JP3195219B2 - 積層フイルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は積層フイルムに関
し、更に詳しくは巻取り性、易滑性、ハンドリング性等
に優れ、特に電磁変換特性、ドロップアウト、走行性、
耐久性に優れた磁気記録媒体のベースフイルムとして有
用な積層フイルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化の進歩は
めざましく、例えば、強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパ
ッタリング等の物理沈着法又はメッキ法により非磁性支
持体上に形成せしめた金属薄膜型磁気記録媒体、またメ
タル粉や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を２μｍ以下に塗布
した薄層塗布型磁気記録媒体の開発実用化が進められて
いる。前者の例としては、例えば、Ｃｏの蒸着テープ
（特開昭５４―１４７０１０号公報）、Ｃｏ―Ｃｒ合金
からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２―１３４７０６
号公報）が知られ、また後者の例としては、例えば、極
薄層塗布型磁気記録媒体による高密度磁気記録（電子通
信学会技術報告ＭＲ９４―７８（１９９５―０２））等
が知られている。

【０００３】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は記録密度が低く、記録波長も
長い為に、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚いのに対
して、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティ
ング等の薄膜形成手段によって形成される強磁性金属薄
膜は厚みが０．２μｍ以下と非常に薄く、また極薄層塗
布型の場合も、非磁性下地層を設けるものの、０．１３
μｍの厚みのものが提案され、非常に薄くなっている。

【０００４】この為、上記の高密度磁気記録媒体におい
ては、非磁性支持体（ベースフイルム）の表面状態が磁
性層の表面性に大きな影響を及ぼし、特に金属薄膜型の
磁気記録媒体の場合には、非磁性支持体の表面状態がそ
のまま磁性層（磁気記録層）表面の凹凸として発現し、
それが記録・再生信号の雑音の原因となる。従って、非
磁性支持体の表面はできるだけ平滑であることが望まし
い。

【０００５】一方、非磁性支持体（ベースフイルム）の
製膜、製膜工程での搬送、傷付き、巻取り、巻出しとい
ったハンドリングの観点からは、フイルム表面が平滑過
ぎると、フイルム―フイルム相互の滑り性が悪化し、ブ
ッキング現象が発生し、ロールに巻いたときの形状（ロ
ールフォーメーション）が悪化し、製品歩留りの低下、
ひいては製品の製造コストの上昇を来す。従って、製造
コストという観点では非磁性支持体（ベースフイルム）
の表面は出来るだけ粗いことが望ましい。

【０００６】このように、非磁性支持体の表面は、電磁
変換特性の観点からは平滑であることが要求され、ハン
ドリング性、フイルムコストの観点からは粗いことが要
求される。

【０００７】さらに金属薄膜型磁気記録媒体の場合に
は、実際に使用される時の重大な問題点として、金属薄
膜面の走行性がある。磁性体粉末を有機高分子バンダー
中に混入させてベースフイルムに塗布してなる塗布型磁
気記録媒体の場合には、該バインダー中に潤滑剤を分散
させて磁性層面の走行性を向上させることが出来るが、
金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、この様な対策をと
ることができず、走行性を安定して保つのは非常に難し
く、特に高温高湿条件下の走行性が劣るなどの欠点を有
している。さらにこの場合には、繰り返し使用時の出力
値下が塗布型磁気記録媒体と比べて大きいという欠点も
存在する。

【０００８】そこで、優れた品質の高密度磁気記録媒体
を製造するには、上記二律背反する性質を同時に満足さ
せることが必要とされる。

【０００９】この為の具体的方法として、フイルム表
面に特定の塗剤を塗布し、不連続皮膜を形成させる方法
（特公平３―８０４１０号、特開昭６０―１８０８３９
号、特開昭６０―１８０８３８号、特開昭６０―１８０
８３７号、特開昭５６―１６９３７号、特開昭５８―６
８２２３号等）、フイルム表面に微細凹凸を有する連
続皮膜を塗布形成する方法（特開平５―１９４７７２
号、特開平５―２１０８３３号）、共押出し法等の技
術により表裏異面化する方法（特開平２―２１４６５７
号、特公平７―８０２８２号）、又はととの組合
せによる方法（特開平３―７３４０９号）等が提案され
ている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
不連続皮膜や微細凹凸を有する連続皮膜を塗布形成する
方法においては、フイルム―フイルム間の滑り、ブロッ
キングといった課題は解決できているが、ベースフイル
ムの製膜、製膜工程での搬送、傷付き、巻取り、巻出し
といったハンドリングの点では不十分であり、製品歩留
り、製品コストの観点で、高密度大容量磁気記録媒体用
ベースフイルムへの適用には問題がある。また従来の共
押出し技術或いは、共押出し技術と不連続皮膜或いは連
続皮膜の組合わせ技術においても、同様の問題を抱えて
いる。さらに金属薄膜型磁気記録媒体の場合は高温高湿
条件下の走行性と繰り返し使用時の出力低下の問題を抱
えたままである。

【００１１】本発明の目的は、かかる従来技術の欠点を
解消し、製膜工程での搬送性、耐傷付き性、巻取り性に
優れた積層フイルムを、さらにはこれら特性を有し、金
属薄膜型磁気記録媒体として用いた場合にも高温高湿条
件下の走行性と繰り返し使用時の出力保持に優れた、安
価な高密度磁気記録媒体用二軸配向積層フイルムを提供
することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、第１に、実質的に粒子を含有しない熱可塑性
樹脂層Ａの一方の表面に不活性粒子Ｂを含有する熱可塑
性樹脂層Ｂが積層され、そして該熱可塑性樹脂層Ａのも
う一方の表面に平均粒径１０〜５０ｎｍ、体積形状係数
（ｆ）０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを含有する被覆層
Ｃが積層されている積層フイルムであって、該被覆層Ｃ
の表面が、該不活性粒子Ｃを核とする、高さが該不活性
粒子Ｃの平均粒径の３０％以上２００％未満の微細突起
を２００万〜２０００万個／ｍｍ²の頻度で有し、さら
にフイルム長手方向に対し０±１０度の方向で、高さ２
〜８５ｎｍ、平均幅２０〜５００μｍのうねり状突起を
４〜２５００個／ｍｍ²の頻度で有することを特徴とす
る積層フイルムによって達成される。

【００１３】本発明における熱可塑性樹脂としては、ポ
リエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹
脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポ
リビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等を例示するこ
とができる。これらのうちポリステル系樹脂、さらには
芳香族ポリエステルが好ましい。

【００１４】この芳香族ポリエステルとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ―１，４―シ
クロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート等を好まし
くは例示することができる。これらのうち、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレン
ジカルボキシレートが好ましい。

【００１５】これらポリエステルは、ホモポリエステル
であっても、コポリエステルであっても良い。コポリエ
ステルの場合、例えばポリエチレンテレフタレート及び
ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート
の共重合成分としては、例えばジエチレングリコール、
プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘ
キサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポ
リエチレングリコール、１，４―シクロヘキサンジメタ
ノール、ｐ―キシレングリコール等の他のジオール成
分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸（但し、ポリエチレン―２，６―ナフ
タレンジカルボキシレートの場合）、２，６―ナフタレ
ンジカルボン酸（但し、ポリエチレンテレフタレートの
場合）、５―ナトリウムスルホイソフタル酸等の他のジ
カルボン酸成分、ｐ―オキシエトキシ安息香酸等のオキ
シカルボン酸成分等が挙げられる。これら共重合成分の
量は２０モル％以下、更には１０モル％以下であること
が好ましい。

【００１６】さらに、トリメリット酸、ピロメリット酸
等の３官能以上の多官能化合物を共重合させることもで
きる。この場合ポリマーが実質的に線状である量、例え
ば２モル％以下共重合させるのがよい。

【００１７】上記ポリエステルは、それ自体公知であ
り、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。

【００１８】本発明において、二軸配向積層フイルムは
熱可塑性樹脂層Ａと熱可塑性樹脂層Ｂとを有するが、層
Ａと層Ｂの熱可塑性樹脂は同じでも違っていてもよい。
このうち同じ樹脂であることが好ましい。特に層Ａと層
Ｂがポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン―
２，６―ナフタレンジカルボキシレートからなるのが好
ましい。これらポリエステルとしては、ｏ―クロロフェ
ノール中の溶液として３５℃で測定して求めた固有粘度
が約０．４〜０．９のものが好ましい。

【００１９】本発明において熱可塑性樹脂層Ａには粒子
が実質的に含有されていないことが必要である。ここ
で、粒子を実質的に含有しないとは、フイルム表面に突
起を形成するような外部添加粒子や内部析出粒子は含有
しないが、例えばポリエステルの重合に必須の触媒によ
って生じることのある、滑剤作用を実質的に奏さない極
々少量の粒子は含有しても良いことを意味する。

【００２０】この熱可塑性樹脂層Ａに、フイルム表面に
突起を形成するような外部添加粒子や内部添加粒子が含
有されている場合、該粒子の重なりによる粗大突起が生
じ、特に蒸着金属薄膜型磁気記録媒体として用いるとき
に、電磁変換特性の低下や、ドロップアウトの増加をも
たらす欠陥となってしまう。また、必要とされる表面突
起頻度を得るためには多量の粒子を含有させることにな
って、コストが高くなるという問題がある。

【００２１】上記熱可塑性樹脂層Ａには、例えば酸化防
止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤等の他の添
加剤（表面突起を形成するような粒子は除く）を必要に
応じて含有することができる。

【００２２】本発明における積層フイルムは、上述のよ
うに、実質的に粒子を含有しない熱可塑性樹脂層Ａの一
方の表面に不活性粒子Ｂを含有する熱可塑性樹脂層Ｂが
積層されている必要がある。この不活性粒子Ｂは、層Ｂ
の表面に所望の表面粗さを形成すると共に、層Ａの表
面、さらには被覆層Ｃの表面にうねり状突起を形成する
作用を奏する。不活性粒子Ｂを含有する熱可塑性樹脂層
Ｂが積層されていないと、ベースフイルムの表面が極め
て平坦になってしまう為にベースフイルムの製膜工程で
の搬送、傷付き、巻取り、巻出しといったハンドリング
性の悪化をきたし、またフイルム―フイルム相互の滑り
性の悪化によりブッキング現象が発生し、ロールに巻い
たときの形状（ロールフォーメーション）が悪化し、生
産性の悪化、製品歩留まり低下、ひいては製品の製造コ
ストの上昇をきたす。

【００２３】この熱可塑性樹脂層Ｂの表面は、被覆層Ｃ
の表面よりも粗い表面粗さを有する。換言すると、熱可
塑性樹脂層Ｂの中心面平均粗さＷＲａ^B と被覆層Ｃの中
心面平均粗さＷＲａ^C とが下記式２

【００２４】

【数２】ＷＲａ^B ＞ＷＲａ^C ……２ ここで、ＷＲａ^B 、ＷＲａ^C は熱可塑性樹脂層Ｂ、被覆
層Ｃのそれぞれの外側の表面で測定した非接触３次元中
心面平均粗さである。を満足する。ＷＲａ^B はＷＲａ^C
よりも１ｎｍ以上、更に１．５ｎｍ以上大きいことが好
ましい。そして、この中心面平均粗さＷＲａ^B は２ｎｍ
以上１５ｎｍ未満、更には３〜１０ｎｍ、特に３〜７ｎ
ｍであることが好ましい。

【００２５】熱可塑性樹脂層Ｂの表面粗さＷＲａ^B が１
５ｎｍ以上では、被覆層Ｃの表面のうねり状突起の高
さ、平均幅が後述の要件を満たすのが難しく、また２ｎ
ｍ未満では搬送性等のハンドリング性、テープの走行性
等の点で不十分であり、好ましくない。さらにＷＲａ^B
がＷＲａ^C 以下では、その平坦性の故にベースフイルム
の製膜工程での搬送、傷付き、巻取り、巻出しといった
ハンドリング性の悪化をきたし、またフイルム―フイル
ム相互の滑り性の悪化によりブロッキング現象が発生
し、ロールに巻いたときの形状（ロールフォーメーショ
ン）が悪化し、生産性の悪化、製品歩留りの低下、ひい
ては製品の製造コストの上昇をきたすので好ましくな
い。

【００２６】熱可塑性樹脂層Ｂに上記の表面特性を付与
し、かつ被覆層Ｃに特定のうねり状突起を発現させるに
は、不活性粒子Ｂの平均粒径ｄ_B は０．２〜１μｍ、更
に０．２〜０．８μｍ、特に０．２〜０．６μｍである
ことが好ましい。この平均粒径ｄ_B は、不活性粒子Ｂが
単独粒子からなる場合にはこの平均粒径を、また大きさ
の違う２種以上の粒子からなる場合にはこれらのうち最
も大きい粒子の平均粒径を意味する。

【００２７】この平均粒径ｄ_B を有する不活性粒子とし
ては、例えば（１）粒状ポリマー粒子（例えば架橋シリ
コーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メ
ラミン―ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリ
エステル等）、（２）金属酸化物（例えば酸化アミルニ
ウム、酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム、
酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等）、（３）金属の炭酸塩
（例えば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等）、
（４）金属の硫酸塩（例えば硫酸カルシウム、硫酸バリ
ウム等）、（５）炭素（例えばカーボンブラック、グラ
ファイト、ダイアモンド等）、及び（６）粘土鉱物（例
えばカオリン、クレー、ベントナイト等）が好ましく挙
げられる。これらのうち特に、架橋シリコーン樹脂粒
子、架橋ポリスチレン粒子、メラミン―ホルムアルデヒ
ド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒子、酸化アルミニ
ウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化
ジルコニウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ダイア
モンド及びカオリンが好ましく、とりわけ架橋シリコー
ン樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、アルミナ、二酸化
チタン、二酸化ケイ素及び炭酸カルシウムが好ましい。

【００２８】さらに、２種以上の粒子からなる場合、第
２、第３の小さい粒子として、平均粒径が０．０１μｍ
以上０．１μｍ以下の微細粒子、例えばコロイダルシリ
カ、α、γ、δ、θ等の結晶形態を有するアルミナ等の
微細粒子を好ましく用いることができる。また平均粒径
ｄ_B を有する不活性粒子として例示した粒子種のうち平
均粒径が０．０１μｍ以上０．１μｍ以下の微細粒子も
用いることができる。

【００２９】この不活性粒子Ｂの含有量は０．００１〜
５重量％、更には０．００５〜１重量％、特に０．０１
〜０．５重量％であることが好ましい。

【００３０】本発明における積層フイルムは、上記熱可
塑性樹脂層Ａのもう一方の表面に、平均粒径が１０〜５
０ｎｍ、好ましくは１２〜４５ｎｍ、更に好ましくは１
５〜４５ｎｍで、体積形状係数が０．１〜π／６、好ま
しくは０．３〜π／６、更に好ましくは０．４〜π／６
の不活性粒子Ｃを、表面の微細突起が２００万〜２００
０万個／ｍｍ² 、好ましくは２５０万〜１８００万個／
ｍｍ² 、更に好ましくは３００万〜１５００万個／ｍｍ
² となる量含有する被覆層Ｃが積層されている必要があ
る。この微細突起は、高さが不活性粒子Ｃの平均粒径の
３０％以上２００％未満、好ましくは４０〜１８０％、
更に好ましくは５０〜１６０％の突起である。

【００３１】上記不活性粒子Ｃの平均粒径が１０ｎｍ未
満では巻取性、走行耐久性の向上に効果がなく、一方５
０ｎｍを超えると、電磁変換特性が悪化する。

【００３２】上記不活性粒子Ｃの体積形状係数（ｆ）は
下記式３

【００３３】

【数３】ｆ＝Ｖ／Ｄ ³ ・・・・・・３ ここで、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μ
ｍ³）、Ｄは粒子の最大経（μｍ）である。で表わされ
るが、体積形状係数（ｆ）がπ／６である形状は球（真
球）である。それ故、体積形状係数（ｆ）が０．４〜π
／６のものは実質的に球ないし真球、ラグビーボールの
ような楕円球を含むものであり、これらが特に好まし
い。体積形状係数（ｆ）が０．１未満の粒子、例えば薄
片状粒子では、製品スリット時の巻取り性の悪化及び磁
性層の磁気特性の低下をもたらすので好ましくない。

【００３４】上記表面突起頻度が２００万個／ｍｍ² 未
満では製品スリット時の捲取り性が悪く、また磁気記録
媒体としたときに、磁気ヘッドとの繰り返し接触による
出力の劣化度合い（スチル特性という）が大きく、実用
上問題がある。一方２０００万個／ｍｍ² を超えると、
電磁変換特性に悪影響を及ぼす。

【００３５】また、上記微細突起の高さが不活性粒子Ｃ
の平均粒径の３０％未満では、磁気記録媒体としたとき
に磁気ヘッドとの摩擦係数が高くなりすぎて、スチル特
性が悪化する。一方、この突起高さが不活性粒子Ｃの平
均粒径の２００％以上であると、磁気記録媒体として用
いる場合、繰り返し走行耐久性が悪化してしまう。

【００３６】上記不活性粒子Ｃの種類としては特に限定
されないが、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のも
のが好ましい。例えば、耐熱性ポリマー（例えば、架橋
シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレ
ン、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミ
ド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全
芳香族ポリエステル等）からなる粒子、二酸化ケイ素
（シリカ）、炭酸カルシウム等が好ましく挙げられる。
特に好ましくは架橋シリコーン樹脂、コア・シェル型有
機粒子（コア：架橋ポリスチレン、シェル：ポリメチル
メタクリレートなど）、シリカが挙げられる。

【００３７】本発明における被覆層Ｃでは、不活性粒子
Ｃを固着させるのにバインダー樹脂を用いるが、このバ
インダー樹脂としては、例えば水性ポリエステル樹脂、
水性アクリル樹脂、水性ポリウレタン樹脂等が好ましく
挙げられ、特に水性ポリエステル樹脂が好ましい。

【００３８】この水性ポリエステル樹脂としては、酸成
分が例えばイソフタル酸、フタル酸、１，４―シクロヘ
キサンジカルボン酸、２，６―ナフタレンジカルボン
酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、
セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５―Ｎ
ａスルホイソフタル酸、２―Ｋスルホテレフタル酸、ト
リメリット酸、トリメシン酸、トリメリット酸モノカリ
ウム塩、Ｐ―ヒドロキシ安息香酸等の多価カルボン酸よ
りなり、グリコール成分が例えばエチレングリコール、
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４
―ブタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、１，４
―シクロヘキサンジメタノール、Ｐ―キシリレングリコ
ール、ジメチロールプロパン酸、ビスフェノールＡのエ
チレンオキシド付加物等の多価ヒドロキシ化合物より主
としてなるポリエステル樹脂が好ましく例示でき、また
ポリエステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフ
トポリマー又はブロックコポリマー、あるいは２種のポ
リマーがミクロな粒子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ、
コアシエル）を形成したアクリル変性ポリエステル樹脂
であってもよい。この水性ポリエステル樹脂としては、
水に溶解、乳化、微分散するタイプを自由に用いること
ができ、またこれらは親水性を付与するため分子内に例
えばスルホン酸塩基、カルボン酸塩基、ポリエーテル単
位等が導入されていてもよい。

【００３９】本発明における被覆層Ｃは、その表面に上
述した微細突起のほかに、フイルム長手方向に対し０±
１０度の方向に測定した粗さプロファイルにおいて高さ
２〜８５ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍ、更に好ましく
は２〜２５ｎｍ、平均幅２０〜５００μｍ、好ましくは
２０〜３００μｍ、更に好ましくは２０〜２００μｍの
うねり状突起が４〜２５００個／ｍｍ² 、好ましくは９
〜１６００個／ｍｍ²、更に好ましくは１６〜９００個
／ｍｍ² の頻度で存在する表面特性を有する。

【００４０】このうねり状突起は高さが２ｎｍ未満、ま
たは幅が５００μｍを超えると、あるいは頻度が４個／
ｍｍ² 未満であると製膜工程での搬送、フイルムの傷付
き、製品ロールの巻姿、フイルム―フイルム間のブロッ
キング現象、また金属薄膜型磁気記録用として用いられ
た場合の高温高湿条件下のテープの走行性といった点で
不十分である。

【００４１】一方、うねり状突起の高さが８５μｍを超
えるあるいは頻度が２０００個／ｍｍ² を超えると電磁
変換特性に支障をきたし、高密度磁気記録媒体用ベース
フイルムとしては適さない。またうねり状突起の平均幅
が２０μｍ未満ではうねり状突起の高さが２５ｎｍ以下
の領域で、製膜工程での搬送性、テープの走行性の点が
不十分となる。

【００４２】なお、うねり状突起の測定方向はフイルム
長手方向に対し０±１０度の方向とするが、これは本発
明によるベースフイルムを用いた高密度磁気記録テープ
が適用される磁気記録システムのテープ上を磁気ヘッド
がスキャンするトラックと同じ方向に合せることによ
る。

【００４３】被覆層Ｃでのうねり状突起は、その形成方
法によって制約を受けるものでないが、熱可塑性樹脂層
Ｂ中に含有せしめた不活性粒子Ｂの延伸に伴う層Ａの突
き上げ作用、さらには層Ａの表面に形成されたうねり状
突起による作用によるのが好ましい。

【００４４】この突き上げ作用をより効率よく発現させ
るには、該不活性粒子Ｂの平均粒径と熱可塑性樹脂層Ａ
の厚さとが特定の関係を満たすようにするのが好まし
い。すなわち、不活性粒子Ｂは単独粒子又は大きさの違
う２種以上の粒子からなるが、単独粒子の平均粒径又は
２種以上の粒子のうち最も大きい粒子の平均粒径をｄ_B
（μｍ）とし、層Ａの厚さをｔ_A （μｍ）とすると、下
記式１

【００４５】

【数４】４≦ｔ_A ／ｄ_B ≦４０ ……１ を満足するようにするのが好ましい。このｔ_A ／ｄ_B は
４〜２５、更には４〜１６、特に４〜８であるのが好ま
しい。

【００４６】前記うねり状突起は、特に高密度磁気記録
媒体の表面上の波長（１．０μｍ未満）対比で非常に長
い幅或いは周期を有し、被覆層Ｃが含有する微細不活性
粒子Ｃに基づく突起の高さと同等かそれより低い為に、
電磁変換特性に悪影響を与えること無く、被覆層Ｃの微
細粒子Ｃによる突起と、長期間のうねりと、熱可塑性樹
脂層Ｂの粗面の三者の相乗効果により、従来の高密度磁
気記録媒体用ベースフイルムが抱えていた課題を一挙に
解決するものである。

【００４７】本発明における被覆層Ｃは、さらに、その
表面粗さが、中心面平均粗さ（ＷＲａ^C ）で１０ｎｍ以
下、更には５ｎｍ以下、特に２ｎｍ以下、就中１ｎｍ以
下であることが好ましい。この表面粗さが粗れすぎる
と、電磁変換特性等が低下し、好ましくない。

【００４８】本発明において積層フイルムの全厚みは、
通常２．５〜２０μｍ、好ましくは３．０〜１０μｍ、
更に好ましくは４．０〜１０μｍである。熱可塑性樹脂
層Ａと熱可塑性樹脂層Ｂとの層厚構成は、層Ａの表面に
うねり状突起が生じるように、層Ｂに添加する不活性粒
子Ｂの平均粒径ｄ_B と層Ａの層厚ｔ_A とから好適な厚み
に設定される。層Ａの厚さｔ_A は０．８μｍ以上である
こと、また層Ｂの厚さｔ_B は不活性粒子Ｂの前記平均粒
径ｄ_B の１／２倍以上（μｍ）であることが好ましい。
また、被覆層Ｃの厚みは、不活性粒子Ｃの平均粒径の１
／１００倍以上平均粒径（倍）未満であることが好まし
く、更に好ましくは該平均粒径の２／１００倍以上８０
／１００倍未満、特に好ましくは該平均粒径の３／１０
０倍以上５０／１００倍未満である。

【００４９】本発明の積層フイルムは、従来から知られ
ている或いは当業界に蓄積されている方法で製造するこ
とができる。そのうち、熱可塑性樹脂粒子Ａと熱可塑性
樹脂Ｂとの積層構造は共押出し法により製造するのが好
ましく、そして被覆層Ｃの積層は塗布法により行なうの
が好ましい。

【００５０】例えば、二軸配向ポリエステルフイルムで
説明すると、押出し口金内又は口金以前（一般に前者は
マルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式
と呼ぶ）で、前述の粒子を含有しないポリエステルＡと
不活性粒子Ｂを含有するポリエステルＢを溶融状態にて
積層複合し、前述の好適な厚み比の積層構造と成し、次
いで口金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフ
イルム状に共押出した後、４０〜９０℃で急冷固化し未
延伸積層フイルムを得る。しかる後に、該未延伸積層フ
イルムを常法に従って一軸方向（縦方向又は横方向）に
（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔ
ｇ：該ポリエステルのガラス転移温度）で２．５〜８．
０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延
伸し、次いで前記方向とは直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋７
０）℃温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは
３．０〜７．５倍の倍率で延伸する。更に必要に応じて
縦方向及び／又は横方向に再度延伸しても良い。即ち、
２段、３段、４段、或いは多段の延伸を行うと良い。全
延伸倍率は、面積延伸倍率として通常９倍以上、好まし
くは１２〜３５倍、更に好ましくは１５〜２６倍であ
る。更に引き続いて、二軸配向フイルムを（Ｔｇ＋７
０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば１８０〜２５０
℃で熱固定結晶化することによって優れた寸法安定性が
付与される。なお、熱固定時間は１〜６０秒が好まし
い。

【００５１】上記の方法において、前述の不活性粒子Ｃ
及びバインダー樹脂を含む塗液、好ましくは水性塗液を
塗布する。塗布は最終延伸処理を施す以前のポリエステ
ルＡの表面に行ない、塗布後にはフイルムを少なくとも
一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前乃至途
中で塗膜は乾燥される。その中で、塗布は未延伸積層フ
イルム又は縦（一軸）延伸積層フイルム、特に縦（一
軸）延伸積層フイルムに行なうのが好ましい。塗布方法
としては特に限定されないが、例えばロールコート法、
ダイコート法等が挙げられる。

【００５２】上記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は１
〜１０重量％、さらに１．５〜８重量％、特に２〜６重
量％であることが好ましい。そして塗液（好ましくは水
性塗液）には、所望により、他の成分例えば、界面活性
剤、安定剤、分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を添加する
ことができる。

【００５３】上述の例は、熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂが共に
ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート
又はポリエチレンテレフタレートの場合に好適である
が、層Ａのみ或いは層Ｂのみがポリエチレン―２，６―
ナフタレンジカルボキシレート又はポリエチレンテレフ
タレートの場合にも同様である。

【００５４】なお、積層フイルムの製造に際し、熱可塑
性樹脂に、所望により上述の不活性粒子以外の添加剤例
えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの固有抵抗調整剤等
を添加含有させることができる。

【００５５】本発明において、磁気記録媒体としてのヘ
ッドタッチ、走行耐久性を初めとする各種性能を向上さ
せ、同時に薄膜化を達成するには、積層フイルムのヤン
グ率を縦方向、横方向でそれぞれ４５０ｋｇ／ｍｍ² 以
上、６００ｋｇ／ｍｍ² 以上、更には４８０ｋｇ／ｍｍ
² 以上、６８０ｋｇ／ｍｍ² 以上、特に５５０ｋｇ／ｍ
ｍ² 以上、８００ｋｇ／ｍｍ² 以上、就中５５０ｋｇ／
ｍｍ² 以上、１０００ｋｇ／ｍｍ² 以上とするのが好ま
しい。また、ポリエチレンテレフタレート層の結晶化度
は３０〜５０％、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジ
カルボキシレート層の結晶化度は２８〜３８％であるこ
とが望ましい。いずれも下限を下回ると、熱収縮率が大
きくなるし、一方上限を上回るとフイルムの耐磨耗性が
悪化し、ロールやガイドピン表面と摺動した場合に白粉
が生じやすくなる。

【００５６】本発明の積層フイルムは、被覆層Ｃの表面
に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング
等の方法により、鉄、コバルト、クロム又はこれらを主
成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属薄膜
層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じ
てダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、
含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性
樹脂層Ｂ側の表面に公知のバックコート層を設けること
により、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電
磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少
ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることが出来
る。この蒸着型電磁記録媒体は、アナログ信号記録用Ｈ
ｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセット
レコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV用テー
プ媒体として極めて有用である。

【００５７】本発明の積層フイルムは、また、被覆層Ｃ
の表面に、鉄又は鉄を主成分とする針状微細磁性粉をポ
リ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体
等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以
下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更
に熱可塑性樹脂層Ｂ側の表面に公知の方法でバックコー
ト層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ
／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウ
ト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁
気記録媒体とすることが出来る。また、必要に応じて層
Ａの上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な
酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の
有機バインダー中に分散、塗設することもできる。この
メタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用８ミ
リビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ―ＶＨＳ、ディジタ
ル信号記録用ディジタルビデオカセットコーダー（ＤＶ
Ｃ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV、ディジタルβカム、Ｄ
２、Ｄ３、ＳＸ等用テープ媒体として極めて有用であ
る。

【００５８】本発明の積層フイルムは、また、被覆層Ｃ
の表面に、酸化鉄又は酸化クロム等の針状微細磁性粉、
又はバリウムフェライト等の板状微細磁性粉をポリ塩化
ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバ
インダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ま
しくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に熱可塑
性樹脂層Ｂ側の表面に公知の方法でバックコート層を設
けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ
／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラー
レートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とする
ことが出来る。また、必要に応じて層Ａの上に、該メタ
ル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等
を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中
に分散、塗設することも出来る。この酸化物塗布型磁気
記録媒体は、ディジタル信号記録用データストリーマー
用ＱＩＣ等の高密度酸化物塗布型磁気記録媒体として有
用である。

【００５９】上述のＷ―ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信
号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤ
ＴＶ信号記録用として適用可能なものであり、本発明の
フイルムはこれらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に
極めて有用なベースフイルムと言うことができる。

【００６０】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。尚、本発明において用いた測定法は次の通りであ
る。

【００６１】（１）固有粘度 オルソクロロフェノール溶媒中３５℃で測定した値から
求める。

【００６２】（２）粒子の平均粒径Ｉ（平均粒径：０．
０６μｍ以上） 島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフューグル パーテ
ィクル サイズ アナライザー（Centrifugal Particle
Size Analyzer）を用いて測定する。得られる遠心沈降
曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算
曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球
直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（Book
「粒度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、頁２
４２〜２４７参照）。

【００６３】（３）粒子の平均粒径II（平均粒径：０．
０６μｍ未満） 小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、
光散乱法を用いて測定する。即ち、Ｎｉｃｏｍｐ Ｉｎ
ｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．社製のＮＩＣＯＭＰ Ｍ
ＯＤＥＬ ２７０ ＳＵＢＭＩＣＲＯＮ ＰＡＲＴＩＣ
ＬＥ ＳＩＺＥＲ により求められる全粒子の５０重量
％の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。

【００６４】（４）体積形状係数ｆ 走査型電子顕微鏡により用いたサイズに応じた倍率にて
各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼックス
５００（日本レギュレーター製）を用い、投影面最大径
及び粒子の体積を算出し、次式により算出する。

【００６５】

【数５】ｆ＝Ｖ／Ｄ³ 式中、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μｍ³ ）、
Ｄは投影面の最大径（μｍ）を表す。

【００６６】（５）フイルムの表面突起頻度 フイルム表面の突起頻度の測定は走査型電子顕微鏡によ
り行う。即ち、積層フイルムの表面写真を倍率３０００
０倍にてランダムに３０枚撮影し、表面突起頻度をカウ
ントし、その平均値より１ｍｍ² 当たりの突起数に換算
し、この値をフイルムの表面突起頻度とする。

【００６７】（６）層厚み １）熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂの厚み及び全体の厚み フイルムの全体の厚みはマイクロメーターにてランダム
に１０点測定し、その平均値を用いる。層Ａ、Ｂの厚み
は、薄い側の層厚みを以下に述べる方法にて測定し、ま
た厚い側の層厚みは全体の厚みより被覆層及び薄い側の
層厚みに引き算して求める。即ち、二次イオン質量分析
装置（ＳＩＭＳ）を用いて、被覆層を除いた表層から深
さ５０００ｎｍの範囲のフイルム中の粒子の内最も高濃
度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃
度比（Ｍ⁺ ／Ｃ⁺ ）を粒子濃度とし、表面から深さ５０
００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面とい
う界面の為に粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれ
て粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦
安定値１になった後、上昇或いは減少して安定値２にな
る場合と、単調に減少する場合とがある。この分布曲線
をもとに、前者の場合は、（安定値１＋安定値２）／２
の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の場合は粒
子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この深さは安定
値１を与える深さよりも深い）をもって、当該層の層厚
みとした。

【００６８】測定条件は以下の通りである。 測定装置 二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）；ＰＥＲＫＩＮ
ＥＬＭＥＲ社製 ６３００ 測定条件 一次イオン種 ：Ｏ２＋ 一次イオン加速電圧：１２ＫＶ 一次イオン電流：２００ｎＡ ラスター領域 ：４００μｍ□ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：６．０×１０^-9Ｔｏｒｒ Ｅ―ＧＵＮＮ ：０．５ＫＶ―３．０Ａ 尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多く含有する粒
子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合はＳＩ
ＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしなが
らＦＴ―ＩＲ（フーリエトランスフォーム赤外分光
法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線高電子分光法）等で
上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求める。 ２）被覆層Ｃの厚み フイルムの小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロ
トームにて約６００オングストロームの厚みの超薄切片
（フイルムの流れ方向に平行に切断する）を作成する。
この試料を透過型電子顕微鏡（日立製作所製：Ｈ―８０
０型）にて観察し、被覆層Ｃの境界面を捜して被覆の層
の厚みを求める。

【００６９】（７）フイルム表面のうねり状突起 ＷＹＫＯ社製非接触三次元粗さ計（ＴＯＰＯ―３Ｄ）を
用いて、うねり状突起の大きさ、高さに応じ、測定倍率
４０倍、測定面積２３４μｍ×２４０μｍ（０．０５６
ｍｍ² ）、又は測定倍率１０倍、測定面積９５６μｍ×
９８０μｍ（０．９３７ｍｍ² ）にて測定し、得られた
三次元粗さチャートより、うねりの高さ、平均幅を読み
取る。尚、測定はフイルムの長手方向に対し５〜１０度
の方向に切り出したサンプルにて行った。

【００７０】（８）中心面平均粗さ ＷＲａ ＷＹＫＯ社製非接触３次元粗さ計（ＴＯＰＯ―３Ｄ）を
用いて測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×２３９μ
ｍ（０．０５８ｍｍ² ）の条件にて測定を行ない、同粗
さ計内臓ソフトによる表面解析より、ＷＲａは以下の式
により計算されアウトプットされた値を用いる。

【００７１】

【数６】

【００７２】また、Ｚ_jkは測定方向（２４２μｍ）、そ
れと直行する方向（２３９μｍ）をそれぞれＭ分割、Ｎ
分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置に於ける
３次元粗さチャート上の高さである。

【００７３】（９）突起高さ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製原子間力
顕微鏡（ＡＦＭ）Ｎａｎｏ ＳｃｏｐｅIIを用いて、２
μｍ×２μｍの面積を２５６ライン×２５６ピクセの画
素数て測定し、算出されるＲｚ（十点平均粗さ）を突起
高さとする。

【００７４】（１０）ヤング率 東洋ボールドウィン社製の引っ張り試験機テンシロンを
用いて、温度２０℃、湿度５０％に調節された室内に於
いて、長さ３００ｍｍ、幅１２．７ｍｍの試料フイルム
を、１０％／分のひずみ速度で引っ張り、引っ張り応力
―ひずみ曲線の初めの直線部分を用いて次ぎの式によっ
て計算する。

【００７５】

【数７】Ｅ＝Δσ／Δε ここで、Ｅはヤング率（ｋｇ／ｍｍ² ）、Δσは直線上
の２点間の元の平均断面積による応力差、Δεは同じ２
点間のひずみ差である。

【００７６】（１１）巻き取り性 スリット時の巻き取り条件を最適化後、幅７００ｍｍ×
長さ１００００ｍのサイズで、３０ロールを速度１００
ｍ／ｍｉｎでスリットし、１週間放置後の、フイルムシ
ワの発生状況を巻芯層まで精査し、シワのないロールを
良品として、以下の基準にて巻き取り性を評価する。

【００７７】

【００７８】（１２）磁気テープの製造及び特性評価 二軸配向積層フイルムの被覆層Ｃの表面に、真空蒸着法
により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．０２μｍ
の厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成
し、その表面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）
膜、更に含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に
熱可塑性樹脂Ｂ側の表面に公知方法でバックコート層を
設ける。その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍ
ビデオカセットにローディングする。次いで、以下の市
販の機器を用いてテープの特性を測定する。

【００７９】使用機器： ８ｍｍビデオテープレコーダー ソニー（株）製ＥＤＶ
―６０００ Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター Ｃ／Ｎ測定 記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／ＮをＯｄＢとし、相対値で表す。 走行耐久性 ４０℃、８０％ＲＨでテープ走行速度８５ｃｍ／分で記
録再生を５００回繰り返した後Ｃ／Ｎを測定し、初期値
からのずれを次の基準で判定する。 ◎：基準値に対して＋０．０ｄＢ以上 ○： 〃 −１．０ｄＢ〜＋０．０ｄＢ ×： 〃 −１．０ｄＢ未満。 スチル特性 前記した蒸着テープに４．２ＭＨｚの映像信号を記録
し、この再生出力が５０％に減衰するまでの時間を測定
する。この時間より次の基準で判定する。 ◎：５０％に減衰時間が１２０分以上 ○： 〃 ６０分〜１２０分 ×： 〃 ６０分未満。

【００８０】［実施例１］ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マ
ンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤
として亜燐酸を、更に滑剤として表１に示す不活性粒子
を添加して常法により重合し、固有粘度０．６０の層Ａ
用、及び層Ｂ用のポリエチレンテフタレート（ＰＥＴ）
（それぞれ樹脂Ａ、樹脂Ｂ）を得た。

【００８１】この樹脂Ａ、樹脂Ｂをそれぞれ１７０℃で
３時間乾燥後、２台の押出し機に供給し、溶融温度２８
０〜３００℃にて溶融し、マルチマニホールド型共押出
しダイを用いて、樹脂層Ａの片面に樹脂層Ｂを積層さ
せ、急冷して厚さ８７μｍの未延伸積層フイルムを得
た。

【００８２】得られた未延伸フイルムを予熱し、更に低
速・高速のロール間でフイルム温度１００℃にて３．３
倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フイルムの層Ａ面側
に表２のバインダー樹脂及び粒子Ｃを含む水性塗液（全
固形分濃度１．５重量％、界面活性剤としてＨＬＢ値１
７．１のポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルを
全固形分中１５重量％含有）をキスコート法により塗布
し、続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に
４．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フイルムを２２
０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み６．３μｍの積層二
軸配向ポリエステルフイルムを得た。各層の厚みについ
ては、２台の押出し機の吐出量により調整した。このフ
イルムのヤング率は縦方向５００ｋｇ／ｍｍ² 、横方向
７００ｋｇ／ｍｍ² であった。

【００８３】この積層二軸配向フイルムの表面特性、層
Ａの厚みｔ_A と層Ｂが含有する不活性粒子のうち、最も
大きい粒子の平均粒径ｄ_B との比ｔ_A ／ｄ_B 、巻き取り
性、このフイルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープの
特性を表３に示す。

【００８４】［実施例２〜４、比較例１〜７、９］被覆
層Ｃのバインダー樹脂及び粒子、熱可塑性樹脂粒子層
Ａ、Ｂに含有される粒子と層厚みを表１、２に示すよう
に変更する以外は実施例１と同様の方法で、積層二軸配
向ポリエステルフイルムを得た。但し、比較例４は被覆
層Ｃを設けなかった。また、比較例９は単層構造のフイ
ルムである。この様にして得られたフイルムの特性、及
びこれらのフイルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープ
の特性を表３に示す。

【００８５】［実施例５〜９、比較例８］表１に示す粒
子Ｂを用い、かつジメチルテレフタレートの代わりに
２，６―ナフタレンジカルボン酸ジメチルを同モル量使
用した以外は実施例１と同様の方法で層Ａ、層Ｂ用のポ
リエチレン―２，６―ナフタレート（ＰＥＮ）（樹脂
Ａ、樹脂Ｂ）を得た。

【００８６】この樹脂Ａ、樹脂Ｂをそれぞれ１７０℃で
６時間乾燥後、実施例１と同様にして各層厚みを調整
し、各実施例、比較例を満たす未延伸積層フイルムを得
た。

【００８７】この様にして得られた未延伸フイルムを予
熱し、更に低速・高速のロール間でフイルム温度１３５
℃にて３．６倍に延伸し、急冷し、次いで表２に示す被
覆層Ｃの水性塗液を実施例１と同様に塗布し、続いてス
テンターに供給し、１５５℃にて横方向に６．０倍に延
伸した。得られた二軸延伸フイルムを２００℃の熱風で
４秒間熱固定し、厚み４．６μｍの積層二軸配向ポリエ
ステルフイルムを得た。これらのフイルムのヤング率は
縦方向５６０ｋｇ／ｍｍ² 、横方向１１００ｋｇ／ｍｍ
² であった。但し、実施例５は縦倍率４．０×横倍率
５．０とし、積層二軸配向ポリエステルフイルムのヤン
グ率は、縦方向６００ｋｇ／ｍｍ² 、横方向９００ｋｇ
／ｍｍ² であった。この様にして得られたフイルムの特
性、及びこれらのフイルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気
テープの特性を表３に示す。

【００８８】表３から明らかなように、本発明による積
層フイルムは、片面が非常に平坦で優れた電磁変換特性
を示すとともに、被覆層Ｃに含有される特定形状の微細
粒子と、電磁変換特性に悪影響を与えない、高さが低
く、幅の大きいうねり状突起の相乗効果によって磁気記
録媒体としたときの高温高湿走行耐久性及びスチル特性
に極めて優れ、また、極めて優れたベースフイルムの巻
取性も兼ねそなえている。一方、本発明の要件を満たさ
ないものは、これらの特性を同時に満足できていない。

【００８９】

【表１】

【００９０】

【表２】

【００９１】

【表３】

【００９２】

【発明の効果】本発明によれば、巻取り性、易滑性、ハ
ンドリング性に優れ、特に電磁変換特性、ドロップアウ
ト、磁性層の走行性、耐久性の優れた高密度磁気記録媒
体用として用いるのに有用な積層フイルムを提供するこ
とができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 ＥＰＡＴ（ＱＵＥＳＴＥＬ) ＷＰＩ／Ｌ（ＱＵＥＳＴＥＬ)

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 実質的に粒子を含有しない熱可塑性樹脂
   層Ａの一方の表面に不活性粒子Ｂを含有する熱可塑性樹
   脂層Ｂが積層され、そして該熱可塑性樹脂層Ａのもう一
   方の表面に平均粒径１０〜５０ｎｍ、体積形状係数
   （ｆ）０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを含有する被覆層
   Ｃが積層されている積層フイルムであって、該被覆層Ｃ
   の表面が、該不活性粒子Ｃを核とする、高さが該不活性
   粒子Ｃの平均粒径の３０％以上２００％未満の微細突起
   を２００万〜２０００万個／ｍｍ²の頻度で有し、さら
   にフイルム長手方向に対し０±１０度の方向で、高さ２
   〜８５ｎｍ、平均幅２０〜５００μｍのうねり状突起を
   ４〜２５００個／ｍｍ²の頻度で有することを特徴とす
   る積層フイルム。
2. 【請求項２】 不活性粒子Ｂが単独粒子又は大きさの違
   う２種以上粒子からなり、単独粒子の平均粒径又は２種
   以上の粒子のうち最も大きい粒子の平均粒径と熱可塑性
   樹脂層Ａの厚みが下記式１を満足する請求項１に記載の
   積層フイルム。 【数１】４≦ｔ_A ／ｄ_B ≦４０ ……１ ここで、ｔ_A は熱可塑性樹脂層Ａの厚み（μｍ）であ
   り、ｄ_B は単独粒子の平均粒径（μｍ）又は２種以上の
   粒子のうち最も大きい粒子の平均粒径（μｍ）である。
3. 【請求項３】 不活性粒子Ｂの、単独粒子の平均粒径又
   は２種以上の粒子のうち最も大きい粒子の平均粒径が
   ０．２〜１μｍである請求項２に記載の積層フイルム。
4. 【請求項４】 被覆層Ｃの表面の中心面平均粗さＷＲａ
   ^C が１０ｎｍ以下である請求項１に記載の積層フイル
   ム。
5. 【請求項５】 熱可塑性樹脂層Ｂの表面の中心面平均粗
   さＷＲａ^B が２ｎｍ以上１５ｎｍ未満である請求項１に
   記載の積層フイルム。
6. 【請求項６】 熱可塑性樹脂層Ａの厚みが０．８μｍ以
   上で、熱可塑性樹脂層Ｂの厚みが不活性粒子Ｂの平均粒
   径ｄ_B の１／２倍以上である請求項１又は２に記載の積
   層フイルム。
7. 【請求項７】 積層フイルムの全厚みが２．５〜２０μ
   ｍである請求項１に記載の積層フイルム。
8. 【請求項８】 層Ａ及び層Ｂの熱可塑性樹脂がそれぞれ
   芳香族ポリエステルである請求項１に記載の積層フイル
   ム。
9. 【請求項９】 芳香族ポリエステルがポリエチレンテレ
   フタレート又はポリエチレン―２，６―ナフタレンジカ
   ルボキシレートである請求項８に記載の積層フイルム。
10. 【請求項１０】 磁気記録媒体のベースフイルムである
    請求項１に記載の積層フイルム。
11. 【請求項１１】 磁気記録媒体が金属薄膜型磁気記録媒
    体である請求項１０に記載の積層フイルム。
12. 【請求項１２】 磁気記録媒体が磁性層の厚みが１μｍ
    以下の塗布型磁気記録媒体である請求項１０に記載の積
    層フイルム。
13. 【請求項１３】 磁気記録媒体がデイジタル信号記録型
    磁気記録媒体である請求項１０、１１又は１２に記載の
    積層フイルム。