領域を平面上において縦横に配列させることのできるように画成する格子状であることが好ましい。この現像処理を行うことによって、幅Ｄ１を有する第１遮光部Ｅ１と、幅Ｄ２を有する第２遮光部Ｅ２とを形成する。なお、パターンマスクを使用することで、第２遮光部Ｅ２の幅Ｄ２が第１遮光部Ｅ１の幅Ｄ１より広く形成できる。第１の遮光部Ｅ１は、第１の色要素領域部としての画素１０の列方向（Ｙ方向）に延伸するように形成されている。同様に、第２の遮光部Ｅ２も、第２の色要素領域部としての画素２０の列方向（Ｙ方向）に延伸するように形成されている。そして、第１の遮光部Ｅ１および第２の遮光部Ｅ２は、液晶２４への透過光を遮光する機能を有するものである。なお、放射線感応性素材３４Ａを現像するのに用いられる現像液としては、アルカリ現像液が用いられる。このアルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、硅素ナトリウム、メタ硅素ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネン等の水溶液が好ましい。このアルカリ現像液には、例えば、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤等を適量添加することもできる。また、アルカリ現像液による現像後は、通常、水洗が行われる。

次に、図４（ｄ）および図５のステップＳ３４に示すように、上記隔壁３４Ｂは、例えば２００℃程度にてベーク（焼成）されて隔壁３４となる。この焼成温度は、上記の放射線感応性素材３４Ａに応じて適宜調整される。また、ベーク処理を要しない場合もあり得る。なお、本実施形態では、隔壁３４は遮光性の素材で構成されているために、第１の色要素領域部としての画素１０や、第２の色要素領域部としての画素２０を画成する（区画する）文字通りの隔壁としての機能と、画素１０や、画素２０以外の部分を遮光する遮光層としての機能とを併せ持つものとなっている。もっとも、隔壁としての機能のみを有するように構成しても構わない。この場合、隔壁とは別に、金属等で構成される遮光層を別途形成してもよい。

次に、上記のようにして形成された隔壁３４によって画成される第１の色要素領域部としての画素１０や、第２の色要素領域部としての画素２０内に、アクリル樹脂等の基材に着色剤（顔料、染料など）を混入したフィルタエレメント材料１３Ｒ（赤）、１３Ｇ（緑）、１３Ｂ（青）、１３Ｃ（シアン）、１３Ｍ（マゼンダ）、１３Ｙ（黄）を導入する。フィルタエレメント材料１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、１３Ｃ、１３Ｍ、１３Ｙを画素１０や、画素２０に導入する方法としては、フィルタエレメント材料１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、１３Ｃ、１３Ｍ、１３Ｙを、溶媒などと混合することによって液状の材料Ｎとし、この液状の材料Ｎを画素１０や、画素２０に導入する。より具体的には、本実施形態では、後述する液滴吐出ヘッド５２を用いた液滴吐出法によって液状の材料Ｎを液滴Ｌの形態で画素１０や、画素２０内に着弾させることによって液状の材料Ｎの導入を行っている。

次に、図４（ｄ）および図５のステップＳ３５に示すように、上記のフィルタエレメント材料１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、１３Ｃ、１３Ｍ、１３Ｙは、液状の材料Ｎ（図６参照）として画素１０や、画素２０内に導入され、その後に、乾燥若しくは低温（例えば６０℃）でのプレベーク（仮焼成）を行うことによって、仮固化若しくは仮硬化される。例えば、フィルタエレメント材料１３Ｒの導入を行い、図５のステップＳ３６に示すように、フィルタエレメント材料１３Ｒのプレベークを行ってフィルタエレメント３Ｒ（図４（ｅ）参照）を形成する。

次に、図４（ｅ）および図５のステップＳ３７に示すように、フィルタエレメント材料１３Ｇの導入を行い、図５のステップＳ３８に示すように、フィルタエレメント材料１３Ｇのプレベークを行ってフィルタエレメント３Ｇ（図４（ｆ）参照）を形成する。

次に、図４（ｆ）および図５のステップＳ３９に示すように、フィルタエレメント材料１３Ｂの導入を行い、図５のステップＳ４０に示すように、フィルタエレメント材料１３Ｂのプレベークを行ってフィルタエレメント３Ｂ（図４（ｇ）参照）を形成する。

次に、図４（ｇ）および図５のステップＳ４１に示すように、フィルタエレメント材料１３Ｃの導入を行い、図５のステップＳ４２に示すように、フィルタエレメント材料１３Ｃのプレベークを行ってフィルタエレメント３Ｃ（図４（ｈ）参照）を形成する。

次に、図４（ｈ）および図５のステップＳ４３に示すように、フィルタエレメント材料１３Ｍの導入を行い、図５のステップＳ４４に示すように、フィルタエレメント材料１３Ｍのプレベークを行ってフィルタエレメント３Ｍ（図４（ｉ）参照）を形成する。

次に、図４（ｉ）および図５のステップＳ４５に示すように、フィルタエレメント材料１３Ｙの導入を行い、図５のステップＳ４６示すように、フィルタエレメント材料１３Ｙのプレベークを行ってフィルタエレメント３Ｙ（図４（ｊ）参照）を形成する。

このようにして、図４（ｊ）に示すように、全ての色のフィルタエレメント材料１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、１３Ｃ、１３Ｍ、１３Ｙを各画素１０や、画素２０内に導入して、仮固化若しくは仮硬化して形成された表示要素であるフィルタエレメント３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｍ、３Ｙを備えた表示素材としてのカラーフィルタ３８を形成する。

次に、図５のステップＳ４７示すように、上記のようにして形成された表示素材としてのカラーフィルタ３８を検査する。この検査は、例えば、肉眼若しくは顕微鏡等で、上記隔壁３４および表示要素であるフィルタエレメント３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｍ、３Ｙを観察する。この場合、カラーフィルタ３８を撮影し、その撮影画像に基づいて自動的に検査を行っても構わない。この検査によって、表示要素であるフィルタエレメント３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｍ、３Ｙに欠陥が見つかった場合には、そのカラーフィルタ３８を除材する。

ここで、フィルタエレメント３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｍ、３Ｙの欠陥とは、フィルタエレメント３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｍ、３Ｙが欠如している場合（いわゆるドット抜け）、フィルタエレメント３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｍ、３Ｙが形成されていても、画素１０や画素２０内に配置された材料の量（体積）が多すぎたり少なすぎたりして不適切である場合、フィルタエレメント３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｍ、３Ｙが形成されていても、塵埃等の異物が混入していたり付着していたりする場合などである。

次に、図５のステップＳ４８に示すように、ステップＳ４７の検査において欠陥が発見されなかった場合には、例えば２００℃程度の温度でベーク（焼成）処理を行い、カラーフィルタ形成基板３１のフィルタエレメント３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｍ、３Ｙを完全に固化若しくは硬化させる。そして、このベーク処理の温度は、フィルタエレメント材料１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、１３Ｃ、１３Ｍ、１３Ｙの組成等によって適宜に決定できる。また、特に高温に加熱することなく、単に通常とは異なる雰囲気（窒素ガス中や乾燥空気中等）などで乾燥若しくはエージングさせるだけでもよい。

次に、本実施形態のカラーフィルタを製造するための液滴吐出装置（図示省略）に搭載される液滴吐出ヘッドの構成について説明する。

図６は、液滴吐出ヘッドの主要部を部分的に示す図であり、同図（ａ）は、概略斜視図であり、同図（ｂ）は、概略断面図である。

図６（ａ）に示すように、液滴吐出ヘッド５２は、ステンレス等で構成されるノズルプレート５９と、これに対向する振動板６１と、これらを互いに接合する複数の仕切り部材６２とを有する。このノズルプレート５９と振動板６１との間には、仕切り部材６２によって複数の材料室６３と液溜り６４とが形成される。これらの材料室６３と液溜り６４とは通路６８を介して互いに連通している。

振動板６１には材料供給孔６６が形成されている。この材料供給孔６６には材料供給装置６７が接続される。この材料供給装置６７は、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃ、Ｍ、Ｙのうちの一色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料１３Ｒなどで構成される材料Ｎを材料供給孔６６へ供給する。このように供給された材料Ｎは、液溜り６４に充満し、さらに通路６８を通って材料室６３に充満する。

図６（ｂ）に示すように、ノズルプレート５９には、材料室６３から材料Ｎをジェット状に噴出するためのノズル５７が設けられている。また、振動板６１の材料室６３に臨む面の裏面には、この材料室６３に対応させて材料加圧体６９が取り付けられている。この材料加圧体６９は、圧電素子７１並びにこれを挟持する一対の電極７２ａおよび７２ｂを有する。圧電素子７１は、電極７２ａおよび７２ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これにより材料室６３の容積が増大する。すると、増大した容積分に相当する材料Ｎが液溜り６４から通路６８を通って材料室６３へ流入する。

その後、圧電素子７１への通電を解除すると、この圧電素子７１と振動板６１とは共に元の形状に戻り、これにより、材料室６３も元の容積に戻るため、材料室６３の内部にある材料Ｎの圧力が上昇し、ノズル５７から材料Ｎが液滴Ｌとなって噴出する。なお、ノズル５７の周辺部には、液滴Ｌの飛行曲りやノズル５７の孔詰まりなどを防止するために、例えば、Ｎｉ−テトラフルオロエチレン共析メッキ層からなる撥材料層７３が設けられる。

次に、本実施形態における液晶表示装置の製造方法について説明する。

図７は、本実施形態における液晶表示装置の製造工程の手順を示す概略フローチャートである。図８は、カラーフィルタ基板の製造工程を示す図であり、（ａ）〜（ｄ）は、工程断面図である。

液晶表示装置１００は、例えば、図７に示す製造工程によって製造される。この製造工程においては、ステップＳ５１〜Ｓ５６までの一連の工程が第１基板としての素子基板２９を形成する工程であり、ステップＳ６１〜Ｓ６５までの一連の工程が第２基板としてのカラーフィルタ基板３９を形成する工程である。素子基板２９の形成工程と、カラーフィルタ基板３９の形成工程とは、通常、それぞれが独自に行われる。そして、素子基板２９とカラーフィルタ基板３９とが、貼り合わせられて、液晶表示装置１００が形成される。

第１基板としての素子基板２９の形成工程において、最初に、図７のステップＳ５１に示すように、透光性ガラス、透光性プラスチックなどの材料からなる素子形成基板２１（図２（ｂ）参照）の上に、素子形成層２３（図２（ｂ）参照）を形成する。素子形成層２３の形成方法は、フォトリソグラフィ法などを好適に用いることができる。なお、この素子形成層２３の上に絶縁膜を周知の成膜法を用いて形成すれば、より好ましい。

次に、図７のステップＳ５２に示すように、第１電極としての画素電極３（図２（ｂ）参照）を形成する。画素電極３の形成方法は、フォトリソグラフィ法などを好適に用いることができる。

次に、図７のステップＳ５３に示すように、この画素電極３（図２（ｂ）参照）の上に垂直配向機能を有する配向膜（図示省略）を形成する。配向膜の形成方法は、塗布法、印刷法などによって形成できる。

次に、図７のステップＳ５４に示すように、シール材（図示省略）を環状に形成する。シール材の形成方法は、例えばスクリーン印刷法などによってエポキシ系樹脂を素子基板２９又はカラーフィルタ基板３９の内側表面に環状（周回状）に付着することによって形成できる。また、シール材（図示省略）の内部には導電性材料によって球状又は円筒状に形成された導通材（図示省略）が分散状態で含まれる。

次に、図７のステップＳ５５に示すように、スペーサ（図示省略）を分散する。スペーサは、球形状である。そこで、素子基板２９、カラーフィルタ基板３９およびシール材（図示省略）によって囲まれる間隙、いわゆるセルギャップ内には液晶２４が封入される。素子基板２９と、カラーフィルタ基板３９と、の内側表面には微小で球形状のスペーサ（図示省略）が多数分散されており、これらのスペーサ（図示省略）がセルギャップ内に存在することにより、そのセルギャップが均一に維持されるように形成できる。

次に、図７のステップＳ５６に示すように、素子形成基板２１の画素電極３を形成した面とは反対側の面に光学フィルム２２（図２（ｂ）参照）を形成する。以上により、素子基板２９が形成される。

第２基板としてのカラーフィルタ基板３９の形成工程において、図７のステップＳ６１および図８（ａ）に示すように、透光性ガラス、透光性プラスチックなどの材料からなるカラーフィルタ形成基板３１（図２（ｂ）参照）の上に、カラーフィルタ層３２（図２（ｂ）参照）を形成する。カラーフィルタ層３２の形成方法は、フォトリソグラフィ法などを好適に用いることができる（図５参照）。なお、このカラーフィルタ層３２の上に絶縁膜を周知の成膜法を用いて形成すれば、より好ましい。

次に、図７のステップＳ６２および図８（ｂ）に示すように、第２電極としての対向電極３３を形成する。対向電極３３は、透明であり、フィルタエレメント３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｍ、３Ｙの上に形成される。なお、対向電極３３は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの導電性機能を有する透明導電性材料から形成されている。対向電極３３は、透明導電性材料であるので、光を透過しやすい。対向電極３３は、フォトリソグラフィ法によって形成される。

次に、図７のステップＳ６３および図８（ｃ）に示すように、突起部としてのリブ７を対向電極３３の上に形成する。なお、リブ７は、フィルタエレメント３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｍ、３Ｙ上に配置されている。ここで、リブ７の形成方法は、周知のフォトリソグラフィ法を用いて形成する。例えばカラーフィルタ基板３８の上にフォトマスク（図示省略）を配置させて、フィルタエレメント３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｍ、３Ｙ上にリブ７を形成する。なお、リブ７は、高さｈを有している。

次に、図７のステップＳ６４に示すように、ポリイミドなどからなる垂直配向機能を有する配向膜（図示省略）を対向電極３３の上に形成する。

次に、図７のステップＳ６５および図８（ｄ）に示すように、カラーフィルタ形成基板３１の裏面側（カラーフィルタ形成面とは反対側）に偏光機能を有する光学フィルム３５を形成する。

以上により、フィルタエレメント３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｍ、３Ｙを備えたカラーフィルタ基板３９が形成される。カラーフィルタ基板３９は、第１遮光部Ｅ１と、第２遮光部Ｅ２とを有しており、第２遮光部Ｅ２の幅Ｄ２は、第１遮光部Ｅ１の幅Ｄ１より広い。

次に、図７のステップＳ７１に示すように、素子基板２９と、カラーフィルタ基板３９とを位置合わせした上で互いに貼り合わせる。これにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでいて未だ液晶２４が封入されていない状態の空のパネル構造体（図示省略）が形成される。

次に、図７のステップＳ７２に示すように、完成したパネル構造体（図示省略）の所定の位置にスクライブ溝、すなわち分断用溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準としてパネル構造体に応力又は熱を加え、或いは光を照射する等の方法により基板をブレイク（破断）させることによって分断する（１次ブレイク）。これにより、いわゆる短冊状の空のパネル構造体（図示省略）が形成される。

次に、図７のステップＳ７３に示すように、各液晶パネル部分の内部に液晶２４を注入する。液晶２４を注入する方法は、例えば、貯留容器の中に液晶２４を貯留し、その液晶２４が貯留された貯留容器と短冊状の空パネル（図示省略）とをチャンバなどに入れ、そのチャンバなどを真空状態にしてからそのチャンバの内部において液晶２４の中に短冊状の空パネル（図示省略）を浸漬する。その後、チャンバを大気圧に開放すると、短冊状の空パネル（図示省略）の内部は真空状態なので、大気圧によって加圧される液晶２４が液晶注入用開口（図示省略）を通してパネルの内部へ導入される。

次に、図７のステップＳ７４に示すように、液晶注入後の液晶パネル構造体（図示省略）のまわりには液晶２４が付着することがあるので、液晶注入処理後の短冊状パネル（図示省略）を洗浄処理する。

次に、図７のステップＳ７５に示すように、液晶注入および洗浄が終わった後の短冊状パネル（図示省略）に対して、再び所定位置にスクライブ溝を形成する。さらに、そのスクライブ溝を基準にして短冊状パネル（図示省略）を分断する（２次ブレイク）。このことにより、複数個の液晶パネル（図示省略）が個々に切り出される。

最後に、図７のステップＳ７６に示すように、こうして作製された個々の液晶パネルに対して、液晶駆動用ＩＣ（図示省略）を実装し、照明装置としてのバックライト（図示省略）を装着し、さらにＦＰＣ（図示省略）を接続することにより、目標とする液晶表示装置１００を完成することができる。なお、液晶表示装置１００を示す図１および図２には、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、ＦＰＣなどは、図示を省略してある。

本実施形態における液晶表示装置１００の構成および製造方法は以上のようであって、遮光部Ｅの幅Ｄを色要素領域部１ごとで異なるように配置したときの視認性について図３を参照しながら説明する。

図３に示すように、色要素領域部１には、画素１０と画素２０とが形成されており、画素１０の列方向（Ｙ方向）に伸びるように遮光部Ｅ１が形成されている。同様に、画素２０の列方向（Ｙ方向）に伸びるように遮光部Ｅ２が形成されている。そこで、行方向（Ｘ方向）において、画素２０の周囲に形成された第２遮光部Ｅ２は、画素１０の周囲に形成された第１遮光部Ｅ１より広くなるように形成されている（第２遮光部Ｅ２の幅Ｄ２＞第１遮光部Ｅ１の幅Ｄ１）。このため、液晶２４を透過する透過光が画素２０を透過するときに、画素１０に影響を及ぼすことが少なくなるので、コントラストの低下を抑制することができる。結果的に、液晶表示装置１００は、色再現性を保持しながら視認性を向上させることができる。

そして、各色要素Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｍ、Ｙ、Ｃの６色の色再現性を保持しながら、人間にとって良好な視認性を得られることができるので、表示性能の向上を実現することが可能な液晶表示装置１００を提供できる。

以上のような実施形態では、以下の効果が得られる。

（１）遮光部Ｅの幅Ｄが、色要素領域部１ごとで異なるように形成されているから、液晶２４を透過するときの透過光の光強度をバランスよく調整して、色要素領域部１ごとの色バランスを向上させることが可能になるので、視認性に優れた液晶表示装置１００を提供できる。
（２）第２遮光部Ｅ２の幅Ｄ２が、第１遮光部Ｅ１の幅Ｄ１より広いから、第２の色要素領域部としての画素２０が第１の色要素領域部としての画素１０より小さくなるから、液晶２４を透過する透過光が画素２０を透過するときに、画素１０に影響を及ぼすことが少なくなるので、コントラストの低下を抑制することが実現可能になり、しかも、色再現性を保持しながら視認性に優れた表示性能の良好な液晶表示装置１００を提供することができる。

図９は、本実施形態の電子機器を示す図である。

図９に示すように、本実施形態の電子機器としての大型液晶テレビ２００は、本実施形態で説明した液晶表示装置１００を表示手段として搭載している。大型液晶テレビ２００は、表示部２０１を備えている。このように本発明に係る電子機器としての大型液晶テレビ２００は、色バランスが向上して、視認性に優れた液晶表示装置１００を備えることができるので、良好な表示特性を有する電子機器としての大型液晶テレビ２００を提供できる。

以上、好ましい実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、以下に示すような変形をも含み、本発明の目的を達成できる範囲で、他のいずれの具体的な構造および形状に設定できる。

（変形例１）前述の実施形態で、画素１０および画素２０にＲ、Ｇ、Ｂ、Ｃ、Ｍ、Ｙ（Ｒ：赤、Ｇ：緑、Ｂ：青、Ｃ：シアン、Ｍ：マゼンダ、Ｙ：黄）の６色の色要素を配置した構成としたがこれに限らない。例えば画素１０に色要素Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ（Ｒ：赤、Ｇ：緑、Ｂ：青、Ｗ：白）の４色の色要素を配置する構成にしてもよい。このようにしても、第２遮光部Ｅ２の幅Ｄ２が、第１遮光部Ｅ１の幅Ｄ１よりも広く形成されているから、実施形態と同種の効果が得られる。

（変形例２）前述の実施形態で、ＶＡ方式における液晶表示装置１００の構成を示したが、これに限らない。例えばＩＰＳ方式などの表示方式にも適用可能である。このようにすれば、いろいろな液晶表示装置１００を提供できる。

（変形例３）前述の実施形態で、液晶表示装置１００が搭載される電子機器は、大型液晶テレビ２００に限定されない。例えば、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）と呼ばれる携帯型情報機器、携帯端末機器、パーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、モニタ直視型のデジタルビデオレコーダ、カーナビゲーション装置、電子手帳、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等々の画像表示手段として好適に用いることができる。このようにすれば、液晶表示装置１００の用途は広がり、いろいろな電子機器を提供できる。

実施形態における液晶表示装置を説明するための平面図。 液晶表示装置を説明するための図であり、（ａ）は、拡大平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面図。 カラーフィルタの構造を説明するための図であり、（ａ）は、概略平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う概略断面図。 カラーフィルタの製造工程を示す図であり、（ａ）〜（ｊ）は、工程断面図。 カラーフィルタの製造工程の手順を示す概略フローチャート。 液滴吐出ヘッドの主要部を部分的に示す図であり、（ａ）は、概略斜視図であり、（ｂ）は、概略断面図。 液晶表示装置の製造工程の手順を示す概略フローチャート。 液晶表示装置の製造工程を示す図であり、（ａ）〜（ｄ）は、工程断面図。 電子機器としての大型液晶テレビを示す概略斜視図。

符号の説明

１…色要素領域部、１０…第１の色要素領域部としての画素、２０…第２の色要素領域部としての画素、２１…素子形成基板、２４…液晶、２９…第１基板としての素子基板、３１…カラーフィルタ形成基板、３９…第２基板としてのカラーフィルタ基板、１００…液晶表示装置、２００…電子機器としての大型液晶テレビ、Ｂ…色要素、Ｃ…色要素、Ｇ…色要素、Ｍ…色要素、Ｒ…色要素、Ｙ…色要素、Ｄ…遮光部の幅、Ｄ１…第１遮光部の幅、Ｄ２…第２遮光部の幅、Ｅ…遮光部、Ｅ１…第１遮光部、Ｅ２…第２遮光部。

Claims (3)

1. 第１基板と、
   前記第１基板と対向する位置に配置された第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に挟持された液晶と、
   前記第２基板上に設けられた複数の色要素領域部と、
   前記色要素領域部の周囲を囲むように形成された遮光部と、を備え、
   前記複数の色要素領域部は、第１の色要素を有する第１の色要素領域部と、前記第１の色要素領域部とは異なる第２の色要素を有し、且つ面積が小さい第２の色要素領域部と、を備え、前記第１の色要素領域部と前記第２の色要素領域部が第１の方向に配列されてなり、
   前記第１の方向に交差する第２の方向であって、前記第１の色要素領域部と隣接し、第３の色要素を有する第３の色要素領域部が配置されてなり、前記第１の色要素領域部と前記第３の色要素領域部との間に第１遮光部を備えており、
   前記第１の方向に交差する第２の方向であって、前記第２の色要素領域部と隣接し、且つ前記第１の方向であって前記第３の色要素領域部に隣接するとともに、第４の色要素を有する第４の色要素領域部が配置されてなり、前記第２の色要素領域部と前記第４の色要素領域部との間に第２遮光部を備えており、
   前記第２遮光部の幅が、前記第１遮光部の幅より広く形成され、
   ＿前記第１の色要素は、前記第２の色要素に対して補色の関係にあり、かつ前記第３の色要素は、前記第４の色要素に対して補色の関係にある
   ことを特徴とする液晶表示装置。
2. 前記色要素領域部には、リブ又はスリットが形成されてなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 液晶表示装置を有する電子機器であって、
   請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置を備えていることを特徴とする電子機器。

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