CN107479246A - 彩膜基板的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提出了一种彩膜基板的制作方法，包括步骤：提供一基板；在所述基板表面形成RGB色阻，所述RGB色阻的上表面为出光区域；在所述RGB色阻表面形成黑色矩阵，所述黑色矩阵覆盖于所述RGB光阻表面且未完全覆盖所述RGB色阻的出光区域；在所述RGB色阻之间空白区域的黑色矩阵表面形成支撑柱；在所述基板的上方形成保护层。本发明通过改善对黑色矩阵和支撑柱的设计，即缩小了彩膜基板的厚度，也改善了光线透过彩膜基板发生的混色问题，进而提高了显示器件的显示质量。

Description

彩膜基板的制作方法
技术领域
本发明涉及显示领域，具体涉及一种彩膜基板的制作方法。
背景技术
有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)以其良好的自发光特性、优越的对比度、快速响应以及柔性显示等优势，得到了广泛的应用。
OLED实现全才的方式有以下集中：a、采用红绿蓝三种有机发光材料直接发光；b、白色有机发光器件(white organic light-emitting diode,WOLED)+彩膜(Colourfilter，CF)；c、光色转换法+蓝色发光层加光色转换层。
目前OLED中彩膜的涉及需要参照液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)彩膜设计；LCD中需要采用彩膜实现全彩显示，彩膜基板1一般包括黑色矩阵12(BlackMatrix，BM)，RGB色阻13以及保护层14、支撑柱15(Photo spacer，PS)，具体结构如图1所示。
现有OLED结构中支撑柱15位于保护层14之上，这样容易使得WOLED与彩膜基板1的间距增大，造成混色风险，并且支撑柱15一般为有机光阻，呈现淡黄色，有一定的透光性。
发明内容
本发明提供了一种彩膜基板的制作方法，能够减小彩膜基板的厚度，同时改善光线透过彩膜基板发生的混色问题，进而提高了显示器件的显示质量。
本发明提供了一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤：
步骤S10、提供一基板；
步骤S20、在所述基板表面形成RGB色阻，所述RGB色阻包括至少四个阵列分布的色阻区，每个色阻区包括依次分布的第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块，所述RGB色阻的上表面包括出光区域；
步骤S30、在所述RGB色阻表面形成黑色矩阵，所述黑色矩阵覆盖所述RGB光阻表面中除所述出光区域以外的部分；
步骤S40、在所述RGB色阻之间空白区域的黑色矩阵表面形成支撑柱，所述支撑柱每隔一个色阻区设置一个；
步骤S50、在所述基板的上方形成保护层，所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻。
其中，采用所述支撑柱与黑色矩阵结合互补的设置用以防止所述RGB色阻出射光线相互混色。
根据本发明一优选实施例，所述第一色阻块为红色色阻块，所述第二色阻块为绿色色阻块，所述第三色阻块为蓝色色阻块。
根据本发明一优选实施例，所述基板为刚性衬底或柔性衬底。
根据本发明一优选实施例，所述黑色矩阵的制备材料为有机光阻、不透光金属、金属氧化物和氮化物中的其中一者。
根据本发明一优选实施例，所述黑色矩阵为有机物光阻，所述黑色矩阵是通过采用喷嘴印刷技术或墨水喷射印刷技术将所述有机物光阻的材料设置在所述RGB光阻表面中除所述出光区域以外的部分来形成的。
根据本发明一优选实施例，所述黑色矩阵为不透光金属或者金属氧化物，所述黑色矩阵是通过采用热蒸镀技术或磁控溅射技术将所述不透光金属或者所述金属氧化物设置在所述RGB光阻表面中除所述出光区域以外的部分来形成的。
根据本发明一优选实施例，所述支撑柱的长度与所述RGB色阻长边长度相同。
根据本发明一优选实施例，所述支撑柱的制备材料为黑色框胶、不透光金属、金属氧化物、氮化物和透明OLED封装框胶中的其中一者。
根据本发明一优选实施例，所述支撑柱为有机物光阻，所述支撑柱是通过采用喷嘴印刷技术或墨水喷射印刷技术将所述有机物光阻的材料设置在所述RGB色阻之间的空白区域的黑色矩阵表面来形成的。
根据本发明一优选实施例，所述支撑柱由有机物溶液涂布形成，所述支撑柱是通过在涂布有机物溶液的同时对所述有机物溶液进行固化来形成的。
本发明提供一种彩膜基板的制作方法，通过改善对黑色矩阵和支撑柱的设计，即缩小了彩膜基板的厚度，也改善了光线透过彩膜基板发生的混色问题，进而提高了显示器件的显示质量。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中彩膜基板的结构示意图；
图2为本发明实施例的彩膜基板的制作流程图；
图3为本发明实施例的彩膜基板的结构示意图。
图4a-4d为本发明实施例的彩膜基板的制作流程结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
下面结合附图和具体实施例对本发明做进一步的说明：
图2所示为本发明实施例中彩膜基板的制作流程图，图3为本本发明实施例中彩膜基板的结构示意图。
如图2所示，本发明提供了一种彩膜基板2的制作方法，所述彩膜基板2的制作方法包括如下步骤：
如图4a所示，步骤S10、提供一基板21；
其中在所述步骤S10中提供的基板21可以为刚性衬底，如玻璃基板；也可以为柔性衬底，如聚酰亚胺膜。
步骤S20、在所述基板表面形成RGB色阻23，所述RGB色阻包括至少四个阵列分布的色阻区，每个色阻区包括依次分布的第一色阻块231、第二色阻块232和第三色阻块233，所述RGB色阻23的上表面包括出光区域。
其中，第一色阻块231为红色色阻块，第二色阻块232为绿色色阻块，第三色阻块233为蓝色色阻块。
所述步骤S20为在基板21表面依次经过涂布、预烘烤、曝光、显影和再烘烤等制程形成图案化的RGB色阻23；所述RGB色阻23可以是将RGB颜料分散于有机溶剂中形成，也可以为RGB量子点材料。
RGB色阻23的涂布方式可以是采用狭缝涂布或旋涂；且RGB色阻23的形状和像素的形状相同。
如图4b所示，步骤S30、在所述RGB色阻23表面形成黑色矩阵22，所述黑色矩阵22覆盖于所述RGB光阻23表面中除所述出光区域以外的部分；
其中，RGB色阻23的出光区域即RGB色阻的上表面区域，黑色矩阵22覆盖在RGB色阻23的表面，包括覆盖着RGB色阻23之间的空白区域。
黑色矩阵22的制备材料为有机光阻、不透光金属、金属氧化物和氮化物中的其中一者，可以阻挡光线通过或者将光线反射回去。
当黑色矩阵22为有机光阻时，所述黑色矩阵22是通过采用点胶机、丝网印刷术、喷嘴印刷、墨水喷射印刷等技术来形成。
当黑色矩阵22为金属或者金属氧化物时，所述黑色矩阵22是通过采用热蒸镀、磁控溅射、气相沉积技术等制程来形成的。
如图4c所示，步骤S40、在所述RGB色阻23之间空白区域的黑色矩阵22表面形成支撑柱25，所述支撑柱25每隔一个色阻区设置一个；
在步骤S40中，支撑柱25的水平长度与RGB色阻23最长边的长度相同，这是因为彩膜基板2的混色现象主要发生在像素的长边地区。
支撑柱25的制备材料为黑色光阻、黑色框胶、玻璃胶、不透光金属、金属氧化物、氮化物和透明OLED封装框胶中的其中一者。
当支撑柱25为有机光阻时，支撑柱25是通过采用点胶机、丝网印刷术、喷嘴印刷、墨水喷射印刷等技术涂布来形成的；支撑柱25由有机溶液涂布形成，在涂布有机物溶液的同时对所述有机物溶液进行固化。
当支撑柱25为金属或者金属氧化物时，支撑柱25是通过采用热蒸镀、磁控溅射、气相沉积技术等制程来形成的。
如图4d所示，步骤S50、在所述基板21的上方形成保护层24，所述保护层24整面覆盖所述黑色矩阵22、所述支撑柱2和所述RGB色阻23。
其中，采用支撑柱25与黑色矩阵22结合互补的设置用以防止所述RGB色阻23出射光线相互混色问题。
保护层25具有隔绝封装高透过率有机填充材与RGB色阻23相接触的作用；同时还具有隔绝有机光阻气体的作用。
在本发明中，保护层25同时起到缓冲层的作用，所以又可称为缓冲层；保护层25为一层致密的氧化物薄膜，优选为氧化硅、氮化硅和氧化铝的一者或至少两者。
可以通过溅射镀膜、气相沉积技术或者原子层沉积技术等制程形成保护层25。
本发明通过改善对黑色矩阵和支撑柱的设计，即缩小了彩膜基板的厚度，也改善了光线透过彩膜基板发生的混色问题，进而提高了显示器件的显示质量。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤：
步骤S10、提供一基板；
步骤S20、在所述基板表面形成RGB色阻，所述RGB色阻包括至少四个阵列分布的色阻区，每个色阻区包括依次分布的第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块，所述RGB色阻的上表面包括出光区域；
步骤S30、在所述RGB色阻表面形成黑色矩阵，所述黑色矩阵覆盖于所述RGB光阻表面中除所述出光区域以外的部分；
步骤S40、在所述RGB色阻之间空白区域的黑色矩阵表面形成支撑柱，所述支撑柱每隔一个色阻区设置一个；
步骤S50、在所述基板的上方形成保护层，所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻；
其中，采用所述支撑柱与所述黑色矩阵结合互补的设置用以防止所述RGB色阻出射光线相互混色。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述第一色阻块为红色色阻块，所述第二色阻块为绿色色阻块，所述第三色阻块为蓝色色阻块。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述基板为刚性衬底或柔性衬底。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述黑色矩阵的制备材料为有机光阻、不透光金属、金属氧化物和氮化物中的其中一者。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述黑色矩阵为有机物光阻，所述黑色矩阵是通过采用喷嘴印刷技术或墨水喷射印刷技术将所述有机物光阻的材料设置在所述RGB光阻表面中除所述出光区域以外的部分来形成的。
6.根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述黑色矩阵为不透光金属或者金属氧化物，所述黑色光阻是通过采用热蒸镀技术或磁控溅射技术将所述不透光金属或者所述金属氧化物设置在所述RGB光阻表面中除所述出光区域以外的部分来形成的。
7.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱的长度所述RGB色阻长边长度相同。
8.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱的制备材料为黑色框胶、不透光金属、金属氧化物、氮化物和透明OLED封装框胶中的其中一者。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱为有机物光阻，所述支撑柱是通过采用喷嘴印刷技术或墨水喷射印刷技术将所述有机物光阻的材料设置在所述RGB色阻之间的空白区域的黑色矩阵表面来形成的。
10.根据权利要求9所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱为有机物溶液涂布形成，所述支撑柱是通过在涂布有机物溶液的同时对所述有机物溶液进行固化来形成的。
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