JP4594943B2 - 液晶ディスプレイのパネル組合せ方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶ディスプレイのパネル組合せ方法に関するもので、特にパネルの色むら現象を改善するパネル組合せ方法を指す。

薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ（ＴＦＴ ＬＣＤ）パネルの製造プロセスは上流の基板製造、中流のパネル組込み（Ｃｅｌｌ）、下流のモジュール組立て（Ｍｏｄｕｌｅ）の３大部分に分けることができる。その内、上流の基板製造、中流のパネル組込みをパネル製造の前段階プロセスであり、下流のモジュール組立ては、完成したパネルを利用し、上部バックライトモジュールと駆動回路板を取り付けて、ＬＣＤモジュールの組込みを完成することである。そしてその中で、基板の製造はまたＴＦＴアレイ基板（ＴＦＴ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）の製造とＣＦ基板（ＣＦ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）の製造の両部分に分けることができる。

パネル組込みを行う前に、上下２つの基板をシールするため残した空間に、液晶分子を充填し、また液晶分子を上下２つの基板間に残された空間で回転させ配列させるため、一般には２つの基板間に複数個のスペーサー材が形成され、スペーサー（ｓｐａｃｅｒ）となる。このスペーサーの高さ距離とパネルの隙間（Ｃｅｌｌ ｇａｐ）とは関係があり、また画面の品質に関係する。そのため、スペーサー材の粒径と粒度分布を均一にして、高精密度の要求を達成する必要がある。このほか、スペーサーはＴＦＴアレイ基板、或いはＣＦ基板の表面に形成することができる。

フォトスペーサー（ｐｈｏｔｏ ｓｐａｃｅｒ）材料を付帯するＣＦ基板は現在、高輝度と高透過率のラージサイズＴＦＴ ＬＣＤに必要なキーとなる材料で、ラージサイズＬＣＤの各項特性の表現に重要な影響がある。一般的にフォトスペーサーを付帯するＣＦ基板の製作技術中、フォトリソグラフィ工程を利用して製作されるスペーサーは業界が要求する精密度を最もよく達成することができ、しかも最良の全体的画質表現が達成できる。

そして、フォトリソグラフィ工程を利用してＣＦ基板上でフォトスペーサーの製作を行う時、通常基板はフォトリソグラフィ工程の正確な位置合わせ要求のため、スペーサー・パターンを持つフォトマスク上の非表示エリア中に２つの切り口（ｇａｐ ｓｅｎｓｏｒ ｗｉｎｄｏｗ）を残す必要がある。図１の俯瞰図参照。この切り口０５、０６エリア内にはフォトスペーサーが形成されず、このエリアは一般に「禁止エリア（ｆｏｒｂｉｄｄｅｎ ａｒｅａ）」と称される。禁止エリア０５、０６にフォトスペーサーが形成されるのを避けるため、使用されるフォトスペーサー・フォトマスク（図未表示）は対応する禁止エリア０５、０６位置を削って空にする。そしてフォトリソグラフィ工程を行う時、さらに別途、蓋板５０で禁止エリア０５、０６を遮蔽し、次にネガ型フォトレジストの未照射場所にパターンが形成されない特性を利用して、蓋板５０で遮蔽した禁止エリア０５、０６中にフォトスペーサーを形成させなくする。

参考図２はフォトリソグラフィ工程を利用し、ＣＦ基板上でスペーサーの製作を行う断面図を示す。まず、図２（ａ）のように、RGB三色の発光素子０１、ブラックマスク層０２、フラット層１０、及び透明電極２０をすでに有するガラス基板００上にネガ型フォトレジスト３０を一層塗布し、透明電極２０を完全に覆う。次にフォトスペーサー・パターンを有するフォトマスク４０、及び禁止エリアを遮蔽する蓋板５０を利用して露光現像を行う。この時、光が照射されたエリアにフォトスペーサー８０が形成される。図２（ｂ）に示すように、フォトレジストを除去した後、透明電極２０上には複数個の予設高さを持つフォトスペーサー８０が現れ、同時にこのＣＦ基板の禁止エリアにはフォトスペーサーが形成されていない。

そして後続プロセス中、単一ＣＦ基板をカットし、別のＴＦＴ基板と接着させる時、上下２つの基板間では、禁止エリアにフォトスペーサーの支柱がないため、禁止エリアが受ける圧力とフォトスペーサーを有するエリアが受ける圧力とに違いが生じ、禁止エリア付近にむら現象が起こりやすくなる。“むら”は日本語で、ディスプレイのパネルが受ける圧力が異なるため、輝度の不均一を起こし、波紋のような各種痕跡現象を起こすことを意味する。図３は、パネル７０の組込み完成後、表示エリアに波紋６０現象があり、パネルの表示効果に影響を与えていることを示す。そして、製造メーカーはむらが生じたパネルを次級品とするしかなく、パネル製造メーカーにコスト損失をもたらす。

このため、フォトリソグラフィ工程を利用してフォトスペーサーを有するＣＦ基板を製作し、ＴＦＴ基板とパネルを組み立てを行う時に、パネルの禁止エリアにむら現象が起こらない方法を至急開発し、パネルの製造プロセスの良品率を高める必要がある。

本発明は一種の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法を提供し、それは組み立てたパネルがむら現象を形成するのを避けることができ、パネルの良品率を高めることができる。

本発明は以下のステップを包括する。（ａ）ＣＦ基板とＴＦＴアレイ基板を提供し、その内、ＣＦ基板上に複数個のフォトスペーサーを含む表示エリアと、非表示エリアを包括し、且つ表示エリアのボーダー外辺の非表示エリアの異なるボーダー位置上に少なくとも２つのスペーサーパッドを形成する。同時にスペーサーパッドの頂点高度は表示エリア内のフォトスペーサーの頂点高度と等しい。及び（ｂ）ＣＦ基板とＴＦＴアレイ基板をシールする。

本発明のパネル組合せ方法の好ましいものは、そのステップ（ｂ）の後にさらにステップ（ｃ）を包括することができ、液晶をそのシール後のパネル中に注入する。同時に、組み合されたＣＦ基板上にさらに複数個のピクセルユニットと少なくとも１つの電極構造を包括することができ、ＴＦＴアレイ基板の表面が好ましいものは少なくとも１つの透明電極を有することができる。

本発明はさらにスペーサーパッドを有する一種のＣＦ基板の製作方法を包括し、以下のステップを包括する。（ａ）表示エリアと非表示エリアを定義するＣＦ基板を提供する。及び（ｂ）複数個のフォトスペーサーを表示エリア内に形成し、且つ少なくとも２つのスペーサーパッドを表示エリアのボーダー外辺の非表示エリア上に形成する。その中で、少なくとも２つのスペーサーパッドが非表示エリアの異なるボーダー位置に形成され、且つ非表示エリア上に位置する。そして少なくとも２つのスペーサーパッドの頂点高度が表示エリア内のフォトスペーサーの頂点高度と等しい。

本発明はまたスペーサーパッドを有する一種のＣＦ基板を提示し、それは下記のものを包括する。複数個のフォトスペーサーを含む表示エリア。及び少なくとも２つのスペーサーパッドを含む非表示エリア。その内、少なくとも２つのスペーサーパッドは表示エリアと非表示エリアの境界の異なるボーダー上に位置し、且つスペーサーパッドの頂点高度は、表示エリア内のフォトスペーサーの頂点高度と等しい。

本発明方法中、フォトスペーサーとスペーサーパッドの形成材料に制限はなく、好ましいものは感光性フォトレジスト剤とし、さらに良いものは感光性ネガ型フォトレジストとする。本発明に適用するカラーフィルターの形成方式に制限はないが、要求されるフォトスペーサーの精密度を達成するため、好ましいものはフォトリソグラフィ工程を利用して行う。このほか、フォトリソグラフィ工程の好ましいものはフォトスペーサーとスペーサーパッド・パターンを有するフォトマスクを配合して行う。本発明方法中に適用するスペーサーパッド・パターンに制限はなく、好ましいものはフォトマスクの露光ターゲットエリアに配合され、形成されるパターンの好ましいものは長方形、円形、或いはＵ字形とすることができる。

本発明のＣＦ基板上において、スペーサーパッドの頂点高度は表示エリア内のフォトスペーサーの頂点高度と等しいが、形成する材料の厚みは等しくすることも、異ならせることもできる。表示エリアと非表示エリアの表面が同一平面に位置する時、表面上に形成するフォトスペーサー、或いはスペーサーパッドの高さと厚みはすべて等しく、ＴＦＴ基板の貼り合わせ圧力を平均に受けることができる。そして、表示エリアと非表示エリアの表面が同一平面に位置しない時、表示エリアと非表示エリアの表面上に形成されるフォトスペーサー或いはスペーサーパッドの頂点を同一平面に位置させるため、好ましいものは異なる厚みのフォトスペーサー或いはスペーサーパッドを形成する。

ＣＦ基板にＴＦＴ基板の貼り合わせ圧力を平均に受けさせるため、本発明方法中、スペーサーパッドが形成する位置が好ましいものは、非表示エリア中、相対する両ボーダーの位置上に形成し、圧力を平均に分散させる。スペーサーパッド形成の主要目的は基板の貼り合わせ圧力の分散であるため、形成されるスペーサーパッドの形状もまたその機能に影響しない。スペーサーパッドの頂点とフォトスペーサーの頂点が同一平面に位置するだけでよく、好ましいものは長方形、円形、Ｕ字形などである。

本発明方法は基板上にフォトスペーサーが形成する時、同時に基板の表示エリアのボーダー上にスペーサーパッドを形成し、パネル組立て時に禁止エリアの支柱とし、貼り合わせ圧力を分散させて、上記のむら現象を大幅に減少させることができる。

請求項１の発明は、液晶ディスプレイのパネル組合せ方法において、
（ａ）ＣＦ基板とＴＦＴアレイ基板を提供し、そのうち、該ＣＦ基板上に複数個のスペーサーを含む表示エリアと、非表示エリアを設け、且つ該表示エリアの境界外辺の該非表示エリアの異なる境界位置上に、少なくとも２つのスペーサーパッドを形成し、同時にそれらスペーサーパッドの頂点高度は、該表示エリア内のこれらスペーサーの頂点高度と等しくするステップ、
（ｂ）該ＣＦ基板と該ＴＦＴアレイ基板をシールするステップ、
を包含し、該非表示エリアは少なくとも２つの禁止エリアを包含し、これらスペーサーパッドは該少なくとも２つの禁止エリアの外側に形成し、これらスペーサーとこれらスペーサーパッドの材料は、感光性フォトレジスト剤とし、該ＣＦ基板はフォトリソグラフィ工程により形成し、且つ該フォトリソグラフィ工程はスペーサーとスペーサーパッド・パターンを有するフォトマスクを利用することを特徴とする液晶ディスプレイのパネル組合せ方法としている。
請求項２の発明は、当該スペーサーとこれらスペーサーパッドの厚みは異なることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法としている。
請求項３の発明は、当該スペーサーパッドは非表示エリア中の対向する両境界位置上に形成されることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法としている。
請求項４の発明は、当該スペーサーパッドは長方形、円形、或いはＵ字形であることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法としている。
請求項５の発明は、当該（ｂ）のステップの後に、さらに、
（ｃ）液晶を、該ＣＦ基板と該ＴＦＴアレイ基板をシールしてなるパネル中に注入するステップ、
を包含することを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法としている。
請求項６の発明は、当該ＣＦ基板上にさらに複数個のピクセルユニットと少なくとも１つの電極構造を含むことを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法としている。
請求項７の発明は、当該ＴＦＴアレイ基板の表面にはさらに少なくとも１つの透明電極を有することを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法としている。
請求項８の発明は、スペーサーパッドを有するＣＦ基板を製作する方法において、以下のステップを包括する、
（ａ）表示エリアと非表示エリアを定義するＣＦ基板を提供し、及び
（ｂ）複数個のスペーサーをその表示エリア内に形成し、且つ少なくとも２つのスペーサーパッドをその表示エリアの境界外辺の非表示エリア上に形成し、
そのうち、該少なくとも２つのスペーサーパッドは非表示エリアの異なる境界位置に形成され、且つその非表示エリア上に位置し、そしてその少なくとも２つのスペーサーパッドの頂点高度は、その表示エリア内のそれらスペーサーの頂点高度と等しく、
該非表示エリアは少なくとも２つの禁止エリアを包含し、これらスペーサーパッドは該少なくとも２つの禁止エリアの外側に形成し、これらスペーサーとこれらスペーサーパッドの材料は、感光性フォトレジスト剤とし、該ＣＦ基板はフォトリソグラフィ工程により形成し、且つ該フォトリソグラフィ工程はスペーサーとスペーサーパッド・パターンを有するフォトマスクを利用することを特徴とするスペーサーパッドを有するＣＦ基板を製作する方法としている。
請求項９の発明は、当該スペーサーとそれらスペーサーパッドの厚みは異なることを特徴とする請求項８記載のスペーサーパッドを有するＣＦ基板を製作する方法としている。
請求項１０の発明は、当該スペーサーパッドは非表示エリア中の対向する両境界位置上に形成されることを特徴とする請求項８記載のスペーサーパッドを有するＣＦ基板を製作する方法としている。
請求項１１の発明は、当該スペーサーパッドは長方形、円形、或いはＵ字形とすることを特徴とする請求項８記載のスペーサーパッドを有するＣＦ基板を製作する方法としている。
請求項１２の発明は、スペーサーパッドを有するＣＦ基板において、以下のものを包括する、複数個のスペーサーを含む表示エリア、及び少なくとも２つのスペーサーパッドを含む非表示エリア、そのうち、該少なくとも２つのスペーサーパッドはその表示エリアとその非表示エリアの境界の異なる境界上に位置し、且つそれらスペーサーパッドの頂点高度は、その表示エリア内のそれらスペーサーの頂点高度と等しく、該非表示エリアは少なくとも２つの禁止エリアを包含し、これらスペーサーパッドは該少なくとも２つの禁止エリアの外側に形成し、これらスペーサーとこれらスペーサーパッドの材料は、感光性フォトレジスト剤とし、該ＣＦ基板はフォトリソグラフィ工程により形成し、且つ該フォトリソグラフィ工程はスペーサーとスペーサーパッド・パターンを有するフォトマスクを利用することを特徴とするスペーサーパッドを有するＣＦ基板としている。
請求項１３の発明は、当該スペーサーとそれらスペーサーパッドの厚みは等しくないことを特徴とする請求項１２記載のスペーサーパッドを有するＣＦ基板としている。
請求項１４の発明は、当該スペーサーパッドが非表示エリア中の対向する両境界上に位置することを特徴とする請求項１２記載のスペーサーパッドを有するＣＦ基板としている。
請求項１５の発明は、当該スペーサーパッドを長方形、円形、或いはＵ字形とすることを特徴とする請求項１２記載のスペーサーパッドを有するＣＦ基板としている。

本発明が掲示する方法は、パネル組立てプロセス中、貼り合わせ時に受ける圧力が不均一なために起こるパネルの隙間の厚みの不均一、むら発生の問題を改善することができる。そのため、パネルの表示効果をさらに完璧にし、パネルの良品率を高め、パネルメーカーのコストを下げることができる。

図４と図５を同時に参照する。本実施例では、ＣＦ基板にフォトスペーサーを製作するプロセスを例にとり、本発明の技術的特徴を説明する。

まず、ガラス基板００上に必要とするカラーフィルターのサイズを定義する。図４に示すように、その中の大基板００上の破線は２枚のカラーフィルター１００、２００のエリアが分割されていることを意味し、個別のカラーフィルター１００上にさらに表示エリア１１０と非表示エリア１２０があると定義する。そして、表示エリア１００と非表示エリア１２０のボーダーにシール剤の接触エリア１３０を残し、後続のプロセス中、ＴＦＴ基板と接着シールをしやすくする。

カラーフィルター１００エリア中、I−I’線での断面図は図５を参照する。同時に図５中、基板００上で行われるフォトリソグラフィ工程を説明する。

図５（ａ）は、周知のステップと同じで、RGB三色の発光素子０１、ブラックマスク層０２、フラット層１０、及び透明電極２０をすでに有するガラス基板００上に、ネガ型フォトレジスト３０を一層塗布し、透明電極２０を完全に覆い、次にフォトスペーサー・パターンを有するフォトマスク４０を利用して露光現像を行う。そしてこのステップ中、本来禁止エリアの遮蔽に利用していた蓋板は除去され用いられない。

露光現像を行うと、この時、光が照射されたエリアにフォトスペーサー８０が形成され、図５（ｂ）に示すようにフォトレジストが除去された後の透明電極２０上に複数個の予設高さを持つフォトスペーサー８０が現れる。同時に遮蔽されなかったエリアは、利用した元のフォトマスクが削られた空間エリアを有するため、基板００の禁止エリアにスペーサーパッド９０を形成し、且つこのスペーサーパッド９０の高さは表示エリア１１０に形成されるフォトスペーサーの高さと等しく、位置は表示エリア１１０のボーダーの非表示エリア１２０上にある。

ＣＦ基板上のフォトスペーサーの製作が完成した後、別途ＴＦＴアレイ基板を準備し、図４に示すシール剤の接触エリア１３０に沿って、ＣＦ基板とＴＦＴアレイ基板をシールする。この時、禁止エリアの位置にスペーサーパッド９０が形成され、且つスペーサーパッド９０と表示エリア１１０中のフォトスペーサー８０の高さが等しいため、上下２つの基板をシールする時、発生する接着圧力は等しいかほとんど等しい。

最後に上下２つの基板の貼り合わせが終了すると、ＣＦ基板の非表示エリアがカットされ、表示エリアだけが残る。そしてスペーサーパッドを有するＣＦ基板とＴＦＴ基板の貼り合わせを行う過程は、従来の圧力不均一の問題が改善され、禁止エリアで発生する可能性のあったむらの問題が減り、その結果図６に示すように従来むらがあったエリアが消失する。

実施例１で述べた方法で、ＣＦ基板１００上の非表示エリア１２０にスペーサーパッド８０を形成する以外に、本実施例ではさらに図７で、同様に禁止エリアでむらを生じない目的を達成することができる、もう一種の状態を説明する。

図７に示すように、元の露光禁止エリア０５の外縁辺でスペーサーリングパッド９１が形成される。このスペーサーリングパッド９１の形成ステップはおおよそ実施例１で述べたのと同じで、異なるのは、使用するフォトマスク・パターンが違うことである。本例中で示すのはＵ字形リングパッドで、使用されるフォトマスクは対応するパターンを有するだけでよい。

上記の実施例中、周知の方法のステップとの違いは、ネガ型フォトレジストを利用して露光現像を行う時、従来、禁止エリアの切り口を遮蔽していた蓋板が除去され用いられず、従来フォトスペーサーが形成されない禁止エリアに直接、大面積のスペーサーパッド或いはリングパッドを形成させ、同時にその他、フォトスペーサーと同じ高さを有するパターンもまた本発明方法中に応用することができ、且つ、予期可能な異なるパターンのスペーサーパッドは、すべて組立後のパネルにむら現象を発生させなくすることである。

禁止エリアを有するＣＦ基板の俯瞰図である。 周知の禁止エリアを有するＣＦ基板上でフォトスペーサーを製作する工程の断面図である。 禁止エリアを有するＣＦ基板とＴＦＴアレイ基板を組立てた後のパネルに発生するむら現象の説明図である。 本発明の好ましい実施例のＣＦ基板の俯瞰図である。 本発明の好ましい実施例がＣＦ基板上でフォトスペーサーを製作する工程の断面図である。 本発明方法で製作されるＣＦ基板とＴＦＴアレイ基板が組立てられた後のパネルにむら現象が発生しないことの説明図である。 本発明の別の好ましい実施例のＣＦ基板の俯瞰図である。

符号の説明

００ 基板
０１ 三色の発光素子
０２ ブラックマスク層
０５ 禁止エリア
０６ 禁止エリア
１０ フラット層
２０ 透明電極
３０ フォットレジスト
４０ フォトマスク
５０ 蓋板
７０ パネル
８０ フォットスぺーサー
９０ スペーサーパッド
９１ スペーサーリングパッド
１００ カラーフィルター
１１０ 表示エリア
１２０ 非表示エリア
１３０ シール剤接触エリア
２００ カラーフィルター

Claims (15)

1. 液晶ディスプレイのパネル組合せ方法において、
   （ａ）ＣＦ基板とＴＦＴアレイ基板を提供し、そのうち、該ＣＦ基板上に複数個のスペーサーを含む表示エリアと、非表示エリアを設け、且つ該表示エリアの境界外辺の該非表示エリアの異なる境界位置上に、少なくとも２つのスペーサーパッドを形成し、同時にそれらスペーサーパッドの頂点高度は、該表示エリア内のこれらスペーサーの頂点高度と等しくするステップ、
   （ｂ）該ＣＦ基板と該ＴＦＴアレイ基板をシールするステップ、
   を包含し、該非表示エリアは少なくとも２つの禁止エリアを包含し、これらスペーサーパッドは該少なくとも２つの禁止エリアの外側に形成し、これらスペーサーとこれらスペーサーパッドの材料は、感光性フォトレジスト剤とし、該ＣＦ基板はフォトリソグラフィ工程により形成し、且つ該フォトリソグラフィ工程はスペーサーとスペーサーパッド・パターンを有するフォトマスクを利用することを特徴とする液晶ディスプレイのパネル組合せ方法。
2. 当該スペーサーとこれらスペーサーパッドの厚みは異なることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法。
3. 当該スペーサーパッドは非表示エリア中の対向する両境界位置上に形成されることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法。
4. 当該スペーサーパッドは長方形、円形、或いはＵ字形であることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法。
5. 当該（ｂ）のステップの後に、さらに、
   （ｃ）液晶を、該ＣＦ基板と該ＴＦＴアレイ基板をシールしてなるパネル中に注入するステップ、
   を包含することを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法。
6. 当該ＣＦ基板上にさらに複数個のピクセルユニットと少なくとも１つの電極構造を含むことを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法。
7. 当該ＴＦＴアレイ基板の表面にはさらに少なくとも１つの透明電極を有することを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのパネル組合せ方法。
8. スペーサーパッドを有するＣＦ基板を製作する方法において、以下のステップを包括する、
   （ａ）表示エリアと非表示エリアを定義するＣＦ基板を提供し、及び
   （ｂ）複数個のスペーサーをその表示エリア内に形成し、且つ少なくとも２つのスペーサーパッドをその表示エリアの境界外辺の非表示エリア上に形成し、
   そのうち、該少なくとも２つのスペーサーパッドは非表示エリアの異なる境界位置に形成され、且つその非表示エリア上に位置し、そしてその少なくとも２つのスペーサーパッドの頂点高度は、その表示エリア内のそれらスペーサーの頂点高度と等しく、
   該非表示エリアは少なくとも２つの禁止エリアを包含し、これらスペーサーパッドは該少なくとも２つの禁止エリアの外側に形成し、これらスペーサーとこれらスペーサーパッドの材料は、感光性フォトレジスト剤とし、該ＣＦ基板はフォトリソグラフィ工程により形成し、且つ該フォトリソグラフィ工程はスペーサーとスペーサーパッド・パターンを有するフォトマスクを利用することを特徴とするスペーサーパッドを有するＣＦ基板を製作する方法。
9. 当該スペーサーとそれらスペーサーパッドの厚みは異なることを特徴とする請求項８記載のスペーサーパッドを有するＣＦ基板を製作する方法。
10. 当該スペーサーパッドは非表示エリア中の対向する両境界位置上に形成されることを特徴とする請求項８記載のスペーサーパッドを有するＣＦ基板を製作する方法。
11. 当該スペーサーパッドは長方形、円形、或いはＵ字形とすることを特徴とする請求項８記載のスペーサーパッドを有するＣＦ基板を製作する方法。
12. スペーサーパッドを有するＣＦ基板において、以下のものを包括する、
    複数個のスペーサーを含む表示エリア、及び
    少なくとも２つのスペーサーパッドを含む非表示エリア、
    そのうち、該少なくとも２つのスペーサーパッドはその表示エリアとその非表示エリアの境界の異なる境界上に位置し、且つそれらスペーサーパッドの頂点高度は、その表示エリア内のそれらスペーサーの頂点高度と等しく、
    該非表示エリアは少なくとも２つの禁止エリアを包含し、これらスペーサーパッドは該少なくとも２つの禁止エリアの外側に形成し、これらスペーサーとこれらスペーサーパッドの材料は、感光性フォトレジスト剤とし、該ＣＦ基板はフォトリソグラフィ工程により形成し、且つ該フォトリソグラフィ工程はスペーサーとスペーサーパッド・パターンを有するフォトマスクを利用することを特徴とするスペーサーパッドを有するＣＦ基板。
13. 当該スペーサーとそれらスペーサーパッドの厚みは等しくないことを特徴とする請求項１２記載のスペーサーパッドを有するＣＦ基板。
14. 当該スペーサーパッドが非表示エリア中の対向する両境界上に位置することを特徴とする請求項１２記載のスペーサーパッドを有するＣＦ基板。
15. 当該スペーサーパッドを長方形、円形、或いはＵ字形とすることを特徴とする請求項１２記載のスペーサーパッドを有するＣＦ基板。

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