CN107390402A - 掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述掩膜板包括对应所述彩膜基板的像素区域的透光图形，还包括对应所述彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形。彩膜基板的制作方法包括：在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料，利用如上所述的掩膜板对所述彩色负性光阻材料进行曝光，显影后保留像素区域的彩色负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料。通过本发明的技术方案能够防止液晶显示面板的边缘位置出现漏光。

Description

掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是指一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置。
背景技术
现有技术在制作液晶显示面板的彩膜基板时，是在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料，利用掩膜板对彩色负性光阻材料进行曝光，制作彩膜基板的掩膜板包括对应像素区域的透光图形，显影后像素区域的彩色负性光阻材料得以保留形成彩色滤光单元。
其中，制作彩膜基板的掩膜板还包括对应像素区域周边的虚拟像素区的透光图形，这样在每一次曝光显影过程中，虚拟像素区的彩色负性光阻材料都会被保留下来，经过三次曝光显影工艺之后，虚拟像素区的膜厚会比像素区域的膜厚大很多，形成像素区域膜厚低，虚拟像素区膜厚高的结构，使得彩膜基板和阵列基板对盒后的液晶盒的中间区域与边缘区域的盒厚不一致，这样在液晶盒内填充液晶后，会导致液晶在液晶盒内扩散不充分，容易导致液晶显示面板的边缘位置出现漏光。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，能够防止液晶显示面板的边缘位置出现漏光。
为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：
一方面，提供一种掩膜板，用于制作彩膜基板上的彩色滤光单元，所述掩膜板包括对应所述彩膜基板的像素区域的透光图形，还包括对应所述彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形。
进一步地，所述掩膜板还包括对应所述彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的不透光图形。
进一步地，所述部分透光图形的透光率为25-40％。
本发明实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：
在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料，利用如上所述的掩膜板对所述彩色负性光阻材料进行曝光，显影后保留像素区域的彩色负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料。
进一步地，所述掩膜板还包括对应所述彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的不透光图形，所述方法还包括：
显影后去除黑矩阵区域和封装区域的彩色负性光阻材料。
进一步地，所述掩膜板包括第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，所述第一掩膜板包括对应第一子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述第二掩膜板包括对应第二子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述第三掩膜板包括对应第三子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述方法具体包括：
在衬底基板上涂布第一颜色的负性光阻材料，利用所述第一掩膜板对所述第一颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第一子像素区域的第一颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第一颜色的负性光阻材料；
在衬底基板上涂布第二颜色的负性光阻材料，利用所述第二掩膜板对所述第二颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第二子像素区域的第二颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第二颜色的负性光阻材料；
在衬底基板上涂布第三颜色的负性光阻材料，利用所述第三掩膜板对所述第三颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第三子像素区域的第三颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第三颜色的负性光阻材料。
本发明实施例还提供了一种彩膜基板，所述彩膜基板包括像素区域和位于像素区域周边的虚拟像素区，所述虚拟像素区的所有膜层的总厚度与所述像素区域的彩色滤光单元的厚度的差值小于预设阈值。
进一步地，所述虚拟像素区的所有膜层的总厚度等于所述像素区域的彩色滤光单元的厚度。
本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括如上所述的彩膜基板。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的液晶显示面板。
本发明的实施例具有以下有益效果：
上述方案中，制作彩膜基板的掩膜板包括对应彩膜基板的像素区域的透光图形，还包括对应彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形，这样在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料后，利用掩膜板对彩色负性光阻材料进行曝光，显影后能够去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料，从而减薄虚拟像素区的膜层厚度，使得虚拟像素区的膜层厚度与彩色滤光单元的厚度接近，进而使得彩膜基板和阵列基板对盒后形成的液晶盒的盒厚在中央区域和边缘区域保持一致，这样在液晶盒内填充液晶后，能够使得液晶在液晶盒内充分扩散均匀，避免液晶显示面板的边缘位置出现漏光。
附图说明
图1为现有技术制作彩膜基板的掩膜板的示意图；
图2为现有技术彩膜基板的结构示意图；
图3为本发明实施例制作彩膜基板的掩膜板的结构示意图；
图4-图6为本发明实施例制作彩膜基板的示意图。
附图标记
1掩膜板
2不透光图形
3透光图形
4衬底基板
5黑矩阵图形
6红色滤光单元
7绿色滤光单元
8蓝色滤光单元
11掩膜板
12不透光图形
13部分透光图形
14透光图形
15第一掩膜板
16第二掩膜板
17第三掩膜板
A像素区域
B虚拟像素区
具体实施方式
为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
图1为现有技术制作彩膜基板的掩膜板的示意图，如图1所示，制作彩膜基板的掩膜板1包括对应封装区域的不透光图形2、对应像素区域A的透光图形3和对应像素区域A周边的虚拟像素区B的透光图形3，这样在每一次曝光显影过程中，虚拟像素区的彩色负性光阻材料都会被保留下来，经过三次曝光显影工艺，在黑矩阵图形5限定出的像素区域依次形成红色滤光单元6、绿色滤光单元6和蓝色滤光单元7之后，虚拟像素区的膜厚会比像素区域的膜厚大很多，如图2所示，形成像素区域A膜厚低，虚拟像素区B膜厚高的结构，使得彩膜基板和阵列基板对盒后的液晶盒的中间区域与边缘区域的盒厚不一致，这样在液晶盒内填充液晶后，会导致液晶在液晶盒内扩散不充分，容易导致液晶显示面板的边缘位置出现漏光。
本发明的实施例针对现有技术中像素区域膜厚低，虚拟像素区膜厚高的结构容易导致液晶显示面板的边缘位置容易出现漏光的问题，提供一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，能够防止液晶显示面板的边缘位置出现漏光。
本发明实施例提供一种掩膜板，用于制作彩膜基板上的彩色滤光单元，如图3所示，所述掩膜板11包括对应所述彩膜基板的像素区域的透光图形14，还包括对应所述彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形13。
本实施例中，制作彩膜基板的掩膜板11包括对应彩膜基板的像素区域的透光图形14，还包括对应彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形13，这样在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料后，利用掩膜板11对彩色负性光阻材料进行曝光，部分透光图形13能够遮挡照射到虚拟像素区的彩色负性光阻材料上的紫外光，显影后能够去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料，从而减薄虚拟像素区的膜层厚度，使得虚拟像素区的膜层厚度与彩色滤光单元的厚度接近，进而使得彩膜基板和阵列基板对盒后形成的液晶盒的盒厚在中央区域和边缘区域保持一致，这样在液晶盒内填充液晶后，能够使得液晶在液晶盒内充分扩散均匀，避免液晶显示面板的边缘位置出现漏光。
进一步地，由于彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的彩色负性光阻材料都需要被去除，因此，如图3所示，所述掩膜板11还包括对应所述彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的不透光图形12。
进一步地，为了使得最终制作的彩膜基板上虚拟像素区的膜层厚度与像素区域的彩色滤光单元的厚度接近一致，将部分透光图形14的透光率设计为25-40％。
本发明实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：
在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料，利用如上所述的掩膜板对所述彩色负性光阻材料进行曝光，显影后保留像素区域的彩色负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料。
本实施例中，制作彩膜基板的掩膜板包括对应彩膜基板的像素区域的透光图形，还包括对应彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形，这样在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料后，利用掩膜板对彩色负性光阻材料进行曝光，显影后能够去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料，从而减薄虚拟像素区的膜层厚度，使得虚拟像素区的膜层厚度与彩色滤光单元的厚度接近，进而使得彩膜基板和阵列基板对盒后形成的液晶盒的盒厚在中央区域和边缘区域保持一致，这样在液晶盒内填充液晶后，能够使得液晶在液晶盒内充分扩散均匀，避免液晶显示面板的边缘位置出现漏光。
进一步地，由于彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的彩色负性光阻材料都需要被去除，因此，如图3所示，所述掩膜板11还包括对应所述彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的不透光图形12，所述方法还包括：
显影后去除黑矩阵区域和封装区域的彩色负性光阻材料。
进一步地，所述掩膜板11包括第一掩膜板15、第二掩膜板16和第三掩膜板17，所述第一掩膜板15包括对应第一子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，用以形成第一颜色的滤光单元，所述第二掩膜板16包括对应第二子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，用以形成第二颜色的滤光单元，所述第三掩膜板17包括对应第三子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，用以形成第三颜色的滤光单元，其中，第一颜色、第二颜色和第三颜色的颜色不同且能够混合成白光，第一颜色、第二颜色、第三颜色可以选自红色、蓝色和绿色，还可以选自黄色、青色、品红色，所述制作方法具体包括：
如图4所示，在衬底基板4上涂布第一颜色的负性光阻材料，利用所述第一掩膜板15对所述第一颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第一子像素区域的第一颜色的负性光阻材料，形成第一颜色的彩色滤光单元，具体地，第一颜色的彩色滤光单元可以为红色滤光单元6，同时去除虚拟像素区的部分第一颜色的负性光阻材料；
如图5所示，在衬底基板上涂布第二颜色的负性光阻材料，利用所述第二掩膜板对所述第二颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第二子像素区域的第二颜色的负性光阻材料，形成第二颜色的彩色滤光单元，具体地，第二颜色的彩色滤光单元可以为绿色滤光单元7，同时去除虚拟像素区的部分第二颜色的负性光阻材料；
如图6所示，在衬底基板上涂布第三颜色的负性光阻材料，利用所述第三掩膜板对所述第三颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第三子像素区域的第三颜色的负性光阻材料，形成第三颜色的彩色滤光单元，具体地，第三颜色的彩色滤光单元可以为蓝色滤光单元8，同时去除虚拟像素区的部分第三颜色的负性光阻材料。
由图6可以看出，虚拟像素区B的膜层包括残留的部分第一颜色的负性光阻材料、残留的部分第二颜色的负性光阻材料和残留的部分第三颜色的负性光阻材料。通过控制部分透光图形13的透光率，可以使得虚拟像素区B的膜层的总厚度接近像素区域A的彩色滤光单元的厚度，进而使得彩膜基板和阵列基板对盒后形成的液晶盒的盒厚在中央区域和边缘区域保持一致，这样在液晶盒内填充液晶后，能够使得液晶在液晶盒内充分扩散均匀，避免液晶显示面板的边缘位置出现漏光。
本发明实施例还提供了一种彩膜基板，所述彩膜基板包括像素区域和位于像素区域周边的虚拟像素区，所述虚拟像素区的所有膜层的总厚度与所述像素区域的彩色滤光单元的厚度的差值小于预设阈值。
本实施例中，可以使得虚拟像素区的所有膜层的厚度之和与所述像素区域的彩色滤光单元的厚度接近一致，进而使得彩膜基板和阵列基板对盒后形成的液晶盒的盒厚在中央区域和边缘区域接近一致，这样在液晶盒内填充液晶后，能够使得液晶在液晶盒内充分扩散均匀，避免液晶显示面板的边缘位置出现漏光。
优选地，所述虚拟像素区的所有膜层的总厚度等于所述像素区域的彩色滤光单元的厚度，这样可以使得彩膜基板和阵列基板对盒后形成的液晶盒的盒厚在中央区域和边缘区域保持一致。
本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括如上所述的彩膜基板。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的液晶显示面板。所述显示装置可以为：液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件，其中，所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种掩膜板，用于制作彩膜基板上的彩色滤光单元，其特征在于，所述掩膜板包括对应所述彩膜基板的像素区域的透光图形，还包括对应所述彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板还包括对应所述彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的不透光图形。
3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述部分透光图形的透光率为25-40％。
4.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料，利用如权利要求1-3中任一项所述的掩膜板对所述彩色负性光阻材料进行曝光，显影后保留像素区域的彩色负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述掩膜板还包括对应所述彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的不透光图形，所述方法还包括：
显影后去除黑矩阵区域和封装区域的彩色负性光阻材料。
6.根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述掩膜板包括第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，所述第一掩膜板包括对应第一子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述第二掩膜板包括对应第二子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述第三掩膜板包括对应第三子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述方法具体包括：
在衬底基板上涂布第一颜色的负性光阻材料，利用所述第一掩膜板对所述第一颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第一子像素区域的第一颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第一颜色的负性光阻材料；
在衬底基板上涂布第二颜色的负性光阻材料，利用所述第二掩膜板对所述第二颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第二子像素区域的第二颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第二颜色的负性光阻材料；
在衬底基板上涂布第三颜色的负性光阻材料，利用所述第三掩膜板对所述第三颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第三子像素区域的第三颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第三颜色的负性光阻材料。
7.一种彩膜基板，所述彩膜基板包括像素区域和位于像素区域周边的虚拟像素区，其特征在于，所述虚拟像素区的所有膜层的总厚度与所述像素区域的彩色滤光单元的厚度的差值小于预设阈值。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述虚拟像素区的所有膜层的总厚度等于所述像素区域的彩色滤光单元的厚度。
9.一种液晶显示面板，其特征在于，包括如权利要求7或8所述的彩膜基板。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的液晶显示面板。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108878687A (zh) * 2018-06-29 2018-11-23 上海天马微电子有限公司 一种显示面板和电子设备
CN109669294A (zh) * 2019-01-24 2019-04-23 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板外侧部件及组件、彩膜基板及制造方法、显示面板
CN113189812A (zh) * 2021-04-29 2021-07-30 滁州惠科光电科技有限公司 彩色滤光层制作方法、相关基板及其制作方法
CN114002910A (zh) * 2021-10-29 2022-02-01 福州京东方光电科技有限公司 掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法
CN114839806A (zh) * 2022-05-17 2022-08-02 广州华星光电半导体显示技术有限公司 彩色滤光片及其制备方法、显示面板

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104932139A (zh) * 2015-07-10 2015-09-23 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板的制作方法及其结构
CN105182596A (zh) * 2015-09-07 2015-12-23 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、显示装置及彩膜基板的制备方法
US20160116794A1 (en) * 2014-10-22 2016-04-28 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and method of manufacturing the same
CN105739185A (zh) * 2016-05-10 2016-07-06 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板的制作方法和液晶面板
CN106773245A (zh) * 2016-12-23 2017-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 光罩组件、液晶显示面板、彩色滤光基板及其制备方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160116794A1 (en) * 2014-10-22 2016-04-28 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and method of manufacturing the same
CN104932139A (zh) * 2015-07-10 2015-09-23 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板的制作方法及其结构
CN105182596A (zh) * 2015-09-07 2015-12-23 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、显示装置及彩膜基板的制备方法
CN105739185A (zh) * 2016-05-10 2016-07-06 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板的制作方法和液晶面板
CN106773245A (zh) * 2016-12-23 2017-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 光罩组件、液晶显示面板、彩色滤光基板及其制备方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108878687A (zh) * 2018-06-29 2018-11-23 上海天马微电子有限公司 一种显示面板和电子设备
CN109669294A (zh) * 2019-01-24 2019-04-23 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板外侧部件及组件、彩膜基板及制造方法、显示面板
CN109669294B (zh) * 2019-01-24 2021-11-16 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板外侧部件及组件、彩膜基板及制造方法、显示面板
CN113189812A (zh) * 2021-04-29 2021-07-30 滁州惠科光电科技有限公司 彩色滤光层制作方法、相关基板及其制作方法
CN114002910A (zh) * 2021-10-29 2022-02-01 福州京东方光电科技有限公司 掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法
CN114839806A (zh) * 2022-05-17 2022-08-02 广州华星光电半导体显示技术有限公司 彩色滤光片及其制备方法、显示面板
CN114839806B (zh) * 2022-05-17 2023-09-01 广州华星光电半导体显示技术有限公司 彩色滤光片及其制备方法、显示面板

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