JPH10148836A - 液晶パネル及びその製造方法 - Google Patents
液晶パネル及びその製造方法Info
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- JPH10148836A JPH10148836A JP30850496A JP30850496A JPH10148836A JP H10148836 A JPH10148836 A JP H10148836A JP 30850496 A JP30850496 A JP 30850496A JP 30850496 A JP30850496 A JP 30850496A JP H10148836 A JPH10148836 A JP H10148836A
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- crystal panel
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Abstract
(57)【要約】
【課題】液晶表示パネル及びその製造方法において、粒
子系スペーサを用いることなく、より簡便、且つ自由な
範囲で精度良くシール部の厚みを制御した安価で高品質
な液晶パネルを提供する。 【解決手段】シール部断面構造において、シール材が樹
脂の柱状構造物と隣接、好ましくは該柱状構造物を挟持
している構造を有する液晶表示パネルとし、更に柱状構
造物の樹脂をノボラック系、またはエポキシアクリレー
ト系とする。
子系スペーサを用いることなく、より簡便、且つ自由な
範囲で精度良くシール部の厚みを制御した安価で高品質
な液晶パネルを提供する。 【解決手段】シール部断面構造において、シール材が樹
脂の柱状構造物と隣接、好ましくは該柱状構造物を挟持
している構造を有する液晶表示パネルとし、更に柱状構
造物の樹脂をノボラック系、またはエポキシアクリレー
ト系とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、調光装置や表示装
置に広く用いられる液晶パネル、及びその製造方法に関
するものである。
置に広く用いられる液晶パネル、及びその製造方法に関
するものである。
【０００２】
【０００３】以下に、カラー液晶表示装置の中心となっ
ている薄膜トランジスタ型液晶表示装置（ＴＦＴ−ＬＣ
Ｄ）の製造工程の流れを簡単に説明する。
ている薄膜トランジスタ型液晶表示装置（ＴＦＴ−ＬＣ
Ｄ）の製造工程の流れを簡単に説明する。
【０００４】まず、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ（Ｃ
Ｆ）のそれぞれに配向膜を形成する。配向膜はそれぞれ
の基板を洗浄した後、通常、フレキソ印刷工程とそれに
続く硬化工程により基板上にポリイミド等の高分子膜を
作製し、その膜をレーヨン等の布で一方向に擦るいわゆ
るラビング処理することで形成を終了する。
Ｆ）のそれぞれに配向膜を形成する。配向膜はそれぞれ
の基板を洗浄した後、通常、フレキソ印刷工程とそれに
続く硬化工程により基板上にポリイミド等の高分子膜を
作製し、その膜をレーヨン等の布で一方向に擦るいわゆ
るラビング処理することで形成を終了する。
【０００５】そして更に、それぞれの基板を洗浄した
後、どちらか一方の基板には、シール材にガラスファイ
バー等のスペーサを、所定の分量で均一に混ぜたもの
を、所定のパターンで塗布する。
後、どちらか一方の基板には、シール材にガラスファイ
バー等のスペーサを、所定の分量で均一に混ぜたもの
を、所定のパターンで塗布する。
【０００６】シール材パターンは液晶注入口を形成した
矩形で、且つ同じ幅のパターン枠を、スクリーン印刷法
で形成する。
矩形で、且つ同じ幅のパターン枠を、スクリーン印刷法
で形成する。
【０００７】そして、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板
を貼り合わせる。貼り合わせ工程は、ＴＦＴ基板とカラ
ーフィルタ基板を、アライメントマークを利用して精度
良く貼り合わせた後、加圧焼成することで、基板間のギ
ャップを保持した状態でシール材を硬化させる工程であ
る。
を貼り合わせる。貼り合わせ工程は、ＴＦＴ基板とカラ
ーフィルタ基板を、アライメントマークを利用して精度
良く貼り合わせた後、加圧焼成することで、基板間のギ
ャップを保持した状態でシール材を硬化させる工程であ
る。
【０００８】それに続く、液晶注入工程は、出来上がっ
た空パネルに液晶を真空注入法で注入した後、注入口を
接着剤で封口し、液晶パネルを完成させる工程である。
た空パネルに液晶を真空注入法で注入した後、注入口を
接着剤で封口し、液晶パネルを完成させる工程である。
【０００９】真空注入は、まず注入槽を１０-3Ｔorr程
度の真空状態してから、槽内に設置した液晶溜に空パネ
ルを浸漬させて、槽内を徐々にリークさせて、空パネル
に液晶を注入する方法で、原理は圧力差による毛細管現
象の利用である。
度の真空状態してから、槽内に設置した液晶溜に空パネ
ルを浸漬させて、槽内を徐々にリークさせて、空パネル
に液晶を注入する方法で、原理は圧力差による毛細管現
象の利用である。
【００１０】また、注入口の封口は、ＵＶ硬化樹脂を注
入口に塗布し、その部分にＵＶ照射して硬化させて行っ
ている。
入口に塗布し、その部分にＵＶ照射して硬化させて行っ
ている。
【００１１】以上の工程の流れがＴＦＴ−ＬＣＤの製造
工程であり、カラー液晶表示パネルの一般的な製造方法
である。
工程であり、カラー液晶表示パネルの一般的な製造方法
である。
【００１２】その工程の中で、シール材を介しての貼り
合わせは、シール材に所定の粒径を有するガラスファイ
バー、ガラスビーズもしくはプラスチックビーズからな
る粒子系スペーサを所定の分量混ぜたものを、上下どち
らか一方の基板に塗布形成し、上下基板を圧着焼成する
ことで、液晶パネルが一定の厚みを有するように貼り合
わせるものである。
合わせは、シール材に所定の粒径を有するガラスファイ
バー、ガラスビーズもしくはプラスチックビーズからな
る粒子系スペーサを所定の分量混ぜたものを、上下どち
らか一方の基板に塗布形成し、上下基板を圧着焼成する
ことで、液晶パネルが一定の厚みを有するように貼り合
わせるものである。
【００１３】ところで、前記粒子系スペーサを分散させ
たシール材を所定のパターンで形成する場合、粒子系ス
ペーサは比較的高価であり、また市販されているスペー
サの粒径種類には限りが有り、市販スペーサの粒径を考
慮して、液晶パネルの厚みを設計する必要があること
や、更にまた、そのスペーサをシール材中に十分に分散
させないと液晶パネルが均一の厚みを確保出来ず表示ム
ラとなり、そして、その分散においては空気が混入する
ことから、分散後、数時間静置して脱泡させる必要があ
る等の問題点があった。
たシール材を所定のパターンで形成する場合、粒子系ス
ペーサは比較的高価であり、また市販されているスペー
サの粒径種類には限りが有り、市販スペーサの粒径を考
慮して、液晶パネルの厚みを設計する必要があること
や、更にまた、そのスペーサをシール材中に十分に分散
させないと液晶パネルが均一の厚みを確保出来ず表示ム
ラとなり、そして、その分散においては空気が混入する
ことから、分散後、数時間静置して脱泡させる必要があ
る等の問題点があった。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記課題を
鑑みなされたもので、高価なガラスファイバー等の粒子
系スペーサを用いず、簡便、且つ使用する液晶の特性や
駆動方法に応じて自由な範囲で設計された厚みを精度良
く有する、安価で高品質な液晶パネル及びその製造方法
を提供することである。
鑑みなされたもので、高価なガラスファイバー等の粒子
系スペーサを用いず、簡便、且つ使用する液晶の特性や
駆動方法に応じて自由な範囲で設計された厚みを精度良
く有する、安価で高品質な液晶パネル及びその製造方法
を提供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を達
成するため、まず請求項１においては、液晶パネルの周
辺のシール部断面構造において、シール材と、樹脂の柱
状構造物が隣接して設置されていることを特徴とする液
晶パネル、としたものである。
成するため、まず請求項１においては、液晶パネルの周
辺のシール部断面構造において、シール材と、樹脂の柱
状構造物が隣接して設置されていることを特徴とする液
晶パネル、としたものである。
【００１６】また、請求項２においては、液晶パネルの
周辺のシール部断面構造において、シール材と、樹脂の
柱状構造物が、隣接して設置されており、該シール材が
該樹脂の柱状構造物を、液晶層側及び空気と接する外部
側から挟持していることを特徴とする液晶パネル、とし
たものである。
周辺のシール部断面構造において、シール材と、樹脂の
柱状構造物が、隣接して設置されており、該シール材が
該樹脂の柱状構造物を、液晶層側及び空気と接する外部
側から挟持していることを特徴とする液晶パネル、とし
たものである。
【００１７】また、請求項３においては、前記樹脂の柱
状構造物を、シール材を塗布形成しない方の基板に形成
し、十分に硬化させた後、シール材を塗布した方の基板
と貼り合わせることを特徴とする請求項１または２記載
の液晶パネルの製造方法、としたものである。
状構造物を、シール材を塗布形成しない方の基板に形成
し、十分に硬化させた後、シール材を塗布した方の基板
と貼り合わせることを特徴とする請求項１または２記載
の液晶パネルの製造方法、としたものである。
【００１８】また、請求項４においては、前記樹脂の柱
状構造物が、厚さ１内至１０μｍであり、幅０．０５内
至０．１ｍｍであることを特徴とする請求項１または２
記載の液晶パネル、としたものである。
状構造物が、厚さ１内至１０μｍであり、幅０．０５内
至０．１ｍｍであることを特徴とする請求項１または２
記載の液晶パネル、としたものである。
【００１９】さらにまた、請求項５においては、前記樹
脂が、ノボラック系樹脂、又はエポキシアクリレート系
樹脂であることを特徴とする前記請求項１または２記載
の液晶パネル、としたものである。
脂が、ノボラック系樹脂、又はエポキシアクリレート系
樹脂であることを特徴とする前記請求項１または２記載
の液晶パネル、としたものである。
【００２０】即ち、本発明は液晶パネル用の上下基板の
どちらか一方に樹脂による所定のパターンの柱状構造物
を形成し、十分に硬化させてスペーサとし、シール材を
所定のパターンで別の一方の基板に塗布形成し、それぞ
れの基板を互いに貼り合わせることで、液晶パネルのシ
ール部断面構造において、シール材と樹脂の柱状構造物
からなるスペーサが隣接する構造を有し、好ましくはシ
ール材が樹脂の柱状構造物を液晶パネル内外より挟持し
ている構造を有する液晶パネルである。
どちらか一方に樹脂による所定のパターンの柱状構造物
を形成し、十分に硬化させてスペーサとし、シール材を
所定のパターンで別の一方の基板に塗布形成し、それぞ
れの基板を互いに貼り合わせることで、液晶パネルのシ
ール部断面構造において、シール材と樹脂の柱状構造物
からなるスペーサが隣接する構造を有し、好ましくはシ
ール材が樹脂の柱状構造物を液晶パネル内外より挟持し
ている構造を有する液晶パネルである。
【００２１】そして更に、スペーサとなる樹脂の柱状構
造物が、液晶に対して不活性であり、不純物イオン等の
溶出により液晶の絶縁性を低下させるおそれの少ない、
ノボラック系樹脂、又はエポキシアクリレート系樹脂で
ある様な液晶パネルである。
造物が、液晶に対して不活性であり、不純物イオン等の
溶出により液晶の絶縁性を低下させるおそれの少ない、
ノボラック系樹脂、又はエポキシアクリレート系樹脂で
ある様な液晶パネルである。
【００２２】
【発明の実施の形態】液晶パネルの場合、前記従来の技
術の様に、上下それぞれの基板（薄膜トランジスタ型液
晶表示装置ＴＦＴ−ＬＣＤの場合、上基板：カラーフィ
ルタ，下基板：ＴＦＴ基板）にポリイミド等の高分子配
向膜を塗布して、それをレーヨン等の繊維の布で一方向
に擦るラビング処理をするという配向処理工程と、上下
基板を粒子系スペーサを分散させたシール材を介して貼
り合わせる工程と、出来た空パネルに液晶を注入し封口
する工程によって作製される。
術の様に、上下それぞれの基板（薄膜トランジスタ型液
晶表示装置ＴＦＴ−ＬＣＤの場合、上基板：カラーフィ
ルタ，下基板：ＴＦＴ基板）にポリイミド等の高分子配
向膜を塗布して、それをレーヨン等の繊維の布で一方向
に擦るラビング処理をするという配向処理工程と、上下
基板を粒子系スペーサを分散させたシール材を介して貼
り合わせる工程と、出来た空パネルに液晶を注入し封口
する工程によって作製される。
【００２３】本発明の場合、前記貼り合わせ工程におい
て、粒子系スペーサを用いるのではなく、樹脂の柱状構
造物１０をパターン形成し硬化させたものを用いること
から、市販の粒子系スペーサでは、その粒径の種類によ
り制限されていたパネルの厚みの制御がより簡便に出来
る。
て、粒子系スペーサを用いるのではなく、樹脂の柱状構
造物１０をパターン形成し硬化させたものを用いること
から、市販の粒子系スペーサでは、その粒径の種類によ
り制限されていたパネルの厚みの制御がより簡便に出来
る。
【００２４】更に、この樹脂の柱状構造物１０をフォト
レジストとした場合には、フォトファブリケーションプ
ロセスによって、より精度良く所定の幅の柱状構造物が
形成出来る。
レジストとした場合には、フォトファブリケーションプ
ロセスによって、より精度良く所定の幅の柱状構造物が
形成出来る。
【００２５】尚、柱状構造物１０の幅は、シール材１１
の幅よりも小さく、且つ十分にスペーサとしての役割を
果たすことが必要であり、０．０５〜０．１ｍｍ程度が
好ましい。
の幅よりも小さく、且つ十分にスペーサとしての役割を
果たすことが必要であり、０．０５〜０．１ｍｍ程度が
好ましい。
【００２６】更にまた、使用するフォトレジストの樹脂
分量や、スピンコート法の回転数等の塗布条件により、
柱状構造物１０の厚さは自由な範囲で制御出来る。
分量や、スピンコート法の回転数等の塗布条件により、
柱状構造物１０の厚さは自由な範囲で制御出来る。
【００２７】尚、柱状構造物１０の厚さは、通常のＴＦ
Ｔ−ＬＣＤや強誘電性ＬＣＤ用のパネルの厚さを考慮し
て１〜１０μｍ程度が好ましい。
Ｔ−ＬＣＤや強誘電性ＬＣＤ用のパネルの厚さを考慮し
て１〜１０μｍ程度が好ましい。
【００２８】以上、本発明によれば、安価で高品質のカ
ラー液晶表示パネルが実現出来る。
ラー液晶表示パネルが実現出来る。
【００２９】尚、本発明による樹脂による構造物１０を
形成する為に用いるフォトレジストとしては、不純物イ
オン等が溶出して液晶層６を汚染せず、電圧保持率が常
温で９９％以上となるものが必要であり、樹脂として好
適なものは、ノボラック系樹脂（例えばシプレイ社製の
ポジ型フォトレジストＭＰ１４００；硬化温度１７０
℃）や、エポキシアクリレート系樹脂（例えば奥野製薬
工業社製のネガ型フォトレジストＴＬＣ−２５５１；硬
化温度２２０℃）がある。
形成する為に用いるフォトレジストとしては、不純物イ
オン等が溶出して液晶層６を汚染せず、電圧保持率が常
温で９９％以上となるものが必要であり、樹脂として好
適なものは、ノボラック系樹脂（例えばシプレイ社製の
ポジ型フォトレジストＭＰ１４００；硬化温度１７０
℃）や、エポキシアクリレート系樹脂（例えば奥野製薬
工業社製のネガ型フォトレジストＴＬＣ−２５５１；硬
化温度２２０℃）がある。
【００３０】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【００３１】まず、ＴＦＴ基板８と、カラーフィルタ基
板（顔料分散タイプ）を用意し、それらをアセトン、エ
タノール、純水の順でそれぞれ数分間浸漬させながら超
音波洗浄した。
板（顔料分散タイプ）を用意し、それらをアセトン、エ
タノール、純水の順でそれぞれ数分間浸漬させながら超
音波洗浄した。
【００３２】次に、それらの基板１，８上にポリイミド
膜（日立化成社製ＬＱ−Ｔ１２０）を０．１μｍの厚さ
で形成した。
膜（日立化成社製ＬＱ−Ｔ１２０）を０．１μｍの厚さ
で形成した。
【００３３】続いて、それぞれ所定の方向にラビングを
施して、それぞれの基板１，８に配向膜５を形成した。
施して、それぞれの基板１，８に配向膜５を形成した。
【００３４】次に、先の洗浄と同様な洗浄を行い、ＴＦ
Ｔ基板８上に、シール材１１（三井東圧化学社製ストラ
クトボンドＸＮ−２１−Ｓ）を、所定の版パターンを用
いてスクリーン印刷法により、塗布形成（幅０．３ｍ
ｍ）し、一方、カラーフィルタ基板１上にフォトレジス
ト（奥野製薬工業社製ＴＬＣ−２５５１）をスピンコー
ト法で塗布し、所定のマスクを用いて露光して現像し、
焼成硬化させることで、シール材１１のパターンと同じ
パターン形状で幅が約１／３の０．１ｍｍで、厚さが
４．５μｍのレジスト樹脂よりなる柱状構造物１０を形
成した。
Ｔ基板８上に、シール材１１（三井東圧化学社製ストラ
クトボンドＸＮ−２１−Ｓ）を、所定の版パターンを用
いてスクリーン印刷法により、塗布形成（幅０．３ｍ
ｍ）し、一方、カラーフィルタ基板１上にフォトレジス
ト（奥野製薬工業社製ＴＬＣ−２５５１）をスピンコー
ト法で塗布し、所定のマスクを用いて露光して現像し、
焼成硬化させることで、シール材１１のパターンと同じ
パターン形状で幅が約１／３の０．１ｍｍで、厚さが
４．５μｍのレジスト樹脂よりなる柱状構造物１０を形
成した。
【００３５】そして、カラーフィルタ基板１とＴＦＴ基
板８とを位置合わせして重ね合わせ、所定の治具を用い
て加圧しながら２２０℃のオーブンで１時間焼成した。
板８とを位置合わせして重ね合わせ、所定の治具を用い
て加圧しながら２２０℃のオーブンで１時間焼成した。
【００３６】その結果、樹脂の柱状構造物１０がシール
材１１の中に圧入されて、柱状構造物をシール材が挟持
する様な断面構造を有するシール部２が得られた（図面
１，２参照）。
材１１の中に圧入されて、柱状構造物をシール材が挟持
する様な断面構造を有するシール部２が得られた（図面
１，２参照）。
【００３７】そして徐冷後、出来た空パネルを取り出
し、液晶（メルク社製ＺＬＩ−４７９２）を真空注入し
た後、注入口を封止剤（ニッポデンキ社製ＤＮＭ−２１
１０）で封口して、厚さ４．５μｍで均一に制御され、
表示ムラのない良好なカラー液晶パネルを完成させた。
し、液晶（メルク社製ＺＬＩ−４７９２）を真空注入し
た後、注入口を封止剤（ニッポデンキ社製ＤＮＭ−２１
１０）で封口して、厚さ４．５μｍで均一に制御され、
表示ムラのない良好なカラー液晶パネルを完成させた。
【００３８】
【発明の効果】以上述べた様に、樹脂による所定のパタ
ーンの柱状構造物を形成し硬化させてスペーサとした基
板と、シール材を所定のパターンで塗布形成した基板
を、それぞれ互いに貼り合わせることで、液晶パネル周
辺シール部断面構造において、シール材と樹脂の柱状構
造物からなるスペーサが、隣接して設置され、好ましく
はシール材が樹脂の柱状構造物を、液晶層側及び空気と
接する外部側より挟持している構造を有する液晶パネル
とすることで、粒子系スペーサを用いることなく、簡
便、且つ自由な範囲で液晶パネルの厚みの制御を精度良
く行うことを可能にした安価で高品質な液晶パネルを提
供することが出来る。また、スペーサとなる樹脂を、ノ
ボラック系樹脂、又はエポキシアクリレート系樹脂とす
ることで、不純物イオン等の溶出による液晶層の絶縁性
の低下をなくすことが出来る。
ーンの柱状構造物を形成し硬化させてスペーサとした基
板と、シール材を所定のパターンで塗布形成した基板
を、それぞれ互いに貼り合わせることで、液晶パネル周
辺シール部断面構造において、シール材と樹脂の柱状構
造物からなるスペーサが、隣接して設置され、好ましく
はシール材が樹脂の柱状構造物を、液晶層側及び空気と
接する外部側より挟持している構造を有する液晶パネル
とすることで、粒子系スペーサを用いることなく、簡
便、且つ自由な範囲で液晶パネルの厚みの制御を精度良
く行うことを可能にした安価で高品質な液晶パネルを提
供することが出来る。また、スペーサとなる樹脂を、ノ
ボラック系樹脂、又はエポキシアクリレート系樹脂とす
ることで、不純物イオン等の溶出による液晶層の絶縁性
の低下をなくすことが出来る。
【図１】本発明の表面構造を示す説明図。
【図２】本発明の断面構造を示す説明図。
【図３】シール部の拡大断面図。
１‥‥カラーフィルタ基板 ２‥‥シール部 ３‥‥液晶注入口 ４‥‥カラーフィルタ基板電極 ５‥‥配向膜 ６‥‥液晶層 ７‥‥ＴＦＴ基板電極 ８‥‥ＴＦＴ基板 １０‥‥樹脂の柱状構造物 １１‥‥シール材
Claims (5)
- 【請求項１】液晶パネルの周辺のシール部断面構造にお
いて、シール材と、樹脂の柱状構造物が隣接して設置さ
れていることを特徴とする液晶パネル。 - 【請求項２】液晶パネルの周辺のシール部断面構造にお
いて、シール材と、樹脂の柱状構造物が、隣接して設置
されており、該シール材が該樹脂の柱状構造物を、液晶
層側及び空気と接する外部側から挟持していることを特
徴とする液晶パネル。 - 【請求項３】前記樹脂の柱状構造物を、シール材を塗布
形成しない方の基板に形成し、十分に硬化させた後、シ
ール材を塗布した方の基板と貼り合わせることを特徴と
する請求項１または２記載の液晶パネルの製造方法。 - 【請求項４】前記樹脂の柱状構造物が、厚さ１内至１０
μｍであり、幅０．０５内至０．１ｍｍであることを特
徴とする請求項１または２記載の液晶パネル。 - 【請求項５】前記樹脂が、ノボラック系樹脂、又はエポ
キシアクリレート系樹脂であることを特徴とする前記請
求項１または２記載の液晶パネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30850496A JP3646439B2 (ja) | 1996-11-19 | 1996-11-19 | 液晶パネル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30850496A JP3646439B2 (ja) | 1996-11-19 | 1996-11-19 | 液晶パネル及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10148836A true JPH10148836A (ja) | 1998-06-02 |
| JP3646439B2 JP3646439B2 (ja) | 2005-05-11 |
Family
ID=17981823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30850496A Expired - Fee Related JP3646439B2 (ja) | 1996-11-19 | 1996-11-19 | 液晶パネル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3646439B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002040442A (ja) * | 2000-07-19 | 2002-02-06 | Nec Corp | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
| JP2002357834A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
| US6636192B1 (en) | 1999-01-28 | 2003-10-21 | Seiko Epson Corporation | Electrooptic panel, projection display, and method for manufacturing electrooptic panel |
| US6778248B1 (en) | 1999-05-19 | 2004-08-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Flat display apparatus and method of manufacturing the same |
| CN110687725A (zh) * | 2019-10-23 | 2020-01-14 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种液晶显示面板及其制备方法 |
-
1996
- 1996-11-19 JP JP30850496A patent/JP3646439B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP4609679B2 (ja) * | 2000-07-19 | 2011-01-12 | 日本電気株式会社 | 液晶表示装置 |
| JP2002357834A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
| CN110687725A (zh) * | 2019-10-23 | 2020-01-14 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种液晶显示面板及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3646439B2 (ja) | 2005-05-11 |
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