JP2002334919A - レーザバー保持装置 - Google Patents
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Abstract
同時に露出して保持するレーザバー保持装置を得るこ
と。 【解決手段】 保持枠1の内側に設けた溝に、スペーサ
21〜29を架け渡し、スペーサ21〜29の間にレー
ザバー11〜18を配置し、摺動部3および軸2で押圧
して固定する。また、スペーサ21〜29の長手方向の
長さをレーザバー11〜18の長手方向の長さに比して
大きくし、レーザバー11〜18を保持枠1から3mm
以上離して設置する。
Description
持するレーザバー保持装置に関し、特に一回の固定でレ
ーザバーの出射側端面および反射側端面に成膜可能なレ
ーザバー保持装置に関するものである。
工し、所望の機能を実現している。一般に、基板上には
同時に複数の半導体素子が形成され、基板を劈開するこ
とで各半導体素子を取り出している。
劈開した後、劈開面にさらに薄膜を生成することが行わ
れている。半導体レーザ素子では、この劈開面に対する
成膜で、レーザ光が発振する活性層付近の保護を行うこ
とができる。半導体レーザ素子では、活性層付近に汚染
やこれに伴う劣化が生じやすい。特に、高出力動作させ
る場合、レーザ光の一部が汚染された層に吸収されて発
熱を生じ、この熱によって出射端面が劣化する。半導体
レーザ素子の出射端面は、劈開によって形成されるの
で、この劈開面に誘電体膜を形成することにより、出射
端面を保護することができる。また、出射端面と大気と
の直接の接触を防止するので、自然酸化膜の形成を抑制
することができる。
に低反射膜を成膜することで、レーザ光の出射方向、発
振閾値および出力の調整を行うことができる。高反射膜
および低反射膜は、誘電体膜の種類や膜厚により、反射
率を制御して形成する。反射率は、膜厚に大きく依存す
るため、安定した品質の半導体レーザ素子を得るために
は、劈開面における安定した膜厚制御が重要となる。
下の大きさであるため、各半導体レーザ素子に劈開した
後、単独で劈開面に成膜を行うのは取り扱いが困難で、
膜厚の制御も難しくなる。そのため、まず、半導体レー
ザ素子が横方向に数十個連なったレーザバーの形に劈開
し、つぎに、レーザバーの状態で高反射膜および低反射
膜を成膜し、その後に各半導体レーザ素子に劈開し、切
り分ける手順を用いることが一般的である。
図である。レーザバー11は、半導体基板上に形成され
た半導体レーザ素子を、半導体レーザ素子が横方向に1
8個連なった形に劈開している。レーザバー上の活性層
51は、レーザバー11に含まれる半導体レーザ素子の
うちの一つとして機能する。すなわち、レーザバーは1
8組の活性層を備えており、各活性層と含む形でレーザ
バー11を劈開することで、18個の半導体レーザ素子
を得ることができる。
は、レーザバー11の劈開面11aおよび11bに成膜
することで行われる。レーザバー11の劈開面11a,
11bには、それぞれ高反射膜および低反射膜が成膜さ
れる。レーザバー11は、劈開面11a,11bに対す
る成膜終了後、劈開によって各半導体レーザ素子に切り
分けられる。切り分けられた半導体レーザ素子では、高
反射膜を成膜した面は反射面として、低反射膜を成膜し
た面は出射面として機能する。たとえば、活性層51を
含む半導体レーザ素子52では、高反射膜53、低反射
膜54を備える。高反射膜53は、活性層51で励起し
たレーザ光を反射する反射面として機能する。低反射膜
54は、活性層51で励起したレーザ光を一部出射する
出射面として機能する。
方法としては、プラズマCVD、スパッタリング、蒸
着、イオンプレーティングなどを用いることができる。
この成膜時には、成膜する劈開面を露出してレーザバー
を保持するレーザバー保持装置が用いられる。
されたレーザバーを示す斜視図である。このレーザバー
保持装置では、段差を設けた保持部材61〜67を並べ
てレーザバーを保持する溝を形成し、その溝にレーザバ
ー11〜17を落とし込んでいる。さらに、保持部材に
押圧をかけてレーザバーを固定する。
ザバーを同時に固定し、露出した端面に誘電体膜を生成
することができる。レーザバーの片側に誘電体膜を形成
した後は、押圧を緩めてレーザバーを取り出し、反転さ
せてもう片側を露出して固定する。その後、露出した端
面に誘電体膜を生成することで、レーザバーの出射側端
面と反射側端面とに誘電体膜を形成することができる。
を同時に露出するレーザバー保持装置も用いられてき
た。図10は、レーザバーの出射側面と反射側面とを同
時に露出する従来のレーザバー保持装置を示す図であ
る。このレーザバー保持装置では、段差を設けた保持部
材71,72を、段差を対向させて配置する。さらに、
対向させた段差にレーザバー11〜18を長手方向で架
け渡して保持している。このレーザバー保持装置では、
レーザバーの出射側面と反射側面とを同時に露出して保
持することができる。したがって、レーザバーは、一度
の設置で出射膜および反射膜の成膜が可能となる。
ザバー保持装置も用いられてきた。図11は、レーザバ
ーを単独で保持する従来のレーザバー保持装置を示す図
である。このレーザバー保持装置では、段差を有する保
持部材73,74を、段差面を対向させて設置する。保
持部材74の段差は、レーザバー11の上下方向の位置
決めに用いられる。保持部材73は、レーザバー11に
押圧をかけて固定する。保持部材73の段差は、レーザ
バー11の下面が露出するように設けられている。
3,74によって露出したレーザバーの下面に誘電体膜
の成膜を行うことで、誘電体膜の回り込みを防ぐことが
できる。
た従来のレーザバー保持装置、たとえば図9に示したレ
ーザバー保持装置では、片側に成膜を行った後、レーザ
バーを抜き出して反転させる必要がある。このため、反
転させる作業に時間およびコストがかかるという問題点
があった。また、レーザバーを直接取り扱う作業が増加
するために、半導体レーザ素子に傷や破損を生じ、製造
歩留が低下するという問題点があった。
た、成膜時の反応生成物が段差面に堆積するために、レ
ーザバーごとの設置状態にばらつきが生じ、成膜した誘
電体膜の膜厚および膜質がばらつくという問題点があっ
た。さらに、設置状態が悪いレーザバーにおいては、半
導体レーザ素子の電極面に誘電体膜が生成される回り込
みが生じ、ダイボンディングやワイヤボンディングの密
着性が低下するという問題点があった。
持装置では、レーザバーのうち、保持部材の段差面で支
えられている部分には成膜することができないと言う問
題点があった。このため、レーザバーの両端に位置する
半導体レーザ素子は、誘電体膜の生成が行われず、不良
素子となる。
差面で支えられている部分の近傍では、保持部材の段差
が壁面として作用し、生成された膜の厚さは、中央部分
に比して薄くなるという問題点があった。この壁面の影
響は、ガス状の材料を使用するプラズマCVD装置など
で特に顕著となるが、スパッタ装置、イオンプレーティ
ング装置、真空蒸着装置、イオンビームアシスト蒸着装
置などにおいても、壁面近傍で膜厚が薄くなるなどの膜
質の悪化が見られる。すなわち、従来のレーザバー保持
装置では、成膜の膜厚および膜質を均一にできず、歩留
が低下するという問題点があった。
では、レーザバーの下面から成膜を行うことで、誘電体
膜の回り込みを防ぐことができるが、下面にレーザバー
の保持と位置決めとを行う段差が存在するために、段差
部分に誘電体膜を生成できないという問題があった。ま
た、片側に成膜を行った後、レーザバーを抜き出して反
転させる必要がある。このため、反転させる作業に時間
およびコストがかかるという問題点があった。また、レ
ーザバーを直接取り扱う作業が増加するために、半導体
レーザ素子に傷や破損を生じ、製造歩留が低下するとい
う問題点があった。さらに、レーザバーを単独で成膜す
るために、生産性が著しく低下するという問題点があっ
た。
って、レーザバーの出射側面と反射側面とを同時に露出
した状態を保持し、一度の設置でレーザバーの反射膜と
出射膜との成膜が可能なレーザバー保持装置を提供する
ことを目的とする。
一に成膜可能で、回り込みを防止し、半導体レーザ素子
の歩留まりを向上できるレーザバー保持装置を提供する
ことを目的とする。
成膜可能で、半導体レーザ素子の生産性を向上できるレ
ーザバー保持装置を提供することを目的とする。
め、請求項1にかかるレーザバー保持装置は、レーザバ
ーの出射側面および反射側面に成膜を行うために該レー
ザバーを保持するレーザバー保持装置であって、互いに
平行に配した1対のガイド部と、前記ガイド部に架け渡
され、前記ガイド部の長手方向に移動可能であり、前記
レーザバーの出射側面および反射側面を露出して該レー
ザバーを狭持する複数の保持部材と、前記レーザバーを
狭持した状態で前記保持部材を固定する固定手段と、を
備えたことを特徴とする。
保持装置は、ガイド部に沿ってスライドする保持部材で
レーザバーを挟んで押圧し、レーザバーの出射側面およ
び反射側面を露出して固定する。
置は、上記の発明において、前記1対のガイド部に溝を
形成し、該溝に前記保持部材の端部を架け渡したことを
特徴とする。
は、ガイド部の長手方向に形成された溝に架け渡されて
スライドし、レーザバーを狭持する。
置は、上記の発明において、複数の前記レーザバーと前
記複数の保持部材とを交互に配置し、前記固定手段で固
定することを特徴とする。
と保持部材とを交互に配置し、保持部材をスライドさせ
ることで、複数のレーザバーを同時に保持する。
置は、上記の発明において、前記レーザバーの長手方向
の両端は、前記1対のガイド部から少なくとも3mmの
距離をおいて固定されることを特徴とする。
の両端は、ガイド部から3mm以上の距離をおいて固定
され、レーザバーの近傍に壁面を構成することを回避し
ている。
置は、上記の発明において、前記1対のガイド部に接続
され、該1対のガイド部を互いに平行な状態に固定する
ガイド部接続手段をさらに備え、前記レーザバーは、前
記ガイド部接続手段から少なくとも3mmの距離をおい
て固定されることを特徴とする。
は、ガイド部を平行な状態に固定するガイド部接続手段
から3mm以上の距離をおいて固定され、レーザバーの
近傍に壁面を構成することを回避している。
置は、上記の発明において、前記レーザバーの出射側面
および反射側面は、前記保持部材から突出していること
を特徴とする。
の出射側面および反射側面を、保持部材から突出させる
ことで、レーザバーの近傍に壁面を構成することを回避
している。
置は、上記の発明において、前記1対のガイド部を載置
するガイド部載置面と、前記レーザバーを載置するレー
ザバー載置面と、を有するレーザバー設置台をさらに備
え、前記ガイド部載置面に載置した前記1対のガイド部
は、前記ガイド部載置面から前記溝までの高さが、前記
レーザバー載置面の高さに比して高く、前記レーザバー
載置面に載置した前記レーザーバーは、その上面が、前
記溝に架け渡した保持部材の上面に比して高いことを特
徴とする。
ガイド部載置面に載置し、レーザバーをレーザバー載置
面に載置することで、ガイド部に架け渡された保持部材
とレーザバーとの位置決めを行い、レーザバーの出射側
面および反射側面を保持部材から突出させて保持する。
発明に係るレーザバー保持装置の好適な実施の形態を詳
細に説明する。
の形態1であるレーザバー保持装置の斜視図である。ま
た、図2は、図1に示したレーザバー保持装置のA−A
線断面図、図3は、図1に示したレーザバー保持装置の
B−B線断面図である。
保持枠1と、枠内をスライドする摺動部3と、摺動部3
のスライドと固定とを行う軸2と、を備える。保持枠1
は、枠材1a,1b,1c,1dからなる。枠材1aと
枠材1cとはその長手方向に溝を有し、枠材1aの溝と
枠材1cの溝とは対向している。また、枠材1bと枠材
1dとは対向している。さらに、枠材1dは、軸2を貫
挿する貫通孔を有している。
溝と枠材1cの溝とにスペーサ21〜29を架け渡して
いる。さらに、架け渡したスペーサ21〜29の間に、
レーザバー11〜18を配置している。
1がなす平面に対して平行な2面が同時に露出して保持
されることとなる。すなわち、この2面が反射膜の成膜
面および出射膜の成膜面となるように配置することで、
反射膜の成膜面と、出射膜の成膜面とを同時に露出して
保持することができる。
さは、レーザバー11〜18の長手方向の長さに比して
大きくしておく。さらに、レーザバー11〜18を枠材
1aおよび1cからそれぞれ3mm以上離して配置す
る。また、レーザバー11と枠材1bとの間にスペーサ
21を挿入し、レーザバー18と摺動部3との間にスペ
ーサ29を挿入する。このため、レーザバー11〜18
は、枠材1a〜1dから距離を置いて配置することがで
き、レーザバーの反射膜の成膜面および出射膜の成膜面
の近傍に壁面を形成することを避けることができる。
な方向のスペーサ21〜29の幅は、保持枠1がなす平
面に対して垂直な方向のレーザバー11〜18の幅と等
しくしておく。また、枠材1aおよび枠材1cの溝は、
その幅を保持枠1がなす平面に対して垂直な方向のスペ
ーサ21〜29の幅よりも大きくし、スペーサがスライ
ド可能な状態にする。
れ切り欠きを有し、切り欠きを対向させる事でスペーサ
挿入口を形成する。スペーサ21〜29は、スペーサ挿
入口から挿入および取り出しが可能で、成膜するレーザ
バーの数に合わせてスペーサの数を増減させることがで
きる。
cの溝とに架け渡される。さらに、摺動部3は軸2と接
続される。軸2は、枠材1dの貫通孔に貫挿され、軸2
を動かすことで、摺動部3をスライドする。摺動部3
は、スライドによってスペーサ21〜29よびレーザバ
ー11〜18に押圧することができる。さらに、スペー
サ21〜29およびレーザバー11〜18に押圧した状
態で、軸2を固定し、スペーサ21〜29およびレーザ
バー11〜18を固定することができる。
順について説明する。まず、設置台4の上に保持枠1を
載置する。設置台4は、保持枠載置面4aとレーザバー
載置面4bとを有する。保持枠載置面4aからレーザバ
ー載置面4bまでの高さは、保持枠1の下面から溝まで
の高さと同じである。つぎに、保持枠1のスペーサ挿入
口からスペーサ21を挿入する。つづいて、レーザバー
載置面4bにレーザバー11を配置する。
バー載置面4bと同じである。また、スペーサ21は、
枠材1aの溝と枠材1cとの溝に架け渡して保持される
ので、その下面は、レーザバー載置面4bと同じ高さと
なる。したがって、レーザバー11の下面と、スペーサ
21の下面は、同一平面上に存在することになる。
は、保持枠1がなす面に対して垂直な方向の幅が同じで
ある。したがって、レーザバー11の上面とスペーサ2
1の上面とは、同一平面上に存在することになる。
ペーサ22を挿入し、レーザバー載置面4bにレーザバ
ー12を配置する。スペーサ22とレーザバー12との
場合においても、その上面と下面は、スペーサ21とレ
ーザバー11との場合と同様に、それぞれ同一の平面に
存在することとなる。さらに、スペーサ23〜29の挿
入とレーザバー13〜18の配置とを交互に行う。この
場合においても、その上面と下面とは、スペーサ21と
レーザバー11との場合と同様に、それぞれ同一の平面
に存在することとなる。
イドさせ、スペーサ21〜29およびレーザバー11〜
18に押圧をかけて固定する。
装置は、保持枠1の内側に設けた溝に、レーザバー11
〜18と同一の幅を有するスペーサ21〜29を架け渡
し、スペーサ21〜29の間にレーザバー11〜18を
配置し、摺動部3および軸2で押圧をかけて固定してい
る。また、スペーサ21〜29の長手方向の長さをレー
ザバー11〜18の長手方向の長さに比して大きくし、
レーザバー11〜18を保持枠1の枠材1a〜1dから
3mm以上離して設置するようにしている。
出射側面と、反射側面とを同時に露出して保持できるの
で、一度の設置で低反射膜と、高反射膜とを成膜するこ
とができる。したがって、レーザバーを直接取り扱う作
業を低減し、レーザバーに傷や破損が生じる可能性を低
減することができる。
上離して固定することで、レーザバーの近傍における壁
面の形成を回避できるので、壁面による成膜の不均一を
回避できる。
ので、レーザバーの出射側面と反射側面とを完全に露出
して保持することができ、その全面に均一に成膜を行う
ことができる。
任意の数のレーザバーを同時に保持することができる。
の形態2であるレーザバー保持装置の斜視図である。ま
た、図5は、図4に示したレーザバー保持装置のC−C
線断面図であり、図6は、図4に示したレーザバー保持
装置のD−D線断面図である。
持装置は、内部に溝を設けた保持枠31と、枠内をスラ
イドする摺動部33と、摺動部33のスライドと固定と
を行う軸32と、を備える。保持枠31は、枠材31
a,31b,31c,31dからなる。枠材31aと枠
材31cとはその長手方向に溝を有し、枠材31aの溝
と枠材31cの溝とは対向している。また、枠材31b
と枠材31dとは対向している。さらに、枠材31d
は、軸32を貫挿する貫通孔を有している。
の溝と枠材31cの溝とにスペーサ41〜49を架け渡
している。さらに、架け渡したスペーサ41〜49の間
に、レーサバー11〜18を配置している。
31がなす平面に対して平行な2面が同時に露出して保
持されることとなる。すなわち、この2面が反射側面お
よび出射側面となるように配置することで、反射側面
と、出射側面とを同時に露出して保持することができ
る。
さは、レーザバーの長手方向の長さに比して大きくして
おく。さらに、レーザバー11〜18を枠材31aおよ
び枠材31cからそれぞれ3mm以上離して配置する。
また、レーザバー11と枠材1bとの間にスペーサ21
を挿入し、レーザバー18と摺動部3との間にスペーサ
49を挿入する。このため、レーザバーの反射側面およ
び出射側面の近傍に壁面を形成することを避けることが
できる。
直な方向のスペーサ41〜49の幅は、保持枠31がな
す平面に対して垂直な方向のレーザバー11〜18の幅
に比して小さくしておく。また、枠材31aおよび枠材
31cの溝は、その幅を保持枠1がなす平面に対して垂
直な方向のスペーサ41〜49の幅よりも大きくし、ス
ペーサがスライド可能な状態にする。
れぞれ切り欠きを有し、切り欠きを対向させる事でスペ
ーサ挿入口を形成する。スペーサ41〜49は、スペー
サ挿入口から挿入および取り出しが可能で、成膜するレ
ーザバーの数に合わせてスペーサの数を増減させること
ができる。
材31cの溝とに架け渡される。さらに、摺動部33は
軸32と接続される。軸32は、枠材31dの貫通孔に
貫挿され、軸32を動かすことで、摺動部33がスライ
ドする。摺動部33は、スライドによってスペーサ41
〜49およびレーザバー11〜18に押圧をかけること
ができる。さらに、スペーサ41〜49およびレーザバ
ー11〜18に押圧をかけた状態で、軸32を固定し、
スペーサ41〜49およびレーザバー11〜18を固定
することができる。
順について説明する。まず、設置台34の上に保持枠3
1を設置する。設置台34は、保持枠載置面34aとレ
ーザバー載置面34bとを有する。保持枠載置面34a
からレーザバー載置面34bまでの高さは、保持枠31
の下面から溝までの高さに比して低くし、かつ、レーザ
バー載置面34b上に設置したレーザバーの上面の高さ
が、保持枠31の溝に架け渡したスペーサの上面に比し
て高くなるようにする。つぎに、保持枠31のスペーサ
挿入口からスペーサ41を挿入する。つづいて、レーザ
バー載置面34bにレーザバー11を配置する。
バー載置面34bと同じ高さとなる。また、スペーサ4
1は、枠材31aの溝と枠材31cとの溝に架け渡して
保持されるので、その下面は、レーザバー載置面34b
の上面に比して高くなる。したがって、レーザバー11
の下面は、スペーサ41の下面に比して低くなる。ま
た、レーザバー11の上面は、スペーサ41の上面に比
して高くなる。
スペーサ42を挿入し、レーザバー載置面34bにレー
ザバー12を配置する。スペーサ42とレーザバー12
との場合においても、レーザバー12の下面は、スペー
サ42の下面に比して低くなり、レーザバー12の上面
は、スペーサ42の上面に比して高くなる。さらに、ス
ペーサ43〜49の挿入と、レーザバー13〜18の配
置を交互に行う。
スライドさせ、スペーサ41〜49およびレーザバー1
1〜18に押圧をかけて固定する。
スペーサ41〜49の幅と、レーザバー11〜18の幅
との差は、40〜100μmとするのが好ましい。レー
ザバーの幅とスペーサの幅とを同一の値に設計した場
合、製造のばらつきや、配置のばらつきのために、レー
ザバーの高さとスペーサの高さとを揃えることは困難で
ある。レーザバーの高さと、スペーサの高さとがずれが
生じた場合、成膜した誘電体の膜厚に影響を与える。図
7は、レーザバーのスペーサに対する突出量と、成膜し
た誘電体膜の膜厚との相関関係を示す図である。スペー
サがレーザバーに対して突出している場合、すなわち、
レーザバーの突出量が負の値となる場合には、膜厚は小
さくなり、成膜の均一性を損なう。
た場合は、その突出量が問題となる。レーザバーの突出
量が小さい場合は、適切な成膜が行える。しかし、レー
ザバーの突出量が大きい場合は、成膜した面の周囲の面
に成膜材料が回りこんで付着する。成膜材料が周囲の面
に回りこんで付着すると、ダイボンディングやワイヤボ
ンディングなどの後の工程において接触不良を引き起こ
す原因となる。
ーサと同一の高さか、成膜材料の回り込みを生じない程
度に突出していることが求められる。スペーサ41〜4
9の幅と、レーザバー11〜18の幅との差を40〜1
00μmとし、レーザバー載置面34bの高さを、保持
枠31の下面から溝までの高さに比して20〜50μm
低くすることで、レーザバー載置面34bに設置したレ
ーザバーは、その上面の高さが、保持枠31の溝に架け
渡したスペーサの上面に比して20〜50μm高くな
る。ここで、スペーサおよびレーザバーに製造のばらつ
きや配置のばらつきが生じたとしても、レーザバー上面
を、スペーサの上面から突出させるか、スペーサの上面
と同一の高さに保つことができる。
装置は、保持枠31の内側に設けた溝に、レーザバー1
1〜18に比して幅の小さいスペーサ41〜49を架け
渡し、スペーサ41〜49の間にレーザバー11〜18
を配置し、摺動部33および軸32で押圧をかけて固定
している。また、スペーサ41〜49の長手方向の長さ
をレーザバー11〜18の長手方向の長さに比して大き
くし、レーザバー11〜18を保持枠31の枠材31a
〜31dから3mm以上離して設置するようにしてい
る。
出射側面と、反射側面とを同時に露出して保持できるの
で、一度の設置で低反射膜と、高反射膜とを行うことが
できる。したがって、レーザバーを直接取り扱う作業を
低減し、レーザバーに傷や破損が生じる可能性を低減す
ることができる。
以上離して固定することで、レーザバーの近傍における
壁面の形成を回避できるので、壁面による成膜の不均一
を回避できる。
るので、レーザバーの出射側の端面と反射側の端面とを
完全に露出して保持することができ、その全面に均一に
成膜を行うことができる。
任意の数のレーザバーを同時に保持することができる。
せて保持するので、レーザバーおよびスペーサの製造ば
らつきや、配置のばらつきにマージンを持たせ、成膜を
均一にかつ、歩留良く行うことができる。
よれば、レーザバー保持装置は、ガイド部に沿ってスラ
イドする保持部材でレーザバーを挟んで押圧をかけ、レ
ーザバーの出射側面および反射側面を同時に露出して固
定するので、一度の設置でレーザバーの出射側面と反射
側面とを成膜可能なレーザバー保持装置を得ることがで
きるという効果を奏する。
は、ガイド部の長手方向に形成された溝に架け渡されて
スライドし、レーザバーを狭持するので、レーザバーの
出射側面および反射側面を、同時に露出して固定し、一
度の設置でレーザバーの出射側面と反射側面とを成膜可
能なレーザバー保持装置を簡易な構成で得ることができ
るという効果を奏する。
ーと保持部材とを交互に配置し、保持部材をスライドさ
せることで、複数のレーザバーを同時に保持するので、
複数のレーザバーの出射側面および反射側面を、一度の
設置で成膜可能なレーザバー保持装置を得ることができ
るという効果を奏する。
ーの両端は、ガイド部から3mm以上の距離をおいて固
定され、レーザバーの近傍に壁面を構成することを回避
しているので、レーザバーの出射側面および反射側面の
両端部近傍においても成膜の均一性を確保できるレーザ
バー保持装置を実現し、半導体レーザ素子の歩留を向上
できるという効果を奏する。
ーは、ガイド部を平行な状態に固定するガイド部接続手
段から3mm以上の距離をおいて固定され、レーザバー
の近傍に壁面を構成することを回避しているので、保持
枠の近傍に設置されたレーザバーの出射側面および反射
側面に対して、均一に成膜可能なレーザバー保持装置を
得ることができるという効果を奏する。
ーの出射側面および反射側面を、保持部材から突出させ
ることで、レーザバーの近傍に壁面を構成することを回
避しているので、レーザバーへの成膜の均一性を向上し
たレーザバー保持装置を実現し、半導体レーザバーの歩
留を向上することができるという効果を奏する。
をガイド部載置面に載置し、レーザバーをレーザバー載
置面に載置することで、ガイド部に架け渡された保持部
材とレーザバーとの位置決めを行い、レーザバーの出射
側面および反射側面を保持部材から突出させて保持する
ので、レーザバーと保持部材との位置決めを簡便に行
い、成膜の均一性を向上したレーザバー保持装置を実現
することができるという効果を奏する。
装置の斜視図である。
面図である。
面図である。
装置の斜視図である。
面図である。
面図である。
した誘電体膜の膜厚との相関関係を示す図である。
バーを示す斜視図である。
時に露出する従来のレーザバー保持装置を示す図であ
る。
ー保持装置を示す図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 レーザバーの出射側面および反射側面に
成膜を行うために該レーザバーを保持するレーザバー保
持装置であって、 互いに平行に配した1対のガイド部と、 前記ガイド部に架け渡され、前記ガイド部の長手方向に
移動可能であり、前記レーザバーの出射側面および反射
側面を露出して該レーザバーを狭持する複数の保持部材
と、 前記レーザバーを狭持した状態で前記保持部材を固定す
る固定手段と、 を備えたことを特徴とするレーザバー保持装置。 - 【請求項2】 前記1対のガイド部に溝を形成し、該溝
に前記保持部材の端部を架け渡したことを特徴とする請
求項1に記載のレーザバー保持装置。 - 【請求項3】 複数の前記レーザバーと前記複数の保持
部材とを交互に配置し、前記固定手段で固定することを
特徴とする請求項1または2に記載のレーザバー保持装
置。 - 【請求項4】 前記レーザバーの長手方向の両端は、前
記1対のガイド部から少なくとも3mmの距離をおいて
固定されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一
つに記載のレーザバー保持装置。 - 【請求項5】 前記1対のガイド部に接続され、該1対
のガイド部を互いに平行な状態に固定するガイド部接続
手段をさらに備え、 前記レーザバーは、前記ガイド部接続手段から少なくと
も3mmの距離をおいて固定されることを特徴とする請
求項1〜4のいずれか一つに記載のレーザバー保持装
置。 - 【請求項6】 前記レーザバーの出射側面および反射側
面は、前記保持部材から突出していることを特徴とする
請求項1〜5のいずれか一つに記載のレーザバー保持装
置。 - 【請求項7】 前記1対のガイド部を載置するガイド部
載置面と、前記レーザバーを載置するレーザバー載置面
と、を有するレーザバー設置台をさらに備え、 前記ガイド部載置面に載置した前記1対のガイド部は、
前記ガイド部載置面から前記溝までの高さが、前記レー
ザバー載置面の高さに比して高く、 前記レーザバー載置面に載置した前記レーザーバーは、
その上面が、前記溝に架け渡した保持部材の上面に比し
て高いことを特徴とする請求項1〜6のいずれかひとつ
に記載のレーザバー保持装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001139290A JP2002334919A (ja) | 2001-05-09 | 2001-05-09 | レーザバー保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001139290A JP2002334919A (ja) | 2001-05-09 | 2001-05-09 | レーザバー保持装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002334919A true JP2002334919A (ja) | 2002-11-22 |
Family
ID=18986082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001139290A Pending JP2002334919A (ja) | 2001-05-09 | 2001-05-09 | レーザバー保持装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002334919A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111167658A (zh) * | 2020-02-19 | 2020-05-19 | 浙江百岸科技有限公司 | 氮氧传感器芯片的夹持设备及侧面涂覆设备 |
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-
2001
- 2001-05-09 JP JP2001139290A patent/JP2002334919A/ja active Pending
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