JP2002248726A - 積層ポリエステルフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐ブロッキング性、平坦性、巻取り性、加工
適性に優れ、金属蒸着薄膜型磁気記録媒体としたときに
電磁変換特性に優れた積層ポリエステルフィルムを提供
する。 【解決手段】 ポリエステル層Ａと、該層Ａの片面に積
層した、ポリマーの固有粘度が０．５５以上、末端カル
ボキシル基濃度が３６ｅｑ／１０⁶ｇ以上であり、かつ
平均粒径が５０〜１０００ｎｍでかつ該層Ａに含まれる
不活性粒子Ａの平均粒径より大きい不活性粒子Ｂを０．
００１〜１重量％含有するポリエステル層Ｂとよりなる
積層ポリエステルフイルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は積層ポリエステルフ
イルムに関し、さらに詳しくは電磁変換特性、走行耐久
性に優れた磁気記録媒体、特にデジタル信号を記録・再
生する強磁性金属薄膜型磁気記録媒体、例えばデジタル
ビデオカセットテープ、データストレージテープ等のベ
ースフィルムとして有用な積層ポリエステルフィルムに
関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度記録化の進
歩はめざましく、例えば強磁性金属薄膜を真空蒸着やス
パッタリングなどの物理沈着法またはメッキ法により非
磁性支持体上に形成させた強磁性金属薄膜型磁気記録媒
体の開発、実用化が進められている。具体的には、Ｃｏ
の蒸着テープ（特開昭５４―１４７０１０号公報）、Ｃ
ｏ―Ｃｒ合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２―
１３４７０６号公報）が知られている。

【０００３】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は、磁性層の厚みが２μm程度
以上と厚く、また記録密度が低く、記録波長も長い。こ
れに対し、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体における金属
薄膜（磁性層）は、厚みが０．２μm以下と非常に薄く
なっている。

【０００４】このため、非磁性支持体（ベースフィル
ム）の表面状態が磁気記録層の表面性に影響する程度
は、金属薄膜の方が遥かに大きい。すなわち、強磁性金
属薄膜型磁気記録媒体の場合、非磁性支持体の表面状態
が、そのまま金属薄膜の表面凹凸として発現し、それが
記録・再生信号の雑音の原因となる。従って、非磁性支
持体の表面は、できるだけ平滑であることが望ましい。

【０００５】一方、非磁性支持体の製膜、加工工程での
搬送、巻き取り、巻出しといったハンドリングの観点か
らは、フィルムが滑り性に優れることが好ましい。フィ
ルム表面が平滑過ぎると、フィルム―フィルム相互の滑
り性が悪化し、かつまた表面に傷が生じ易くなり、製品
歩留りの低下、ひいては製造コストの上昇をきたす。従
って、製造コストという観点では、非磁性支持体の表面
はできるだけ粗いことが好ましい。

【０００６】また、金属薄膜型磁気記録媒体の場合に
は、金属薄膜とベースフィルムとの密着性を良好にする
ため、金属薄膜成形前に、イオンボンバード処理と呼ば
れる、ベースフィルム表面をイオンにより活性化する処
理を行なう。そして、金属薄膜成形時には、フィルム表
面にかなり高温の熱がかかり、ベースフィルムが融解し
たり、機械特性などの物性が低下しないように、フィル
ムの背面を冷却する。この背面冷却には、通常、ドラム
状冷却体にベースフィルムを巻き付け方法が採用される
が、その際、ドラム表面に金属薄膜が形成されないよう
にベースフィルム両端をマスキングする。

【０００７】従って、上記蒸着工程を通過したフィルム
ロールの両端部には、このマスキングによって金属薄膜
の形成されなかった部分が、イオンボンバード処理によ
って表面活性化された状態のままで、長手方向に連続的
に存在する。そして、この部分は、ロール状に巻き上げ
られた状態では、反対面側と高い力で接触することにな
り、ブロッキングを引き起しやすくなる。金属薄膜型磁
気記録媒体を製造する際には、金属薄膜を蒸着した後
に、バックコート層および必要に応じてトップコート層
を設けるが、これらの加工工程において上記ブロッキン
グが発生していると、ベースフィルムの切断やしわが発
生しやすくなり、収率が大幅に低下してしまうという問
題が生じる。このようなブロッキングを防ぐためには、
非磁性支持体の表面は粗い方が好ましい。

【０００８】このように、非磁性支持体の表面は、電磁
変換特性という観点からは平滑であることが要求され、
他方ハンドリング性、製造コスト、ブロッキング防止の
観点からは、粗いことが要求される。

【０００９】上記のような相反する要求を満たすため、
２つの層からなり、一方の層の表面よりも他方の層の表
面を粗くした積層フィルム（例えば特公平１−２６３３
８号）が提案されている。しかし、この積層フィルム
は、粗面層の高い突起が平坦面層の表面に転写したり、
粗面層に添加した大きな粒子による平坦面層への突き上
げ効果により、磁気記録媒体としたときの電磁変換特性
が悪化するという問題を抱えている。

【００１０】また、ベースフイルム内部の触媒残渣（微
粒子）によって表面平滑性が低下するのを防止する方策
として、平滑面層の原料としてゲルマニウム化合物を重
合触媒とし、特定量のゲルマニウムとリンを含有するポ
リエステルを使用した積層フイルム（例えば特開平１２
−１５６９５号）が提案されている。しかし、この積層
フィルムでも、フイルム製造時あるいは先述の金属薄膜
加工工程において粗面層表面からの突起の脱落やオリゴ
マー等、異物のブリードアウトが生じ、各製造工程でこ
れら異物が平滑面層の平滑性を低下させるという問題を
抱えている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、この
ような従来技術の欠点を解消し、耐ブロッキング性、平
坦性、加工適性に優れ、金属蒸着薄膜型磁気記録媒体と
したときに優れた電磁変換特性を奏する積層ポリエステ
ルフィルムを提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、ポリエステル層Ａと、該層Ａの片面に積層し
た、ポリマーの固有粘度が０．５５以上、末端カルボキ
シル基濃度が３６ｅｑ／１０⁶ｇ以上であり、かつ平均
粒径が５０〜１０００ｎｍでかつ該層Ａに含まれる不活
性粒子Ａの平均粒径より大きい不活性粒子Ｂを０．００
１〜１重量％含有するポリエステル層Ｂとよりなる積層
ポリエステルフイルムによって達成される。

【００１３】本発明は、好ましい態様として、不活性粒
子Ｂが架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポ
リエステル、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化
ケイ素、カオリン及びクレーからなる群から選ばれる少
なくとも１種の粒子であること、ポリエステル層Ｂが炭
素数８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコ
ールからなる（部分ケン化）エステルワックスを含有す
ること、ポリエステル層Ｂ表面の十点平均粗さ（ＷＲｚ
Ｂ）が３０〜３００ｎｍであること、ポリエステル層Ａ
表面の表面粗さ（ＷＲａＡ）が０．１〜４ｎｍであるこ
と、ポリエステル層Ａが実質的に粒子を含有しないか、
平均粒径３０〜４００ｎｍの不活性粒子Ａを０．００１
〜０．２重量％含有すること、ポリエステル層Ａの表面
に皮膜層Ｃが積層されていること、皮膜層Ｃが平均粒径
１０〜５０ｎｍ、体積形状係数０．１〜π／６の不活性
粒子Ｃを０．５〜３０重量％含有すること、フィルムの
厚さが２μｍ以上８μｍ未満であること、層Ａまたは層
Ｂのポリエステルがポリエチレンテレフタレートである
か、ポリエチレン−２，６−ナフタレートであること、
ポリエステル層Ａまたは皮膜層Ｃの表面が磁性層を設け
る面であること、磁性層が強磁性金属薄膜層であるこ
と、などを包含する。

【００１４】本発明は、また、上記積層ポリエステルフ
イルムを支持体とする磁気記録媒体を包含する。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明の積層ポリエステルフィル
ムは、ポリエステル層Ａの片面にポリエステル層Ｂを積
層した積層フィルムである。

【００１６】前記ポリエステル層Ａ、層Ｂを形成するポ
リエステルＡ、Ｂとしては、脂肪族ポリエステル、芳香
族ポリエステルが挙げられるが、特に芳香族ポリエステ
ルが好ましい。ポリエステルＡ、Ｂは同じ種類でも、異
なる種類であっても良い。

【００１７】前記芳香族ポリエステルとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シ
クロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−２，６−ナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナ
フタレンジカルボキシレート）などを例示することがで
きる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン−２，６−ナフタレートが好ましい。

【００１８】これらポリエステルは、ホモポリエステル
であっても、コポリエステルであっても良い。コポリエ
ステルの場合、例えば、ポリエチレンテレフタレートま
たはポリエチレン−２，６−ナフタレートの共重合成分
としては、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコ
ール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコー
ル、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−キシリ
レングリコールなどの他のジオール成分、アジピン酸、
セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸
（ただし、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの場
合）、２，６−ナフタレンジカルボン酸（ただし、ポリ
エチレンテレフタレートの場合）、５−ナトリウムスル
ホイソフタル酸などの他のジカルボン酸成分、ｐ−オキ
シエトキシ安息香酸などのオキシカルボン酸成分などが
挙げられる。これら共重合成分の量は、本発明の効果を
損なわない限り、２０モル％以下、さらには１０モル％
以下であることが好ましい。

【００１９】さらにトリメリット酸、ピロメリット酸、
ペンタエリスリトールなどの３官能以上の多官能化合物
を共重合させることも出来る。この場合、ポリマーが実
質的に線状である量、例えば２モル％以下で、共重合さ
せるのが良い。

【００２０】ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−２，６−ナフタレート以外の他のポリエステルの場
合の共重合成分についても、上記と同様に考えるとよ
い。

【００２１】前記ポリエステルには、さらに、本発明の
効果を損なわない程度であれば、顔料、染料、酸化防止
剤、帯電防止剤、光安定剤、遮光剤（例えばカーボンブ
ラック、酸化チタン等）の如き添加剤を必要に応じて含
有させることができる。

【００２２】本発明における積層ポリエステルフイルム
は、ポリエステル層Ａ、層Ｂが同じポリエステルからな
るのが好ましいが、異なるポリエステルからなってもよ
い。例えば、層Ａ、層Ｂが共にポリエチレンテレフタレ
ート又はポリエチレン−２，６−ナフタレートからなる
積層フィルムが好ましいが、層Ａ（又は層Ｂ）がポリエ
チレンテレフタレート、層Ｂ（又は層Ａ）がポリエチレ
ン−２，６−ナフタレートからなる積層フィルムであっ
てもよい。

【００２３】前記ポリエステル層Ａを形成するポリエス
テルＡは、従来から知られている方法で製造することが
できる。例えば、ポリエチレンテレフタレートはテレフ
タル酸とエチレングリコールとをエステル化反応または
ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとをエス
テル交換反応せしめ、次いで反応生成物を重縮合せしめ
る方法で製造することができる。

【００２４】上記の方法（溶融重合）により得られたポ
リエステルは、必要に応じて固相状態での重合方法（固
相重合）により、さらに重合度の高いポリマーとするこ
とができる。

【００２５】この重合において公知の触媒を用いること
ができ、溶融重合でのエステル交換触媒としてはマンガ
ン、カルシウム、マグネシウム、チタンの酸化物、塩化
物、炭酸塩、カルボン酸塩等が好ましく、特に酢酸塩即
ち、酢酸マンガン、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウ
ム、酢酸チタンが好ましく挙げられる。

【００２６】また、重縮合触媒としては、アンチモン化
合物、チタン化合物、ゲルマニウム化合物が挙げられ
る。

【００２７】前記アンチモン化合物としては、三酸化ア
ンチモン、五酸化アンチモン、酢酸アンチモン等が好ま
しく挙げられる。

【００２８】前記チタン化合物としては、有機チタン化
合物が好ましく挙げられ、例えば特開平５−２９８６７
０号に記載されているものを挙げることができる。更に
説明すると、チタンのアルコラートや有機酸塩、テトラ
アルキルチタネートと芳香族多価カルボン酸又はその無
水物との反応物等を例示でき、好ましい具体例としてチ
タンテトラブトキシド、チタンイソプロポキシド、蓚酸
チタン、酢酸チタン、安息香酸チタン、トリメリット酸
チタン、テトラブチルチタネートと無水トリメリット酸
との反応物等を挙げることができる。

【００２９】また、前記ゲルマニウム化合物としては、
例えば特許２７９２０６８号に記載されているものを挙
げることができる。更に説明すると、（イ）無定形酸化
ゲルマニウム、（ロ）結晶性ゲルマニウム、（ハ）酸化
ゲルマニウムをアルカリ金属又はアルカリ土類金属もし
くはそれらの化合物の存在下にグリコールに溶解した溶
液、および（ニ）酸化ゲルマニウムを水に溶解し、これ
にグリコールを加え水を留去して調製した酸化ゲルマニ
ウムのグリコール溶液、等を挙げることができる。

【００３０】また、前記ポリエステルＡには熱安定性を
維持するために従来ポリエステルの製造工程で添加され
るリン化合物を含有させることが好ましい。このリン化
合物は特に限定されないが、正リン酸、亜リン酸、トリ
メチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリ-
ｎ-ブチルホスフェートが好ましく挙げられる。

【００３１】前記ポリエステル層Ａにおけるポリマーの
固有粘度は０．４５以上が好ましい。更に好ましくは
０．４７以上であり、特に好ましくは０．５０以上であ
る。このポリエステル層Ａにおけるポリマーの固有粘度
が０．４５に満たない場合、オリゴマー等のブリードア
ウトや製膜巻取り工程での破断等が生じ、好ましくな
い。

【００３２】ポリエステル層Ａにおけるポリマーの固有
粘度を０．４５以上にする方法としては、原料ポリマー
の固有粘度を高くしておく方法や、溶融押出し条件のマ
イルド化（ポリマー劣化をできるだけ抑制する押出し条
件の採用）等が用いられる。

【００３３】本発明におけるポリエステル層Ａは、実質
的に粒子を含有しないものでもよく、不活性粒子Ａを含
有するものでもよい。ポリエステル層Ａが実質的に粒子
を含有しない場合、磁気記録媒体としたとき優れた電磁
変換特性が得られるが、電磁変換特性に悪影響を与えな
い範囲の粒子を含有させると、走行耐久性の向上を図る
ことができる。具体的には、体積形状係数０．１〜π／
６、平均粒径３０〜４００ｎｍの不活性粒子Ａを、ポリ
エステル層Ａに対し、０．００１〜０．２重量％含有さ
せることが好ましい。

【００３４】好ましい不活性粒子Ａとしては、例えば
（１）耐熱性ポリマー粒子（例えば、架橋シリコーン樹
脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メラミン−
ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイ
ミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステルな
どからなる粒子）、（２）金属酸化物（例えば、酸化ア
ルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素（シリカ）、
酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムな
ど）、（３）金属の炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウムなど）、（４）金属の硫酸塩（例え
ば、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなど）、（５）炭素
（例えば、カーボンブラック、グラファイト、ダイアモ
ンドなど）、および（６）粘土鉱物（例えば、カオリ
ン、クレー、ベントナイトなど）などの１種以上からな
る微粒子が挙げられる。これらのうち、架橋シリコーン
樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン−ホル
ムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒子、そ
の他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二
酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、合成炭酸カルシウム、
硫酸バリウム、ダイアモンド、またはカオリンからなる
微粒子が好ましい。さらに好ましくは、架橋シリコーン
樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、その他酸化アル
ミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、
または炭酸カルシウムからなる微粒子である。これらは
１種または２種以上のものを使用してもよい。

【００３５】前記不活性粒子Ａとして平均粒径の違う２
種以上の粒子を用いる場合、小さい平均粒径の第２、第
３の粒子（微細粒子）として、例えばコロイダルシリ
カ、α、γ、δ、θなどの結晶形態を有するアルミナな
どの微粒子を好ましく用いることができる。また、平均
粒径ｄＡを有する不活性粒子Ａとして例示した粒子種の
うち、平均粒径の小さい微細粒子も、第２、第３の粒子
（微細粒子）として用いることができる。

【００３６】前記不活性粒子Ａの形状は、後記する体積
形状係数（ｆ）が０．１〜π／６、さらには０．２〜π
／６、特に０．４〜π／６であることが好ましい。ま
た、該不活性粒子Ａの平均粒径ｄＡは３０〜４００ｎ
ｍ、さらには４０〜２００ｎｍ、特に５０〜１００ｎｍ
であることが好ましい。この平均粒径ｄＡが３０ｎｍ未
満であると、フィルムの滑り性向上が不充分であること
があり、一方４００ｎｍを超えると、磁気記録媒体の電
磁変換特性が不良となることがあるため好ましくない。

【００３７】前記不活性粒子ＡをポリエステルＡに含有
させる場合の含有量は、ポリエステル層Ａに対し、好ま
しくは０．００１〜０．２重量％、さらに好ましくは
０．０１〜０．１重量％、特に好ましくは０．０２〜
０．０６重量％である。この量が０．００１重量％未満
であると、フィルムの滑り性向上が不充分であることが
あり、一方０．２重量％を超えると、磁気記録媒体の電
磁変換特性が不良となることがあるため好ましくない。

【００３８】本発明におけるポリエステル層Ｂを形成す
るポリエステルＢは、ポリエステルＡと同様、従来から
知られている方法で製造することができる。その際、公
知の触媒を用いることができ、ポリエステルＡと同様の
触媒を使用するのが好ましく挙げられる。また、該ポリ
エステルＡと同様にリン化合物を含有させることが好ま
しい。

【００３９】前記ポリエステル層Ｂはポリマーの固有粘
度が０．５５以上である必要がある。好ましくは０．５
７以上であり、特に好ましくは０．６０以上である。そ
こで、ポリエステル層Ｂの形成に用いる原料ポリマーの
固有粘度は、成膜時のポリマー劣化の割合（固有粘度の
低下量）を考慮して決める必要がある。このポリエステ
ル層Ｂにおけるポリマーの固有粘度が０．５５に満たな
い場合、オリゴマー等のブリードアウトや突起の脱落が
酷くなり、これらが反対面に転写して平滑性を損なうと
いうトラブルを生じ易くなる。なお、ポリエステル層Ａ
におけるポリマーの固有粘度は、上述したように、フィ
ルムの物理特性（例えば、ヤング率等）の点から、０．
４５以上であることが好ましい。

【００４０】前記ポリエステル層Ｂにおけるポリマーの
固有粘度を０．５５以上にする方法としては、原料ポリ
マーの固有粘度を高くしておく方法や、溶融押出し条件
のマイルド化（ポリマー劣化をできるだけ抑制する押出
し条件の採用）等が用いられる。

【００４１】また、本発明におけるポリエステル層Ｂは
ポリマーの末端カルボキシル基濃度が３６ｅｑ／１０⁶
ｇ以上である必要がある。この末端カルボキシル基濃度
は、好ましくは６０ｅｑ／１０⁶ｇ以下である。さらに
好ましくは３８〜６０ｅｑ／１０⁶ｇであり、特に好ま
しくは４０〜５５ｅｑ／１０⁶ｇである。この末端カル
ボキシル基濃度が３６ｅｑ／１０⁶ｇに満たないと、不
活性粒子Ｂに対する親和性が劣り、フイルム製造時また
は金属薄膜成形工程で不活性粒子Ｂの脱落が生じ、反対
面に転写することによって該面の平滑性を低下してしま
い、好ましくない。一方、この末端カルボキシル基濃度
が６０ｅｑ／１０⁶ｇを超えると、不活性粒子Ｂに対す
る親和性はより一層向上するが、層Ｂの金属薄膜蒸着時
の熱安定性が劣るようになり、表面の平坦性が損なわれ
たり、製品として必要な強度が得られなくなり、好まし
くない。

【００４２】前記ポリエステル層Ｂにおけるポリマーの
末端カルボキシル基濃度を３６ｅｑ／１０⁶ｇ以上にす
るには従来公知の方法が用いられる。例えば、重縮合終
了後にポリマーを溶融保持する方法や、重縮合を末端カ
ルボキシル基濃度が通常より多くなる条件で行なう等を
例示できる。

【００４３】本発明におけるポリエステル層Ｂは、ポリ
エステル層Ａに含有される不活性粒子Ａより平均粒径の
大きな不活性粒子Ｂを含有する必要がある。この不活性
粒子Ｂの平均粒径が不活性粒子Ａよりも小さい場合、フ
イルム製造工程及び金属薄膜成形工程でのブロッキング
等の問題が生じる。該不活性粒子Ｂの平均粒径（ｄＢ）
は５０〜１，０００ｎｍ、好ましくは１００〜８００ｎ
ｍ、さらに好ましくは１５０〜７００ｎｍ、特に好まし
くは２００〜６００ｎｍである。そして、該不活性粒子
Ｂの含有量は、ポリエステル層Ｂに対し、０．００１〜
１重量％、好ましくは０．００５〜０．８重量％、さら
に好ましくは０．０１〜０．６重量％、特に好ましくは
０．０１〜０．２重量％である。

【００４４】好ましい不活性粒子Ｂとしては、上記不活
性粒子Ａと同じ種の粒子が挙げられる。この粒子は、１
種または２種以上のものを使用してよいが、ポリエステ
ル層Ｂからの耐脱落性の点から、ポリエステル層Ｂの末
端カルボキシル基との反応で親和性をより一層向上しや
すい水酸基が粒子表面上に多く存在する粒子が好まし
く、架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリ
エステル、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケ
イ素（シリカ）、カオリン及びクレーから選ばれる少な
くとも１種の粒子を含有することが特に好ましい。

【００４５】前記不活性粒子Ｂの平均粒径が５０ｎｍ未
満、または含有量が０．００１重量％未満であると、フ
ィルムの巻取り性、耐ブロッキング性が不良となる。一
方、この平均粒径が１，０００ｎｍを超えるか、または
含有量が１重量％を超えると、反対面（ポリエステル層
Ａの表面）への突起の形状転写や、層Ａの下からの突起
の突き上げによって電磁変換特性を悪化させる。

【００４６】前記ポリエステル層Ｂは、不活性粒子Ｂ以
外に該不活性粒子Ｂよりも平均粒径が小さい、第２、第
３の粒子（微細粒子）を含有してもよい。この微細粒子
の平均粒径は、好ましくは５〜４５０ｎｍ、さらに好ま
しくは１０〜４００ｎｍ、特に好ましくは３０〜３５０
ｎｍである。また、第２、第３の粒子（微細粒子）の含
有量は、ポリエステル層Ｂに対し、好ましくは０．００
５〜１重量％、さらに好ましくは０．０１〜０．７重量
％、特に好ましくは０．０２〜０．５重量％である。

【００４７】本発明におけるポリエステル層Ｂは、さら
に、炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多
価アルコールからなる（部分ケン化）エステルワックス
を０．００１〜１重量％含有するのが好ましい。ここ
で、（部分ケン化）エステルワックスとは、エステルワ
ックスと部分ケン化エステルワックスとを包含するもの
である。

【００４８】前記脂肪族モノカルボン酸の炭素数は８個
以上、好ましくは８〜３４個である。この炭素数が８個
未満であると、得られたエステル生成物の耐熱性が不充
分で、ポリエステルに分散させる際の加熱条件で、脂肪
族モノカルボン酸が容易に分解されてしまうため、不適
切である。

【００４９】炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸
としては、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、
ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシ
ル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、
ノナデカン酸、アラキン酸、ペヘン酸、リグノセリン
酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、ヘントリア
コンタン酸、ペトロセリン酸、オレイン酸、エルカ酸、
リノール酸およびこれらを含む混合物などが挙げられ
る。

【００５０】前記（部分ケン化）エステルワックスのア
ルコール成分は、水酸基を２個以上有する多価アルコー
ルである。さらに耐熱性の観点から、水酸基を３個以上
有する多価アルコールであることが好ましい。モノアル
コールを用いたのでは、生成した（部分ケン化）エステ
ルワックスの耐熱性が不足する。

【００５１】前記水酸基を２個有する多価アルコールと
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール、
トリメチレングリコール、１，４−ブタンジオール、
１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオ
ール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコールなどが好ましい例として挙
げられる。水酸基を３個以上有する多価アルコールとし
ては、グリセリン、エリスリット、トレイット、ペンタ
エリスリット、アラビット、キシリット、タリット、ソ
ルビット、マンニットなどが好ましい例として挙げられ
る。

【００５２】前記脂肪族モノカルボン酸および多価アル
コールから得られるエステルワックスとしては、多価ア
ルコールの水酸基の数にもよるが、モノエステル、ジエ
ステル、トリエステルなどが挙げられる。これらの中、
耐熱性の観点から、モノエステルよりもジエステルが、
ジエステルよりもトリエステルが好ましい。好ましいエ
ステルワックスとしては、具体的にはソルビタントリス
テアレート、ペンタエリスリットトリペヘネート、グリ
セリントリパルミテート、ポリオキシエチレンジステア
レートなどが挙げられる。

【００５３】前記脂肪族モノカルボン酸および多価アル
コールからなる部分ケン化エステルワックスは、多価ア
ルコールを炭素数が８個以上の高級脂肪酸で部分エステ
ル化したのち、２価以上の金属水酸化物でケン化するこ
とにより得られる。具体的には、例えばモンタン酸ジオ
ールエステルを水酸化カルシウムでケン化した、ワック
スＥ、ワックスＯＰ、ワックスＯ、ワックスＯＭ、ワッ
クスＦＬ（全て、ヘキスト（株）社製商品名）などが挙
げられる。かかる（部分ケン化）エステルワックスは１
種単独で使用してもよいし、２種以上を使用してもよ
い。

【００５４】前記（部分ケン化）エステルワックスの層
Ｂへの添加量は、０．００１〜１重量％、好ましくは
０．００３〜０．５重量％、さらに好ましくは０．００
５〜０．５重量％、特に好ましくは０．０１〜０．３重
量％である。この（部分ケン化）エステルワックスの含
有量が０．００１重量％未満であると、巻取り性の向上
が不十分であり、ブロッキング改良効果も得られない。
一方、含有量が１重量％を超えると、フィルム製造工程
で、ロール上に巻き上げたときに接する反対側の面に、
層Ｂ表面にブリードアウトしたワックス成分が多量に転
写されたり、粒子とポリエステルの界面に生じるボイド
から金属薄膜層を蒸着する工程でオリゴマーが多数ブリ
ードアウトして反対面に転写され、そのため、例えば金
属蒸着層とベースフィルムの接着性を妨げたり、ドロッ
プアウトの原因になるなどの弊害を生じる。

【００５５】また、前記ポリエステル層Ｂの十点平均粗
さ（ＷＲｚＢ）は３０〜３００ｎｍ、好ましくは４０〜
２５０ｎｍ、特に好ましくは５０〜２００ｎｍである。
このＷＲｚＢが３０ｎｍ以下では、積層フィルムのハン
ドリング性が悪く、十分な生産性をあげることができ
ず、またブロッキング改良効果も不十分となる。一方、
３００ｎｍを超えると、反対側の磁性層を設ける側の面
（ポリエステル層Ａの面）への突起の形状転写が大きく
なり、電磁変換特性を損なうことがあり、好ましくな
い。

【００５６】本発明における積層ポリエステルフィルム
は、磁気テープとした場合の諸特性向上のため、磁性層
を設ける側の面、すなわち、ポリエステル層Ａの表面
（ポリエステル層Ｂと接していない表面）に、皮膜層Ｃ
を設けることが好ましい。

【００５７】この皮膜層Ｃは、平均粒径１０〜５０ｎ
ｍ、体積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを０．
５〜３０重量％含有していることが好ましい。

【００５８】該皮膜層Ｃを形成する樹脂としては、例え
ば水性ポリエステル樹脂、水性アクリル樹脂、水性ポリ
ウレタン樹脂などが好ましく挙げられ、特に水性ポリエ
ステル樹脂が好ましい。

【００５９】この水性ポリエステル樹脂としては、酸成
分が、例えばイソフタル酸、フタル酸、１，４−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン
酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、
セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５−ス
ルホイソフタル酸ナトリウム、２−スルホテレフタル酸
カリウム、トリメリット酸、トリメシン酸、トリメリッ
ト酸モノカリウム塩、ｐ−ヒドロキシ安息香酸などの多
価カルボン酸の１種以上よりなり、グリコール成分が、
例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６
−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノ
ール、ｐ−キシリレングリコール、ジメチロールプロパ
ン、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物など
の多価ヒドロキシ化合物の１種以上より主としてなるポ
リエステル樹脂が好ましく用いられる。また、ポリエス
テル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフトポリマ
ーまたはブロックコポリマー、あるいは２種のポリマー
がミクロな粒子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ（相互侵
入高分子網目）型、コアシェル型など）を形成したアク
リル変性ポリエステル樹脂であってもよい。この水性ポ
リエステル樹脂としては、水に溶解、乳化、微分散する
タイプを自由に用いることができるが、水に乳化、微分
散するタイプのものが好ましい。また、これらは親水性
を付与するため、分子内に例えばスルホン酸塩基、カル
ボン酸塩基、ポリエーテル単位などが導入されていても
よい。

【００６０】前記皮膜層Ｃに含有させる不活性粒子Ｃと
しては、特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、
比較的低比重のものが好ましい。例えば、架橋シリコー
ン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、メラミン−ホル
ムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミド
イミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリエステル
などの樹脂からなる有機粒子、二酸化ケイ素（シリ
カ）、炭酸カルシウムなどからなる無機粒子が好ましく
挙げられる。なかでも、架橋シリコーン樹脂粒子、アク
リル樹脂粒子、シリカ粒子、コアシェル型有機粒子（コ
ア：架橋ポリスチレン、シェル：ポリメチルメタクリレ
ートの粒子など）が好ましく挙げられる。

【００６１】前記不活性粒子Ｃの平均粒径ｄＣは１０〜
５０ｎｍ、好ましくは１２〜４５ｎｍ、さらに好ましく
は１５〜４０ｎｍである。この平均粒径が１０ｎｍ未満
であると、フィルムの滑り性向上が不充分であることが
あり、一方５０ｎｍを超える0と、磁気記録媒体の電磁
変換特性が不良となることがあるため好ましくない。

【００６２】前記不活性粒子Ｃの形状は、下記式（Ｉ）
で表わされる体積形状係数（ｆ）が０．１〜π／６、好
ましくは０．２〜π／６、さらに好ましくは０．４〜π
／６であるものである。

【００６３】

【数１】

【００６４】〔ここで、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の
体積（μｍ³）、Ｄは粒子の平均粒径（μｍ）であ
る。〕

【００６５】なお、体積形状係数（ｆ）がπ／６である
粒子の形状は、球（真球）である。すなわち、体積形状
係数（ｆ）が０．４〜π／６のものは、実質的に球ない
しは真球、ラグビーボールのような楕円球を含むもので
あり、不活性粒子Ｃとして好ましい。体積形状係数
（ｆ）が０．１未満の粒子、例えば薄片状の粒子では、
走行耐久性が低下してしまうので好ましくない。

【００６６】前記不活性粒子Ｃの含有量は、皮膜層Ｃ
（塗液の固形分）に対し、０．５〜３０重量％、好まし
くは２〜２０重量％、さらに好ましくは３〜１０重量％
である。この含有量が０．５重量％未満であると、フィ
ルムの滑り性向上が不充分であることがあり、一方３０
重量％を超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良
となることがあるため好ましくない。

【００６７】本発明における積層ポリエステルフィルム
は、ポリエステル層Ａの表面（ポリエステル層Ｂと接し
ない側の表面）（皮膜層Ｃを設ける場合は皮膜層Ｃの表
面）の表面粗さ（ＷＲａＡ）が０．１〜４ｎｍであるこ
とが好ましい。さらに好ましくは０．２〜３．５ｎｍ、
特に好ましくは０．３〜３．０ｎｍ、就中０．４〜２．
５ｎｍである。このＷＲａＡが０．１ｎｍ未満である
と、滑り性が悪くフィルムの製造が極めて困難であり、
一方ＷＲａＡが４ｎｍを超えると、電磁変換特性が悪化
するので好ましくない。

【００６８】この表面粗さ（ＷＲａＡ）は、皮膜層Ｃに
含有させる不活性粒子Ｃの粒径と量、および／またはポ
リエステル層Ａに含有させる不活性粒子Ａの粒径と量に
よって調整することができる。

【００６９】本発明における積層ポリエステルフィルム
の全厚みは、通常２μｍ以上８μｍ未満、好ましくは
２．5〜７．５μｍである。ポリエステル層Ａとポリエ
ステル層Ｂの厚み構成は、好ましくは層Ｂの厚みが積層
フィルムの全厚みの１／５０〜１／２、さらに好ましく
は１／３０〜１／３、特に好ましくは１／２０〜１／４
である。皮膜層Ｃの厚みは、通常１〜１００ｎｍ、好ま
しくは２〜５０ｎｍ、さらに好ましくは３〜１０ｎｍ、
特に好ましくは３〜８ｎｍである。

【００７０】本発明における積層ポリエステルフィルム
は、従来から知られている、または当業界に蓄積されて
いる方法に準じて製造することができる。そのうち、ポ
リエステル層Ａとポリエステル層Ｂとの積層構造は、共
押出し法により製造するのが好ましく、皮膜層Ｃの積層
は塗布法により行うのが好ましい。

【００７１】例えば、二軸配向ポリエステルフィルムで
説明すると、押出し口金内または口金以前（一般に、前
者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック
方式と呼ぶ）で（部分ケン化）エステルワックス及び不
活性粒子Ｂを微分散、含有させたポリエステルＢと、必
要に応じて不活性粒子Ａを含有するポリエステルＡと
を、それぞれ高精度ろ過したのち、溶融状態にて積層複
合し、上記好適な厚み比の積層構造となし、次いで口金
より融点（Ｔｍ）〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフィルム
状に共押出ししたのち、４０〜９０℃の冷却ロールで急
冷固化し、未延伸積層フィルムを得る。その後、該未延
伸積層フィルムを常法に従い、一軸方向（縦方向または
横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度
（ただし、Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温度）で
２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５
倍の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向とは直角方向
（一段目延伸が縦方向の場合には、二段目延伸は横方向
となる）に（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５
〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍
率で延伸する。さらに、必要に応じて、縦方向および／
または横方向に再度延伸してもよい。すなわち、２段、
３段、４段あるいは多段の延伸を行うとよい。全延伸倍
率としては、通常９倍以上、好ましくは１０〜３５倍、
さらに好ましくは１２〜３０倍である。

【００７２】さらに、前記二軸配向フィルムは（Ｔｇ＋
７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの場合、１８０〜２５０℃で
熱固定結晶化することによって、優れた寸法安定性が付
与される。その際、熱固定時間は１〜６０秒が好まし
い。

【００７３】なお、積層ポリエステルフィルムの製造に
際し、ポリエステルＡ、Ｂに所望により上記不活性粒子
以外の添加剤、例えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの
固有抵抗調整剤などを添加含有させることができる。

【００７４】本発明におけるポリエステル層Ａへの皮膜
層Ｃの積層は、水性塗液を塗布する方法で行うのが好ま
しい。

【００７５】塗布は最終延伸処理を施す以前のポリエス
テル層Ａの表面に行い、塗布後にはフィルムを少なくと
も一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前ない
し途中で皮膜は乾燥される。その中で、塗布は、未延伸
積層フィルムまたは縦（一軸）延伸積層フィルム、特に
縦（一軸）延伸積層フィルムに行うのが好ましい。塗布
方法としては特に限定されないが、例えばロールコート
法、ダイコート法などが挙げられる。

【００７６】前記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は、
０．２〜８重量％、さらに０．３〜６重量％、特に０．
５〜４重量％であることが好ましい。そして、水性塗液
には、本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分、例え
ば他の界面活性剤、安定剤、分散剤、紫外線吸収剤、増
粘剤などを添加することができる。

【００７７】本発明においては、磁気記録媒体としての
ヘッドタッチ、走行耐久性をはじめとする各種性能を向
上させ、同時に薄膜化を達成するには、積層フィルムの
ヤング率を、縦方向および横方向でそれぞれ、通常４５
００Ｎ／ｍｍ²以上および６０００Ｎ／ｍｍ²以上、好ま
しくは４８００Ｎ／ｍｍ²以上および６８００Ｎ／ｍｍ²
以上、さらに好ましくは５５００Ｎ／ｍｍ²以上および
８０００Ｎ／ｍｍ²以上、特に好ましくは５５００Ｎ／
ｍｍ²以上および１０，０００Ｎ／ｍｍ²以上とする。

【００７８】また、ポリエステル層Ａ、Ｂの結晶化度
は、ポリエステルがポリエチレンテレフタレートの場合
は３０〜５０％、ポリエチレン−２，６−ナフタレート
の場合は２８〜３８％であることが望ましい。いずれも
下限を下回ると、熱収縮率が大きくなるし、一方上限を
上回るとフィルムの耐摩耗性が悪化し、ロールやガイド
ピン表面と摺動した場合に白粉が生じやすくなる。

【００７９】本発明によれば、ポリエステル層Ａの片面
にポリエステル層Ｂが積層されてなる積層ポリエステル
フィルム、および該ポリエステル層Ａの表面（ポリエス
テル層Ｂと接していない表面）に皮膜層Ｃが積層されて
いる積層ポリエステルフィルムのそれぞれをベースフィ
ルムとする磁気記録媒体が同様に提供される。

【００８０】本発明の積層ポリエステルフィルムから磁
気記録媒体を製造する実施態様は、下記のとおりであ
る。

【００８１】本発明の積層ポリエステルフィルムは、ポ
リエステル層Ａ、好ましくは皮膜層Ｃの表面に、真空蒸
着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法に
より、鉄、コバルト、ニッケル、クロムまたはこれらを
主成分とする合金もしくは酸化物よりなる強磁性金属薄
膜層（磁性層）を形成した磁気記録媒体のベースフイル
ムとして特に有用である。金属薄膜層の厚さは１００〜
３００ｎｍであるものが好ましい。

【００８２】また本発明の積層ポリエステルフイルムは
更に強磁性金属薄膜層の表面に、目的、用途、必要に応
じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）などの保護
層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらに必
要により、ポリエステル層Ｂの磁性層とは反対側の表面
に、公知の方法でバックコート層を設けることにより、
特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎなどの電磁変
換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない
高密度記録用蒸着型磁気記録媒体として使用することが
好ましい。この蒸着型磁気記録媒体は、アナログ信号記
録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカ
セットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩ
Ｖ用磁気テープ媒体として極めて有用であり、特にデジ
タルビデオテープ用途に使用すると優れた結果を得るこ
とができ、好適である。またデータストレージテープ用
途にしても優れた結果を得ることができ、好適である。

【００８３】また、本発明の積層ポリエステルフィルム
は、ポリエステル層Ａ、好ましくは皮膜層Ｃの表面に、
鉄または鉄を主成分とする針状微細磁性粉（メタル粉）
をポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体な
どのバインダーに均一に分散し、磁性層厚みが１μｍ以
下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、さ
らに必要により、ポリエステル層Ｂの磁性層とは反対側
の表面に、公知の方法でバックコート層を設けることに
より、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎなどの
電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの
少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体とするこ
とができる。また、必要に応じてポリエステル層Ａまた
は皮膜層Ｃの表面に、上記メタル粉含有磁性層の下地層
として微細な酸化チタン粒子などを含有する非磁性層を
磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設するこ
ともできる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナロ
グ信号記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ−
ＶＨＳ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセッ
トレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、
ディジタルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸなど用磁気テープ
媒体として極めて有用である。

【００８４】さらに、本発明の積層ポリエステルフィル
ムは、ポリエステル層Ａ、好ましくは皮膜層Ｃの表面
に、酸化鉄または酸化クロムなどの針状微細磁性粉、ま
たはバリウムフェライトなどの板状微細磁性粉をポリ塩
化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体などのバイ
ンダーに均一に分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ま
しくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、さらに必要
により、ポリエステル層Ｂの磁性層とは反対側の表面
に、公知の方法でバックコート層を設けることにより、
特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換
特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高
密度記録用酸化物塗布型磁気記録媒体とすることができ
る。また、必要に応じて、ポリエステル層Ａまたは皮膜
層Ｃの表面に、上記酸化物粉末含有磁性層の下地層とし
て微細な酸化チタン粒子などを含有する非磁性層を磁性
層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設することも
できる。この酸化物塗布型磁気記録媒体は、ディジタル
信号記録用データストリーマー用ＱＩＣなどの高密度記
録用酸化物塗布型磁気記録媒体として有用である。

【００８５】本発明における磁気記録媒体は、上述のよ
うに、磁性層形成面の反対面に、固体微粒子及び結合剤
からなり、必要に応じて各種添加剤を加えた溶液を塗布
することにより形成されるバックコート層を設けてもよ
いが、この固体微粒子、結合剤、添加剤は公知のものを
使用でき、特に限定されない。該バックコート層の厚さ
は０．３〜１．５μｍであることが好ましい。

【００８６】上述のＷ−ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信
号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤ
ＴＶ信号記録用として適用可能なものである。それゆ
え、本発明の積層ポリエステルフィルムは、これらＨＤ
ＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に極めて有用なベースフ
ィルムと言うことができる。

【００８７】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例により限定される
ものではない。なお、実施例および比較例における
「部」および「％」は、特に断らない限り重量部および
重量％である。また、本発明における物性値および特性
は、それぞれ下記の方法で測定し、かつ定義されるもの
である。

【００８８】（１）固有粘度 オルソクロロフェノール溶媒中３５℃で測定した値から
求める。

【００８９】（２）末端カルボキシル基濃度（ｅｑ／１
０⁶ｇ） A.Conixの方法に準じて測定した。（Makromol.Chem.26,
226（1958））

【００９０】（３）粒子の平均粒径（Ｉ）（平均粒径：
６０ｎｍ以上） 株式会社島津製作所製「ＣＰ−５０型セントリヒューグ
ル パーティクル サイズ アナライザー（Centrifuga
l Particle Size Analyzer）」を用いて測定する。得ら
れる遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存
在量との積算曲線から、５０マスパーセントに相当する
粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径
（ｎｍ）とする（「粒度測定技術」日刊工業新聞社発
行、１９７５年、頁２４２〜２４７）。

【００９１】（４）粒子の平均粒径（II）（平均粒径：
６０ｎｍ未満） 小突起を形成する平均粒径６０ｎｍ未満の粒子は、光散
乱法を用いて測定する。すなわち、ニコンプインストゥ
ルメント株式会社（Nicomp Instruments Inc.）製の商
品名「NICOMP MODEL 270 SUBMICRON PARTICLE SIZER」
により求められる全粒子の５０％の点にある粒子の「等
価球直径」をもって、平均粒径（ｎｍ）とする。

【００９２】（５）体積形状係数（ｆ） 走査型電子顕微鏡により、用いたサイズに応じた倍率に
て各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼック
ス５００（日本レギュレーター社製）を用い、投影面最
大径を粒子の平均粒径（Ｄ）（μｍ）として求め、また
粒子の体積（Ｖ）（μｍ³）を算出し、下記式（II）に
より計算する。

【００９３】

【数２】

【００９４】（６）ポリエステル層Ａ、Ｂの厚み、およ
びフィルム全体の厚み フィルム全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに
１０点測定し、その平均値を用いる。ポリエステル層
Ａ、Ｂの層厚については、薄いポリエステル層の層厚み
を下記に述べる方法にて測定し、厚いポリエステル層の
層厚みは、全厚みより皮膜層および薄いポリエステル層
の層厚を引き算して求める。すなわち、二次イオン質量
分析装置（SIMS）を用いて、被覆層を除いた表層から深
さ５，０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高
濃度の粒子に起因する金属元素（Ｍ ⁺）とポリエステル
の炭化水素（Ｃ⁺）の濃度比（Ｍ⁺／Ｃ⁺）を粒子濃度と
し、表面から深さ５，０００ｎｍまで厚さ方向の分析を
行う。表層では表面という界面のために粒子濃度は低
く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本
発明の場合、粒子濃度は一旦安定値１になったのち、上
昇して安定値２になる場合と、単調に減少する場合とが
ある。この分布曲線をもとに、前者の場合は、（安定値
１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、
また後者の場合は粒子濃度が安定値１の１／２になる深
さ（この深さは安定値１を与える深さよりも深い）をも
って、薄いポリエステル層の厚み（μｍ）とする。測定
条件は、以下のとおりである。

【００９５】（ａ）測定装置 二次イオン質量分析装置（SIMS）；パーキン・エルマー
株式会社（PERKIN ELMER INC.）製、「6300」 （ｂ）測定条件 一次イオン種：Ｏ²⁺ 一次イオン加速電圧：１２ＫＶ 一次イオン電流：２００ｎＡ ラスター領域：４００μｍ□ 分析領域：ゲート３０％ 測定真空度：６．０×１０^-9Torr E−GUNN：０．５ＫＶ−３．０Ａ

【００９６】なお、表層から５，０００ｎｍの範囲に最
も多く存在する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子
粒子の場合はSIMSでは測定が難しいので、表面からエッ
チングしながらFT−IR（フーリエトランスフォーム赤外
分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線光電分光法）な
どで上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚（μｍ）を
求める。

【００９７】（７）皮膜層Ｃの厚み フィルムの小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロ
トームにて約６００オングストロームの厚みの超薄切片
（フィルムの流れ方向に平行に切断する）を作成した。
この試料を透過型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製：
H−800型）にて観察し、皮膜層Ｃの境界面を探して皮膜
層の厚み（ｎｍ）を求める。

【００９８】（８）表面粗さ ＷＲａ WYKO株式会社製の非接触三次元粗さ計、商品名「TOPO−
3D」を用いて、測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×
２３９μｍ（０．０５８ｍｍ²）の条件にて測定を行
い、表面粗さのプロフィル（オリジナルデータ）を得
た。上記粗さ計内蔵ソフトによる表面解析により、下式
によって定義される中心面平均粗さ（ＷＲａ）を得る。

【００９９】

【数３】

【０１００】また、Ｚjkは、測定方向（２４２μｍ）、
それと直行する方向（２３９μｍ）を、それぞれＭ分
割、Ｎ分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置に
おける三次元粗さチャート上の高さである。

【０１０１】 十点平均粗さＷＲｚ と同じ測定器を用い、同じ条件で測定して得られたデ
ーターから、同粗さ計内臓のソフトによる表面解析によ
り、ピーク（Ｈｐ）の高い方から５点と谷（Ｈｖ）の低
い方から５点をとった平均値を求めＷＲｚとする。

【０１０２】

【数４】

【０１０３】（９）ヤング率 東洋ボールドウィン株式会社製の引っ張り試験機、商品
名「テンシロン」を用いて、温度２０℃、湿度５０％に
調節された室内において、長さ３００ｍｍ、幅１２．７
ｍｍの試料フィルムを１０％／分のひずみ速度で引っ張
り、引っ張り応力−ひずみ曲線の初めの直線部分を用い
て下記式（Ｖ）によって計算する。

【０１０４】

【数５】

【０１０５】ここで、Ｅはヤング率、Δσは直線上の２
点間の元の平均断面積による応力差、Δεは同じ２点間
のひずみ差である。

【０１０６】（１０）巻き取り性 スリット時の巻き取り条件を最適化したのち、幅６００
ｍｍ×１２，０００ｍのサイズで、３０ロールを速度１
００ｍ／分でスリットし、スリット後のフィルム表面
に、ブツ状、突起やシワのないロールを良品として、以
下の基準にて巻き取り性を評価する。 ◎：良品ロールの本数２８本以上 ○：良品ロールの本数２５〜２７本 ×：良品ロールの本数２４本以下

【０１０７】（１１）異物析出性（１５０℃、３０分保
持） フィルムを１５０℃に設定したオーブン中に３０分間放
置し、その後ポリエステル層Ｂ側の表面をＡｌ蒸着し
て、この表面を微分干渉顕微鏡で９５０倍で観察する。
ポリエステル中の粒子による突起以外の、表面に付着し
た異物の数をカウントし、１ｍｍ²あたりの数に換算す
る。

【０１０８】（１２）磁気テープの製造および特性（電
磁変換特性）評価 積層ポリエステルフィルムの皮膜層Ｃの表面に、真空蒸
着法により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．２μ
ｍの厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成
する。形成した強磁性薄膜の表面にダイヤモンドライク
カーボン（DLC）膜、さらに含フッ素カルボン酸系潤滑
層を順次設け、さらにポリエステル層Ａの表面に、公知
の方法でバックコート層を設ける。その後、８ｍｍ幅に
スリットし、市販の８ｍｍビデオカセットにローディン
グした。次いで、下記の市販の機器を用いてテープの特
性（Ｃ／Ｎ）を測定する。

【０１０９】（ａ）使用機器 ８ｍｍビデオテープレコーダー、ソニー株式会社製、商
品名「EDV−6000」 株式会社シバソク製、ノイズメーター （ｂ）測定方法 記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、相対値で評価する。

【０１１０】［実施例１］ジメチルテレフタレート１０
０部とエチレングリコール７０部の混合物に、エステル
交換触媒として酢酸マンガン・4水塩０．０２５部を添
加し、内温を１５０℃から徐々に上げながらエステル交
換反応を行った。エステル交換反応が９５％となった時
点で、安定剤として亜リン酸を０．０１部添加し、充分
撹拌した後、エチレングリコール２．５部中で無水トリ
メリット酸０．８部とテトラブチルチタネート０．６５
部を反応せしめた液（チタン含有率は１１重量％）０．
０１４部を添加した。さらに滑剤（不活性粒子Ａ）とし
て平均粒径６０ｎｍの球状シリカ（体積形状係数０．
５）を０．０３％（ポリマーに対し）添加して充分撹拌
した後、次いで反応生成物を重合反応器に移し、高温真
空下（最終内温２９５℃）にて重縮合を行い、固有粘度
０．６０のポリエステルＡ用のポリエチレンテレフタレ
ート（樹脂Ａ１）を得た。

【０１１１】さらに、上記と同様の方法で、エステル交
換反応を行い、エステル交換反応が９５％となった時点
で、安定剤として亜リン酸を０．０１部添加し、充分撹
拌した後、三酸化アンチモン０．０３部添加した。系内
に混入した水を充分留出させた後、滑剤（不活性粒子
Ｂ）として、平均粒径３００ｎｍのシリコーン粒子およ
び平均粒径１００ｎｍのθ型アルミナを、樹脂中にそれ
ぞれ０．０５％および０．２％添加して充分撹拌した
後、次いで反応生成物を重合反応器に移し、高温真空下
（最終内温２９５℃）にて重縮合を行い、固有粘度０．
７０のポリエチレンテレフタレートを得た。この際、本
ポリマー中のアンチモン残存量は２５０ｐｐｍであっ
た。

【０１１２】得られたポリエチレンテレフタレート９
９．７％に、炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸
および多価アルコールからなる（部分ケン化）エステル
ワックスとしてソルビタントリステアレート（融点５５
℃）の粉末０．１５％をまぶし、ベント付き二軸ルーダ
ーにて練り込み、固有粘度０．６９のポリエステル層Ｂ
用のポリエチレンテレフタレート（樹脂Ｂ１）を得た。

【０１１３】得られた樹脂Ａ１、樹脂Ｂ１を、それぞれ
１７０℃で３時間乾燥後、２台の押し出し機に供給し、
溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１１
μｍの鋼線フィルターで高精度ろ過したのち、マルチマ
ニホールド型共押出しダイを用いて、ポリエステル層Ａ
の片面にポリエステル層Ｂを積層させ、急冷して厚さ８
９μｍの未延伸積層ポリエステルフィルムを得た。

【０１１４】得られた未延伸フィルムを予熱し、さらに
低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて３．
３倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次いで
縦延伸フィルムのＡ層側に下記に示す組成（固形分換
算）の水性塗液（全固形分濃度１．０％）をキスコート
法により塗布した。

【０１１５】 塗液の固形分組成 バインダー：アクリル変性ポリエステル（高松油脂株式会社製、IN−170−6 ） ６０％ 不活性粒子Ｃ：アクリルフィラー（平均粒径３０ｎｍ）（体積形状係数０． ４０）（日本触媒株式会社製、エポスター） ７％ 界面活性剤Ｘ：（日本油脂株式会社製、ノニオンNS−208.5） ３％ 界面活性剤Ｙ：（日本油脂株式会社製、ノニオンNS−240） ３０％ Ｃ層厚み（乾燥後）：８ｎｍ

【０１１６】続いてステンターに供給し、１１０℃にて
横方向に４．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィル
ムを、２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み６．４
μｍで、ポリエステル層Ｂの厚み１．０μｍの積層二軸
配向ポリエステルフィルムを得た。このフィルムのポリ
エステル層Ａ、Ｂの厚みについては、２台の押し出し機
の吐出量により調整した。このフィルムの皮膜層Ｃ側の
表面から測定した表面粗さＷＲａは、１．７ｎｍ、この
フィルムのヤング率は縦方向５０００Ｎ／ｍｍ ²、横方
向７０００Ｎ／ｍｍ²であった。この積層フィルムのそ
の他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸
着型磁気テープの特性を表１に示す。

【０１１７】［実施例２］ポリエステル層Ａに粒子を含
有させないようにし（樹脂Ａ２）、ポリエステル層Ｂに
含有させる不活性粒子Ｂの種類、平均粒径、添加量を表
１に示すとおり変更した（樹脂Ｂ２）以外は、実施例１
と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られ
たフィルムの特性、およびそのフィルムを用いた強磁性
薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。

【０１１８】［実施例３］ポリエステル層Ａを形成する
原料樹脂Ａ（樹脂Ａ３）およびポリエステル層Ｂを形成
する原料樹脂Ｂ（樹脂Ｂ３）の固有粘度を０．６７とす
る以外は実施例１と同様にして積層ポリエステルフィル
ムを得た。得られたフィルムの特性、およびこのフィル
ムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に
示す。

【０１１９】［実施例４］ポリエステル層Ａおよびポリ
エステル層Ｂにおけるジメチルテレフタレートの代わり
に２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルを同モル量
使用した以外は、実施例１と同様にしてポリエステル層
Ａ、Ｂ用のポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥ
Ｎ）（樹脂Ａ３、Ｂ３）を得た。固有粘度は樹脂Ａ３は
０．６０、樹脂Ｂ３は０．６７であった。

【０１２０】この樹脂Ａ３、Ｂ４を、それぞれ１７０℃
で６時間乾燥後、実施例１と同様にして、各層厚みを調
整し、厚さ８９μｍの未延伸積層熱可塑性樹脂フィルム
を得た。

【０１２１】得られた未延伸フィルムを予熱し、さらに
低速・高速のロール間でフィルム温度１３５℃にて３．
６倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次いで
縦延伸フィルムのＡ層側に、不活性粒子Ｃをコアシェル
フィラー（コア；架橋ポリスチレン、シェル；ポリメチ
ルメタクリレート）（平均粒径；３０ｎｍ、体積形状係
数０．４５）ジェイエスアール株式会社製、「SX 872
1」に変更した以外は実施例１と同じ組成の水性塗液
（全固形分濃度１．０％）を実施例１と同様に塗布し
た。

【０１２２】続いてステンターに供給し、１５５℃にて
横方向に５．７倍に延伸した。得られた二軸延伸フィル
ムを、２００℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み４．４
μｍ、熱可塑性樹脂層Ｂの厚み０．６μｍの積層二軸配
向ポリエステルフィルムを得た。このフィルムの熱可塑
性樹脂層Ａ、Ｂの厚みについては、２台の押し出し機の
吐出量により調整した。このフィルムの塗膜層Ｃ側の表
面から測定した表面粗さＷＲａは、１．２ｎｍ、このフ
ィルムのヤング率は縦方向５５００Ｎ／ｍｍ²、横方向
１０，５００Ｎ／ｍｍ²であった。この積層フィルムの
その他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜
蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。

【０１２３】［比較例１］ポリエステル層Ｂを形成する
原料樹脂Ｂの固有粘度を０．５３とする以外は実施例１
と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られ
たフィルムは、フイルム走行時のポリエステル層Ｂから
不活性粒子Ｂが脱落する頻度が増加し、反対面への転写
も多数起こったり、析出オリゴマーが反対面（蒸着面）
に多数転写したため、磁気テープにした際、十分な電磁
変換特性を得ることができなかった。その他の特性、お
よびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープ
の特性を表１に示す。

【０１２４】［比較例２，３］ポリエステル層Ｂに含有
させる不活性粒子Ｂの種類、平均粒径、添加量を表１に
示すようにした以外は、実施例１と同様にして積層ポリ
エステルフィルムを得た。得られたフィルムは、Ｂ層か
らブリードアウトしたオリゴマーが反対面へ転写するこ
とは問題なく良好であったが、比較例２の場合、Ｂ層側
の突起の反対面への形状転写の程度が強く、磁気テープ
にした際、十分な電磁変換特性を得ることができなかっ
た。比較例３の場合はＢ層が平坦すぎて良好な巻取り性
が得られなかった。その他の特性、およびこのフィルム
を用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示
す。

【０１２５】

【表１】

【０１２６】表１から明らかなように、本発明による積
層ポリエステルフィルムは、片面が非常に平坦で、反対
面からのオリゴマーの転写も少なく、優れた電磁変換特
性を示すとともに、巻き取り性が極めて良好である。一
方、本発明の要件を満たさないものは、これらの特性を
同時に満足できない。

【０１２７】

【発明の効果】本発明によれば、耐ブロッキング性、平
坦性、巻き取り性、加工適性に優れ、特に金属蒸着薄膜
型磁気記録媒体としたときに電磁変換特性に優れた積層
ポリエステルフィルムを得ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石田 剛 神奈川県相模原市小山３丁目37番19号 帝 人株式会社相模原研究センター内 Ｆターム(参考） 4F100 AA19B AA20B AA21B AB02D AC03B AC10B AJ11B AK25B AK41A AK41B AK41C AK42A AK42B AK52B AR00D BA02 BA03 BA04 BA07 BA10B BA10C BA10D BA15 DD07A DD07B DE01A DE01B DE01C EH20 EH46 EH66 EJ05B EJ38 GB41 JA06B JA20 JG06D JK14 JL00 JL01 YY00 YY00A YY00B YY00C 5D006 CB01 CB05 CB06 CB08 FA02 FA05 FA09

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリエステル層Ａと、該層Ａの片面に積
   層した、ポリマーの固有粘度が０．５５以上、末端カル
   ボキシル基濃度が３６ｅｑ／１０⁶ｇ以上であり、かつ
   平均粒径が５０〜１０００ｎｍでかつ該層Ａに含まれる
   不活性粒子Ａの平均粒径より大きい不活性粒子Ｂを０．
   ００１〜１重量％含有するポリエステル層Ｂとよりなる
   積層ポリエステルフイルム。
2. 【請求項２】 不活性粒子Ｂが架橋シリコーン樹脂、架
   橋アクリル樹脂、架橋ポリエステル、酸化アルミニウ
   ム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、カオリン及びクレー
   からなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子である請
   求項１に記載の積層ポリエステルフイルム。
3. 【請求項３】 ポリエステル層Ｂが炭素数８個以上の脂
   肪族モノカルボン酸および多価アルコールからなる（部
   分ケン化）エステルワックスを含有する請求項１に記載
   の積層ポリエステルフイルム。
4. 【請求項４】 ポリエステル層Ｂ表面の十点平均粗さ
   （ＷＲｚＢ）が３０〜３００ｎｍである請求項１〜３の
   いずれかに記載の積層ポリエステルフイルム。
5. 【請求項５】 ポリエステル層Ａ表面の表面粗さ（ＷＲ
   ａＡ）が０．１〜４ｎｍである請求項１に記載の積層ポ
   リエステルフイルム。
6. 【請求項６】 ポリエステル層Ａが実質的に粒子を含有
   しない請求項１または５に記載の積層ポリエステルフィ
   ルム。
7. 【請求項７】 ポリエステル層Ａが平均粒径３０〜４０
   ０ｎｍの不活性粒子Ａを０．００１〜０．２重量％含有
   する請求項１または５に記載の積層ポリエステルフィル
   ム。
8. 【請求項８】 ポリエステル層Ａの表面に皮膜層Ｃが積
   層されている請求項１に記載の積層ポリエステルフィル
   ム。
9. 【請求項９】 皮膜層Ｃが平均粒径１０〜５０ｎｍ、体
   積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを０．５〜３
   ０重量％含有する請求項８に記載の積層ポリエステルフ
   ィルム。
10. 【請求項１０】 フィルムの厚さが２μｍ以上８μｍ未
    満である請求項１〜９のいずれかに記載の積層ポリエス
    テルフィルム。
11. 【請求項１１】 層Ａまたは層Ｂのポリエステルがポリ
    エチレンテレフタレートである請求項１〜１０のいずれ
    かに記載の積層ポリエステルフィルム。
12. 【請求項１２】 層Ａまたは層Ｂのポリエステルがポリ
    エチレン−２，６−ナフタレートである請求項１〜１０
    のいずれかに記載の積層ポリエステルフィルム。
13. 【請求項１３】 ポリエステル層Ａまたは皮膜層Ｃの表
    面が磁性層を設ける面である請求項１〜１２のいずれか
    に記載の積層ポリエステルフィルム。
14. 【請求項１４】 磁性層が強磁性金属薄膜層である請求
    項１３に記載の積層ポリエステルフイルム。
15. 【請求項１５】 請求項１３または１４に記載の積層ポ
    リエステルフイルムを支持体とする磁気記録媒体。