JP2001051283A - 液晶表示装置のパネル素形材 - Google Patents
液晶表示装置のパネル素形材Info
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- JP2001051283A JP2001051283A JP11224189A JP22418999A JP2001051283A JP 2001051283 A JP2001051283 A JP 2001051283A JP 11224189 A JP11224189 A JP 11224189A JP 22418999 A JP22418999 A JP 22418999A JP 2001051283 A JP2001051283 A JP 2001051283A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 液晶表示装置として使用される領域とそれの
外側の領域の基板間隔を等しくすることにより、シール
材近傍で発生する歪みを緩和し、液晶表示装置の基板間
隔を均一にすることにより良好な表示特性を有する液晶
表示装置を製造するためのパネル素形材を提供する。 【解決手段】 電極基板１上にシール材８により囲まれ
た液晶表示を行なうための表示領域６と、電極基板と対
向基板２とを重ね合わせたのち、切断して廃棄される、
シール材により囲まれた領域の外側である表示領域外と
が存在し、二枚の基板を重ね合わせたとき、表示領域と
表示領域外の基板間隔が等しくなるように、表示領域外
に基板間隔を補正する手段を備えており、手段が、電極
基板および対向基板にそれぞれ形成される補正用膜１
０，１１と両補正用膜に挟持されるスペーサ７とからな
る。
外側の領域の基板間隔を等しくすることにより、シール
材近傍で発生する歪みを緩和し、液晶表示装置の基板間
隔を均一にすることにより良好な表示特性を有する液晶
表示装置を製造するためのパネル素形材を提供する。 【解決手段】 電極基板１上にシール材８により囲まれ
た液晶表示を行なうための表示領域６と、電極基板と対
向基板２とを重ね合わせたのち、切断して廃棄される、
シール材により囲まれた領域の外側である表示領域外と
が存在し、二枚の基板を重ね合わせたとき、表示領域と
表示領域外の基板間隔が等しくなるように、表示領域外
に基板間隔を補正する手段を備えており、手段が、電極
基板および対向基板にそれぞれ形成される補正用膜１
０，１１と両補正用膜に挟持されるスペーサ７とからな
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置のパネ
ル素形材に関する。さらに詳しくは、表示画面周辺部の
セルギャップの膨らみを抑制し、輝度ムラのない、良好
な表示特性を有する液晶表示装置を製造するためのパネ
ル素形材に関する。
ル素形材に関する。さらに詳しくは、表示画面周辺部の
セルギャップの膨らみを抑制し、輝度ムラのない、良好
な表示特性を有する液晶表示装置を製造するためのパネ
ル素形材に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は薄型、軽量、低消費電力
などの特長を有するため、腕時計、電卓などの表示装置
として広く用いられている。とくに薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）などによりアクティブ駆動を行なう液晶表示
装置は、ワードプロセッサまたはパーソナルコンピュー
タなどの表示装置であるＣＲＴに置き換わりつつあり、
これに伴いさらなる表示特性の改善が求められている。
などの特長を有するため、腕時計、電卓などの表示装置
として広く用いられている。とくに薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）などによりアクティブ駆動を行なう液晶表示
装置は、ワードプロセッサまたはパーソナルコンピュー
タなどの表示装置であるＣＲＴに置き換わりつつあり、
これに伴いさらなる表示特性の改善が求められている。
【０００３】液晶表示装置の製造方法を以下に簡単に説
明する。
明する。
【０００４】基板として、ガラスなどの透明絶縁性基板
上にＴＦＴや液晶を駆動するための電極が形成されてい
る電極基板および色表示を行なうための色材層が形成さ
れている対向基板を用いる。どちらか一方の基板上に基
板間隔を一定に保つためのスペーサを散布する。つい
で、どちらか一方の基板の所定の位置に２枚の基板を接
着するとともに、液晶注入領域を決定するためのシール
材を塗布したのち、これらの基板を画素が一致するよう
に重ね合わせる。図１２は切断する前の電極基板および
対向基板の平面図を示す。図１３は２つの基板を重ね合
わせたＸ−Ｘ線断面図である。図１２〜１３において、
５１は切断前の電極基板、５２は切断前の対向基板、５
３は電極基板側に形成された電極層、５４は表示領域、
５５は色表示を行なうための色材層、５６は液晶表示装
置として用いられる領域、５７はスペーサ、５８は液晶
注入領域を決定するシール材である。一般に、シール材
５８中には基板５１、５２の間隔を保持するためのスペ
ーサが混合されている。シール材５８が色材層５５上に
形成されると、色材層５５の密着力が弱いため基板５
１、５２が剥がれてしまう問題があるため、シール材５
８は色材層５５を避けて塗布される。
上にＴＦＴや液晶を駆動するための電極が形成されてい
る電極基板および色表示を行なうための色材層が形成さ
れている対向基板を用いる。どちらか一方の基板上に基
板間隔を一定に保つためのスペーサを散布する。つい
で、どちらか一方の基板の所定の位置に２枚の基板を接
着するとともに、液晶注入領域を決定するためのシール
材を塗布したのち、これらの基板を画素が一致するよう
に重ね合わせる。図１２は切断する前の電極基板および
対向基板の平面図を示す。図１３は２つの基板を重ね合
わせたＸ−Ｘ線断面図である。図１２〜１３において、
５１は切断前の電極基板、５２は切断前の対向基板、５
３は電極基板側に形成された電極層、５４は表示領域、
５５は色表示を行なうための色材層、５６は液晶表示装
置として用いられる領域、５７はスペーサ、５８は液晶
注入領域を決定するシール材である。一般に、シール材
５８中には基板５１、５２の間隔を保持するためのスペ
ーサが混合されている。シール材５８が色材層５５上に
形成されると、色材層５５の密着力が弱いため基板５
１、５２が剥がれてしまう問題があるため、シール材５
８は色材層５５を避けて塗布される。
【０００５】つぎに、ガラス基板全面にほぼ均一な圧力
を加えながらシール材５８を硬化し接着させる。ガラス
基板の電極基板５１と対向基板５２を所定の大きさに切
り出すためのスクライブラインを５９の矢印の位置に形
成したのち、圧力を加えガラスを切断し、ついで液晶注
入を行ない所定のプロセスを経ることにより液晶表示装
置が得られる。
を加えながらシール材５８を硬化し接着させる。ガラス
基板の電極基板５１と対向基板５２を所定の大きさに切
り出すためのスクライブラインを５９の矢印の位置に形
成したのち、圧力を加えガラスを切断し、ついで液晶注
入を行ない所定のプロセスを経ることにより液晶表示装
置が得られる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】図１３からわかるよう
に、電極基板５１上の液晶表示装置として使用する領域
５６にのみＴＦＴや配線が形成され、また対向基板５２
には通常カラー表示を行なうための色材層が形成されて
いる。
に、電極基板５１上の液晶表示装置として使用する領域
５６にのみＴＦＴや配線が形成され、また対向基板５２
には通常カラー表示を行なうための色材層が形成されて
いる。
【０００７】このように、液晶表示装置として切り出さ
れる部分には種々の薄膜が形成されているが、その他の
領域にはほとんど薄膜が形成されていないため、同一形
状のスペーサを散布した場合、熱圧着工程において、図
１４で模式的に示すように基板５１、５２が変形し、歪
みが生じる。このとき、シール材５８が硬化し二枚の基
板５１、５２が接着されるため、歪みが保持されたまま
になる。こののち、所定の大きさになるようにガラス切
断、液晶注入を行なうことにより、表示領域と表示領域
外の境界部分にあるシール材５８の周辺に歪みが集中
し、図１５に示されるようにシール材５８の近傍のセル
ギャップｄ１が表示領域中央部のセルギャップｄ２より
大きくなる。この結果、セルギャップの差に起因する輝
度ムラおよび応答速度の変化が生じて表示品位が低下す
る。
れる部分には種々の薄膜が形成されているが、その他の
領域にはほとんど薄膜が形成されていないため、同一形
状のスペーサを散布した場合、熱圧着工程において、図
１４で模式的に示すように基板５１、５２が変形し、歪
みが生じる。このとき、シール材５８が硬化し二枚の基
板５１、５２が接着されるため、歪みが保持されたまま
になる。こののち、所定の大きさになるようにガラス切
断、液晶注入を行なうことにより、表示領域と表示領域
外の境界部分にあるシール材５８の周辺に歪みが集中
し、図１５に示されるようにシール材５８の近傍のセル
ギャップｄ１が表示領域中央部のセルギャップｄ２より
大きくなる。この結果、セルギャップの差に起因する輝
度ムラおよび応答速度の変化が生じて表示品位が低下す
る。
【０００８】とくに、最近注目を集めている面内応答型
液晶表示装置に代表される複屈折モードを用いた液晶表
示装置はセルギャップの分布の影響を受けやすく、大き
な問題となっている。
液晶表示装置に代表される複屈折モードを用いた液晶表
示装置はセルギャップの分布の影響を受けやすく、大き
な問題となっている。
【０００９】一方、２枚の基板の間隔を均一にする技術
として、たとえば特開昭６４−１０２１６号公報などが
提案されているが、これは対向基板（ＣＦ）側にのみ基
板間隔補正用のパターンを形成している。しかし、アク
ティブマトリクス駆動を行なう場合、電極基板（ＴＦ
Ｔ）の表示領域とそれ以外の領域では層構造が異なるた
め、ＣＦ側にのみ基板間隔補正用のパターンを形成して
も均一な基板間隔を得ることができない。
として、たとえば特開昭６４−１０２１６号公報などが
提案されているが、これは対向基板（ＣＦ）側にのみ基
板間隔補正用のパターンを形成している。しかし、アク
ティブマトリクス駆動を行なう場合、電極基板（ＴＦ
Ｔ）の表示領域とそれ以外の領域では層構造が異なるた
め、ＣＦ側にのみ基板間隔補正用のパターンを形成して
も均一な基板間隔を得ることができない。
【００１０】本発明は、液晶表示装置として使用される
領域とそれの外側の領域の基板間隔を等しくすることに
より、シール材近傍で発生する歪みを緩和し、液晶表示
装置の基板間隔を均一にすることにより、良好な表示特
性を有する液晶表示装置を製造するためのパネル素形材
を提供することを目的とする。
領域とそれの外側の領域の基板間隔を等しくすることに
より、シール材近傍で発生する歪みを緩和し、液晶表示
装置の基板間隔を均一にすることにより、良好な表示特
性を有する液晶表示装置を製造するためのパネル素形材
を提供することを目的とする。
【００１１】ここで、基板間隔とは電極基板側のガラス
基板と対向基板側のガラス基板の間隔のことである。
基板と対向基板側のガラス基板の間隔のことである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置の
パネル素形材は、電極基板と対向基板とのあいだに配向
膜およびスペーサを介して液晶組成物を狭持し、前記二
枚の基板が液晶組成物の封入領域を決定するシール材に
より接着されており、前記電極基板上にマトリクス状に
配置された、複数の映像信号と走査信号線に囲まれたス
イッチング素子を有する画素部を形成したアクティブマ
トリクス型液晶表示装置を製造するためのパネル素形材
であって、前記電極基板上にシール材により囲まれた液
晶表示を行なうための表示領域と、該電極基板と対向基
板とを重ね合わせたのち、切断して廃棄される、シール
材により囲まれた領域の外側である表示領域外とが存在
し、前記二枚の基板を重ね合わせたとき、前記表示領域
と表示領域外の基板間隔が等しくなるように、表示領域
外に基板間隔を補正する手段を備えており、該手段が、
前記電極基板および対向基板にそれぞれ形成される補正
用膜と該両補正用膜に挟持されるスペーサとからなるこ
とを特徴とする。
パネル素形材は、電極基板と対向基板とのあいだに配向
膜およびスペーサを介して液晶組成物を狭持し、前記二
枚の基板が液晶組成物の封入領域を決定するシール材に
より接着されており、前記電極基板上にマトリクス状に
配置された、複数の映像信号と走査信号線に囲まれたス
イッチング素子を有する画素部を形成したアクティブマ
トリクス型液晶表示装置を製造するためのパネル素形材
であって、前記電極基板上にシール材により囲まれた液
晶表示を行なうための表示領域と、該電極基板と対向基
板とを重ね合わせたのち、切断して廃棄される、シール
材により囲まれた領域の外側である表示領域外とが存在
し、前記二枚の基板を重ね合わせたとき、前記表示領域
と表示領域外の基板間隔が等しくなるように、表示領域
外に基板間隔を補正する手段を備えており、該手段が、
前記電極基板および対向基板にそれぞれ形成される補正
用膜と該両補正用膜に挟持されるスペーサとからなるこ
とを特徴とする。
【００１３】また本発明の液晶表示装置のパネル素形材
は、電極基板と対向基板とのあいだに配向膜およびスペ
ーサを介して液晶組成物を狭持し、電極基板上にマトリ
クス状に配置された、複数の映像信号と走査信号線に囲
まれたスイッチング素子を有する画素部を形成したアク
ティブマトリクス型液晶表示装置を製造するためのパネ
ル素形材であって、電極基板上にシール材により囲まれ
た液晶表示を行なうための表示領域と、対向基板と重ね
合わせたのち、切断して廃棄されるシール材により囲ま
れた領域の外側である表示領域外が存在し、前記二枚の
基板を重ね合わせたとき、前記表示領域と表示領域外の
基板間隔が等しくなるように、表示領域外に基板間隔を
補正するスペーサを備えており、表示領域上の基板間隔
を保持するためのスペーサ径をｇ１、表示領域外のスペ
ーサ径をｇ２、対向基材の色材層の厚さをｈ０、電極基
板の薄膜トランジスタ部の厚さをｈ１とすると、 ｜（ｇ１＋ｈ０＋ｈ１）−ｇ２｜＜１．５μｍ であることを特徴とする。
は、電極基板と対向基板とのあいだに配向膜およびスペ
ーサを介して液晶組成物を狭持し、電極基板上にマトリ
クス状に配置された、複数の映像信号と走査信号線に囲
まれたスイッチング素子を有する画素部を形成したアク
ティブマトリクス型液晶表示装置を製造するためのパネ
ル素形材であって、電極基板上にシール材により囲まれ
た液晶表示を行なうための表示領域と、対向基板と重ね
合わせたのち、切断して廃棄されるシール材により囲ま
れた領域の外側である表示領域外が存在し、前記二枚の
基板を重ね合わせたとき、前記表示領域と表示領域外の
基板間隔が等しくなるように、表示領域外に基板間隔を
補正するスペーサを備えており、表示領域上の基板間隔
を保持するためのスペーサ径をｇ１、表示領域外のスペ
ーサ径をｇ２、対向基材の色材層の厚さをｈ０、電極基
板の薄膜トランジスタ部の厚さをｈ１とすると、 ｜（ｇ１＋ｈ０＋ｈ１）−ｇ２｜＜１．５μｍ であることを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】まず、本発明における対向基板お
よび電極基板の表示領域外に基板間隔の補正用の手段で
ある膜とスペーサを形成する場合を例にとって説明す
る。
よび電極基板の表示領域外に基板間隔の補正用の手段で
ある膜とスペーサを形成する場合を例にとって説明す
る。
【００１５】図１に熱圧着中の液晶表示装置の断面図を
示す。図１において、１は切断する前の電極基板、２は
切断する前の対向基板、３は液晶を駆動するための電極
層、５は色材層、６は液晶表示装置として使用される領
域、７はスペーサ、８はシール材、１０は対向基板２側
に形成された基板間隔の補正用膜、１１は電極基板１側
に形成された基板間隔の補正用膜を示す。このとき、表
示領域と表示領域外の基板間隔がほぼ等しくなるように
基板間隔の補正用膜１０、１１の厚さを表示領域内の膜
厚（電極層３と色材層５の膜厚）と等しくする必要があ
る。このとき、表示領域内外の膜厚が等しく、またスペ
ーサ径がいずれの領域でもほぼ等しいので、基板間隔は
等しくなる。このため電極基板上にマトリクス状に配置
された、複数の映像信号と走査信号線に囲まれたスイッ
チング素子を有する画素部を形成した均一なセルギャッ
プのアクティブマトリクス型液晶表示装置が得られる。
示す。図１において、１は切断する前の電極基板、２は
切断する前の対向基板、３は液晶を駆動するための電極
層、５は色材層、６は液晶表示装置として使用される領
域、７はスペーサ、８はシール材、１０は対向基板２側
に形成された基板間隔の補正用膜、１１は電極基板１側
に形成された基板間隔の補正用膜を示す。このとき、表
示領域と表示領域外の基板間隔がほぼ等しくなるように
基板間隔の補正用膜１０、１１の厚さを表示領域内の膜
厚（電極層３と色材層５の膜厚）と等しくする必要があ
る。このとき、表示領域内外の膜厚が等しく、またスペ
ーサ径がいずれの領域でもほぼ等しいので、基板間隔は
等しくなる。このため電極基板上にマトリクス状に配置
された、複数の映像信号と走査信号線に囲まれたスイッ
チング素子を有する画素部を形成した均一なセルギャッ
プのアクティブマトリクス型液晶表示装置が得られる。
【００１６】また、基板間隔の補正用膜およびスペーサ
は表示領域外全域に形成されている方が望ましいが、液
晶注入領域を決定するシール（パターン）近傍に形成し
てあれば所望の効果が得られる。
は表示領域外全域に形成されている方が望ましいが、液
晶注入領域を決定するシール（パターン）近傍に形成し
てあれば所望の効果が得られる。
【００１７】さらに、対向基板および電極基板のうち、
いずれか一方にのみ基板間隔の補正用膜を設ける場合
は、もう一方の基板に形成される膜の分の厚さを設ける
必要があるためプロセスが増加する。対向基板および電
極基板の両方に表示領域と膜構成が同じようなギャップ
調整用パターンを設けるようにすると、現行プロセスを
変更することなくギャップ精度を向上させることができ
る。
いずれか一方にのみ基板間隔の補正用膜を設ける場合
は、もう一方の基板に形成される膜の分の厚さを設ける
必要があるためプロセスが増加する。対向基板および電
極基板の両方に表示領域と膜構成が同じようなギャップ
調整用パターンを設けるようにすると、現行プロセスを
変更することなくギャップ精度を向上させることができ
る。
【００１８】つぎに、表示領域外に基板間隔の補正用の
手段であるシール材を形成する場合を例にとって説明す
る。
手段であるシール材を形成する場合を例にとって説明す
る。
【００１９】図２に熱圧着中の液晶表示装置の断面図を
示す。図２において、８は液晶注入領域を決定するシー
ル材、１２はギャップ補正用シール材を示す。前記２種
類のシール材８、１２には間隔を保持するためのスペー
サ（図示せず）が混入されている。液晶注入領域を決定
するシール材８中に混合させるスペーサの径は、基板間
隔を決定する表示領域内に配置されるスペーサ７の径と
対向基板２上に形成されている色材層５の厚さの合計と
ほぼ等しくすることが好ましい。ギャップ補正用シール
材１２内に混合されるスペーサの大きさは、基板間隔を
決定する表示領域内に配置されるスペーサ７と対向基板
２上に形成されている色材層５の厚さと電極基板１上に
形成されている電極層３の最も高い部分の高さの合計と
ほぼ等しくすることが好ましい。図２に示されるよう
に、熱圧着時、ギャップ補正用シール１２より基板の外
側は変形してしまい歪みが生じるが、補正用シール材１
２の近傍に集中するため、液晶注入領域を決定するシー
ル材８の近傍の歪みが緩和される。この結果、セルギャ
ップが均一な液晶表示装置が得られる。なお、前記液晶
注入領域を決定するシール材８のパターンとギャップ補
正用シール材１２との距離は、シール材８近傍の歪みを
より小さくするために、１０ｍｍ以内であるのが好まし
い。
示す。図２において、８は液晶注入領域を決定するシー
ル材、１２はギャップ補正用シール材を示す。前記２種
類のシール材８、１２には間隔を保持するためのスペー
サ（図示せず）が混入されている。液晶注入領域を決定
するシール材８中に混合させるスペーサの径は、基板間
隔を決定する表示領域内に配置されるスペーサ７の径と
対向基板２上に形成されている色材層５の厚さの合計と
ほぼ等しくすることが好ましい。ギャップ補正用シール
材１２内に混合されるスペーサの大きさは、基板間隔を
決定する表示領域内に配置されるスペーサ７と対向基板
２上に形成されている色材層５の厚さと電極基板１上に
形成されている電極層３の最も高い部分の高さの合計と
ほぼ等しくすることが好ましい。図２に示されるよう
に、熱圧着時、ギャップ補正用シール１２より基板の外
側は変形してしまい歪みが生じるが、補正用シール材１
２の近傍に集中するため、液晶注入領域を決定するシー
ル材８の近傍の歪みが緩和される。この結果、セルギャ
ップが均一な液晶表示装置が得られる。なお、前記液晶
注入領域を決定するシール材８のパターンとギャップ補
正用シール材１２との距離は、シール材８近傍の歪みを
より小さくするために、１０ｍｍ以内であるのが好まし
い。
【００２０】このように、液晶注入領域を決定するシー
ル材８の近傍の基板間隔を表示領域とほぼ等しくし、熱
圧着時の基板の歪みを緩和することにより、セルギャッ
プが均一な液晶表示装置を得ることができる。
ル材８の近傍の基板間隔を表示領域とほぼ等しくし、熱
圧着時の基板の歪みを緩和することにより、セルギャッ
プが均一な液晶表示装置を得ることができる。
【００２１】以下、添付図面に基づいてさらに詳しく本
発明の液晶表示装置のパネル素形材を説明する。
発明の液晶表示装置のパネル素形材を説明する。
【００２２】実施の形態１ 対向基板として、着色層が基板上に形成されているカラ
ーフィルタ基板を用いた。この着色層の厚さは約１μｍ
であった。電極基板として、薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）が形成されており櫛形電極を有し、ＴＦＴ部の厚さ
が約１．０μｍであるものを用いた。
ーフィルタ基板を用いた。この着色層の厚さは約１μｍ
であった。電極基板として、薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）が形成されており櫛形電極を有し、ＴＦＴ部の厚さ
が約１．０μｍであるものを用いた。
【００２３】対向基板および電極基板の所定の領域に転
写法により、配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し配向
膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なった。
写法により、配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し配向
膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なった。
【００２４】図３に示されるように電極基板１上にディ
スペンサを用い、液晶注入領域を決定するシール材１３
のパターンを形成した。このシール材１３としては、マ
クロロッドＰＦ−４７（日本電気硝子（株）製）を約２
ｗｔ％の割合で混合したものを使用した。こののち、基
板間隔の補正用のシール材１４のパターンを形成した。
このシール材１４としては、マイクロロッドＰＦ−６４
（日本電気硝子（株）製）を約２ｗｔ％の割合で混合し
たものを使用した。シール材１３とシール材１４との距
離Ｌは４辺とも等しく３ｍｍであった。
スペンサを用い、液晶注入領域を決定するシール材１３
のパターンを形成した。このシール材１３としては、マ
クロロッドＰＦ−４７（日本電気硝子（株）製）を約２
ｗｔ％の割合で混合したものを使用した。こののち、基
板間隔の補正用のシール材１４のパターンを形成した。
このシール材１４としては、マイクロロッドＰＦ−６４
（日本電気硝子（株）製）を約２ｗｔ％の割合で混合し
たものを使用した。シール材１３とシール材１４との距
離Ｌは４辺とも等しく３ｍｍであった。
【００２５】対向基板上には、直径３．４μｍのミクロ
パールＳＰ２０３４（積水ファインケミカル社製）を散
布密度約３００個／ｍｍ2で散布した。
パールＳＰ２０３４（積水ファインケミカル社製）を散
布密度約３００個／ｍｍ2で散布した。
【００２６】ついで電極基板１と対向基板を所定の画素
が一致するように重ね合わせた。このときの基板の断面
図を図４に示す。ついで、約２００℃および６００ｇ／
ｃｍ 2の圧力で加熱圧着することにより、電極基板１と
対向基板２を接着させた。このときのシール材１３、１
４の幅は約１ｍｍとなった。なお、前記基板間隔を補正
する補正用シール材の厚さをｄ０、液晶封入領域を決定
するシール材内に混合されるスペーサ径をｄ１、電極基
板の薄膜トランジスタ部の厚さの差をｄ３とすると、 ｜（ｄ１＋ｄ３）−ｄ０｜＜１．０μｍ を満足している。
が一致するように重ね合わせた。このときの基板の断面
図を図４に示す。ついで、約２００℃および６００ｇ／
ｃｍ 2の圧力で加熱圧着することにより、電極基板１と
対向基板２を接着させた。このときのシール材１３、１
４の幅は約１ｍｍとなった。なお、前記基板間隔を補正
する補正用シール材の厚さをｄ０、液晶封入領域を決定
するシール材内に混合されるスペーサ径をｄ１、電極基
板の薄膜トランジスタ部の厚さの差をｄ３とすると、 ｜（ｄ１＋ｄ３）−ｄ０｜＜１．０μｍ を満足している。
【００２７】この一対の基板１、２を目的の大きさにな
るようにパネル切断を行ない、そののちの屈折率異方性
が０．０７９、誘電率異方性が１０．４の液晶を注入
し、液晶表示素子を得た。画面中央部を１６カ所測定し
たところ、液晶層の厚さは平均約３．６μｍとなった。
るようにパネル切断を行ない、そののちの屈折率異方性
が０．０７９、誘電率異方性が１０．４の液晶を注入
し、液晶表示素子を得た。画面中央部を１６カ所測定し
たところ、液晶層の厚さは平均約３．６μｍとなった。
【００２８】この結果、表１に示されるように、面内セ
ルギャップ均一性が良くなり表示画面の輝度ムラがほと
んど視認されなくなるなど、良好な表示特性を有する液
晶表示装置（実施例１）が得られた。
ルギャップ均一性が良くなり表示画面の輝度ムラがほと
んど視認されなくなるなど、良好な表示特性を有する液
晶表示装置（実施例１）が得られた。
【００２９】本実施の形態では、液晶注入領域を決める
シール材とギャップ補正用シール材の距離が４辺とも等
しい場合を用いたが、両シール材の距離がおのおの異な
っても同様の効果が得られる。
シール材とギャップ補正用シール材の距離が４辺とも等
しい場合を用いたが、両シール材の距離がおのおの異な
っても同様の効果が得られる。
【００３０】
【表１】
【００３１】比較例１ 実施の形態１と同様の電極基板および対向基板を用い
た。
た。
【００３２】対向基板および電極基板の所定の領域に転
写法により、配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し配向
膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なった。
写法により、配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し配向
膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なった。
【００３３】電極基板には、ディスペンサを用い、図２
に示すように液晶注入領域を決定するシール材８および
基板間隔の補正用のシール材１２を形成した。シール材
８、１２にはマイクロロッドＰＦ−４７（日本電気硝子
（株）製）を約２ｗｔ％の割合で混合したものを使用し
た。シール材８とシール材１２との距離は４辺とも等し
く４ｍｍであった。
に示すように液晶注入領域を決定するシール材８および
基板間隔の補正用のシール材１２を形成した。シール材
８、１２にはマイクロロッドＰＦ−４７（日本電気硝子
（株）製）を約２ｗｔ％の割合で混合したものを使用し
た。シール材８とシール材１２との距離は４辺とも等し
く４ｍｍであった。
【００３４】対向基板上には、直径３．４μｍのミクロ
パールＳＰ２０３４（積水ファインケミカル社製）を散
布密度約３００個／ｍｍ2で散布した。
パールＳＰ２０３４（積水ファインケミカル社製）を散
布密度約３００個／ｍｍ2で散布した。
【００３５】ついで電極基板と対向基板を所定の画素が
一致するように重ね合わせたのち、約２００℃および６
００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、電極
基板と対向基板を接着させた。
一致するように重ね合わせたのち、約２００℃および６
００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、電極
基板と対向基板を接着させた。
【００３６】この一対の基板を目的の大きさになるよう
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０７９、誘電率異方性が１０．４の液晶を注入し、液晶
表示素子を得た。画面中央部を１６カ所測定したとこ
ろ、液晶層の厚さは平均約３．６μｍとなった。周辺部
と中央部のセルギャップの差は約０．３μｍとなった。
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０７９、誘電率異方性が１０．４の液晶を注入し、液晶
表示素子を得た。画面中央部を１６カ所測定したとこ
ろ、液晶層の厚さは平均約３．６μｍとなった。周辺部
と中央部のセルギャップの差は約０．３μｍとなった。
【００３７】この結果、表１に示されるように、この液
晶表示装置（比較例１）では、表示画面周辺部の輝度値
が中央部と異なり、輝度ムラが視認され、良好な表示特
性を得ることができなかった。
晶表示装置（比較例１）では、表示画面周辺部の輝度値
が中央部と異なり、輝度ムラが視認され、良好な表示特
性を得ることができなかった。
【００３８】比較例２ 実施の形態１と同様の電極基板および対向基板を用い
た。
た。
【００３９】対向基板および電極基板の所定の領域に転
写法により配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し配向膜
を形成した。そののち、ラビング処理を行なった。
写法により配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し配向膜
を形成した。そののち、ラビング処理を行なった。
【００４０】電極基板には、ディスペンサを用い、図２
に示すように液晶注入領域を決定するシール材８を形成
した。シール材８にはマイクロロッドＰＦ−４７（日本
電気硝子（株）製）を約２ｗｔ％の割合で混合したもの
を使用した。
に示すように液晶注入領域を決定するシール材８を形成
した。シール材８にはマイクロロッドＰＦ−４７（日本
電気硝子（株）製）を約２ｗｔ％の割合で混合したもの
を使用した。
【００４１】対向基板上には、直径３．４μｍのミクロ
パールＳＰ２０３４（積水ファインケミカル社製）を散
布密度約３００個／ｍｍ2で散布した。
パールＳＰ２０３４（積水ファインケミカル社製）を散
布密度約３００個／ｍｍ2で散布した。
【００４２】ついで電極基板と対向基板を所定の画素が
一致するように重ね合わせたのち、約２００℃および６
００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、電極
基板と対向基板を接着させた。
一致するように重ね合わせたのち、約２００℃および６
００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、電極
基板と対向基板を接着させた。
【００４３】この一対の基板を目的の大きさになるよう
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０７９、誘電率異方性が１０．４の液晶を注入し、液晶
表示素子を得た。画面中央部を１６カ所測定したとこ
ろ、液晶層の厚さは平均約３．６μｍとなった。周辺部
と中央部のセルギャップの差は約０．４μｍとなった。
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０７９、誘電率異方性が１０．４の液晶を注入し、液晶
表示素子を得た。画面中央部を１６カ所測定したとこ
ろ、液晶層の厚さは平均約３．６μｍとなった。周辺部
と中央部のセルギャップの差は約０．４μｍとなった。
【００４４】この結果、表１に示されるように、この液
晶表示装置（比較例２）では、表示画面周辺部の輝度値
が中央部とことなり、輝度ムラが視認され良好な表示特
性を得ることができなかった。
晶表示装置（比較例２）では、表示画面周辺部の輝度値
が中央部とことなり、輝度ムラが視認され良好な表示特
性を得ることができなかった。
【００４５】実施の形態２ 実施の形態１と同様の方法で液晶表示装置を作製した。
このとき、メインシール材とギャップ補正用のシール材
との距離を６ｍｍとした。
このとき、メインシール材とギャップ補正用のシール材
との距離を６ｍｍとした。
【００４６】この結果、表１に示されるように、面内セ
ルギャップ均一性が良くなり表示画面の輝度ムラがほと
んど視認されなくなるなど、良好な表示特性を有する液
晶表示装置（実施例２）が得られた。
ルギャップ均一性が良くなり表示画面の輝度ムラがほと
んど視認されなくなるなど、良好な表示特性を有する液
晶表示装置（実施例２）が得られた。
【００４７】実施の形態３ 実施の形態１と同様の方法で液晶表示装置を作製した。
このときメインシール材とギャップ補正用のシール材と
の距離を８ｍｍとした。
このときメインシール材とギャップ補正用のシール材と
の距離を８ｍｍとした。
【００４８】この結果、表１に示されるように、面内セ
ルギャップ均一性が改善され、表示画面の輝度ムラがほ
とんど視認されなくなるなど、良好な表示特性を有する
液晶表示装置（実施例３）が得られた。
ルギャップ均一性が改善され、表示画面の輝度ムラがほ
とんど視認されなくなるなど、良好な表示特性を有する
液晶表示装置（実施例３）が得られた。
【００４９】実施の形態４ 実施の形態１と同様の方法で液晶表示装置を作製した。
このとき、図５に示すようなギャップ補正用シール材１
４のパターンを形成し、メインシール材１３とギャップ
補正用のシール材１４との距離Ｌを４ｍｍとした。
このとき、図５に示すようなギャップ補正用シール材１
４のパターンを形成し、メインシール材１３とギャップ
補正用のシール材１４との距離Ｌを４ｍｍとした。
【００５０】この結果、表１に示されるように、面内セ
ルギャップ均一性が良くなり表示画面の輝度ムラがほと
んど視認されなくなるなど、良好な表示特性を有する液
晶表示装置（実施例４）が得られた。
ルギャップ均一性が良くなり表示画面の輝度ムラがほと
んど視認されなくなるなど、良好な表示特性を有する液
晶表示装置（実施例４）が得られた。
【００５１】実施の形態５ 図６に示されるように、まず電極基板１として表示領域
外に液晶を駆動するための電極層３と同様の積層構造の
補正用膜１５が形成されている基板と、対向基板２とし
て表示領域外にカラー表示を行なうための色材層５と同
様の積層構造を有する膜１６が形成されているカラーフ
ィルタ基板を用いた。
外に液晶を駆動するための電極層３と同様の積層構造の
補正用膜１５が形成されている基板と、対向基板２とし
て表示領域外にカラー表示を行なうための色材層５と同
様の積層構造を有する膜１６が形成されているカラーフ
ィルタ基板を用いた。
【００５２】これらの基板に配向膜を転写焼成し、ラビ
ング処理を行なった。電極基板１にはディスペンサを用
いた所定のパターンになるようにシール材１３を塗布し
た。シール材１３にはマイクロロッドＰＦ−４７（日本
電気硝子（株）製）を約２ｗｔ％の割合で混合したもの
を使用した。
ング処理を行なった。電極基板１にはディスペンサを用
いた所定のパターンになるようにシール材１３を塗布し
た。シール材１３にはマイクロロッドＰＦ−４７（日本
電気硝子（株）製）を約２ｗｔ％の割合で混合したもの
を使用した。
【００５３】一方、対向基板２上には、基板間隔を保持
するためのスペーサ７として直径３．４μｍのミクロパ
ールＳＰ２０３４（積水ファインケミカル社製）を散布
密度約３００個／ｍｍ2で散布した。
するためのスペーサ７として直径３．４μｍのミクロパ
ールＳＰ２０３４（積水ファインケミカル社製）を散布
密度約３００個／ｍｍ2で散布した。
【００５４】こののち、２枚の基板を、図６に示される
ように重ね合わせた。このときの基板の断面形状を図６
に示す。つぎに所定のプロセスを経ることにより液晶表
示装置を得ることができた。このときの液晶層の厚さは
３．６μｍとなった。表示領域外の補正用膜と液晶注入
領域を決定するシール材１３のパターンとの距離Ｘ１、
Ｘ２はそれぞれ４ｍｍ、５ｍｍであった。
ように重ね合わせた。このときの基板の断面形状を図６
に示す。つぎに所定のプロセスを経ることにより液晶表
示装置を得ることができた。このときの液晶層の厚さは
３．６μｍとなった。表示領域外の補正用膜と液晶注入
領域を決定するシール材１３のパターンとの距離Ｘ１、
Ｘ２はそれぞれ４ｍｍ、５ｍｍであった。
【００５５】この結果、面内セルギャップ均一性が良く
なり表示画面の輝度ムラがほとんど視認されなくなるな
ど、良好な表示特性を有する液晶表示装置が得られた。
なり表示画面の輝度ムラがほとんど視認されなくなるな
ど、良好な表示特性を有する液晶表示装置が得られた。
【００５６】また、前記のように表示領域外に表示領域
と同じ層構造を有する補正用膜を形成することにより、
プロセスの増加を抑制できる。
と同じ層構造を有する補正用膜を形成することにより、
プロセスの増加を抑制できる。
【００５７】実施の形態６ 図７に示されるように、まず電極基板１として表示領域
の外側の領域に表示領域と同じ層構造を有する補正用膜
１５を形成した基板、対向基板２としてカラーフィルタ
基板を用いた。なお、本実施の形態では、電極基板に補
正用膜を形成したが、対向基板または電極基板および対
向基板に形成することもできる。
の外側の領域に表示領域と同じ層構造を有する補正用膜
１５を形成した基板、対向基板２としてカラーフィルタ
基板を用いた。なお、本実施の形態では、電極基板に補
正用膜を形成したが、対向基板または電極基板および対
向基板に形成することもできる。
【００５８】対向基板２および電極基板１の所定の領域
に転写法により配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し配
向膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なった。
に転写法により配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し配
向膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なった。
【００５９】電極基板１には、ディスペンサを用い、所
定のパターンになるようにシール材１３を塗布した。さ
らに表示領域外の補正用膜１５上に基板間隔の補正用シ
ール材１７を形成した。シール材１３、１７は４．７μ
ｍのスペーサ材（マイクロロッドＰＦ−４７、日本電気
硝子（株）製）を約２ｗｔ％の割合で混合したものを使
用した。
定のパターンになるようにシール材１３を塗布した。さ
らに表示領域外の補正用膜１５上に基板間隔の補正用シ
ール材１７を形成した。シール材１３、１７は４．７μ
ｍのスペーサ材（マイクロロッドＰＦ−４７、日本電気
硝子（株）製）を約２ｗｔ％の割合で混合したものを使
用した。
【００６０】一方、対向基板２上には、基板間隔を保持
するためのスペーサ７として直径３．４μｍのミクロパ
ールＳＰ２０３４（積水ファインケミカル社製）を散布
密度約３００個／ｍｍ2で散布した。
するためのスペーサ７として直径３．４μｍのミクロパ
ールＳＰ２０３４（積水ファインケミカル社製）を散布
密度約３００個／ｍｍ2で散布した。
【００６１】ついで電極基板１と対向基板２を所定の画
素が一致するように重ね合わせたのち、約２００℃およ
び６００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、
電極基板１と対向基板２を接着させた。
素が一致するように重ね合わせたのち、約２００℃およ
び６００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、
電極基板１と対向基板２を接着させた。
【００６２】このときの基板の断面形状を図７に示す。
図７に示されるように、表示領域と表示領域外の基板間
隔が等しくなり、シール近傍に歪みがほとんど生じなか
った。このときシール材１３とシール材１７の間隔は４
ｍｍであった。
図７に示されるように、表示領域と表示領域外の基板間
隔が等しくなり、シール近傍に歪みがほとんど生じなか
った。このときシール材１３とシール材１７の間隔は４
ｍｍであった。
【００６３】この一対の基板を目的の大きさになるよう
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０７９、誘電率異方性が１０．４の液晶を注入し、液晶
表示素子を得た。液晶層の厚さは３．６μｍとなった。
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０７９、誘電率異方性が１０．４の液晶を注入し、液晶
表示素子を得た。液晶層の厚さは３．６μｍとなった。
【００６４】この結果、表１に示されるように、セルギ
ャップの面内均一性が良好で、良好な表示特性を有する
液晶表示装置（実施例５）を得ることができた。
ャップの面内均一性が良好で、良好な表示特性を有する
液晶表示装置（実施例５）を得ることができた。
【００６５】実施の形態７ 図８に示されているように、まず対向基板２として厚さ
約１μｍの着色層が基板上に形成されているカラーフィ
ルタ基板を用いた。電極基板１として、薄膜トランジス
タ（ＴＦＴ）が形成されており櫛形電極を有し、ＴＦＴ
部と表示領域外部の高さの差が約１μｍであるものを用
いた。
約１μｍの着色層が基板上に形成されているカラーフィ
ルタ基板を用いた。電極基板１として、薄膜トランジス
タ（ＴＦＴ）が形成されており櫛形電極を有し、ＴＦＴ
部と表示領域外部の高さの差が約１μｍであるものを用
いた。
【００６６】対向基板２および電極基板１の所定の領域
に転写法により、配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し
配向膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なっ
た。
に転写法により、配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し
配向膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なっ
た。
【００６７】電極基板１には、ディスペンサを用い、所
定のパターンになるようにシール材１３を塗布した。シ
ール材１３にはマイクロロッドＰＦ−４７（日本電気硝
子（株）製）を約２ｗｔ％の割合で混合したものを使用
した。
定のパターンになるようにシール材１３を塗布した。シ
ール材１３にはマイクロロッドＰＦ−４７（日本電気硝
子（株）製）を約２ｗｔ％の割合で混合したものを使用
した。
【００６８】一方、対向基板２上には、基板間隔を保持
するためのスペーサ７として直径３．４μｍのミクロパ
ールＳＰ２０３４（積水ファインケミカル社製）を散布
密度約３００個／ｍｍ2で散布した。こののち、表示領
域上にマスクをし、直径６μｍのスペーサ１８を散布し
た。この結果、表示領域外に直径６μｍのスペーサ１８
が散布密度約３００個／ｍｍ2で配置された。
するためのスペーサ７として直径３．４μｍのミクロパ
ールＳＰ２０３４（積水ファインケミカル社製）を散布
密度約３００個／ｍｍ2で散布した。こののち、表示領
域上にマスクをし、直径６μｍのスペーサ１８を散布し
た。この結果、表示領域外に直径６μｍのスペーサ１８
が散布密度約３００個／ｍｍ2で配置された。
【００６９】ついで電極基板１と対向基板２を所定の画
素が一致するように重ね合わせたのち、約２００℃およ
び６００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、
電極基板１と対向基板２を接着させた。なお、表示領域
上の基板間隔を保持するためのスペーサ径をｇ１、表示
領域外のスペーサ径をｇ２、対向基材の色材層の厚さを
ｈ０、電極基板の薄膜トランジスタ部の厚さをｈ１とす
ると、 ｜（ｇ１＋ｈ０＋ｈ１）−ｇ２｜＜１．５μｍ を満足している。
素が一致するように重ね合わせたのち、約２００℃およ
び６００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、
電極基板１と対向基板２を接着させた。なお、表示領域
上の基板間隔を保持するためのスペーサ径をｇ１、表示
領域外のスペーサ径をｇ２、対向基材の色材層の厚さを
ｈ０、電極基板の薄膜トランジスタ部の厚さをｈ１とす
ると、 ｜（ｇ１＋ｈ０＋ｈ１）−ｇ２｜＜１．５μｍ を満足している。
【００７０】このときの基板の断面形状を図８に示す。
図８に示されるように表示領域と表示領域外の基板間隔
が等しくなり、シール近傍に歪みがほとんど生じなかっ
た。
図８に示されるように表示領域と表示領域外の基板間隔
が等しくなり、シール近傍に歪みがほとんど生じなかっ
た。
【００７１】この一対の基板を目的の大きさになるよう
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０７９、誘電率異方性が７．６の液晶を注入し、液晶表
示素子を得た。液晶層の厚さは３．６μｍとなった。
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０７９、誘電率異方性が７．６の液晶を注入し、液晶表
示素子を得た。液晶層の厚さは３．６μｍとなった。
【００７２】この結果、セルギャップの内面均一性が良
好で、良好な表示特性を有する液晶表示装置を得ること
ができる。
好で、良好な表示特性を有する液晶表示装置を得ること
ができる。
【００７３】実施の形態８図９に示されるように、まず
対向基板２としてカラーフィルタ基板を用いた。このカ
ラーフィルタ基板に感光性レジストをスピンコート法で
塗布し、所定のマスクを用いてパターニングを行ない表
示領域のブラックマトリクス上に基板間隔を一定に保つ
ための柱状スペーサ１９を形成した。一方、電極基板１
上に感光性レジストをスピンコート法で塗布し、所定の
マスクを用いて表示領域外に基板間隔を保持するための
感光性樹脂の柱状スペーサ２０を形成した。柱状スペー
サ２０は半球、円柱または角柱の形状を呈しており、基
板に１番近い部分の直径は約１０μｍであった。このと
き、電極基板１の柱の高さが約５．４μｍ、対向基板２
の柱の高さが約３μｍとなった。
対向基板２としてカラーフィルタ基板を用いた。このカ
ラーフィルタ基板に感光性レジストをスピンコート法で
塗布し、所定のマスクを用いてパターニングを行ない表
示領域のブラックマトリクス上に基板間隔を一定に保つ
ための柱状スペーサ１９を形成した。一方、電極基板１
上に感光性レジストをスピンコート法で塗布し、所定の
マスクを用いて表示領域外に基板間隔を保持するための
感光性樹脂の柱状スペーサ２０を形成した。柱状スペー
サ２０は半球、円柱または角柱の形状を呈しており、基
板に１番近い部分の直径は約１０μｍであった。このと
き、電極基板１の柱の高さが約５．４μｍ、対向基板２
の柱の高さが約３μｍとなった。
【００７４】対向基板２および電極基板１の所定の領域
に転写法により配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し配
向膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なった。
に転写法により配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し配
向膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なった。
【００７５】電極基板１には、ディスペンサを用いたシ
ール材１３を塗布した。シール材１３にはマイクロロッ
ドＰＦ−４７（日本電気硝子（株）製）を約２ｗｔ％の
割合で混合したものを使用した。
ール材１３を塗布した。シール材１３にはマイクロロッ
ドＰＦ−４７（日本電気硝子（株）製）を約２ｗｔ％の
割合で混合したものを使用した。
【００７６】ついで電極基板１と対向基板２を所定の画
素が一致するように重ね合わせたのち、約２００℃およ
び６００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、
電極基板１と対向基板２を接着させた。このときの基板
の断面図を図９に示す。なお、対向基板の色材層の厚さ
をｈ１、電極基板の電極層の平均厚さをｈ２、表示領域
に形成されている基板間隔を決定する突起の高さをｈ
３、表示領域外に形成されている基板間隔を補正する複
数の突起のパターンの高さをｈ４とすると、 ｈ３<ｈ４ および ｜（ｈ１＋ｈ２+ｈ３）−ｈ４｜＜１．５μｍ している。また、本発明において、複数の突起が形成す
る基板間隔は、突起の高さだけでは決められない場合が
あるため、複数の突起が形成する基板間隔補正用のパタ
ーンの高さ、たとえばパターンの最も高い部分の厚さな
どで決定する。
素が一致するように重ね合わせたのち、約２００℃およ
び６００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、
電極基板１と対向基板２を接着させた。このときの基板
の断面図を図９に示す。なお、対向基板の色材層の厚さ
をｈ１、電極基板の電極層の平均厚さをｈ２、表示領域
に形成されている基板間隔を決定する突起の高さをｈ
３、表示領域外に形成されている基板間隔を補正する複
数の突起のパターンの高さをｈ４とすると、 ｈ３<ｈ４ および ｜（ｈ１＋ｈ２+ｈ３）−ｈ４｜＜１．５μｍ している。また、本発明において、複数の突起が形成す
る基板間隔は、突起の高さだけでは決められない場合が
あるため、複数の突起が形成する基板間隔補正用のパタ
ーンの高さ、たとえばパターンの最も高い部分の厚さな
どで決定する。
【００７７】この一対の基板を目的の大きさになるよう
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０７９、誘電率異方性が１０．４の液晶を注入し、液晶
表示素子を得た。液晶層の厚さは３．３μｍとなった。
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０７９、誘電率異方性が１０．４の液晶を注入し、液晶
表示素子を得た。液晶層の厚さは３．３μｍとなった。
【００７８】この結果、面内セルギャップ均一性が良く
なるなど、良好な表示特性を有する液晶表示装置が得ら
れる。
なるなど、良好な表示特性を有する液晶表示装置が得ら
れる。
【００７９】実施の形態９ 図１０に示されるように、まず電極基板１として、ツイ
ステッドネマティック（ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉ
ｃ）モード対応の電極構造の基板を用いた。電極基板１
の表示領域外に表示領域と同様の層構造を有する膜２３
を形成した。また、対向基板２には、カラー表示を行な
うための色材層５が形成されておりその色層が表示領域
外にも形成されているものを用いた。
ステッドネマティック（ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉ
ｃ）モード対応の電極構造の基板を用いた。電極基板１
の表示領域外に表示領域と同様の層構造を有する膜２３
を形成した。また、対向基板２には、カラー表示を行な
うための色材層５が形成されておりその色層が表示領域
外にも形成されているものを用いた。
【００８０】対向基板２上にスピンコート法により感光
性レジストを塗布した。こののち、所定のマスクを用い
パターニングを行ないブラックマトリクス上に柱状スペ
ーサ２１を形成した。また、表示領域外にも同様の方法
でパターニングを行ない柱状スペーサ２１を形成した。
このときスペーサ２１の高さは４．３μｍとなった。
性レジストを塗布した。こののち、所定のマスクを用い
パターニングを行ないブラックマトリクス上に柱状スペ
ーサ２１を形成した。また、表示領域外にも同様の方法
でパターニングを行ない柱状スペーサ２１を形成した。
このときスペーサ２１の高さは４．３μｍとなった。
【００８１】対向基板２および電極基板１の所定の領域
に転写法により配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し配
向膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なった。
に転写法により配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し配
向膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なった。
【００８２】電極基板１には、ディスペンサを用い所定
の領域にシール材１３を塗布した。シール材１３にはマ
イクロロッドＰＦ−６０（日本電気硝子（株）製）を約
２ｗｔ％の割合で混合したものを使用した。
の領域にシール材１３を塗布した。シール材１３にはマ
イクロロッドＰＦ−６０（日本電気硝子（株）製）を約
２ｗｔ％の割合で混合したものを使用した。
【００８３】ついで電極基板１と対向基板２を所定の画
素が一致するように重ね合わせたのち、約２００℃およ
び６００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、
電極基板１と対向基板２を接着させた。
素が一致するように重ね合わせたのち、約２００℃およ
び６００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、
電極基板１と対向基板２を接着させた。
【００８４】このときの基板の断面図を図１０に示す。
シール材１３と対向基板２の表示領域外に形成された膜
２２との距離Ｘ３は４ｍｍであった。本実施の形態では
シール材１３と対向基板２の表示領域外に形成された膜
２２との距離と、シール材１３と電極基板１の表示領域
外に形成された膜２３の距離は等しかったが、等しくな
くても効果が得られる。
シール材１３と対向基板２の表示領域外に形成された膜
２２との距離Ｘ３は４ｍｍであった。本実施の形態では
シール材１３と対向基板２の表示領域外に形成された膜
２２との距離と、シール材１３と電極基板１の表示領域
外に形成された膜２３の距離は等しかったが、等しくな
くても効果が得られる。
【００８５】この一対の基板を目的の大きさになるよう
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０８７、誘電率異方性が７．６の液晶を注入し、液晶表
示装置を得た。液晶層の厚さは４．５μｍとなった。
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０８７、誘電率異方性が７．６の液晶を注入し、液晶表
示装置を得た。液晶層の厚さは４．５μｍとなった。
【００８６】この結果、面内セルギャップ均一性が良く
なるなど、良好な表示特性を有する液晶表示装置が得ら
れる。
なるなど、良好な表示特性を有する液晶表示装置が得ら
れる。
【００８７】なお、ビーズ状のスペーサの径の大きさの
分散性の方が、パターニングして形成する柱状のスペー
サの厚みムラより大きいので、スペーサとして、ビーズ
状のものを用いるより、パターニングを行ない柱状のス
ペーサを形成する方が基板間隔の制御がより容易にな
る。
分散性の方が、パターニングして形成する柱状のスペー
サの厚みムラより大きいので、スペーサとして、ビーズ
状のものを用いるより、パターニングを行ない柱状のス
ペーサを形成する方が基板間隔の制御がより容易にな
る。
【００８８】実施の形態１０ 図１１に示されるように、まず電極基板１として、ツイ
ステッドネマティック（ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉ
ｃ）モード対応の電極構造の基板を用いた。電極基板１
の表示領域外に基板間隔を補正するための膜２５を形成
した。また、対向基板２には、カラー表示を行なうため
の色材層５が形成されているカラーフィルタ基板を用い
た。
ステッドネマティック（ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉ
ｃ）モード対応の電極構造の基板を用いた。電極基板１
の表示領域外に基板間隔を補正するための膜２５を形成
した。また、対向基板２には、カラー表示を行なうため
の色材層５が形成されているカラーフィルタ基板を用い
た。
【００８９】対向基板２上にスピンコート法により感光
性レジストを塗布した。こののち、所定のマスクを用い
パターニングを行ないブラックマトリクス上に柱状スペ
ーサ２４を形成した。また、表示領域外にも同様の方法
でパターニングを行ない柱状スペーサ２４を形成した。
このときのスペーサ２４の高さは４．３μｍとなった。
性レジストを塗布した。こののち、所定のマスクを用い
パターニングを行ないブラックマトリクス上に柱状スペ
ーサ２４を形成した。また、表示領域外にも同様の方法
でパターニングを行ない柱状スペーサ２４を形成した。
このときのスペーサ２４の高さは４．３μｍとなった。
【００９０】対向基板２および電極基板１の所定の領域
に転写法により、配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し
配向膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なっ
た。
に転写法により、配向膜の溶液を塗布したのち、焼成し
配向膜を形成した。そののち、ラビング処理を行なっ
た。
【００９１】電極基板１には、ディスペンサを用い所定
の領域にシール材１３を塗布した。シール材１３にはマ
イクロロッドＰＦ−６０（日本電気硝子（株）製）を約
２ｗｔ％の割合で混合したものを使用した。
の領域にシール材１３を塗布した。シール材１３にはマ
イクロロッドＰＦ−６０（日本電気硝子（株）製）を約
２ｗｔ％の割合で混合したものを使用した。
【００９２】ついで電極基板１と対向基板２を所定の画
素が一致するように重ね合わせたのち、約２００℃およ
び６００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、
電極基板１と対向基板２を接着させた。
素が一致するように重ね合わせたのち、約２００℃およ
び６００ｇ／ｃｍ2の圧力で加熱圧着することにより、
電極基板１と対向基板２を接着させた。
【００９３】このときの基板の断面図を図１１に示す。
シール材１３と電極基板１の表示領域外に形成された膜
２５との距離Ｘ４は５ｍｍであった。
シール材１３と電極基板１の表示領域外に形成された膜
２５との距離Ｘ４は５ｍｍであった。
【００９４】この一対の基板を目的の大きさになるよう
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０８７、誘電率異方性が７．６の液晶を注入し、液晶表
示装置を得た。液晶層の厚さは４．５μｍとなった。
にパネル切断を行ない、そののち、屈折率異方性が０．
０８７、誘電率異方性が７．６の液晶を注入し、液晶表
示装置を得た。液晶層の厚さは４．５μｍとなった。
【００９５】この結果、面内セルギャップ均一性が良く
なるなど、良好な表示特性を有する液晶表示装置が得ら
れる。
なるなど、良好な表示特性を有する液晶表示装置が得ら
れる。
【００９６】本実施の形態では対向基板側に柱状スペー
サを形成し、電極基板側に基板間隔の補正用膜を形成し
たが、対向基板上に基板間隔の補正用膜を形成し、電極
基板側に柱状スペーサを形成しても同様の効果が得られ
る。
サを形成し、電極基板側に基板間隔の補正用膜を形成し
たが、対向基板上に基板間隔の補正用膜を形成し、電極
基板側に柱状スペーサを形成しても同様の効果が得られ
る。
【００９７】なお、前記実施の形態８〜１０において、
表示領域に形成された柱状スペーサに代えて、基板間隔
を保持するためのスペーサを配置することもできる。こ
のとき、対向基板の色材層の厚さをｈ１、電極基板の電
極層の平均厚さをｈ２、表示領域に配置されている基板
間隔を決定するスペーサ径をｈ３、表示領域外に形成さ
れている基板間隔を補正する複数の突起のパターンの高
さをｈ４とすると、 ｈ３<ｈ４ および ｜（ｈ１＋ｈ２+ｈ３）−ｈ４｜＜１．５μｍ のが好ましい。
表示領域に形成された柱状スペーサに代えて、基板間隔
を保持するためのスペーサを配置することもできる。こ
のとき、対向基板の色材層の厚さをｈ１、電極基板の電
極層の平均厚さをｈ２、表示領域に配置されている基板
間隔を決定するスペーサ径をｈ３、表示領域外に形成さ
れている基板間隔を補正する複数の突起のパターンの高
さをｈ４とすると、 ｈ３<ｈ４ および ｜（ｈ１＋ｈ２+ｈ３）−ｈ４｜＜１．５μｍ のが好ましい。
【００９８】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
表示領域と表示領域外との基板間隔をほぼ等しくし、液
晶注入領域を決定するシール材近傍の歪みを緩和するこ
とにより、セルギャップの表示領域での均一性を向上さ
せることができる。この結果、輝度分布の小さい良好な
表示特性を有する液晶表示装置を得ることができる。
表示領域と表示領域外との基板間隔をほぼ等しくし、液
晶注入領域を決定するシール材近傍の歪みを緩和するこ
とにより、セルギャップの表示領域での均一性を向上さ
せることができる。この結果、輝度分布の小さい良好な
表示特性を有する液晶表示装置を得ることができる。
【図１】本発明の液晶表示装置のパネル素形材を示す断
面図である。
面図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の他のパネル素形材を示
す断面図である。
す断面図である。
【図３】本発明の液晶表示装置のパネル素形材の一実施
の形態を示す断面図である。
の形態を示す断面図である。
【図４】本発明の液晶表示装置のパネル素形材の他の一
実施の形態を示す断面図である。
実施の形態を示す断面図である。
【図５】本発明の液晶表示装置のパネル素形材のさらに
一実施の形態を示す平面図である。
一実施の形態を示す平面図である。
【図６】本発明の液晶表示装置のパネル素形材のさらな
る一実施の形態を示す断面図である。
る一実施の形態を示す断面図である。
【図７】本発明の液晶表示装置のパネル素形材のさらな
る一実施の形態を示す断面図である。
る一実施の形態を示す断面図である。
【図８】本発明の液晶表示装置のパネル素形材のさらな
る一実施の形態を示す断面図である。
る一実施の形態を示す断面図である。
【図９】本発明の液晶表示装置のパネル素形材のさらな
る一実施の形態を示す断面図である。
る一実施の形態を示す断面図である。
【図１０】本発明の液晶表示装置のパネル素形材のさら
なる一実施の形態を示す断面図である。
なる一実施の形態を示す断面図である。
【図１１】本発明の液晶表示装置のパネル素形材のさら
なる一実施の形態を示す断面図である。
なる一実施の形態を示す断面図である。
【図１２】従来の切断する前の電極基板および対向基板
の平面図である。
の平面図である。
【図１３】図１２における液晶表示装置の断面図であ
る。
る。
【図１４】従来の圧着工程後の液晶表示装置を示す断面
図である。
図である。
【図１５】従来の切断後の液晶表示装置を示す断面図で
ある。
ある。
１ 電極基板 ２ 対向基板 ３ 電極層 ５ 色材層 ６ 表示領域 ７、１８ スペーサ ８ シール材 １０ 対向基板側に形成された基板間隔の補正用膜 １１ 電極基板側に形成された基板間隔の補正用膜 １２、１７ 基板間隔の補正用シール材 １３ 液晶注入領域を決定するシール材 １４、１５、１６、２２、２３ 膜 １９、２１、２４ 対向基板上の柱状スペーサ ２０ 電極基板上の柱状スペーサ
Claims (14)
- 【請求項１】 電極基板と対向基板とのあいだに配向膜
およびスペーサを介して液晶組成物を狭持し、前記二枚
の基板が液晶組成物の封入領域を決定するシール材によ
り接着されており、前記電極基板上にマトリクス状に配
置された、複数の映像信号と走査信号線に囲まれたスイ
ッチング素子を有する画素部を形成したアクティブマト
リクス型液晶表示装置を製造するためのパネル素形材で
あって、前記電極基板上にシール材により囲まれた液晶
表示を行なうための表示領域と、該電極基板と対向基板
とを重ね合わせたのち、切断して廃棄される、シール材
により囲まれた領域の外側である表示領域外とが存在
し、前記二枚の基板を重ね合わせたとき、前記表示領域
と表示領域外の基板間隔が等しくなるように、表示領域
外に基板間隔を補正する手段を備えており、該手段が、
前記電極基板および対向基板にそれぞれ形成される補正
用膜と該両補正用膜に挟持されるスペーサとからなるこ
とを特徴とする液晶表示装置のパネル素形材。 - 【請求項２】 請求項１記載の液晶表示装置のパネル素
形材において、補正用膜とスペーサに代えて、基板間隔
を補正する手段として、前記電極基板と対向基板とのあ
いだに形成される補正用シール材を用いてなることを特
徴とする液晶表示装置のパネル素形材。 - 【請求項３】 前記基板間隔を補正する補正用シール材
の厚さをｄ０、液晶封入領域を決定するシール材内に混
合されるスペーサ径をｄ１、電極基板の薄膜トランジス
タ部の厚さの差をｄ３とすると、｜（ｄ１＋ｄ３）−ｄ
０｜＜１．０μｍであることを特徴とする請求項２記載
の液晶表示装置のパネル素形材。 - 【請求項４】 前記補正用シール材が前記電極基板およ
び／または対向基板に形成される補正用膜を介して形成
されてなることを特徴とする請求項２記載の液晶表示装
置のパネル素形材。 - 【請求項５】 請求項１記載の液晶表示装置のパネル素
形材において、補正用膜とスペーサに代えて、基板間隔
を補正する手段として、複数の突起を用いてなることを
特徴とする液晶表示装置のパネル素形材。 - 【請求項６】 前記突起が前記電極基板および／または
対向基板に形成される補正用膜を介して形成されてなる
ことを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置のパネル
素形材。 - 【請求項７】 前記突起が、対向基板の色材層の厚さを
ｈ１、電極基板の電極層の平均厚さをｈ２、表示領域に
配置されている基板間隔を決定するスペーサ径をｈ３、
表示領域外に形成されている基板間隔を補正する複数の
突起のパターンの高さをｈ４とすると、 ｈ３<ｈ４ および ｜（ｈ１＋ｈ２+ｈ３）−ｈ４｜＜１．５μｍ を満足することを特徴とする請求項５記載の液晶表示装
置のパネル素形材。 - 【請求項８】 前記表示領域に配置されるスペーサに代
えて、複数の突起が形成されてなることを特徴とする請
求項５または６記載の液晶表示装置のパネル素形材。 - 【請求項９】 前記突起が、対向基板の色材層の厚さを
ｈ１、電極基板の電極層の平均厚さをｈ２、表示領域に
形成されている基板間隔を決定する突起の高さをｈ３、
表示領域外に形成されている基板間隔を補正する複数の
突起のパターンの高さをｈ４とすると、 ｈ３<ｈ４ および ｜（ｈ１＋ｈ２+ｈ３）−ｈ４｜＜１．５μｍ を満足することを特徴とする請求項８記載の液晶表示装
置のパネル素形材。 - 【請求項１０】 前記突起が、半球、円柱または角柱を
呈することを特徴とする請求項５、６、７、８または９
記載の液晶表示装置のパネル素形材。 - 【請求項１１】 前記突起が感光性樹脂からなることを
特徴とする請求項５、６、７、８、９または１０記載の
液晶表示装置のパネル素形材。 - 【請求項１２】 前記表示領域外に形成される補正用膜
が、表示領域と同じプロセスにより形成されてなること
を特徴とする請求項１、４または６記載の液晶表示装置
のパネル素形材。 - 【請求項１３】 液晶注入領域を決定するシール材のパ
ターンと基板間隔を補正する手段との距離が１０ｍｍ以
内であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、
６、７、８、９、１０、１１または１２記載の液晶表示
装置のパネル素形材。 - 【請求項１４】 電極基板と対向基板とのあいだに配向
膜およびスペーサを介して液晶組成物を狭持し、電極基
板上にマトリクス状に配置された、複数の映像信号と走
査信号線に囲まれたスイッチング素子を有する画素部を
形成したアクティブマトリクス型液晶表示装置を製造す
るためのパネル素形材であって、電極基板上にシール材
により囲まれた液晶表示を行なうための表示領域と、対
向基板と重ね合わせたのち、切断して廃棄されるシール
材により囲まれた領域の外側である表示領域外が存在
し、前記二枚の基板を重ね合わせたとき、前記表示領域
と表示領域外の基板間隔が等しくなるように、表示領域
外に基板間隔を補正するスペーサを備えており、表示領
域上の基板間隔を保持するためのスペーサ径をｇ１、表
示領域外のスペーサ径をｇ２、対向基材の色材層の厚さ
をｈ０、電極基板の薄膜トランジスタ部の厚さをｈ１と
すると、 ｜（ｇ１＋ｈ０＋ｈ１）−ｇ２｜＜１．５μｍ であることを特徴とする液晶表示装置のパネル素形材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11224189A JP2001051283A (ja) | 1999-08-06 | 1999-08-06 | 液晶表示装置のパネル素形材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11224189A JP2001051283A (ja) | 1999-08-06 | 1999-08-06 | 液晶表示装置のパネル素形材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001051283A true JP2001051283A (ja) | 2001-02-23 |
| JP2001051283A5 JP2001051283A5 (ja) | 2006-08-31 |
Family
ID=16809927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11224189A Pending JP2001051283A (ja) | 1999-08-06 | 1999-08-06 | 液晶表示装置のパネル素形材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001051283A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002357834A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
| JP2005234302A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-02 | Sanyo Electric Co Ltd | 表示パネルの製造方法及び該製造方法により製造された表示パネル |
| KR100685949B1 (ko) * | 2001-12-22 | 2007-02-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자 및 그 제조방법 |
| US7355667B2 (en) | 2002-09-03 | 2008-04-08 | Hitachi Displays, Ltd. | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
| KR100841990B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2008-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
| KR100898780B1 (ko) * | 2002-04-19 | 2009-05-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시소자의 제조방법 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05188387A (ja) * | 1992-01-17 | 1993-07-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネルの製造方法 |
| JPH0618903A (ja) * | 1991-12-12 | 1994-01-28 | Hosiden Corp | カラー液晶表示素子とその製造方法 |
| JPH06230349A (ja) * | 1993-02-08 | 1994-08-19 | Hitachi Ltd | カラー液晶表示素子 |
| JPH10301096A (ja) * | 1997-04-25 | 1998-11-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子とその製造方法 |
| JPH11119230A (ja) * | 1997-10-14 | 1999-04-30 | Toshiba Corp | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
| JPH11167115A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-06-22 | Sharp Corp | 液晶パネルの製造方法 |
-
1999
- 1999-08-06 JP JP11224189A patent/JP2001051283A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0618903A (ja) * | 1991-12-12 | 1994-01-28 | Hosiden Corp | カラー液晶表示素子とその製造方法 |
| JPH05188387A (ja) * | 1992-01-17 | 1993-07-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネルの製造方法 |
| JPH06230349A (ja) * | 1993-02-08 | 1994-08-19 | Hitachi Ltd | カラー液晶表示素子 |
| JPH10301096A (ja) * | 1997-04-25 | 1998-11-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子とその製造方法 |
| JPH11119230A (ja) * | 1997-10-14 | 1999-04-30 | Toshiba Corp | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
| JPH11167115A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-06-22 | Sharp Corp | 液晶パネルの製造方法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002357834A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
| KR100685949B1 (ko) * | 2001-12-22 | 2007-02-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자 및 그 제조방법 |
| KR100841990B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2008-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
| KR100898780B1 (ko) * | 2002-04-19 | 2009-05-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시소자의 제조방법 |
| US7355667B2 (en) | 2002-09-03 | 2008-04-08 | Hitachi Displays, Ltd. | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
| JP2005234302A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-02 | Sanyo Electric Co Ltd | 表示パネルの製造方法及び該製造方法により製造された表示パネル |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060714 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060714 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20071106 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090601 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090630 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090827 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100302 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100416 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20100609 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101005 |