JP2019515343A

JP2019515343A - カラーフィルタ基板の製作方法及び液晶パネルの製作方法

Info

Publication number: JP2019515343A
Application number: JP2018556337A
Authority: JP
Inventors: 暉賀
Original assignee: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Current assignee: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date: 2016-04-26
Filing date: 2016-05-27
Publication date: 2019-06-06
Anticipated expiration: 2036-05-27
Also published as: KR102170393B1; US20180107054A1; KR20180133519A; CN105717695A; US10048531B2; WO2017185447A1; JP6691974B2

Abstract

カラーフィルタ基板の製作方法は、在第一基板（１）に３層のフォトレジスト材料をそれぞれ塗布して露光するステップであって、３層のフォトレジスト材料の色がそれぞれ赤、緑、青である塗布及び露光ステップを含み、塗布及び露光ステップの間に赤色レジストブロック（１０２）、緑色レジストブロック（１０４）及び青色レジストブロック（１０６）を形成するとともに、３層のフォトレジスト材料のうち、２つの異なる色のフォトレジスト材料を混合することで遮光層（２０）を形成し、３層のフォトレジスト材料のうち、少なくとも２つの異なる色のフォトレジスト材料を積層することでスペーサ層を形成する。更に、液晶パネルの製作方法が提供されている。カラーフィルタ基板の製造過程を簡素化することで、液晶パネルの製造工程を減らし、製造コストを低減させている。

Description

＜出願／優先権に関する援用＞
本願は、２０１６年４月２６日に出願された、発明名称が「カラーフィルタ基板の製作方法及び液晶パネルの製作方法」、出願番号が２０１６１０２７０２３９．Ｘとなる出願の優先権を主張し、上記出願の内容は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。

本発明は、液晶表示技術分野に関し、特に、カラーフィルタ基板の製作方法及び液晶パネルの製作方法に関する。

薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ−ＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌＤｉｓｐｌａｙ、ＴＦＴ−ＬＣＤ）は、カラーフィルタ基板（ＣｏｌｏｒＦｉｌｔｅｒＳｕｂｓｔｒａｔｅ、ＣＦＳｕｂｓｔｒａｔｅ、）、及び、薄膜トランジスタアレイ基板（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒＳｕｂｓｔｒａｔｅ、ＴＦＴＳｕｂｓｔｒａｔｅ）を含み、基板の対向する内側に透明電極が存在している。両基板の間に液晶分子（ＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌ、ＬＣ）の層が挟まれている。液晶ディスプレイは、電界による液晶分子配向の制御を介して光の偏光状態を変化させ、偏光板によって光路の開放及び遮断を実現し、表示という目的を達成している。

カラーフィルタ基板は、液晶ディスプレイをカラー化するための重要な構成要素であり、従来技術では、カラーフィルタ基板の製造方法として、ブラックマトリクス材料、赤、緑、青のフォトレジスト材料をそれぞれ順次に塗布して露光することと、スペーサを製作することになる。該方法は、製作ステップが多いため、製作プロセスが複雑で、生産効率が低い。

現代のディスプレイ技術の発展に伴い、製造コストを節約するために液晶パネルの製造過程における工程の数を如何に最小限に抑えるかは、業界の研究方向になっている。

本発明が解決しようとする課題は、カラーフィルタ基板の製造過程を簡素化することにより、液晶パネルの製造工程を減らし、製造コストを低減させる液晶パネルの製作方法を提供することにある。

上述した目的を達成するために、本発明の実施形態は、次の解決手段を提供する。

本発明の一局面によれば、カラーフィルタ基板の製作方法が提供され、この方法は、第一基板上に３層のフォトレジスト材料をそれぞれ塗布して露光するステップであって、前記３層のフォトレジスト材料の色がそれぞれ赤、緑、青である塗布及び露光ステップを含み、前記塗布及び露光ステップの間に赤色レジストブロック、緑色レジストブロック及び青色レジストブロックを形成するとともに、前記３層のフォトレジスト材料のうち、２つの異なる色の前記フォトレジスト材料を混合することで遮光層を形成し、前記３層のフォトレジスト材料のうち、少なくとも２つの異なる色の前記フォトレジスト材料を積層することでスペーサ層を形成する。

更に、第一基板上に３層のフォトレジスト材料をそれぞれ塗布して露光するステップは、赤色フォトレジスト材料を塗布して露光及び現像し、前記赤色レジストブロック、赤色スペーサブロック、及び、遮光領域に位置する第一カラーレジスト層を形成することと、緑色フォトレジスト材料を塗布して露光及び現像し、前記緑色レジストブロックを形成することと、青色フォトレジスト材料を塗布して露光及び現像し、青色レジストブロック、青色スペーサブロック、及び、前記遮光領域に位置する第二カラーレジスト層を形成することと、を含み、前記第一カラーレジスト層の赤色フォトレジスト材料と、前記第二カラーレジスト層の青色フォトレジスト材料とが、前記遮光領域内で混合されて遮光層を形成し、前記青色スペーサブロックと前記赤色スペーサブロックとが、積層されて前記スペーサ層を形成する。

更に、前記赤色レジストブロック、前記緑色レジストブロック及び前記青色レジストブロックは、いずれも、全透過型フォトマスクによる露光を用いて形成される。

更に、前記第一カラーレジスト層及び前記第二カラーレジスト層は、いずれも、半透過型フォトマスクによる露光を用いて形成され、前記遮光層と前記赤色レジストブロックとは、高さが同じである。

更に、前記スペーサ層は、位置がずらして配列された主スペーサ層及び補助スペーサ層を含み、前記主スペーサ層は、前記赤色フォトレジスト材料に全透過型フォトマスクによる露光を行うことで赤色主スペーサブロックを形成し、前記主スペーサ層は、前記青色フォトレジスト材料に全透過型フォトマスクによる露光を行うことで青色主スペーサブロックを形成し、前記青色主スペーサブロックと前記赤色主スペーサブロックとが、積層されて前記主スペーサ層を形成し、前記補助スペーサ層は、前記赤色フォトレジスト材料に半透過型フォトマスクによる露光を行うことで赤色補助スペーサブロックを形成し、前記補助スペーサ層は、前記青色フォトレジスト材料に半透過型フォトマスクによる露光を行うことで青色補助スペーサブロックを形成し、前記青色補助スペーサブロックと前記赤色補助スペーサブロックとが、積層されて前記補助スペーサ層を形成する。

更に、前記主スペーサ層は、高さが３．２ｕｍ〜３．７ｕｍである。

更に、前記半透過型フォトマスクは、透過率が２０％〜５０％である。

更に、前記遮光層は、塗布及び露光の間に、赤色フォトレジスト材料と青色フォトレジスト材料とを混合するか、又は、赤色フォトレジスト材料と緑色フォトレジスト材料とを混合することで形成され、前記遮光層は、黒色を呈する。

更に、前記スペーサ層は、位置がずらして配列された主スペーサ層及び補助スペーサ層を含み、前記主スペーサ層は、全透過型フォトマスクによる露光を用いた２つの異なる色の前記フォトレジスト材料が積層されてなり、前記補助スペーサ層は、半透過型フォトマスクによる露光を用いて形成された少なくとも２つの異なる色の前記フォトレジスト材料が積層されてなる。

本発明の他の局面によれば、液晶パネルの製作方法が提供され、この方法は、上述のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の製作方法と、前記カラーフィルタ基板上に液晶を滴下することと、第二基板を前記カラーフィルタ基板に貼り合わせて、前記第二基板のエッジ領域と前記第一基板のエッジ領域の間でシーラントを用いて接着させることと、を含む。

本発明による液晶パネルのカラーフィルタ基板は、２層のフォトレジスト材料を混合して遮光層を形成し、多層のフォトレジスト材料を混合してスペーサ層を形成するという方法によって製作される。該液晶パネルの製作方法は、工程が少なく、操作が簡単で、期待通りの優れた効果が得られるとともに、製造コストが節約される。

本発明の解決手段をより明らかに説明するために、以下、実施形態において使用する必要がある図面を簡単に紹介するが、勿論、下記の図面は、本発明の一部の実施形態に過ぎず、当業者にとっては、創造的努力を払わずに、これらの図面から他の図面を得ることもできる。
図１は、本発明の実施例一による液晶パネルのカラーフィルタ基板の構造の平面図である。図２は、本発明の実施例一による液晶パネルの製作方法におけるステップ１の平面図である。図３は、本発明の実施例一による液晶パネルの製作方法におけるステップ１のＡ−Ａ断面図である。図４は、本発明の実施例一による液晶パネルの製作方法におけるステップ１のＢ−Ｂ断面図である。図５は、本発明の実施例一による液晶パネルの製作方法におけるステップ２の平面図である。図６は、本発明の実施例一による液晶パネルの製作方法におけるステップ２のＡ−Ａ断面図である。図７は、本発明の実施例一による液晶パネルの製作方法におけるステップ２のＢ−Ｂ断面図である。図８は、本発明の実施例一による液晶パネルの製作方法におけるステップ３の平面図である。図９は、本発明の実施例一による液晶パネルの製作方法におけるステップ３のＡ−Ａ断面図である。図１０は、本発明の実施例一による液晶パネルの製作方法におけるステップ３のＢ−Ｂ断面図である。図１１は、本発明の実施例一による液晶パネルの構造の断面図である。図１２は、本発明の実施例二による液晶パネルのカラーフィルタ基板の断面図である。

以下、本発明の実施形態における図面を参照して、本発明の実施形態における解決手段を明確且つ完全に説明する。

図１は、本発明の実施例一による液晶パネルのカラーフィルタ基板の構造の平面図であり、図１に示すように、カラーフィルタ基板は、単色レジスト層１０、遮光層２０、主スペーサ層３２、及び、補助スペーサ層３４を含む。主スペーサ層３２と補助スペーサ層３４とは、スペーサ層と纏めて称され、一実施形態において、主スペーサ層３２と補助スペーサ層３４とには、高さの差がある。そのうち、単色レジスト層１０は、赤色レジストブロック１０２、緑色レジストブロック１０４、及び、青色レジストブロック１０６を含み、単色レジスト層１０における各色のレジストブロック（即ち、赤色レジストブロック１０２、緑色レジストブロック１０４及び青色レジストブロック１０６）の間は、遮光層２０によって仕切られている。スペーサ層は、液晶パネルにおいて、支持の役割を果たす。

図２〜図１０を参照して、本発明の実施例一によるカラーフィルタ基板の製作方法及び液晶パネルの製作方法は、本発明の第一基板１上に３層のフォトレジスト材料をそれぞれ塗布して露光するステップであって、前記３層のフォトレジスト材料の色がそれぞれ赤、緑、青である塗布及び露光ステップを含み、前記塗布及び露光ステップの間に赤色レジストブロック１０２、緑色レジストブロック１０４及び青色レジストブロック１０６を形成するとともに、前記３層のフォトレジスト材料のうち、２つの異なる色の前記フォトレジスト材料を混合又は積層することで、遮光層２０及びスペーサ層を形成する。

一実施形態において、本発明の具体的なステップは、次の通りである。

ステップ１としては、図２〜図４を参照して、第一基板１上に赤色フォトレジスト材料を塗布し、赤色フォトレジスト材料が塗布された第一基板１を露光及び現像することで、第一基板１上に、赤色レジストブロック１０２、赤色主スペーサブロック３２２、赤色補助スペーサブロック３４２、及び、遮光領域に位置する第一カラーレジスト層２０２を形成する。一実施形態において、全透過型フォトマスクによる露光で、赤色レジストブロック１０２、赤色主スペーサブロック３２２を形成するとともに、半透過型フォトマスクによる露光で、第一カラーレジスト層２０２、及び、赤色補助スペーサブロック３４２を形成する。そのうち、半透過型フォトマスクの透過率は、０％〜５０％である。

赤色レジストブロック１０２、赤色主スペーサブロック３２２、赤色補助スペーサブロック３４２、及び、第一カラーレジスト層２０２のいずれも、その数が複数であり、且つアレイ状に分布している。図２は、第一基板１の部分的な平面図を示しており、第一行を例として説明すると、第一行には、２つの第一カラーレジスト層２０２が含まれ、両者が、互いに離間して設けられている。一方の第一カラーレジスト層２０２は、赤色レジストブロック１０２の側辺に接続されており、他方の第一カラーレジスト層２０２は、その両側に、緑色レジストブロック及び青色レジストブロックを製作するための第一基板１の露出領域が形成されている。赤色主スペーサブロック３２２、赤色補助スペーサブロック３４２は、第一カラーレジスト層２０２の位置に分布している。

図３に示すように、第一カラーレジスト層２０２の高さは、赤色レジストブロック１０２の高さの半分になっており、第一カラーレジスト層２０２の表面は、他の色のカラーレジストを形成するために用いられることで、異なる色のカラーレジストの混合によって、遮光機能が形成される。図４に示すように、赤色主スペーサブロック３２２と、赤色レジストブロック１０２とは、高さが同じであり、赤色補助スペーサブロック３４２の高さは、赤色レジストブロック１０２よりも低い。

ステップ２としては、図５〜図７を参照して、第一基板１上に緑色フォトレジスト材料を塗布し、緑色フォトレジスト材料が塗布された第一基板１を露光及び現像することで、第一基板１上に緑色レジストブロック１０４を形成する。一実施形態において、全透過型フォトマスクによる露光で、緑色レジストブロック１０４を形成する。

緑色レジストブロック１０４は、その数が複数であり、且つアレイ状に分布している。図５は、第一基板１の部分的な平面図を示しており、第一行を例として説明すると、緑色レジストブロック１０４は、２つの第一カラーレジスト層２０２の間に設けられている。

図６に示すように、緑色レジストブロック１０４の高さは、第一カラーレジスト層２０２の高さの２倍になっている。図７に示すように、緑色レジストブロック１０４と、赤色レジストブロック１０２と、赤色主スペーサブロック３２２とは、高さが同じである。

ステップ３としては、図８〜図１０を参照して、第一基板１上に青色フォトレジスト材料を塗布し、赤色フォトレジスト材料及び緑色フォトレジスト材料が塗布された第一基板１を露光及び現像することで、第一基板１上に青色レジストブロック１０６、青色主スペーサブロック３２６、遮光領域に位置する第二カラーレジスト層２０６、及び、青色補助スペーサブロック３４６を形成する。一実施形態において、全透過型フォトマスクによる露光で、青色レジストブロック１０６、青色主スペーサブロック３２６を形成するとともに、半透過型フォトマスクによる露光で、第二カラーレジスト層２０６、青色補助スペーサブロック３４６を形成する。そのうち、半透過型フォトマスクの透過率は、２０％〜５０％である。

青色レジストブロック１０６、青色主スペーサブロック３２６、青色補助スペーサブロック３４６及び第二カラーレジスト層２０６のいずれも、その数が複数であり、且つアレイ状に分布している。図８は、第一基板１の部分的な平面図を示しており、第一行を例として説明すると、青色レジストブロック１０６は、第二カラーレジスト層２０６の右側に設けられている。

図９を参照して、第二カラーレジスト層２０６の高さは、青色レジストブロック１０６の高さの半分であり、且つ、第二カラーレジスト層２０６は、第一カラーレジスト層２０２の表面に形成されており、第二カラーレジスト層２０６と第一カラーレジスト層２０２とが混合されて遮光層２０を形成している（図１１参照）。図１０を参照して、青色主スペーサブロック３２６と、青色レジストブロック１０６とは、高さが同じであり、且つ、青色主スペーサブロック３２６は、赤色主スペーサブロック３２２の表面に形成されており、青色主スペーサブロック３２６と赤色主スペーサブロック３２２とが積層されて主スペーサ層３２を形成している（図１１参照）。主スペーサ層の高さは、３．２ｕｍ〜３．７ｕｍである。青色補助スペーサブロック３４６と、赤色補助スペーサブロック３４２とは、高さが同じであり、且つ、青色補助スペーサブロック３４６は、赤色補助スペーサブロック３４２の表面に形成されており、青色補助スペーサブロック３４６と赤色補助スペーサブロック３４２とが積層されて補助スペーサ層３４を形成している（図１１参照）。遮光層２０と、単色レジスト層１０とは、高さが同じである。補助スペーサ層３４の高さは、主スペーサ層３２の高さよりも低く、両者の間には、高さの差がある。

遮光領域に位置する第二カラーレジスト層２０６と、第一カラーレジスト層２０２とが混合されて形成した遮光層２０は、黒色を呈しており、他の実施形態において、本発明は、第一カラーレジスト層２０２と、遮光領域内で半透過型フォトマスクによる露光を用いる緑色フォトレジスト材料とを混合することで、黒色の遮光層を形成してもよい。

本発明は、第一基板１上に３層のフォトレジスト材料を順次に塗布及び露光し、塗布及び露光の間に、カラーレジスト層の混合で、遮光層２０を形成し、カラーレジスト層の積層で、主スペーサ層３２及び補助スペーサ層３４を形成することにより、３回の塗布及び露光で、第一基板１をカラーフィルタ基板として製作できており、プロセスのステップを節約し、製造コストを低減させている。

ステップ４としては、カラーフィルタ基板上に液晶３を滴下し、第二基板２をカラーフィルタ基板に貼り合わせて、第二基板２のエッジ領域と第一基板１のエッジ領域との間でシーラント４を用いて接着させる。第二基板２は、アレイ基板である。

本発明の実施例一による液晶パネルの製作方法は、工程が少なく、遮光領域に位置する第一カラーレジスト層２０２と、第二カラーレジスト層２０６との混合で、遮光層２０を形成し、赤色主スペーサブロック３２２と、青色主スペーサブロック３２６との積層で、主スペーサ層３２を形成し、赤色補助スペーサブロック３４２と、青色補助スペーサブロック３４６との積層で、補助スペーサ層３４を形成しているため、製造過程が簡素化され、材料コストが節約される。

図１１は、本発明の実施例一による液晶パネルの構造の断面図であり、図１１に示すように、液晶パネルは、積層して設けられた第一基板１及び第二基板２と、両者の間に設けられた液晶３とを含み、第一基板１と第二基板２との間には、単色レジスト層１０、遮光層２０、主スペーサ層３２及び補助スペーサ層３４が更に設けられており、第二基板２のエッジ領域と、第一基板１のエッジ領域との間は、シーラント４によって接着されている。該液晶パネルによれば、期待通りの優れた効果が得られるとともに、製造コストが低くなる。

図１２は、本発明の実施例二による液晶パネルのカラーフィルタ基板の断面図であり、図１２に示すように、本発明の実施例二による液晶パネルに比べて、その相違点は、補助スペーサ層３４が、赤色補助スペーサブロック３４２と、緑色補助スペーサブロック３４４と、青色補助スペーサブロック３４６とが積層されてなる点にある。つまり、本発明において、補助スペーサ層３４は、少なくとも２つの異なる色のフォトレジスト材料が積層されてなってもよく、勿論、主スペーサ層３２についても、類似に設計されてもよい。赤色補助スペーサブロック３４２、緑色補助スペーサ層３４４及び青色補助スペーサブロック３４６は、いずれも、単色フォトレジスト材料を半透過型フォトマスクによって露光して形成される。該液晶パネルは、製造工程が少なく、液晶パネルの材料コストを低減することができる。

上述したのは、本発明の好ましい実施形態であるが、留意すべきなのは、当業者であれば、本発明の原理から逸脱することなく、いくつかの改良や修正を行うことが可能であり、これらの改良や修正は、本発明の保護範囲内とされる。

Claims

第一基板上に３層のフォトレジスト材料をそれぞれ塗布して露光するステップであって、前記３層のフォトレジスト材料の色がそれぞれ赤、緑、青である塗布及び露光ステップを含み、前記塗布及び露光ステップの間に赤色レジストブロック、緑色レジストブロック及び青色レジストブロックを形成するとともに、前記３層のフォトレジスト材料のうち、２つの異なる色の前記フォトレジスト材料を混合することで遮光層を形成し、前記３層のフォトレジスト材料のうち、少なくとも２つの異なる色の前記フォトレジスト材料を積層することでスペーサ層を形成する、カラーフィルタ基板の製作方法。
第一基板上に３層のフォトレジスト材料をそれぞれ塗布して露光するステップは、赤色フォトレジスト材料を塗布して露光及び現像し、前記赤色レジストブロック、赤色スペーサブロック、及び、遮光領域に位置する第一カラーレジスト層を形成することと、緑色フォトレジスト材料を塗布して露光及び現像し、前記緑色レジストブロックを形成することと、青色フォトレジスト材料を塗布して露光及び現像し、青色レジストブロック、青色スペーサブロック、及び、前記遮光領域に位置する第二カラーレジスト層を形成することと、を含み、前記第一カラーレジスト層の赤色フォトレジスト材料と、前記第二カラーレジスト層の青色フォトレジスト材料とが、前記遮光領域内で混合されて遮光層を形成し、前記青色スペーサブロックと前記赤色スペーサブロックとが、積層されて前記スペーサ層を形成する、請求項１に記載のカラーフィルタ基板の製作方法。
前記赤色レジストブロック、前記緑色レジストブロック及び前記青色レジストブロックは、いずれも、全透過型フォトマスクによる露光を用いて形成される、請求項２に記載のカラーフィルタ基板の製作方法。
前記第一カラーレジスト層及び前記第二カラーレジスト層は、いずれも、半透過型フォトマスクによる露光を用いて形成され、前記遮光層と前記赤色レジストブロックとは、高さが同じである、請求項３に記載のカラーフィルタ基板の製作方法。
前記スペーサ層は、位置がずらして配列された主スペーサ層及び補助スペーサ層を含み、前記主スペーサ層は、前記赤色フォトレジスト材料に全透過型フォトマスクによる露光を行うことで赤色主スペーサブロックを形成し、前記主スペーサ層は、前記青色フォトレジスト材料に全透過型フォトマスクによる露光を行うことで青色主スペーサブロックを形成し、前記青色主スペーサブロックと前記赤色主スペーサブロックとが、積層されて前記主スペーサ層を形成し、前記補助スペーサ層は、前記赤色フォトレジスト材料に半透過型フォトマスクによる露光を行うことで赤色補助スペーサブロックを形成し、前記補助スペーサ層は、前記青色フォトレジスト材料に半透過型フォトマスクによる露光を行うことで青色補助スペーサブロックを形成し、前記青色補助スペーサブロックと前記赤色補助スペーサブロックとが、積層されて前記補助スペーサ層を形成する、請求項２に記載のカラーフィルタ基板の製作方法。
前記主スペーサ層は、高さが３．２ｕｍ〜３．７ｕｍである、請求項５に記載のカラーフィルタ基板の製作方法。
前記半透過型フォトマスクは、透過率が２０％〜５０％である、請求項５に記載のカラーフィルタ基板の製作方法。
前記遮光層は、塗布及び露光の間に、赤色フォトレジスト材料と青色フォトレジスト材料とを混合するか、又は、赤色フォトレジスト材料と緑色フォトレジスト材料とを混合することで形成され、前記遮光層は、黒色を呈する、請求項１に記載のカラーフィルタ基板の製作方法。
前記スペーサ層は、位置がずらして配列された主スペーサ層及び補助スペーサ層を含み、前記主スペーサ層は、全透過型フォトマスクによる露光を用いて形成された２つの異なる色の前記フォトレジスト材料が積層されてなり、前記補助スペーサ層は、半透過型フォトマスクによる露光を用いて形成された少なくとも２つの異なる色の前記フォトレジスト材料が積層されてなる、請求項１に記載のカラーフィルタ基板の製作方法。
第一基板上に３層のフォトレジスト材料をそれぞれ塗布して露光するステップであって、前記３層のフォトレジスト材料の色がそれぞれ赤、緑、青である塗布及び露光ステップを含み、前記塗布及び露光ステップの間に赤色レジストブロック、緑色レジストブロック及び青色レジストブロックを形成するとともに、前記３層のフォトレジスト材料のうち、２つの異なる色の前記フォトレジスト材料を混合することで遮光層を形成し、前記３層のフォトレジスト材料のうち、少なくとも２つの異なる色の前記フォトレジスト材料を積層することでスペーサ層を形成する、カラーフィルタ基板の製作方法と、
前記カラーフィルタ基板上に液晶を滴下することと、
第二基板を前記カラーフィルタ基板に貼り合わせて、前記第二基板のエッジ領域と前記第一基板のエッジ領域の間でシーラントを用いて接着させることと、を含む、液晶パネルの製作方法。
第一基板上に３層のフォトレジスト材料をそれぞれ塗布して露光するステップは、赤色フォトレジスト材料を塗布して露光及び現像し、前記赤色レジストブロック、赤色スペーサブロック、及び、遮光領域に位置する第一カラーレジスト層を形成することと、緑色フォトレジスト材料を塗布して露光及び現像し、前記緑色レジストブロックを形成することと、青色フォトレジスト材料を塗布して露光及び現像し、青色レジストブロック、青色スペーサブロック、及び、前記遮光領域に位置する第二カラーレジスト層を形成することと、を含み、前記第一カラーレジスト層の赤色フォトレジスト材料と、前記第二カラーレジスト層の青色フォトレジスト材料とが、前記遮光領域内で混合されて遮光層を形成し、前記青色スペーサブロックと前記赤色スペーサブロックとが、積層されて前記スペーサ層を形成する、請求項１０に記載の液晶パネルの製作方法。
前記赤色レジストブロック、前記緑色レジストブロック及び前記青色レジストブロックは、いずれも、全透過型フォトマスクによる露光を用いて形成される、請求項１１に記載の液晶パネルの製作方法。
前記第一カラーレジスト層及び前記第二カラーレジスト層は、いずれも、半透過型フォトマスクによる露光を用いて形成され、前記遮光層と前記赤色レジストブロックとは、高さが同じである、請求項１２に記載の液晶パネルの製作方法。
前記スペーサ層は、位置がずらして配列された主スペーサ層及び補助スペーサ層を含み、前記主スペーサ層は、前記赤色フォトレジスト材料に全透過型フォトマスクによる露光を行うことで赤色主スペーサブロックを形成し、前記主スペーサ層は、前記青色フォトレジスト材料に全透過型フォトマスクによる露光を行うことで青色主スペーサブロックを形成し、前記青色主スペーサブロックと前記赤色主スペーサブロックとが、積層されて前記主スペーサ層を形成し、前記補助スペーサ層は、前記赤色フォトレジスト材料に半透過型フォトマスクによる露光を行うことで赤色補助スペーサブロックを形成し、前記補助スペーサ層は、前記青色フォトレジスト材料に半透過型フォトマスクによる露光を行うことで青色補助スペーサブロックを形成し、前記青色補助スペーサブロックと前記赤色補助スペーサブロックとが、積層されて前記補助スペーサ層を形成する、請求項１１に記載のカラーフィルタ基板の製作方法。
前記主スペーサ層は、高さが３．２ｕｍ〜３．７ｕｍである、請求項１４に記載の液晶パネルの製作方法。
前記半透過型フォトマスクは、透過率が２０％〜５０％である、請求項１４に記載の液晶パネルの製作方法。
前記遮光層は、塗布及び露光の間に、赤色フォトレジスト材料と青色フォトレジスト材料とを混合するか、又は、赤色フォトレジスト材料と緑色フォトレジスト材料とを混合することで形成され、前記遮光層は、黒色を呈する、請求項１０に記載の液晶パネルの製作方法。
前記スペーサ層は、位置がずらして配列された主スペーサ層及び補助スペーサ層を含み、前記主スペーサ層は、全透過型フォトマスクによる露光を用いた２つの異なる色の前記フォトレジスト材料が積層されてなり、前記補助スペーサ層は、半透過型フォトマスクによる露光を用いて形成された少なくとも２つの異なる色の前記フォトレジスト材料が積層されてなる、請求項１０に記載の液晶パネルの製作方法。