JP2001183637A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置およびその製造方法Info
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Abstract
示装置およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 液晶表示装置23は、ブラックマスク4
によって凸部5が形成されるカラーフィルタ基板25
と、配向膜などの樹脂膜16によって凹部18が形成さ
れるTFT基板26とがその間に散布スペーサ1を介し
て貼合わせられ、その基板間に液晶が封入される。配向
膜などの樹脂膜16は、該凸部に対向する部分以外にパ
ターニング形成され、これによってTFT基板26に凹
部18が形成される。凹部18が形成されることによっ
て、凸部5に散布スペーサ21が配置されても、散布ス
ペーサ21がセルギャップを押上げることがないので、
各基板25,26が平坦でなくてもセルギャップは均一
に保たれる。
Description
びその製造方法に関するものである。
基板を有し、スペーサによってセルギャップが一定に保
持され、その基板間に液晶が封入されている。図3は、
従来の液晶表示装置20の構成を示す断面図である。液
晶表示装置20は、カラーフィルタ基板25およびTF
T(Thin Film Transistor)基板26を有する。
ら成る透明基板8上に、カラーフィルタ2、ブラックマ
スク4および図示されない対向電極などが配置され、表
面上に配向膜15が被覆されている。TFT基板26
は、透明基板9上にTFT素子などの液晶駆動素子、配
線部3、絶縁膜7および図示されない画素電極などが配
置され、表面上に配向膜16が被覆されている。
ルタ基板25とTFT基板26とを、セルギャップを保
持する散布スペーサ1、および液晶表示装置20の周辺
部のセルギャップを保持するスペーサ13が混入される
液晶封止用シール材14を介して貼合せることによって
空セルを形成し、この空セル内に液晶17を注入して、
注入口を樹脂などの封止剤で封止することによって製造
される。
対向する画素域におけるカラーフィルタ基板25とTF
T基板26との間隔Gのことであり、主に散布スペーサ
1およびシール材14内のスペーサ13の直径と液晶1
7の注入および封止条件とによって決定される。また、
セルギャップの均一性は、液晶表示装置20の表示品位
に密接な関係があり、セルギャップの均一性が低いと、
表示画面に輝度むらおよび色むらなどの表示むらが発生
するなどの問題が生じる。
形状の表示部には、対向電極と画素電極とが対向する画
素が縦横に多数配置され、各画素に対応してカラーフィ
ルタ2が設けられる。表示部では、隣接する各画素間か
らの光漏れを防ぐために、必要に応じて各画素のカラー
フィルタ2を囲むブラックマスク4が表示部全域にわた
って格子状に形成され、表示部を囲む額縁部には枠状の
ブラックマスク10が形成される。
タ2と同様に樹脂から形成されるので、充分な遮光性を
得るために、その膜厚を厚く形成する必要がある。この
ため、ブラックマスク4,10の膜厚はカラーフィルタ
2の膜厚よりも厚く、これによってカラーフィルタ基板
25の配向膜15面に凸部5,12が形成される。
板25の液晶17に臨む表面にブラックマスク4,10
によって凸部5,12が形成されているが、この他に、
たとえばTFT基板26の表面に配線部3および液晶駆
動素子などによって生じる凸部が形成され、それぞれの
基板25,26の液晶に臨む表面に凹凸が形成される場
合がある。
4,10によってできる凸部5,12に配置されない
で、セルギャップが均一に形成される状態を示してい
る。しかしながら、散布スペーサ1は、カラーフィルタ
基板25またはTFT基板26にランダムに散布される
ので、配置位置は不特定である。
が配置される状態を概略的に示す断面図である。カラー
フィルタ基板25のブラックマスク4によって形成され
る凸部5に散布スペーサ6が配置されているので、凸部
5に配置される散布スペーサ6によって規定されるセル
ギャップは、平坦な部分に配置される他の散布スペーサ
1によって規定されるセルギャップに比べて凸部5の高
さ分だけ大きく、この基板間隔の違いによってセルギャ
ップにむらができ、表示画面に輝度むらおよび色むらな
どの表示むらが発生する。
11が配置される状態を概略的に示す断面図である。液
晶駆動素子および配線部3を除く大部分が、画素電極光
を透過することのできる透明薄膜から形成される表示部
に対して、表示部の周辺の額縁部では、そこから光が漏
れないようにするために、枠状のブラックマスク10が
形成されるので、表示部と額縁部とでは膜構造が異な
る。
ルタ2の膜厚よりも厚く、これによって表示部と額縁部
との間に段差が生じ、額縁部のカラーフィルタ基板25
の配向膜15面に凸部12が形成される。このため、額
縁部の凸部12に配置される散布スペーサ11によって
規定されるセルギャップは、シール材14内のスペーサ
13によって規定されるセルギャップよりも大きく、散
布スペーサ11が表示部周辺のセルギャップを押上げ、
セルギャップにむらができ、散布スペーサ11近郊の表
示画面に輝度むらおよび色むらなどの表示むらが発生す
る。
術には、シール材14内のスペーサ13の直径を変更す
ることによって、周辺部のセルギャップを調整している
ものがある。しかしながら、図5に示されるように、額
縁部のブラックマスク10などの凸部12に散布スペー
サ11が配置されている場合は、シール材14内のスペ
ーサ13よりも散布スペーサ11の方がセルギャップの
値に対して支配的となるので、シール材14内のスペー
サ13の直径を変更しても、額縁部に配置される散布ス
ペーサ11によるセルギャップのむらを防ぐことはでき
ない。
などの凸部を形成する膜の膜厚を薄くすることによって
セルギャップの不均一性を改善しようとしているが、凸
部を形成する膜の形成方法などの技術的な理由または膜
厚を薄くすると充分な遮光性が得られないなどの表示品
質上の理由によって、凸部を形成する膜の膜厚を薄くす
ることができない場合が多いという問題を有する。
状の樹脂などを基板にスピンコート法によって塗布し、
塗布した薄膜を焼成して凸部をオーバーコーティング
し、基板の平坦性を高める方法がとられている。しかし
ながら、この従来技術による方法では、オーバーコート
プロセスが増えるという問題を有する。
されているさらに他の従来技術では、透明電極であるI
TO(Indium-Tin Oxide)膜が形成される部分のセルギ
ャップと形成されない部分のセルギャップとの差を、ダ
ミーのITO膜を形成することによって是正している。
しかしながらこの方法では、ITO膜の形成できる位置
およびITO膜の膜厚が限定されるので、ブラックマス
クなどによって形成される細かい凸部によるセルギャッ
プのむらを改善することはできない。
示品位の高い液晶表示装置およびその製造方法を提供す
ることである。
あけて対向する一対の基板間にスペーサを介在し、その
基板間に液晶が封入される液晶表示装置の製造方法にお
いて、一方基板の液晶に臨む表面に凸部が形成される場
合に、他方基板の液晶に臨む表面の該凸部に対向する部
分に凹部を形成し、セルギャップを均一化することを特
徴とする液晶表示装置の製造方法である。
れる場合には、他方基板の該凸部に対向する部分に凹部
を形成することによって、凸部に配置されるスペーサに
よるセルギャップの押上げを防ぐことができ、各基板が
平坦でなくてもセルギャップを均一化することができ
る。このため、セルギャップのむらによる液晶表示装置
の表示品位の低下を防ぐことができ、表示品位が向上す
る。
膜によって行えば、基板表面に新たに膜を形成するオー
バーコートプロセスなどの工程を追加する必要がなく、
また製品のコストアップがない。
の一方基板を構成する膜が、技術的な理由または表示品
質上の理由によって膜厚を薄くすることができない場合
でも、対向する他方基板に凹部を形成することによっ
て、セルギャップを均一化することができる。
成するブラックマスクによって形成される凸部であっ
て、他方基板の液晶に臨む表面の該凸部に対向する部分
に凹部を形成し、セルギャップを均一化することを特徴
とする。
ーフィルタよりも厚く形成されるブラックマスクによっ
て凸部が一方基板に形成され、他方基板の該凸部に対向
する部分に凹部が形成されるので、該凸部に配置される
スペーサは凹部に入り込み、該スペーサによるセルギャ
ップの押上げを防ぐことができ、各基板が平坦でなくて
もセルギャップを均一化することができる。
る一対の基板間にスペーサを介在し、その基板間に液晶
が封入される液晶表示装置の製造方法において、一方基
板の液晶に臨む表面に凹部が形成される場合に、他方基
板の液晶に臨む表面の該凹部に対向する部分に凸部を形
成するか、または該凹部を埋めるように一方基板の液晶
に臨む表面を調整することによって、セルギャップを均
一化することを特徴とする液晶表示装置の製造方法であ
る。
れる場合に、他方基板の液晶に臨む表面の該凹部に対向
する部分に凸部を形成するか、または該凹部を埋めるよ
うに一方基板の液晶に臨む表面を調整し平坦化すること
によって、セルギャップを均一化することができる。こ
のため、セルギャップのむらによる液晶表示装置の表示
品位の低下を防ぐことができ、表示品位が向上する。
る薄膜によって行うか、または前記凹部の平坦化を一方
基板を構成する薄膜によって行えば、基板表面に新たに
膜を形成するオーバーコートプロセスなどの工程を追加
する必要がなく、また製品のコストアップがない。
る一対の基板間にスペーサを介在し、その基板間に液晶
が封入される液晶表示装置において、一方基板の液晶に
臨む表面に凸部が形成される場合に、他方基板の液晶に
臨む表面の該凸部に対向する部分に凹部が形成され、セ
ルギャップが均一化されることを特徴とする液晶表示装
置である。
れる場合には、他方基板の該凸部に対向する部分に凹部
が形成されるので、各基板が平坦でなくてもセルギャッ
プが均一化される。このため、本発明による液晶表示装
置は、輝度むらおよび色むらなどの表示むらが防止で
き、表示品位が向上する。
一対の基板を有し、スペーサによってセルギャップが一
定に保持され、その基板間に液晶が封入されている。
上に、カラーフィルタ、ブラックマスクおよび対向電極
などが配置され、表面上に配向膜が被覆されるカラーフ
ィルタ基板であり、他方基板は、透明基板上にTFT素
子などの液晶駆動素子、配線部、絶縁膜および画素電極
などが配置され、表面上に配向膜が被覆されるTFT基
板である。
板とTFT基板とを、セルギャップを保持するスペーサ
および表示部周辺のセルギャップを規定するスペーサが
混入された液晶封止用シール材を介して貼合せることに
よって空セルを形成し、この空セル内に液晶を注入し
て、注入口を樹脂などの封止剤で封止することによって
製造される。
対向する画素域におけるカラーフィルタ基板とTFT基
板との間隔のことであり、主に散布スペーサおよびシー
ル材内のスペーサの直径と液晶の注入および封止条件と
によって決定される。また、セルギャップの均一性は、
液晶表示装置の表示品位に密接な関係があり、表示部の
セルギャップの均一性が低いと、表示画面に輝度むらお
よび色むらなどの表示むらが発生する。
表示装置23の表示部の構成を示す概略的な断面図であ
る。液晶表示装置23は、カラーフィルタ基板25およ
びTFT基板26を有する。
ら成る透明基板上に、カラーフィルタ2、ブラックマス
ク4および図示されない対向電極などが配置され、表面
上に図示されない配向膜が被覆されている。TFT基板
26は、透明基板上に図示されないTFT素子などの液
晶駆動素子、配線部、絶縁膜および画素電極などが配置
され、表面上に配向膜などの樹脂膜(以下配向膜)16
が被覆されている。
が対向する領域は表示に直接かかわる画素域であり、矩
形状の表示部に多数の画素が縦横に配置され、各画素に
対応してカラーフィルタ2が設けられる。表示部では、
隣接する各画素間からの光漏れを防ぐために、必要に応
じて各画素のカラーフィルタ2を囲むブラックマスク4
がカラーフィルタ基板25の表示部全面にわたって格子
状に形成される。
同様に樹脂から形成されるので、充分な遮光性を得るた
めには、その膜厚を厚く形成する必要がある。このた
め、ブラックマスク4の膜厚は隣接するカラーフィルタ
2の膜厚よりも厚く、これによってカラーフィルタ基板
25の液晶17に臨む表面に凸部5が形成される。
板25の表面にブラックマスク4によって生じる凸部5
が形成されているが、この他にTFT基板26の表面に
配線部および液晶駆動素子によって生じる凸部が形成さ
れる場合などがある。
配向膜16が、カラーフィルタ基板25の凸部5に対向
する部分を除いて形成されており、これによってTFT
基板26の液晶17に臨む表面に凹部18が形成され
る。この凹部18での基板25と基板26との間隔は、
凸部5が存在しない領域のセルギャップである基板間隔
Gと等しいか、またはそれ以上となるように形成され
る。
ルタ基板25の配向膜またはTFT基板26の配向膜1
6の表面に散布される。このため、図4に示すように、
従来の液晶表示装置20では、各基板25,26が貼合
わせられてセルが形成されたときに、凸部5に散布スペ
ーサ6が配置すると、凸部5の散布スペーサ6が支えと
なって、その周囲のセルギャップが大きくなり表示むら
の原因となる。
FT基板26の凸部5に対向する部分には凹部18が形
成されているので、凸部5に配置される散布スペーサ2
1は、TFT基板26に形成された凹部18に入りこ
み、散布スペーサ21によるセルギャップの押上げを防
ぐことができる。このため、凸部5および凹部18が形
成される部分のセルギャップは、近郊に配置される他の
散布スペーサ1によって規定されるので、液晶表示装置
23のセルギャップは均一となる。液晶表示装置23で
は、このように各基板25,26が平坦でなくてもセル
ギャップが均一化されるので、凸部が形成された基板表
面をオーバーコート膜によって平坦化する従来技術のよ
うに、オーバーコートプロセスを追加する必要はなく、
製品のコストアップを防ぐことができる。
説明する。まず、透明基板上に配線部、液晶駆動素子、
絶縁膜および画素電極などが配置される基板の表面に、
配向膜16となる液体材料をスピンコート法などによっ
て塗布し乾燥させてポリイミド薄膜を形成し、その表面
に紫外線硬化樹脂であるレジスト樹脂を塗布してレジス
ト被膜を形成する。
たマスク版をレジスト被膜の上方に、凹部18が形成さ
れる部分を遮光するように位置を合わせて配置する。次
にマスク版の上方からレジスト被膜に紫外線を照射して
露光する。露光によって配向膜16となるポリイミド膜
の表面を覆う部分が硬化したレジスト被膜を現像し、凹
部18が形成される部分のレジストを除去する。
膜の凹部18が形成される部分をエッチングで除去し、
さらにレジスト被膜を除去する。このようにしてパター
ン形成されたポリイミド膜に、布などを用いて表面をこ
するラビング処理を行うことによって、パターニングさ
れた配向膜16は形成される。
6の他に、TFT基板26を構成するアクリル系樹脂か
ら成るコーティング膜、水ガラスから成る無機絶縁性コ
ート膜などの液晶表示に悪影響を与えない膜を選択す
る。凹部18を形成する膜が、たとえば露光および現像
を行うフォトプロセスによってパターニングされるので
あれば、マスク版のマスクパターンの形状を変更するこ
とによって凹部18を形成することができる。また、こ
れらの膜の形成方法としては、前述のフォトリソグラフ
ィ法の他に印刷法などがある。
示装置23の額縁部の構成を示す概略的な断面図であ
る。液晶表示装置23の表示部を囲む額縁部には、そこ
からの光漏れを防ぐために、カラーフィルタ2よりも膜
厚の厚い枠状のブラックマスク10が形成される。この
ため、カラーフィルタ基板25の額縁部の液晶17に臨
む表面には、凸部12が形成される。また、TFT基板
26の液晶17に臨む表面には、配向膜16によって凹
部19が形成される。この凹部19での基板25と基板
26との間隔は、凸部5が存在しない領域のセルギャッ
プである基板間隔Gと等しいか、またはそれ以上となる
ように形成される。
0では、額縁部のブラックマスク10に散布スペーサ1
1が配置されると、図4に示す表示部のブラックマスク
4に散布スペーサ6が配置される場合と同様にブラック
マスク10の膜厚が厚いので、散布スペーサ11による
セルギャップの押上げが発生する。
シール材内のスペーサによって最適化されるが、図5に
示すように凸部12に散布スペーサ11が配置される場
合には、シール材14内のスペーサ13よりも、散布ス
ペーサ11の方がセルギャップに対して支配的となるの
で、散布スペーサ11によって額縁部のセルギャップは
押上げられ、額縁部の近傍のセルギャップが大きくな
る。このため、従来の液晶表示装置20では、散布スペ
ーサ11が額縁部近傍の表示部にまで影響し、表示部の
周辺に表示むらが発生する。
3のようにTFT基板26の凸部12に対向する部分
に、凹部19が形成されると、凸部12に散布スペーサ
22が配置されても、散布スペーサ22は凹部19に入
り込むので、散布スペーサ22によるセルギャップの押
上げがなくなる。このため、周辺セルギャップはシール
材14内のスペーサ13の直径によって規定され、スペ
ーサ13の直径の適正化によってセルギャップを均一化
することが可能となる。
6によって形成され、配向膜16は前述したフォトリソ
グラフィ法によってパターニングされる。
6の他に、TFT基板26を構成するアクリル系樹脂か
ら成るコーティング膜、水ガラスから成る無機絶縁性コ
ート膜などの液晶表示に悪影響を与えない膜を選択す
る。凹部19を形成する膜が、たとえば露光および現像
を行うフォトプロセスによってパターニングされるので
あれば、マスク版のマスクパターンの形状を変更するこ
とによって、凹部19を形成することができる。またこ
れらの膜の形成方法は、フォトリソグラフィ法の他に印
刷法などがある。
示品質上の理由によって、ブラックマスク4,10の膜
厚を薄くすることができない場合でも、対向するTFT
基板26の液晶17に臨む表面に凹部18,19を形成
することによって、各基板25,26が平坦でなくても
セルギャップを均一化することができる。このように液
晶表示装置23では、凸部5,12を形成する膜の形成
方法などの技術的な理由または前述の膜厚を薄くすると
充分な遮光性が得られないなどの表示品質上の理由によ
って、膜厚を薄くすることができない場合でも、凸部
5,12に対向する基板26の液晶17に臨む表面を調
整することによって、セルギャップを均一化することが
できる。
部だけではなく、凹部が形成される場合があり、基板に
形成された凹部によって、セルギャップの一部が小さく
なり、セルギャップにむらが生じる場合がある。
なく金属から形成されると、金属材料は膜厚が薄くても
充分な遮光性が得られるので、金属から成るブラックマ
スクの膜厚は、カラーフィルタの膜厚よりも薄く、これ
によってカラーフィルタ基板に凹部が形成される。
が大きいとき、または凹部の近郊に散布スペーサが配置
されないときには、セルギャップが一部小さくなり、セ
ルギャップにむらが生じる場合がある。これを防ぐため
に、カラーフィルタ基板に形成された凹部を埋めるよう
に膜をカラーフィルタ基板に形成し、セルギャップを均
一化するようにしてもよい。
を新しく形成しフォトリソグラフィ法によってパターニ
ングする方法があるが、この方法では工程数が増えるの
で、本来遮光域には必要のないカラーフィルタ膜を、カ
ラーフィルタを形成する工程において露光マスクパター
ンなどを変更することによって、ブラックマスク上に形
成すれば、新たなプロセスを加えることなくセルギャッ
プを均一化することができる。
膜厚の薄いブラックマスクによって形成される凹部によ
るセルギャップの不均一性は、ブラックマスクにカラー
フィルタを重ねることによって改善することができる。
なお、本発明はこれに限らず、たとえば、前述の一方基
板に形成される凸部によるセルギャップの不均一性を改
善するために形成される他方基板の凹部によって、セル
ギャップの一部が小さくなり過ぎる場合でも、上述した
方法と同様にその凹部を埋めるように膜を一方基板に形
成することによって、セルギャップを均一化することが
できる。また、基板に凹部が形成される場合には、対向
する基板の該凹部に対向する部分に凸部を形成すること
によっても、セルギャップを均一にすることができる。
に凸部が形成される場合に、他方基板の該凸部に対向す
る部分に凹部を形成することによって、凸部に配置され
るスペーサによるセルギャップの押上げを防ぐことがで
き、各基板が平坦でなくてもセルギャップを均一化する
ことができる。このため、セルギャップのむらによる液
晶表示装置の色むらおよび輝度むらなどの表示むらを防
ぐことができ、表示品位が向上する。
膜によって行えば、基板表面に新たに膜を形成するオー
バーコートプロセスなどの工程を追加する必要がなく、
また製品のコストアップがない。
の一方基板を構成する膜が、技術的な理由または表示品
質上の理由によって膜厚を薄くすることができない場合
でも、対向する他方基板に凹部を形成することによっ
て、セルギャップを均一化することができる。また、凹
部を形成する膜の抜き幅を調整することによってさらな
るセルギャップの最適化が可能である。
む表面に、カラーフィルタよりも膜厚の厚いブラックマ
スクによって凸部が形成され、他方基板の該凸部に対向
する部分に凹部が形成されるので、該凸部に配置される
スペーサは他方基板の凹部に入り込み、該スペーサによ
るセルギャップの押上げを防ぐことができ、セルギャッ
プを均一化することができる。このため、セルギャップ
のむらによる液晶表示装置の表示品位の低下を防ぐこと
ができ、表示品位が向上する。
成される場合に、他方基板の液晶に臨む表面の該凹部に
対向する部分に凸部を形成するか、または該凹部を埋め
るように液晶に臨む表面を調整することによって、セル
ギャップを均一化することができる。したがって、セル
ギャップのむらによる液晶表示装置の表示品位の低下を
防ぐことができ、表示品位が向上する。
方または他方基板を構成する薄膜によって行えば、基板
表面に新たに膜を形成するオーバーコートプロセスなど
の工程を追加する必要がなく、また製品のコストアップ
がない。
成される場合に、他方基板の該凸部に対向する部分に凹
部が形成されることによって、セルギャップが均一化さ
れるので、液晶表示装置の輝度むらおよび色むらなどの
表示むらが防止でき、表示品位が向上する。
の表示部の構成を示す概略的な断面図である。
の額縁部の構成を示す概略的な断面図である。
ある。
状態を概略的に示す断面図である。
れる状態を概略的に示す断面図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 所定の間隔をあけて対向する一対の基板
間にスペーサを介在し、その基板間に液晶が封入される
液晶表示装置の製造方法において、 一方基板の液晶に臨む表面に凸部が形成される場合に、
他方基板の液晶に臨む表面の該凸部に対向する部分に凹
部を形成し、セルギャップを均一化することを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項2】 前記凸部は、一方基板を構成するブラッ
クマスクによって形成される凸部であって、他方基板の
液晶に臨む表面の該凸部に対向する部分に凹部を形成
し、セルギャップを均一化することを特徴とする請求項
1記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項3】 所定の間隔をあけて対向する一対の基板
間にスペーサを介在し、その基板間に液晶が封入される
液晶表示装置の製造方法において、 一方基板の液晶に臨む表面に凹部が形成される場合に、
他方基板の液晶に臨む表面の該凹部に対向する部分に凸
部を形成するか、または該凹部を埋めるように一方基板
の液晶に臨む表面を調整することによって、セルギャッ
プを均一化することを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。 - 【請求項4】 所定の間隔をあけて対向する一対の基板
間にスペーサを介在し、その基板間に液晶が封入される
液晶表示装置において、 一方基板の液晶に臨む表面に凸部が形成される場合に、
他方基板の液晶に臨む表面の該凸部に対向する部分に凹
部が形成され、セルギャップが均一化されることを特徴
とする液晶表示装置。
Priority Applications (5)
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---|---|---|---|
JP37001799A JP3809043B2 (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | 液晶表示装置の製造方法 |
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CNB001310992A CN1196013C (zh) | 1999-12-27 | 2000-12-27 | 液晶显示装置及其生产方法 |
KR10-2000-0082653A KR100379195B1 (ko) | 1999-12-27 | 2000-12-27 | 액정 디스플레이 장치 및 그 제조 방법 |
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