CN107561769B - 对盒基板及其制造方法、显示装置和亮点的修复方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种对盒基板，所述对盒基板包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的光功能层，所述光功能层包括黑矩阵，所述黑矩阵包括多条第一遮光条和多条第二遮光条，所述第一遮光条与所述第二遮光条互相交错，将所述对盒基板划分为多个像素单元，其中，所述第一遮光条的厚度不同于所述第二遮光条的厚度。本发明还提供一种对盒基板的制造方法、一种显示装置和一种显示装置中亮点的修复方法。当所述显示面板中存在亮点缺陷时，可以采用简单工艺将亮点修复为暗点，且具有较高的修复成功率。

Description

对盒基板及其制造方法、显示装置和亮点的修复方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及一种对盒基板、一种包括该对盒基板的显示装置、对盒基板的制造方法和一种显示装置中亮点缺陷的修复方法。
背景技术
对于显示面板而言，亮点缺陷属于容易被人眼察觉到的缺陷。在对亮点缺陷进行修复时，通常将亮点修复为暗点。
修复亮点缺陷的方式有多种，但是，现行的亮点修复方法要么工艺复杂，要么修复后仍然有亮点。
因此，如何利用简单的工艺对亮点缺陷进行有效修复成为本领域亟待解决的技术问题。
发明内容
为了实现上述目的，本发明提供一种对盒基板、该对盒基板的制造方法、一种包括该对盒基板的显示装置和一种显示装置中亮点缺陷的修复方法。当所述显示面板中存在亮点缺陷时，可以采用简单工艺将亮点修复为暗点，且具有较高的修复成功率。
为了实现上述目的，作为本发明的一个方面，提供一种对盒基板，所述对盒基板包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的光功能层，所述光功能层包括黑矩阵，所述黑矩阵包括多条第一遮光条和多条第二遮光条，所述第一遮光条与所述第二遮光条互相交错，将所述对盒基板划分为多个像素单元，其中，所述第一遮光条的厚度不同于所述第二遮光条的厚度。
优选地，所述光功能层还包括多个彩色滤光块，每个所述像素单元中设置有一个所述彩色滤光块，且在所述第二遮光条的长度方向相邻的任意两个所述像素单元内的彩色滤光块颜色相同，在所述第一遮光条的长度方向相邻的任意两个像素单元内的彩色滤光块颜色互不相同。
优选地，所述第一遮光条的厚度大于所述第二遮光条的厚度。
优选地，所述对盒基板还包括公共电极层，所述公共电极层设置在所述光功能层的表面上，以使得所述光功能层位于所述衬底基板和所述公共电极层之间。
优选地，所述对盒基板还包括多个隔垫物，所述隔垫物设置在所述公共电极层上，且位置与所述黑矩阵相对应。
优选地，所述隔垫物设置在于所述第一遮光条对应的位置。
作为本发明的第二个方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括阵列基板和与所述阵列基板对盒设置的对盒基板，所述阵列基板上设置有多条栅线和多条数据线，其中，所述对盒基板为本发明所提供的上述对盒基板，所述第一遮光条在所述阵列基板上的正投影覆盖所述阵列基板的栅线，所述第二遮光条在所述阵列基板上的正投影覆盖所述阵列基板的数据线。
作为本发明的第三个方面，提供一种对盒基板的制造方法，其中，所述对盒基板的制造方法包括：
提供衬底基板；
在衬底基板上形成光功能层，包括：
涂敷黑矩阵材料层；
对所述黑矩阵材料层进行光刻构图，以获得黑矩阵，所述黑矩阵包括多条第一遮光条和多条第二遮光条，所述第一遮光条与所述第二遮光条互相交错，将所述对盒基板划分为多个像素单元，所述第一遮光条的厚度不同于所述第二遮光条的厚度。
优选地，所述黑矩阵材料层由负性光阻材料制成，对所述黑矩阵材料层进行光刻构图的步骤中，采用第一半色调掩膜板，所述第一半色调掩膜板包括第一透光区、第一半透光区和第一不透光区，所述第一透光区的位置与所述第一遮光条和所述第二遮光条中厚度较大的一者对应，所述第一半透光区的位置与所述第一遮光条和所述第二遮光条中厚度较小的一者对应，所述第一不透光区的位置与所述像素单元相对应；或者
所述黑矩阵材料层由正性光阻材料制成，对所述黑矩阵材料层进行光刻构图的步骤中，采用第二半色调掩膜板，所述第二半色调掩膜板包括第二透光区、第二半透光区和第二不透光区，所述第二透光区的位置与所述像素单元相对应，所述第二半透光区的位置与所述第一遮光条和所述第二遮光条中厚度较小的一者对应，所述第二不透光区的位置与所述第一遮光条和所述第二遮光条中厚度较大的一者对应。
优选地，在衬底基板上形成光功能层的步骤还包括：
形成彩膜层，所述彩膜层包括多个彩色滤光块，每个所述像素单元中设置有一个所述彩色滤光块。
优选地，所述对盒基板的制造方法还包括：
在所述光功能层上形成公共电极层。
优选地，所述第一遮光条的厚度大于所述第二遮光条的厚度。
优选地，所述对盒基板的制造方法还包括：
在所述公共电极层上形成多个隔垫物，所述隔垫物的位置与所述第一遮光条的位置相对应。
作为本发明所提供的第四个方面，提供一种显示装置中亮点缺陷的修复方法，其中，所述显示装置包括本发明所提供的上述对盒基板，所述修复方法包括：
利用激光照射形成为亮点的像素单元周围第一遮光条和第二遮光条中厚度较大的一者，以使得黑矩阵的部分材料熔化并覆盖形成为亮点的像素单元。
优选地，利用所述激光照射形成为亮点的像素单元的周围第一遮光条和第二遮光条中厚度较大的一者的靠近形成为亮点的像素单元的一侧。
所述对盒基板应用于显示面板中。当所述显示面板中存在亮点缺陷时，可以将该亮点缺陷所在的像素单元周围的黑矩阵进行烧结，以使得黑矩阵材料覆盖发生亮点缺陷的像素单元，使得亮点变为暗点。在本发明中，由于第一遮光条的厚度不同于第二遮光条的厚度，因此，在对黑矩阵进行烧结时，可以将第一遮光条和第二遮光条中厚度较大的一者进行烧结。经过烧结后，第一遮光条和第二遮光条中被烧结的一者虽然损失了部分材料，但是仍然具有足够的厚度，对阵列基板中与该部分遮光条对应的部分进行遮挡，防止漏光的发生。并且，由于第一遮光条和第二遮光条中厚度较大的一者中，黑矩阵材料较多，在烧结时，可以有较多的黑矩阵材料覆盖在发生亮点的像素单元上，确保将该发生亮点的像素单元修复为暗点。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1是本发明所提供的对盒基板的俯视图；
图2是本发明所提供的对盒基板中的黑矩阵的侧视图；
图3是本发明所提供的对盒基板的侧视图；
图4a是制作所述对盒基板的工艺中，在衬底基板上形成黑矩阵的示意图，其中示出的第一遮光条；
图4b是示出图4a中半成品中第二遮光条的示意图；
图5a是在图4a所获得的半成品上形成彩色滤光块的示意图，其中示出的是第一遮光条；
图5b是示出图5a中半成品中第二遮光条的示意图；
图6a是在图5a中所获得的半成品上形成公共电极层的示意图，其中示出的是第一遮光条；
图6b是示出图6a中半成品中第二遮光条的示意图。
附图标记说明
110：第一遮光条 120：第二遮光条
130：衬底基板 140：公共电极层
150：隔垫物
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
作为本发明的一个方面，提供一种对盒基板，所述对盒基板包括衬底基板130和设置在所述衬底基板上的光功能层，所述光功能层包括黑矩阵，如图1所示，所述黑矩阵包括多条第一遮光条110和多条第二遮光条120，第一遮光条110与第二遮光条120互相交错，将所述对盒基板划分为多个像素单元，其中，如图2中所示，第一遮光条110的厚度不同于第二遮光条120的厚度。
所述对盒基板应用于显示面板中。当所述显示面板中存在亮点缺陷时，可以将该亮点缺陷所在的像素单元周围的黑矩阵进行烧结，以使得黑矩阵材料覆盖发生亮点缺陷的像素单元，使得亮点变为暗点(如图1中所示，位于左下角的像素单元R被黑矩阵覆盖后变为暗点)。在本发明中，由于第一遮光条110的厚度不同于第二遮光条120的厚度，因此，在对黑矩阵进行烧结时，可以将第一遮光条和第二遮光条中厚度较大的一者进行烧结。经过烧结后，第一遮光条和第二遮光条中被烧结的一者虽然损失了部分材料，但是仍然具有足够的厚度，对阵列基板中与该部分遮光条对应的部分进行遮挡，防止漏光的发生。并且，由于第一遮光条和第二遮光条中厚度较大的一者中，黑矩阵材料较多，在烧结时，可以有较多的黑矩阵材料覆盖在发生亮点的像素单元上，确保将该发生亮点的像素单元修复为暗点。
并且，此处所谓的“烧结”是指利用激光对黑矩阵材料进行加热，使得黑矩阵材料发生融化，这种工艺简单容易实现。
需要指出的是，对盒基板应用于显示面板中。显示面板包括交错的栅线和数据线。作为一种实施方式，第一遮光条用于对栅线进行遮挡，第二遮光条用于对数据线进行遮挡。
本发明所提供的对盒基板可以是彩膜基板，相应地，所述光功能层还包括多个彩色滤光块，每个所述像素单元中设置有一个所述彩色滤光块。
在图1中所示的具体实施方式中，对盒基板上设置有红色滤光块R、绿色滤光块G和蓝色滤光块B。当然，本发明并不限于此，所述对盒基板上还可以设置有其他颜色的滤光块。
作为一种优选实施方式，在所述第二遮光条120的长度方向相邻的任意两个所述像素单元内的彩色滤光块颜色相同，在第一遮光条110的长度方向相邻的任意两个像素单元内的彩色滤光块颜色互不相同。也就是说，在图1中，多个彩色滤光块排列为多行多列，同一行中彩色滤光块颜色相同，即，同一行中彩色滤光块颜色相同，不同行中彩色滤光块颜色不同。同一列中，相邻的任意两个彩色滤光块的颜色都不相同。为了便于制造，位于同一行中的彩色滤光块可以形成为一体(即，多个彩色滤光块可以形成为图3中的条状一体结构)。
在制造包括彩膜层的对盒基板时，首先形成黑矩阵，再形成彩色滤光块。通常，彩色滤光块的一部分会搭接在第二遮光条上。
因此，在制备彩色滤光块时，分别制备多种不同颜色的滤光块。例如，可以先制备多行红色滤光块，然后再依次制备多行绿色滤光块和多行蓝色滤光块。
由于同一行中彩色滤光块颜色相同，因此，形成滤光块的色阻材料可以覆盖同一行中不同的第一遮光条。与第一遮光条的重叠会导致一个像素单元内的彩色滤光块上产生第一高度差。
由于在同一列中相邻的彩色滤光块的颜色不同，因此，彩色滤光块不能完全覆盖第二遮光条。彩色滤光块的一部分叠加在第二遮光条上，从而在一个像素单元的彩色滤光块上产生第二高度差。
如上文中所述，第一遮光条用于覆盖显示面板的栅线，第二遮光条用于覆盖显示面板的数据线。因此，彩色滤光块与第一遮光条重叠产生的第一高度差为段差，彩色滤光块与第二遮光条重叠产生的第二高度差为角段差。
在对盒基板中，段差对显示效果影响并不是很大，而角段差则会影响后续的取向层制造工艺，产生不良，并最终产生残影等不良。为了减小角段差，优选地，可以将第二遮光条的厚度设置为小于第一遮光条的厚度。也就是说，与现有技术相比，在本发明中，第二遮光条的厚度并没有增加，从而减小了彩色滤光块在像素单元内的角段差。
本发明所提供的对盒基板可以应用于TN型的液晶显示面板中，具体地，如图3中所示，所述对盒基板还包括公共电极层140，该公共电极层140设置在所述光功能层的表面上，以使得所述光功能层位于衬底基板130和公共电极层140之间。
如上文中所述，所述对盒基板应用于TN型的液晶显示面板中，为了维持液晶显示面板的盒厚，优选地，所述对盒基板还包括多个隔垫物150，该隔垫物150设置在公共电极层140上，且隔垫物150的位置与所述黑矩阵相对应。
为了节约材料，优选地，隔垫物150设置在于第一遮光条110对应的位置。如上文中所述，第一遮光条110的厚度大于第二遮光条120的厚度，因此，将隔垫物150设置在第一遮光条110上，可以减小隔垫物150的高度，从而达到节约材料的目的。对于批量生产的显示面板而言，这部分节约是相当可观的。
在本发明中，对黑矩阵的厚度并不做特殊的规定，只要能够获得较好的遮光效果、且能够进行烧结工艺修复亮点缺陷即可。作为本发明的一种优选实施方式，第二遮光条120和第一遮光条110中厚度较小的一者的厚度在1.15μm至1.3μm之间。第二遮光条120和第一遮光条110中厚度较大的一种的厚度是第二遮光条120和第一遮光条110中厚度较小的一者的厚度的1.5倍左右。
作为本发明的第二个方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括阵列基板和与所述阵列基板对盒设置的对盒基板，所述阵列基板包括多条栅线和多条数据线，其中，所述对盒基板为本发明所提供的上述对盒基板，所述对盒基板上的第一遮光条在所述阵列基板上的正投影覆盖所述阵列基板的栅线，所述对盒基板上的第二遮光条在所述阵列基板上的正投影覆盖所述阵列基板的数据线。
如上文中所述，当所述显示装置中存在亮点缺陷时，可以采用烧结黑矩阵的方式将亮点缺陷修复为暗点缺陷，工艺简单，修复成功率高。
如上文中所述，所述显示装置可以包括TN型的液晶显示面板，因此，所述显示装置还包括设置在所述阵列基板和所述对盒基板之间的液晶材料层。
所述显示装置可以是显示面板、手机、平板电脑、显示器、电视、GPS导航仪等电子设备。
如上文中所述，由于用于覆盖数据线的第二遮光条的厚度没有增加，因此，所述显示装置的像素单元的角段差并没有增加，从而可以降低所述显示装置出现残影不良的几率。
作为本发明的第三个方面，提供一种对盒基板的制造方法，其中，所述对盒基板的制造方法包括：
提供衬底基板；
在衬底基板上形成光功能层，包括：
涂敷黑矩阵材料层；
对所述黑矩阵材料层进行光刻构图，以获得黑矩阵，所述黑矩阵包括多条第一遮光条和多条第二遮光条，所述第一遮光条与所述第二遮光条互相交错，将所述对盒基板划分为多个像素单元，所述第一遮光条的厚度不同于所述第二遮光条的厚度。
如图4a和图4b中所示，形成在衬底基板130上的黑矩阵包括厚度较大的第一遮光条120和第二遮光条130。当然，本发明并不限于此，也可以将黑矩阵设置为第一遮光条120的厚度小于第二遮光条130的厚度。
为了简化制造方法，优选地，在对所述黑矩阵材料层进行光刻构图的步骤中，采用半色调掩膜板。
当黑矩阵材料层由负性光阻材料制成时，采用第一半色调掩膜板，所述第一半色调掩膜板包括第一透光区、第一半透光区和第一不透光区，所述第一透光区的位置与所述第一遮光条和所述第二遮光条中厚度较大的一者对应，所述第一半透光区的位置与所述第一遮光条和所述第二遮光条中厚度较小的一者对应，所述第一不透光区的位置与所述像素单元对应。
当所述黑矩阵材料层由正性光阻材料制成时，采用第二半色调掩膜板，第二半色调掩膜板包括第二透光区、第二半透光区和第二不透光区，所述第二透光区的位置与所述像素单元相对应，所述第二半透光区的位置与所述第一遮光条和所述第二遮光条中厚度较小的一者对应，所述第二不透光区的位置与所述第一遮光条和所述第二遮光条中厚度较大的一者对应。
如上文中所述，所述对盒基板可以是彩膜基板，因此，在衬底基板上形成光功能层的步骤还包括：
形成彩膜层，所述彩膜层包括多个彩色滤光块，每个所述像素单元中设置有一个所述彩色滤光块。图5a和图5b中示出的彩色滤光块与黑矩阵之间的位置关系。
所述对盒基板可以应用在TN型的液晶显示面板中，因此，所述对盒基板的制造方法还包括：
在所述光功能层上形成公共电极层。
如图6a和图6b中所示，公共电极层140覆盖黑矩阵和彩膜层。
作为本发明的一种优选实施方式，所述第一遮光条的厚度大于所述第二遮光条的厚度。
当对盒基板应用于TN型的液晶显示面板中时，所述对盒基板的制造方法还包括：
在所述公共电极层上形成多个隔垫物，所述隔垫物的位置与所述第一遮光条的位置相对应。
将隔垫物设置在于所述第一遮光条对应的位置可以减少隔垫物的高度，从而实现节约材料并节约对盒基板的成本。
作为本发明的第四个方面，提供一种显示装置中亮点缺陷的修复方法，其中，所述显示装置包括本发明所提供的上述对盒基板，所述修复方法包括：
利用激光照射形成为亮点的像素单元周围第一遮光条和第二遮光条中厚度较大的一者，以使得黑矩阵的部分材料熔化并覆盖形成为亮点的像素单元。
在本发明中，可以对发生亮点的像素单元周围的所有厚度较大的遮光条都进行照射，以确保厚度较大的遮光条中融化的材料可以覆盖到发生亮点的像素单元，使其变为暗点。
为了防止黑矩阵融化时覆盖到没有发生亮点的像素单元，优选地，利用所述激光照射形成为亮点的像素单元的周围第一遮光条和第二遮光条中厚度较大的一者的靠近形成为亮点的像素单元的一侧。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (9)

1.一种对盒基板，所述对盒基板包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的光功能层，所述光功能层包括黑矩阵，所述黑矩阵包括多条第一遮光条和多条第二遮光条，所述第一遮光条与所述第二遮光条互相交错，将所述对盒基板划分为多个像素单元，其特征在于，所述第一遮光条的厚度大于所述第二遮光条的厚度；
所述光功能层还包括多个彩色滤光块，每个所述像素单元中设置有一个所述彩色滤光块，且在所述第二遮光条的长度方向相邻的像素单元内的彩色滤光块形成为一体，在所述第一遮光条的长度方向相邻的任意两个像素单元内的彩色滤光块颜色互不相同；
所述对盒基板还包括多个隔垫物，且所述隔垫物设置在与所述第一遮光条对应的位置。
2.根据权利要求1所述的对盒基板，其特征在于，所述对盒基板还包括公共电极层，所述公共电极层设置在所述光功能层的表面上，以使得所述光功能层位于所述衬底基板和所述公共电极层之间。
3.根据权利要求2所述的对盒基板，其特征在于，所述隔垫物设置在所述公共电极层上。
4.一种显示装置，所述显示装置包括阵列基板和与所述阵列基板对盒设置的对盒基板，所述阵列基板上设置有多条栅线和多条数据线，其特征在于，所述对盒基板为权利要求1至3中任意一项所述的对盒基板，所述第一遮光条在所述阵列基板上的正投影覆盖所述阵列基板的栅线，所述第二遮光条在所述阵列基板上的正投影覆盖所述阵列基板的数据线。
5.一种对盒基板的制造方法，其特征在于，所述对盒基板的制造方法包括：
提供衬底基板；
在衬底基板上形成光功能层，包括：
涂敷黑矩阵材料层；
对所述黑矩阵材料层进行光刻构图，以获得黑矩阵，所述黑矩阵包括多条第一遮光条和多条第二遮光条，所述第一遮光条与所述第二遮光条互相交错，将所述对盒基板划分为多个像素单元，所述第一遮光条的厚度大于所述第二遮光条的厚度；
在衬底基板上形成光功能层的步骤还包括：
形成彩膜层，所述彩膜层包括多个彩色滤光块，每个所述像素单元中设置有一个所述彩色滤光块，在所述第二遮光条的长度方向相邻的像素单元内的彩色滤光块形成为一体；
所述对盒基板的制造方法还包括：
在公共电极层上形成多个隔垫物，所述隔垫物的位置与所述第一遮光条的位置相对应。
6.根据权利要求5所述的对盒基板的制造方法，其特征在于，所述黑矩阵材料层由负性光阻材料制成，对所述黑矩阵材料层进行光刻构图的步骤中，采用第一半色调掩膜板，所述第一半色调掩膜板包括第一透光区、第一半透光区和第一不透光区，所述第一透光区的位置与所述第一遮光条和所述第二遮光条中厚度较大的一者对应，所述第一半透光区的位置与所述第一遮光条和所述第二遮光条中厚度较小的一者对应，所述第一不透光区的位置与所述像素单元相对应；或者
所述黑矩阵材料层由正性光阻材料制成，对所述黑矩阵材料层进行光刻构图的步骤中，采用第二半色调掩膜板，所述第二半色调掩膜板包括第二透光区、第二半透光区和第二不透光区，所述第二透光区的位置与所述像素单元相对应，所述第二半透光区的位置与所述第一遮光条和所述第二遮光条中厚度较小的一者对应，所述第二不透光区的位置与所述第一遮光条和所述第二遮光条中厚度较大的一者对应。
7.根据权利要求5或6所述的对盒基板的制造方法，其特征在于，所述对盒基板的制造方法还包括：
在所述光功能层上形成公共电极层。
8.一种显示装置中亮点缺陷的修复方法，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1至3中任意一项所述的对盒基板，所述修复方法包括：
利用激光照射形成为亮点的像素单元周围第一遮光条和第二遮光条中厚度较大的一者，以使得黑矩阵的部分材料熔化并覆盖形成为亮点的像素单元。
9.根据权利要求8所述的修复方法，其特征在于，利用所述激光照射形成为亮点的像素单元的周围第一遮光条和第二遮光条中厚度较大的一者的靠近形成为亮点的像素单元的一侧。
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