CN114002910A - 掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法。掩膜板组件包括：第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板；每个掩膜板包括图案区和位于图案区周围的周边遮光区，周边遮光区用于与显示面板的边框区对应；图案区包括用于与显示面板的有效显示区对应的第一图案区、以及与位于有效显示区周围的虚设像素区对应的第二图案区；第一掩膜板的第一透光区、第二掩膜板的第二透光区和第三掩膜板的第三透光区，分布在所属掩膜板的第一图案区和第二图案区中。本申请实施例的掩膜板组件能够用于在显示面板的有效显示区和虚设像素区制备色阻，也能够用于制备紫外处理用掩膜板，扩大了掩膜板组件的应用场景。

Description

掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体而言，本申请涉及一种掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法、以及紫外处理用掩膜基板及其制备方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay，简称TFT-LCD)因其体积小、功耗低、无辐射等特点，在当前平板显示器市场占据主导地位。TFT-LCD主要包括对盒设置的彩膜基板和阵列(Array)基板，以及在彩膜基板和阵列基板之间填充的液晶层。彩膜基板包括CF(ColorFilter，彩色滤光层)。

阵列基板制备之后，需将阵列基板与彩膜基板对盒设置以形成液晶显示面板，在对盒工艺通过紫外处理边框区的封框胶的过程中，如果紫外光照射到有效显示区和虚设像素区，可能会对有效显示区和虚设像素区内的结构的性质产生不良影响，因此，需要使用紫外处理用掩膜板对有效显示区进行物理遮挡。但是，紫外处理用掩膜板需要使用阵列掩膜板进行生产，而阵列掩膜板在每次新产品开案时都需要重新购买，成本较高，导致紫外处理用掩膜板的生产成本较高。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法、以及紫外处理用掩膜基板及其制备方法，用以解决现有技术存在的紫外处理用掩膜板的生产成本较高等技术问题。

第一个方面，本申请实施例提供了一种掩膜板组件，包括：第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板；

每个掩膜板包括图案区和位于图案区周围的周边遮光区，周边遮光区用于与显示面板的边框区对应；图案区包括用于与显示面板的有效显示区对应的第一图案区、以及与位于有效显示区周围的虚设像素区对应的第二图案区；

第一掩膜板的第一透光区、第二掩膜板的第二透光区和第三掩膜板的第三透光区，分布在所属掩膜板的第一图案区和第二图案区中；

第一透光区、第二透光区和第三透光区，分别用于与显示面板的第一色阻、第二色阻、第三色阻所占区域对应。

第二个方面，本申请实施例还提供一种基于上述第一个方面提供的掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法，包括：

在基板的一侧制备一层遮光层；

分别基于掩膜板组件的第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，对遮光层进行图案化处理，得到遮光结构；紫外处理用掩膜板包括遮光结构和基板，基板包括与遮光结构对应的中央区域和位于中央区域周围的透光周边区，中央区域用于与显示面板的有效显示区和虚设像素区对应，透光周边区用于与显示面板的边框区对应。

第三个方面，本申请实施例还提供一种紫外处理用掩膜板，包括：

基板，包括中央区域和位于中央区域周围的透光周边区；

遮光结构，位于基板的中央区域的一侧；

遮光结构用于在对显示面板进行紫外光处理时，遮盖显示面板的有效显示区和虚设像素区；透光周边区用于在对显示面板进行紫外光处理时，露出显示面板的边框区。

第四个方面，本申请实施例还提供一种基于如前述第一个方面提供的掩膜板组件制备紫外处理用掩膜基板的方法，包括：

在基板的紫外处理区域的一侧制备一层遮光层；基板包括阵列排布的至少两个紫外处理区域；

分别基于掩膜板组件的第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，对遮光层进行图案化处理，得到遮光结构；紫外处理区域包括中央区域和位于中央区域周围的透光周边区，遮光结构用于与显示面板的有效显示区和虚设像素区对应，透光周边区用于与显示面板的边框区对应。

第五个方面，本申请还提供一种紫外处理用掩膜基板，包括：

基板，包括阵列排布的至少两个紫外处理区域，紫外处理区域包括中央区域和位于中央区域周围的透光周边区；

至少两个如前述第四个方面提供的遮光结构，遮光结构与紫外处理区域的中央区域对应。

本申请实施例提供的掩膜板组件带来的有益技术效果包括：掩膜板组件包括三种不同的掩膜板，每个掩膜板均包括与显示面板的有效显示区和虚设像素区对应的图案区，以及与显示面板的边框区对应的周边遮光区，由于在显示面板中，虚设像素区是否具有色阻不影响有效显示区的显示功能，因此，该掩膜板组件能够用于在显示面板的有效显示区和虚设像素区制备色阻，也能够用于制备紫外处理用掩膜板，扩大了掩膜板组件的应用场景，也降低了紫外处理用掩膜板的制造成本。

本申请实施例提供的紫外处理用掩膜板的制备方法和紫外处理用掩膜基板的制备方法带来的有益技术效果包括：通过使用掩膜板组件的第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板对基板上的遮光层进行图案化处理，得到遮光结构和不具有遮光结构的透光周边区，以在紫外处理过程中遮盖显示面板的有效显示区和虚设像素区，并露出显示面板的边框区。掩膜板组件在用来制备有效显示区的色阻的同时也能够用来制备紫外处理用掩膜板，降低了紫外处理用掩膜板的制造成本，节约了整个显示面板产品的开发成本。

本申请实施例提供的紫外处理用掩膜板和紫外处理用掩膜基板带来的有益技术效果包括：使用紫外处理用掩膜板的制备方法制备的紫外处理掩膜板中，遮光结构位于基板的中央区域上，在对显示面板进行紫外光处理时，能够遮盖住显示面板的有效显示区和虚设像素区，而无遮光结构存在的透光周边区能露出显示面板的边框区，便于对边框区的封框胶进行紫外处理，整个紫外处理用掩膜板的制备成本低。

本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本申请实施例提供的一种第一掩膜板的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的一种第二掩膜板的结构示意图；

图3为本申请实施例提供的一种第三掩膜板的结构示意图；

图4为本申请实施例提供的一种显示面板的平面结构示意图；

图5为本申请实施例提供的一种显示面板的紫外处理示意图；

图6为本申请实施例提供的一种显示面板内的像素设计示意图；

图7为本申请实施例提供的一种紫外处理用掩膜板的结构示意图；

图8为本申请实施例提供的一种基板的结构示意图；

图9为本申请实施例提供的第一种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法的流程示意图；

图10为本申请实施例提供的第一种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法中，在基板的一侧制备一层遮光层后的结构示意图；

图11为本申请实施例提供的第一种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法中，分别基于掩膜板组件的第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，对遮光层进行图案化处理，得到遮光结构后的结构示意图；

图12为本申请实施例提供的第二种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法的流程示意图；

图13为本申请实施例提供的第二种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法中，在基板的一侧制备树脂遮光层后的结构示意图；

图14为本申请实施例提供的第二种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法中，对经过三次曝光的树脂遮光层进行显影，得到树脂遮光结构后的结构示意图；

图15为本申请实施例提供的第三种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法的流程示意图；

图16为本申请实施例提供的第三种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法中，在基板的一侧制备无机遮光层后的结构示意图；

图17为本申请实施例提供的第三种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法中，在无机遮光层远离基板的一侧制备负性光刻胶层后的结构示意图；

图18为本申请实施例提供的第三种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法中，对经过三次曝光的负性光刻胶层进行显影，得到负性光刻胶结构后的结构示意图；

图19为本申请实施例提供的第三种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法中，基于负性光刻胶结构，对无机遮光层进行刻蚀，得到无机遮光结构后的结构示意图；

图20为本申请实施例提供的一种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜基板的方法的流程示意图；

图21为本申请实施例提供的一种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜基板的方法中，在基板的紫外处理区域的一侧制备一层遮光层后的结构示意图；

图22为本申请实施例提供的一种基于掩膜板组件制备紫外处理用掩膜基板的方法中，分别基于掩膜板组件的第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，对遮光层进行图案化处理，得到遮光结构后的结构示意图；

图23为本申请实施例提供的一种紫外处理用掩膜基板的结构示意图；

图24为本申请实施例提供的一种基板的结构示意图。

图中：

10-图案区；101-第一图案区；102-第二图案区；20-周边遮光区；

11-第一掩膜板；110-第一透光区；111-第一透光区的第二侧边缘；

12-第二掩膜板；120-第二透光区；121-第二透光区的第一侧边缘；122-第二透光区的第二侧边缘；

13-第三掩膜板；130-第三透光区；131-第三透光区的第一侧边缘；

2-显示面板；201-阵列基板；202-彩膜基板；203-封框胶；204-液晶；

21-边框区；

22-虚设像素区；

23-有效显示区；

24-第一色阻；

25-第二色阻；

26-第三色阻；

3-紫外处理用掩膜板；

31-基板；311-中央区域；312-透光周边区；

32-遮光层；320-遮光结构；321-树脂遮光层；3210-树脂遮光结构；322-无机遮光层；3220-无机遮光结构；

33-负性光刻胶层；330-负性光刻胶结构；

4-紫外处理用掩膜基板；

41-紫外处理区域。

具体实施方式

下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤和/或它们的组。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。

本申请的发明人进行研究发现，传统的显示面板包括边框区、虚设像素区和有效显示区，像素只设计在显示面板的有效显示区内，而虚设像素区和边框区无像素设计。如果将有效显示区的像素设计扩充至虚设像素区，使有效显示区和虚设像素区均布满像素，那么用来制备像素的色阻的掩膜板组件的图案区，便能覆盖整个有效像素区和虚设像素区。

然而，在阵列基板和彩膜基板对盒工艺中，需要在阵列基板的外围区域涂覆封框胶，在彩膜基板内滴入液晶，将阵列基板对盒罩设在彩膜基板上方，通过紫外处理封框胶，使封框胶固化，以贴合阵列基板和彩膜基板。而紫外光照射到有效显示区和虚设像素区，可能会对有效显示区和虚设像素区内的结构的性质产生不良影响，例如，紫外线光会破坏阵列基板和彩膜基板之间的液晶的极性，或使有源层等半导体产生漏电流进而影响TFT(ThinFilm Transistor，薄膜晶体管)的开关特性。因此，需要使用紫外处理用掩膜板对有效显示区和虚设像素区进行物理遮挡。

但是，紫外处理用掩膜板需要使用阵列掩膜板进行生产，而阵列掩膜板在每次新产品开案时都要重新购买，成本较高，导致紫外处理用掩膜板的生产成本较高。

本申请提供的显示模组及显示装置，旨在解决现有技术的如上技术问题。

下面以具体的实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。

本申请实施例提供了一种掩膜板组件，用于制备紫外处理用掩膜板3，请参考图1-图3，包括：第一掩膜板11、第二掩膜板12和第三掩膜板13。

每个掩膜板包括图案区10和位于图案区10周围的周边遮光区20，周边遮光区20用于与显示面板2的边框区21对应。图案区10包括用于与显示面板2的有效显示区23对应的第一图案区101、以及与位于有效显示区23周围的虚设像素区22对应的第二图案区102。

第一掩膜板11的第一透光区110、第二掩膜板12的第二透光区120和第三掩膜板13的第三透光区130，分布在所属掩膜板的第一图案区101和第二图案区102中。

第一透光区110、第二透光区120、第三透光区130，分别用于与显示面板2的第一色阻24、第二色阻25、第三色阻26所占区域对应。

在本实施例中，掩膜板组件包括三种不同的掩膜板，每个掩膜板均包括与显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22对应的图案区10，以及与显示面板2的边框区21对应的周边遮光区20，由于在显示面板2中，虚设像素区22是否具有色阻不影响有效显示区23的显示功能，因此，该掩膜板组件能够用于在显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22制备色阻，也能够用于制备紫外处理用掩膜板3，扩大了掩膜板组件的应用场景，也降低了紫外处理用掩膜板3的制造成本。

可选地，每个掩膜板的图案区10均包括透光区和不透光区，例如，第一掩膜板11包括第一透光区110和第一不透光区，第二掩膜板12包括第二透光区120和第二不透光区，第三掩模版包括第三透光区130和第三不透光区，在进行紫外光照射时，只有透光区能够被紫外光穿透，进而照射掩膜板下方的各类层结构，紫外光无法穿透不透光区，可以保护下方的各类层结构不受紫外光照射的影响。

可选地，第一掩膜板11是制备红色色阻的掩膜板，第二掩膜板12是制备蓝色色阻的掩膜板，第三掩膜板13是制备绿色色阻的掩膜板，第一色阻24是红色色阻，第二色阻25是蓝色色阻，第三色阻26是绿色色阻，具体顺序在此不做限制，第一掩膜板11也可以是制备蓝色色阻的掩膜板，第一色阻24即蓝色色阻。在制备色阻的过程中，将各种掩膜板分别置于TFT基板上，再曝光显影制备得到各种色阻，因此，各种色阻的图案与各种掩膜板的透光区图案是一致对应的，即第一透光区110与第一色阻24所在的区域对应，第二透光区120与第二色阻25所在的区域对应，第三透光区130与第三色阻26所在的区域对应。

可以理解的是，请参考图4和图6，现有技术中像素设计大多在显示面板2的有效显示区23，三种色阻均为竖条状，每一竖条的色阻能头尾占满整个有效显示区23，且分别交错并列相切设置，中间无间断。而本申请的发明人研究发现，当像素设计也扩充至虚设像素区22时，对显示面板2的显示没有影响，反而还能扩大掩膜板组件的应用场景。

在一些可能的实施方式中，掩膜板组件包括：至少部分第一透光区110贯穿第一图案区101。

至少部分第二透光区120贯穿第一图案区101。

至少部分第三透光区130贯穿第一图案区101。

在本实施例中，当将色阻扩充至虚设像素区22时，三种颜色的色阻还是并列且相切设置，部分与色阻对应的第一透光区110、第二透光区120或第三透光区130贯穿第一图案区101，并头尾分别连接第二图案区102两个相对的边缘。部分第一透光区110、第二透光区120或第三透光区130直接并列设置在第一图案区101外，头尾分别连接第二图案区102的两个相对的边缘，无需贯穿第一图案区101。

在一些可能的实施方式中，第一透光区110的第二侧边缘111与第二透光区120的第一侧边缘121在紫外处理参考基板上的投影重叠或接触。

第二透光区120的第二侧边缘122与第三透光区130的第一侧边缘131在参考基板31上的投影重叠或接触。

在本实施例中，请参考图6，第一透光区110、第二透光区120和第三透光区130形状相同或相似，均为长条状，长条状的一条长边为第一侧边缘，相对的另一条长边为第二侧边缘，第一透光区110、第二透光区120和第三透光区130的在同一平面时，例如在紫外处理参考基板上，按照一定的顺序依次设置，可以是第一透光区110、第二透光区120、第三透光区130，接着又是按照第一透光区110、第二透光区120、第三透光区130的顺序排列，直至透光区域布满了图案区10。相邻透光区的边缘相切，也可称为重叠或接触，使得三种透光区在同一平面上无间隔，使用三种掩膜板制作的三种色阻也无间隔，均紧挨设置，因此，使用三种掩膜板制作的紫外处理用掩膜板3也无间隔，得到完整的遮光结构320，关于紫外处理用掩膜板3和遮光结构320的具体特征请参考后续紫外处理用掩膜板3的具体说明。其中，紫外处理参考基板是为了在同一个平面上描述三张不同掩膜板的透光区之间的位置关系而引入进来的，起到参考的作用，不一定是真实存在的。

请参考图5，在显示面板2中，阵列基板201和彩膜基板202对盒的过程中，在阵列基板201和彩膜基板202之间注入液晶204，并使用紫外光照射封框胶203，使封框胶203固化，但是，紫外光照射到有效显示区23和虚设像素区22，可能会对有效显示区23和虚设像素区24内的液晶204等结构的性质产生不良影响，因此，需要使用紫外处理用掩膜板3对有效显示区23和虚设像素区22进行物理遮挡。紫外处理用掩膜板3的结构示意图可参考图7。基于同一发明构思，本申请实施例还提供了第一种基于如前述任一实施例提供的掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板3的方法，该方法的流程示意图如图9所示，该方法包括步骤S101-S102：

S101：在基板31的一侧制备一层遮光层32，本步骤后的膜层结构示意图请参考图10。

S102：分别基于掩膜板组件的第一掩膜板11、第二掩膜板12和第三掩膜板13，对遮光层32进行图案化处理，得到遮光结构320。紫外处理用掩膜板3包括遮光结构320和基板31，基板31包括与遮光结构320对应的中央区域311和位于中央区域311周围的透光周边区312，中央区域311用于与显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22对应，透光周边区312用于与显示面板2的边框区21对应。本步骤后的膜层结构示意图请参考图11。

本实施例通过使用掩膜板组件的第一掩膜板11、第二掩膜板12和第三掩膜板13对基板31上的遮光层32进行图案化处理，得到遮光结构320和不具有遮光结构320的透光周边区312，以在紫外处理过程中遮盖显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22，并露出显示面板2的边框区21。掩膜板组件在用来制备有效显示区23的色阻的同时也能够用来制备紫外处理用掩膜板3，降低了紫外处理用掩膜板3的制造成本，节约了整个显示面板2产品的开发成本。

基于同一发明构思，本申请实施例还提供了第二种基于如前述任一实施例提供的掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板3的方法，该方法的流程示意图如图12所示，该方法包括步骤S201-S203：

S201：在基板31的一侧制备树脂遮光层321，树脂遮光层321的材料包括负性光刻胶。

在本步骤中，请参考图13，在基板31的一侧制备树脂遮光层321，树脂遮光层321至少要能够覆盖显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22。使用负性光刻胶，能够在紫外光处理时，通过掩膜板的透光区进行曝光固化，使树脂遮光层321有部分固化。

S202：依次基于第一掩膜板11、第二掩膜板12、第三掩膜板13，对树脂遮光层321进行曝光。

具体地，先使用第一掩膜板11对树脂遮光层321进行紫外线曝光，由于第一掩膜板11中的第一透光区110能够透光，因此，第一透光区110对应的部分树脂遮光层321会被曝光进而固化，成为固态的胶结构，而未被紫外线照射的树脂遮光层321还未被固化成型。再使用第二掩膜板12对树脂遮光层321进行紫外线曝光，由于第二掩膜板12中的第二透光区120能够透光，因此，第二透光区120对应的部分树脂遮光层321会被曝光进而固化，成为固态的胶结构，此时固态的胶结构包括第一次照射固化的部分和第二次照射固化的部分，而未被紫外线照射的树脂遮光层321还未被固化成型。再使用第三掩膜板13对对树脂遮光层321进行紫外线曝光，由于第三掩膜板13中的第三透光区130能够透光，因此，第三透光区130对应的部分树脂遮光层321会被曝光进而固化，成为固态的胶结构，此时固态的胶结构包括第一次照射固化的部分、第二次照射固化的部分和第三次照射固化的部分，而未被紫外线照射的树脂遮光层321还未被固化成型。

S203：对经过三次曝光的树脂遮光层321进行显影，得到树脂遮光结构3210。遮光结构320包括树脂遮光结构3210。

具体地，请参考图14，在步骤S202中，还有部分树脂遮光层321未被固化，再对未被固化的树脂遮光层321显影，洗去未被固化的树脂遮光层321，留下完全固化的树脂遮光结构3210。树脂遮光结构3210即可遮盖住显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22。

可选地，树脂遮光层321的材料还包括丙烯酸酯。

在本实施例中，丙烯酸酯树脂是一种热固性树脂材料，成本较低也容易得到，在树脂遮光层321中再加入一些炭黑，起到遮光的作用。

基于同一发明构思，本申请实施例还提供了第三种基于如前述任一实施例提供的掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板3的方法，该方法的流程示意图如图15所示，该方法包括步骤S301-S305：

S301：在基板31的一侧制备无机遮光层322。

在本步骤中，请参考图16，无机遮光层322起到遮光的作用。

可选地，无机遮光层322包括金属或金属化合物。

S302：在无机遮光层322远离基板31的一侧制备负性光刻胶层33。

本步骤中的负性光刻胶层33使用普通的负性光刻胶材料即可，无需再加如炭黑等材料遮光。本步骤后的膜结构示意图请参考图17。

S303：依次基于第一掩膜板11、第二掩膜板12、第三掩膜板13，对负性光刻胶层33进行曝光。

具体地，先使用第一掩膜板11对负性光刻胶层33进行紫外线曝光，由于第一掩膜板11中的第一透光区110能够透光，因此，第一透光区110对应的部分负性光刻胶层33会被曝光进而固化，成为固态的胶结构，而未被紫外线照射的负性光刻胶层33还未被固化成型。再使用第二掩膜板12对对负性光刻胶层33进行紫外线曝光，由于第二掩膜板12中的第二透光区120能够透光，因此，第二透光区120对应的部分负性光刻胶层33会被曝光进而固化，成为固态的胶结构，此时固态的胶结构包括第一次照射固化的部分和第二次照射固化的部分，而未被紫外线照射的负性光刻胶层33还未被固化成型。再使用第三掩膜板13对对负性光刻胶层33进行紫外线曝光，由于第三掩膜板13中的第三透光区130能够透光，因此，第三透光区130对应的部分负性光刻胶层33会被曝光进而固化，成为固态的胶结构，此时固态的胶结构包括第一次照射固化的部分、第二次照射固化的部分和第三次照射固化的部分，而未被紫外线照射的负性光刻胶层33还未被固化成型。

S304：对经过三次曝光的负性光刻胶层33进行显影，得到负性光刻胶结构330。

具体地，在步骤S304中，还有部分负性光刻胶层33未被固化，再对未被固化的负性光刻胶层33显影，洗去，留下完全固化的负性光刻胶结构330。本步骤后的膜结构示意图请参考图18。

S305：基于负性光刻胶结构330，对无机遮光层322进行刻蚀，得到无机遮光结构3220。遮光结构320包括无机遮光结构3220。

在本步骤中，请参考图19，基于负性光刻胶结构330，使用光刻机等设备或其他刻蚀工艺对无机遮光层322刻蚀，留下无机遮光结构3220。无机遮光结构3220即可遮盖住显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22。

基于同一发明构思，本申请实施例还提供了一种紫外处理用掩膜板3，请参考图7，包括：

基板31，包括中央区域311和位于中央区域311周围的透光周边区312。

遮光结构320，位于基板31的中央区域311的一侧。

遮光结构320用于在对显示面板2进行紫外光处理时，遮盖显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22。透光周边区312用于在对显示面板2进行紫外光处理时，露出显示面板2的边框区21。

在本实施例中，基板31的中央区域311与显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22对应，位于中央区域311的遮光结构320可以遮盖住有效显示区23和虚设像素区22。基板31的透光周边区312与显示面板2的边框区21对应，透光周边区312能够露出边框区21，使边框区21被紫外光照射，固化边框区21的封框胶203。基板的区域划分示意图请参考图8。

可选地，遮光结构320可以是树脂遮光结构3210、也可以是无机遮光结构3220，也可以二者皆有。

可选地，遮光结构320的厚度不小于1.07微米且不大于2.5微米。

在本实施例中，遮光结构320的厚度不小于1.07微米且不大于2.5微米，能够保证良好的遮光效果。

可以理解的是，中间基板31包括n个阵列排布的显示面板2，在紫外处理的过程中，显示面板2与紫外处理用掩膜板3一一对应。因此，紫外处理用掩膜基板4包括n个阵列排布的紫外处理用掩膜板3，对包含n个显示面板2的中间基板31进行统一的紫外处理。因此，基于同一发明构思，本申请实施例还提供了一种基于如前述任一实施例提供的掩膜板组件制备紫外处理用掩膜基板4的方法，该方法的流程示意图如图20所示，该方法包括步骤S401-S402：

S401：在基板31的紫外处理区域41的一侧制备一层遮光层32。基板31包括阵列排布的至少两个紫外处理区域41，本步骤后的膜层结构示意图可参考图21。

S402：分别基于掩膜板组件的第一掩膜板11、第二掩膜板12和第三掩膜板13，对遮光层32进行图案化处理，得到遮光结构320。紫外处理区域41包括中央区域311和位于中央区域311周围的透光周边区312，遮光结构320用于与显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22对应，透光周边区312用于与显示面板2的边框区21对应。本步骤后的膜层结构示意图可参考图22。

本实施例通过使用掩膜板组件的第一掩膜板11、第二掩膜板12和第三掩膜板13对基板31上紫外处理区域41内的遮光层32进行图案化处理，得到遮光结构320和不具有遮光结构320的透光周边区312，一套工艺下来即可在同一基板31上制备多个遮光结构320，并使遮光结构320边缘的透光周边区312露出。可以实现在紫外处理过程中遮盖多个阵列排布的显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22，并露出显示面板2的边框区21，一次性对多个显示面板2的封框胶203进行紫外固化，降低了紫外处理用掩膜基板4的制造成本，提高了固化封框胶203的效率，节约了整个显示面板2产品的开发成本。

基于同一发明构思，本申请实施例还提供一种紫外处理用掩膜基板4，请参考图24，包括：

基板31，包括阵列排布的至少两个紫外处理区域41，紫外处理区域41包括中央区域311和位于中央区域311周围的透光周边区312。

至少两个如前述任一实施例提供的掩膜板组件制备紫外处理用掩膜基板4的方法制备得到的遮光结构320，遮光结构320与紫外处理区域41的中央区域311对应。

在本实施例中，基板31包括多个遮光结构320，以及遮光结构320的周围也具有与显示面板2的边框区21对应的透光周边区312，使用该紫外处理用掩膜基板4能够一次性对多个阵列排布的显示面板2的封框胶203进行紫外固化处理，提高了紫外固化封框胶203的效率，节约了紫外固化处理用掩膜基板31的开发成本。基板的区域划分示意图请参考图24。

应用本申请实施例，至少能够实现如下有益效果：

1、该掩膜板组件能够用于在显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22制备色阻，也能够用于制备紫外处理用掩膜板3，扩大了掩膜板组件的应用场景，也降低了紫外处理用掩膜板3的制造成本。

2、通过使用掩膜板组件的第一掩膜板11、第二掩膜板12和第三掩膜板13对基板31上的遮光层32进行图案化处理，得到遮光结构320和不具有遮光结构320的透光周边区312，以在紫外处理过程中遮盖显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22，并露出显示面板2的边框区21。掩膜板组件在用来制备有效显示区23的色阻的同时也能够用来制备紫外处理用掩膜板3，降低了紫外处理用掩膜板3的制造成本，节约了整个显示面板2产品的开发成本。

3、基板31的中央区域311与显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22对应，位于中央区域311的遮光结构320可以遮盖住有效显示区23和虚设像素区22。基板31的透光周边区312与显示面板2的边框区21对应，透光周边区312能够露出边框区21，使边框区21被紫外光照射，固化边框区21的封框胶203。

4、通过使用掩膜板组件的第一掩膜板11、第二掩膜板12和第三掩膜板13对基板31上紫外处理区域41内的遮光层32进行图案化处理，得到遮光结构320和不具有遮光结构320的透光周边区312，一套工艺下来即可在同一基板31上制备多个遮光结构320，并使遮光结构320边缘的透光周边区312露出。可以实现在紫外处理过程中遮盖多个阵列排布的显示面板2的有效显示区23和虚设像素区22，并露出显示面板2的边框区21，一次性对多个显示面板2的封框胶203进行紫外固化，降低了紫外处理用掩膜基板4的制造成本，提高了固化封框胶203的效率，节约了整个显示面板2产品的开发成本。

5、使用紫外处理用掩膜基板4能够一次性对多个阵列排布的显示面板2的封框胶203进行紫外固化处理，提高了紫外固化封框胶203的效率，节约了紫外固化处理用掩膜基板31的开发成本。

本技术领域技术人员可以理解，本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地，具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地，现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

应该理解的是，虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，其可以以其他的顺序执行。而且，附图的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个子步骤或者多个阶段，这些子步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成，而是可以在不同的时刻执行，其执行顺序也不必然是依次进行，而是可以与其他步骤或者其他步骤的子步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。

以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (12)

1.一种掩膜板组件，其特征在于，包括：第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板；

每个掩膜板包括图案区和位于所述图案区周围的周边遮光区，所述周边遮光区用于与显示面板的边框区对应；所述图案区包括用于与显示面板的有效显示区对应的第一图案区、以及与位于所述有效显示区周围的虚设像素区对应的第二图案区；

所述第一掩膜板的第一透光区、所述第二掩膜板的第二透光区和所述第三掩膜板的第三透光区，分布在所属掩膜板的所述第一图案区和所述第二图案区中；

所述第一透光区、所述第二透光区和所述第三透光区，分别用于与所述显示面板的第一色阻、第二色阻、第三色阻所占区域对应。

2.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，包括：至少部分所述第一透光区贯穿所述第一图案区；

至少部分所述第二透光区贯穿所述第一图案区；

至少部分所述第三透光区贯穿所述第一图案区。

3.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，所述第一透光区的第二侧边缘与所述第二透光区的第一侧边缘在紫外处理参考基板上的投影重叠或接触；

所述第二透光区的第二侧边缘与所述第三透光区的第一侧边缘在所述参考基板上的投影重叠或接触。

4.一种基于如权利要求1-3中任一项所述的掩膜板组件制备紫外处理用掩膜板的方法，其特征在于，包括：

在基板的一侧制备一层遮光层；

分别基于所述掩膜板组件的第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，对所述遮光层进行图案化处理，得到遮光结构；所述紫外处理用掩膜板包括所述遮光结构和所述基板，所述基板包括与所述遮光结构对应的中央区域和位于所述中央区域周围的透光周边区，所述中央区域用于与显示面板的有效显示区和虚设像素区对应，所述透光周边区用于与所述显示面板的边框区对应。

5.根据权利要求4所述的制备紫外处理用掩膜板的方法，其特征在于，在基板的一侧制备一层遮光层，包括

在所述基板的一侧制备树脂遮光层，所述树脂遮光层的材料包括负性光刻胶；

以及，分别基于所述掩膜板组件的第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，对所述遮光层进行图案化处理，得到遮光结构，包括：

依次基于所述第一掩膜板、所述第二掩膜板、所述第三掩膜板，对所述树脂遮光层进行曝光；

对经过三次所述曝光的所述树脂遮光层进行显影，得到树脂遮光结构；所述遮光结构包括树脂遮光结构。

6.根据权利要求5所述的制备紫外处理用掩膜板的方法，其特征在于，所述树脂遮光层的材料还包括丙烯酸酯。

7.根据权利要求4所述的制备紫外处理用掩膜板的方法，其特征在于，在基板的一侧制备一层遮光层，包括

在所述基板的一侧制备无机遮光层；

以及，分别基于所述掩膜板组件的第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，对所述遮光层进行图案化处理，得到遮光结构，包括：

在所述无机遮光层远离所述基板的一侧制备负性光刻胶层；

依次基于所述第一掩膜板、所述第二掩膜板、所述第三掩膜板，对所述负性光刻胶层进行曝光；

对经过三次所述曝光的所述负性光刻胶层进行显影，得到负性光刻胶结构；

基于所述负性光刻胶结构，对所述无机遮光层进行刻蚀，得到无机遮光结构；所述遮光结构包括无机遮光结构。

8.根据权利要求7所述的制备紫外处理用掩膜板的方法，其特征在于，所述无机遮光层的材料包括金属或金属化合物。

9.一种紫外处理用掩膜板，其特征在于，包括：

基板，包括中央区域和位于所述中央区域周围的透光周边区；

遮光结构，位于所述基板的中央区域的一侧；

所述遮光结构用于在对显示面板进行紫外光处理时，遮盖所述显示面板的有效显示区和虚设像素区；所述透光周边区用于在对所述显示面板进行紫外光处理时，露出所述显示面板的边框区。

10.根据权利要求9所述的紫外处理用掩膜板，其特征在于，所述遮光结构的厚度不小于1.07微米且不大于2.5微米。

11.一种基于如权利要求1-3中任一项所述的掩膜板组件制备紫外处理用掩膜基板的方法，其特征在于，包括：

在基板的紫外处理区域的一侧制备一层遮光层；所述基板包括阵列排布的至少两个所述紫外处理区域；

分别基于所述掩膜板组件的第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，对所述遮光层进行图案化处理，得到遮光结构；所述紫外处理区域包括中央区域和位于所述中央区域周围的透光周边区，所述遮光结构用于与显示面板的有效显示区和虚设像素区对应，所述透光周边区用于与所述显示面板的边框区对应。

12.一种紫外处理用掩膜基板，其特征在于，包括：

基板，包括阵列排布的至少两个紫外处理区域，所述紫外处理区域包括中央区域和位于所述中央区域周围的透光周边区；

至少两个如权利要求11所述的遮光结构，所述遮光结构与所述紫外处理区域的中央区域对应。

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