JP2000066179A

JP2000066179A - 液晶表示素子とその製造方法

Info

Publication number: JP2000066179A
Application number: JP23742698A
Authority: JP
Inventors: Akihiro Yajima; 明裕矢島
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1998-08-24
Filing date: 1998-08-24
Publication date: 2000-03-03

Abstract

(57)【要約】【課題】製造工程を煩雑にすることなく光漏れを防止
する。【解決手段】一方の基板に光遮蔽層を形成し（101,10
2）、色層膜を塗布しパターニングして（103,104）、カ
ラーフィルタを形成する。その後、ＩＴＯを成膜し（10
5）、パターニングして、透明電極と基準マークとを同
時に形成する（106）。さらに、配向膜が形成される（1
07）。こうしてカラーフィルタ基板が完成する。他方の
基板にはＴＦＴを含む駆動素子を形成し（108）、基準
マークを形成し（109）、配向膜を形成して（110）、Ｔ
ＦＴ基板が完成する。そして、カラーフィルタ基板とＴ
ＦＴ基板とを対向的に配置し、基準マークを重ね合わせ
て光学的に位置合わせを行う（111）。位置合わせ終了
後、シール材２０で接着し（112）、液晶を封入する（1
13）。そして、両基板の外側に偏光板をそれぞれ貼り付
ける（114）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子とその
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の一般的な液晶表示素子のうちカラ
ー表示可能な構成の例を図１２に示している。

【０００３】このような液晶表示素子は、一対の透明基
板３１，３２が対向的に配設された状態で両者の間隙に
液晶３３が封入されている。そして、一方の透明基板３
１には、内側の面に透明電極３４とカラーフィルタ３５
と配向膜３６とが設けられ、他方の透明基板３２には、
内側の面に駆動素子（ＴＦＴを含むアクティブ素子）３
７と配向膜３８とが設けられている。さらに、両基板３
１，３２の外面には偏光板３９，４０がそれぞれ配設さ
れている。また、表示可能部分の外周等には光漏れによ
る表示品質劣化を防止するため、ブラックストライプと
呼ばれる光遮弊層４１が形成されている。カラーフィル
タ３５は、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の３種の色層から
なり、各色の小点が多数マトリクス状に並んだものであ
る。また、駆動素子３７は、互いに交差する多数の縦横
のストライプ上電極が設けられ、その交点にそれぞれＴ
ＦＴ（Thin Film Transistor）が配設されたものであ
る。この駆動素子３７に任意の部分と透明電極３４との
間に電圧が加わると液晶分子の姿勢が変化し、両偏光板
３９，４０の偏光方向と液晶分子の姿勢との組み合わせ
により、光の透過が制御できる。さらに、光の透過する
部分がカラーフィルタ３５中のどの色層に相当するかに
より、表示色が制御できる。

【０００４】このように、液晶表示素子において表示を
行なう場合、駆動素子３７により選択される電圧印加部
分とカラーフィルタ３５の色層とが一致してはじめて所
望のカラー表示が可能になる。従って、両基板３１，３
２の相対位置精度が重要であり、その位置決め作業には
非常に高精度が要求される。

【０００５】そこで、通常は両基板３１，３２にそれぞ
れ基準マーク４２，４３を形成しておき、両基準マーク
４２，４３を重ね合わせつつ観察して、両基準マーク４
２，４３の位置関係が良好になるように調整することに
より、両基板３１，３２の位置合わせを行なっている。
その一例を図１２に示している。

【０００６】図１２に示す構成では、光遮蔽層（ブラッ
クマトリクス）４１をパターン形成する際に、部分的に
切り欠くことにより重ね合わせ精度検査用の基準マーク
４２を形成している。

【０００７】また、図１３に示す第２の従来例（特開平
８−４３８０６号公報に開示）では、両基板５１，５２
の表示部の外側の縁部に位置合わせのための基準マーク
５３，５４が形成されている。この基準マーク５３，５
４は、基板５１，５２に形成されたものであって、光遮
蔽層を切り欠いたような透明パターンではないが、両基
板５１，５２を所定の間隔で対向的に配置した状態で、
両基準マーク５３，５４を重ね合わせて光学的に位置合
わせを行う。そして、２枚の基板５１，５２のうちの少
なくとも外側（直接視認される側）の基板５１には、基
準マーク５３，５４に対応する位置に、例えば黒色油性
マーカーにて光遮蔽層５５が形成されている。そして、
両基板５１，５２の外側にはそれぞれ偏光板５６，５７
が貼着されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】図１２に示す第１の従
来例においては、光遮蔽層４１を切り欠いて形成した基
準マーク４２からバックライト光が表示面側に漏れて、
表示品質が劣化するという問題がある。この時、基準マ
ーク４２が偏光板３９に覆われていれば、ある程度光の
漏れが抑制できるが、特に最近の液晶表示素子では、表
示部の外側の縁部が小型化されており、それに伴って偏
光板３９，４０の貼り付け範囲が狭くなっているため、
基準マーク４２を偏光板３９，４０にて覆うことが困難
で、基準マーク４２からの光の漏れが問題となる場合が
多い。

【０００９】図１３に示す第２の従来例では、基準マー
ク５３を形成する工程と、この基準マーク５３を覆う光
遮蔽層５５を形成する工程（黒色油性マーカーを用いて
塗りつぶす工程など）とが必要であり、製造工程が増え
煩雑になるという欠点がある。

【００１０】また、第２の従来例において基準マーク５
３，５４を覆う光遮蔽層５５を設ける代わりに、基準マ
ーク５３，５４の形成された部分を偏光板５６，５７に
て覆い、その偏光軸の傾きと液晶分子の旋光性に起因す
る光学異方性を利用した光遮蔽処理を施す構成とするこ
ともできる。しかし、表示部の外側の縁部が小型化され
ている液晶表示素子では、基準マーク５３，５４を形成
した部分を偏光板５６，５７にて覆うことができず、光
遮蔽処理を行なえない場合がある。

【００１１】そこで本発明の目的は、製造工程を煩雑に
することなく、基板に形成された基準マークを通してバ
ックライト光の光漏れを防止することができる液晶表示
素子を提供するところにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子の
特徴は、対向的に配設される一対の基板の間隙に液晶が
封入され、前記一対の基板にそれぞれ位置合わせ用の基
準マークが設けられている液晶表示素子において、一方
の前記基板が、透明電極と、該透明電極と同じ材質で形
成された一方の前記基準マークと、一方の前記基準マー
クを覆うように設けられている光遮蔽層とを有するとこ
ろにある。

【００１３】また、本発明のもう一つの特徴は、対向的
に配設される一対の基板の間隙に液晶が封入され、前記
一対の基板にそれぞれ位置合わせ用の基準マークが設け
られている液晶表示素子において、一方の前記基板が、
複数の色層膜からなるカラーフィルタと、前記色層膜の
少なくとも一つと同じ材質で形成された一方の前記基準
マークと、一方の前記基準マークを覆うように設けられ
ている光遮蔽層とを有するところにある。

【００１４】そして、前記基準マークが、偏光板貼り合
わせ精度の検査用のスケールであってもよい。

【００１５】本発明の液晶表示素子の製造方法の特徴
は、一方の基板に光遮蔽層を形成する工程と、前記一方
の基板に複数の色層膜からなるカラーフィルタを形成す
る工程と、前記一方の基板に透明電極と一方の基準マー
クとを同時に同じ材質で形成する工程と、他方の基板に
他方の基準マークを形成する工程と、前記一方の基板と
前記他方の基板とを対向させた状態で、前記一方の基準
マークと前記他方の基準マークとの位置関係を観察しな
がら、前記両基板を位置合わせする工程と、位置合わせ
された前記両基板を互いに固定するとともに、前記両基
板の間隙に液晶を封入する工程とを含むところにある。

【００１６】また、本発明の液晶表示素子の製造方法の
もうひとつの特徴は、一方の基板に光遮蔽層を形成する
工程と、前記一方の基板に複数の色層膜からなるカラー
フィルタと、前記色層膜の少なくとも一つと同じ材質か
らなる一方の基準マークとを同時に形成する工程と、前
記一方の基板に透明電極を形成する工程と、他方の基板
に他方の基準マークを形成する工程と、前記一方の基板
と前記他方の基板とを対向させた状態で、前記一方の基
準マークと前記他方の基準マークとの位置関係を観察し
ながら、前記両基板を位置合わせする工程と、位置合わ
せされた前記両基板を互いに固定するとともに、前記両
基板の間隙に液晶を封入する工程とを含むところにあ
る。

【００１７】前記基準マークが、偏光板貼り合わせ精度
の検査用のスケールであり、互いに固定された前記両基
板にそれぞれ偏光板を貼り付ける工程を含んでいてもよ
い。このような構成によると、基準マークが光遮蔽層に
覆われているため、表示部側に光漏れが生じず表示品質
がよい。そして、この基準マークが表示部の透明電極ま
たはカラーフィルタと同時に同じ材質で形成するので、
製造工程が簡単である。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明の第１の実施形態について
図１〜６を参照して説明する。

【００１９】本実施形態の液晶表示素子は、図１に示す
ように、ガラス等の透明な材料からなる透明基板１，２
が対向的に配設された状態で両者の間隙に液晶３が封入
されている。具体的には、透明基板１の内側の面に透明
電極４とカラーフィルタ５と配向膜６とが設けられて、
カラーフィルタ基板が構成されている。一方、透明基板
２の内側の面には、駆動素子（ＴＦＴを含むアクティブ
素子）７と配向膜８とが設けられてＴＦＴ基板が構成さ
れている。さらに、両基板１，２の外面には偏光板９，
１０がそれぞれ配設されている。また、カラーフィルタ
基板の表示可能部分の外周等には光漏れによる表示品質
劣化を防止するため、ブラックストライプと呼ばれる光
遮弊層１１が形成されている。さらに、本実施形態にお
いては、透明基板１に、透明電極４と同時に同じ材質
（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）により基準マーク１２が
形成されている。透明基板２には、基準マーク１２と対
向可能な位置に基準マーク１３が設けられている。

【００２０】なお、詳細には示していないが、カラーフ
ィルタ５は、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の３種の色層か
らなり、各色の小点が多数マトリクス状に並んだもので
ある。また、駆動素子７は、互いに交差する多数の縦横
のストライプ状電極が設けられ、その交点にそれぞれＴ
ＦＴ（Thin Film Transistor）が配設されたものであ
る。

【００２１】この透明基板１，２が、所定の間隔をおい
て対向的に配置され、その間隙に液晶３が注入され、基
板１，２の外周近傍に形成されているシール材２０によ
り封止されている。液晶３は、ラビング等の配向処理が
施された配向膜６，８により配向されている。そして、
偏光板９，１０は、各々の配光軸が所定の方向を向くよ
うにそれぞれ配置されている。

【００２２】表示時には、所望の個所に部分的に電位が
加わるように駆動素子７が駆動され、駆動素子７と透明
電極４との間に電圧が加わると、これらに挟まれる液晶
分子の姿勢が変化する。偏光板９，１０の偏光方向と液
晶分子の姿勢との組み合わせにより、光の透過が制御さ
れる。すなわち、電圧が加わっていないときには光が透
過せず、電圧が加わったときに図示しないバックライト
からの光が透過するように（またはその逆になるよう
に）制御することができる。駆動素子７を用いることに
より、任意の個所に電圧が加わるように制御でき、カラ
ーフィルタ５中のＲＧＢの色層に対応して電圧の加わる
部分を選択することにより表示色が定められる。こうし
て任意の個所を任意の色で表示することにより、絵や文
字や記号等のカラー画像が表示可能である。

【００２３】このように表示を行なう上で、駆動素子に
より選択される電圧印加部分がカラーフィルタの所望の
色層と対応していないと、所望のカラー表示が行なえな
い。従って、両基板１，２の相対位置精度を高めるため
に、両基板１，２の固定時には精緻な位置決め作業が行
われる。すなわち、両基板１，２にそれぞれ形成された
基準マーク１２，１３の重なり具合を確認し、図２に示
すように両基準マーク１２，１３が適切な位置関係にな
るように両基板１，２をずらしながら調整する。なお、
光遮蔽層１１が設けられているためにカラーフィルタ基
板（基板１）側からは視認できないので、ＴＦＴ基板
（基板２）側から観察しながら前記した位置決め作業が
行なわれる。一方の基準マーク１２は、透明電極４と同
様にＩＴＯからなるため、黒い光遮蔽層１１上に透明な
基準マーク１２が見えることになるが、人間の目に入っ
てくる光の干渉効果がＩＴＯと光遮蔽膜の材質（クロム
または樹脂など）とでは異なるため、基準マーク１２を
識別できる。

【００２４】次に、この液晶表示素子の製造方法につい
て説明する。

【００２５】まず、カラーフィルタ基板の製造方法につ
いて、図６のフローチャートに沿って説明すると、ガラ
ス等の透明基板１を洗浄した後、クロムまたは黒色の樹
脂からなる層１１ａを、スパッタリング等で基板１の全
面に成膜する（ステップ１０１：図３（ａ）参照）。続
いて、この層１１ａをフォトリソグラフィ技術によりパ
ターニングし、光遮蔽層１１を形成する（ステップ１０
２：図３（ｂ）参照）。そして光遮蔽層１１が設けられ
た基板１上の全面に色層膜を塗布する（ステップ１０
３）。その後、形成された色層膜をパターニングして、
各色のドット状パターンがが並んだカラーフィルタ５の
要素であるドット状パターンが形成される（ステップ１
０４）。図示の例では、まず赤色の色層膜Ｒを形成し
（図３（ｃ）参照）、これをパターニングして、カラー
フィルターの一要素である赤色のドット状パターンを形
成する。続いて、緑色の色層膜Ｇを形成し、これをパタ
ーニングして緑色のドット状パターンを形成する。そし
て、青色の色層膜Ｂを形成し、これをパターニングして
青色のドット状パターンを形成する。こうしてカラーフ
ィルタを完成させる（図３（ｄ）参照）。

【００２６】その後、ＩＴＯからなる透明電極膜４ａを
基板１の全面に成膜する（ステップ１０５：図３（ｅ）
参照）。この透明電極膜４ａをパターニングし、液晶３
の駆動に用いられる透明電極４と基準マーク１２とを形
成する（ステップ１０６：図３（ｆ）参照）。さらに、
この基板１の表示部に配向膜６が形成され、ラビング等
の配向処理が施される（ステップ１０７：図３（ｇ）参
照）。以上の工程によりカラーフィルタ基板が完成す
る。

【００２７】次にＴＦＴ基板の製造工程について説明す
る。ガラス等の透明基板２を洗浄した後、詳述しないが
ＴＦＴを含む駆動素子７を形成する（ステップ１０８：
図４（ａ）参照）。続いて、この基板２の表示部外に基
準マーク１３を形成し（ステップ１０９：図４（ｂ）参
照）、表示部内に配向膜８を形成してラビング等の配向
処理を施す（ステップ１１０：図４（ｃ）参照）。以上
の工程によりＴＦＴ基板が完成する。

【００２８】カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板とが完成
すると、両基板１，２を所定の間隔で配向膜６，８同士
が対向するように配置し、前記した通り基準マーク１
２，１３を重ね合わせて適切な位置関係となるように光
学的に位置合わせを行う（ステップ１１１：図５（ａ）
参照）。そして、位置合わせ終了後、両基板１，２の外
周部をスペーサを兼ねたシール材２０で接着する（ステ
ップ１１２：図５（ｂ）参照）。そして、図示しない液
晶注入口から液晶３を２枚の基板１，２間に注入し、そ
の後で液晶注入口を封止する（ステップ１１３：図５
（ｃ）参照）。そして、両基板1，２の外側に偏光板
９，１０をそれぞれ貼り付ける（ステップ１１４：図１
参照）。この時、各偏光板９，１０の配光軸が所望の方
向となるように配置した状態で貼り付けてある。例え
ば、両偏光板９，１０の配光軸が互いに直交するように
配置することがある。

【００２９】従来はブラックマトリクス等の光遮蔽層を
切り欠くことにより透明パターンの基準マークを形成す
る場合があったが、本実施形態の基準マーク１２は、透
明電極４と同時にＩＴＯにより形成したものであり、光
遮蔽層１１に覆われて表側に光漏れを生じるおそれはな
い。また、光学異方性を利用した光遮蔽処理を行なうた
めに基準マークを偏光板間に設ける必要がなく、表示部
の外側の縁部が小型化されている液晶表示素子にも対応
可能である。また、従来より透明でない基準マークを形
成する構成もあったが、その場合、基準マーク形成工程
が必要となり製造工程の複雑さを招いていた。しかし、
本実施形態では、透明電極４の形成と同時に基準マーク
１２を形成しているため、特に製造工程が複雑になるこ
とはない。

【００３０】次に、本発明の第２の実施形態を図７，８
を参照して説明する。なお、第１の実施形態と同一の構
成については同一の符号を付与し説明を省略する。

【００３１】本実施形態では、図７に示すように、透明
電極４ではなくカラーフィルタ５と同時に同材質で基準
マーク１４がパターン形成されている。ここでは、カラ
ーフィルタ５のうちの赤色の色層膜Ｒにより基準マーク
１４を形成している。その製造方法は、図８に示すよう
に、ＩＴＯのパターニング時に透明電極４のみを形成し
（ステップ１２１）、色層膜のパターニング時にカラー
フィルタ５としてのドットパターンの他に基準マーク１
４も同時に形成する（ステップ１２０）という点のみ前
記第１の実施形態と異なっている。

【００３２】本実施形態によると、光遮蔽層１１上で赤
色の基準マーク１４が明確に判別でき視認し易いので、
位置合わせ作業が簡単である。もちろん、赤色の色層膜
Ｒに限らず、緑色の色層膜Ｇや青色の色層膜Ｂにより基
準マークを形成する構成とすることもできる。

【００３３】続いて、本発明の第３の実施形態につい
て、図９を参照して説明する。なお、第１の実施形態と
同一の構成については同一の符号を付与し説明を省略す
る。

【００３４】本実施形態では、基準マーク１５，１６と
して図９に示す偏光板貼り合わせ精度の検査用のスケー
ルを用いた構成である。具体的には、所定の位置に偏光
板９，１０が貼り付けられた場合に、偏光板９，１０の
コーナーのＸ方向の延長線が位置する部分がスケールの
基準点（０点）となり、この基準点を中心としてＹ方向
に数個の目盛りが設けられた基準マーク１５と、偏光板
９，１０のコーナー部のＹ方向の延長線が位置する部分
がスケールの基準点（０点）となり、この基準点を中心
としてＸ方向に数個の目盛りが設けられた基準マーク１
６とが設けられている。

【００３５】この基準マーク１５，１６は、両基板１，
２の位置合わせに利用されるだけでなく、偏光板９，１
０の貼着時の位置合わせに利用でき、さらに液晶表示素
子完成後に、偏光板９，１０のコーナー部の延長線が到
達する位置の目盛りを読み取ることにより偏光板９，１
０の貼り合わせ精度（位置ずれ量）を知ることができ
る。

【００３６】本実施形態では、カラーフィルタ基板（基
板１）側の基準マーク１５は、第１の実施形態と同様
に、ＩＴＯにより透明電極４と同時に形成されている。
しかしこれに限定されるものではなく、第２の実施形態
と同様に、色層膜によりカラーフィルタ５と同時に形成
されていてもよい。

【００３７】なお、偏光板９，１０を貼り付ける工程
は、液晶表示素子を最終的な外形に切断する工程の後に
実施される場合が多いため、基準マーク１５，１６は液
晶表示素子の最終外形の内部に設ける必要がある。

【００３８】本発明の第４の実施形態について、図１
０，１１を参照して説明する。なお、第１の実施形態と
同一の構成については同一の符号を付与し説明を省略す
る。

【００３９】本実施形態においては、透明基板１上に透
明電極４やカラーフィルタ５や基準マーク１２を形成し
た後で、光遮蔽層１１を形成しているため、カラーフィ
ルタ基板の内面（ＴＦＴ基板と対向する面）側で、基準
マーク１２は光遮蔽層１１にに全面的に覆われている。
すなわちその製造方法は、図１１に示すように、第１の
実施形態と比較すると、色層膜成膜工程１０３、色層膜
パターニング工程１０４、ＩＴＯ成膜工程１０５、ＩＴ
Ｏパターニング工程１０６が終了した後で、光遮蔽膜成
膜工程（ステップ１２２）と光遮蔽膜パターニング工程
（ステップ１２３）とを行なうものである。

【００４０】

【発明の効果】本発明によると、基準マークが光遮蔽層
に覆われているため、偏光板が対向的に配設されなくて
も、表示部側に光漏れが生じず表示品質がよい。基準マ
ークの形成された部分を偏光板にて覆って光学異方性を
利用した光遮蔽処理を施す必要がないため、表示部の外
側の縁部が小型化されている液晶表示素子に特に効果的
である。そして、基準マークが表示部の透明電極または
カラーフィルタと同時に同じ材質で形成されているの
で、製造工程が煩雑になることがなく簡単である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態の液晶表示素子を示す
要部断面図である。

【図２】図１に示す液晶表示素子の一部拡大平面図であ
る。

【図３】図１に示す液晶表示素子のカラーフィルタ基板
の製造工程を示す要部断面図である。

【図４】図１に示す液晶表示素子のＴＦＴ基板の製造工
程を示す要部断面図である。

【図５】図１に示す液晶表示素子のカラーフィルタ基板
とＴＦＴ基板との接合工程を示す要部断面図である。

【図６】図１に示す液晶表示素子の製造方法を示すフロ
ーチャートである。

【図７】本発明の第２の実施形態の液晶表示素子を示す
要部断面図である。

【図８】図７に示す液晶表示素子の製造方法を示すフロ
ーチャートである。

【図９】本発明の第３の実施形態の液晶表示素子の一部
拡大平面図である。

【図１０】本発明の第４の実施形態の液晶表示素子を示
す要部断面図である。

【図１１】図１０に示す液晶表示素子の製造方法を示す
フローチャートである。

【図１２】第１の従来例の液晶表示素子を示す要部断面
図である。

【図１３】第２の従来例の液晶表示素子を示す要部断面
図である。

【符号の説明】

１，２基板３液晶４透明電極５カラーフィルタ６配向膜７駆動素子８配向膜９，１０偏光板１１光遮蔽層１２，１３基準マーク１４光遮蔽層０１５，１６基準マーク（スケール）Ｒ色層膜（赤）Ｇ色層膜（緑）Ｂ色層膜（青）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】対向的に配設される一対の基板の間隙に
液晶が封入され、前記一対の基板にそれぞれ位置合わせ
用の基準マークが設けられている液晶表示素子におい
て、一方の前記基板が、透明電極と、該透明電極と同じ材質
で形成された一方の前記基準マークと、一方の前記基準
マークを覆うように設けられている光遮蔽層とを有する
ことを特徴とする液晶表示素子。
【請求項２】対向的に配設される一対の基板の間隙に
液晶が封入され、前記一対の基板にそれぞれ位置合わせ
用の基準マークが設けられている液晶表示素子におい
て、一方の前記基板が、複数の色層膜からなるカラーフィル
タと、前記色層膜の少なくとも一つと同じ材質で形成さ
れた一方の前記基準マークと、一方の前記基準マークを
覆うように設けられている光遮蔽層とを有することを特
徴とする液晶表示素子。
【請求項３】前記基準マークが、偏光板貼り合わせ精
度の検査用のスケールである請求項１または２に記載の
液晶表示素子。
【請求項４】一方の基板に光遮蔽層を形成する工程
と、前記一方の基板に複数の色層膜からなるカラーフィルタ
を形成する工程と、前記一方の基板に透明電極と一方の基準マークとを同時
に同じ材質で形成する工程と、他方の基板に他方の基準マークを形成する工程と、前記一方の基板と前記他方の基板とを対向させた状態
で、前記一方の基準マークと前記他方の基準マークとの
位置関係を観察しながら、前記両基板を位置合わせする
工程と、位置合わせされた前記両基板を互いに固定するととも
に、前記両基板の間隙に液晶を封入する工程とを含む液
晶表示素子の製造方法。
【請求項５】一方の基板に光遮蔽層を形成する工程
と、前記一方の基板に複数の色層膜からなるカラーフィルタ
と、前記色層膜の少なくとも一つと同じ材質からなる一
方の基準マークとを同時に形成する工程と、前記一方の基板に透明電極を形成する工程と、他方の基板に他方の基準マークを形成する工程と、前記一方の基板と前記他方の基板とを対向させた状態
で、前記一方の基準マークと前記他方の基準マークとの
位置関係を観察しながら、前記両基板を位置合わせする
工程と、位置合わせされた前記両基板を互いに固定するととも
に、前記両基板の間隙に液晶を封入する工程とを含む液
晶表示素子の製造方法。
【請求項６】前記基準マークが、偏光板貼り合わせ精
度の検査用のスケールであり、互いに固定された前記両基板にそれぞれ偏光板を貼り付
ける工程を含む請求項４または５に記載の液晶表示素子
の製造方法。