JP2002246304A5 - - Google Patents

Description

【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る走査露光装置は、原版と基板とを移動させることにより前記原版のパターンを前記基板に露光する走査露光装置であって、前記原版と前記基板とを移動させながら、前記基板上の複数点のうちの各点に関し、前記原版と前記基板との間の複数の位置ずれを計測する計測手段と、前記各点に関する、前記複数の位置ずれの標準偏差に基づいて、処理を実行する処理手段とを備えたことを特徴とする。

【０００８】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記走査露光装置は、前記原版を保持した原版ステージと前記基板を保持した基板ステージとを移動させながら、スリット形状光を用いて、前記原版のパターンを前記基板に露光することが好ましい。

【０００９】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記計測手段は、前記各点を前記スリット形状光により露光している間に前記複数の位置ずれを計測することが好ましい。

【００１０】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記複数点は、前記基板上のショット内にあることが好ましい。

【００１１】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記露光装置は、前記標準偏差を算出する第１の演算手段と、前記標準偏差のばらつきの指標を求める第２の演算手段とを備えることが好ましい。

【００１２】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記第２の演算手段により求められた前記指標に基づき、処理を実行することが好ましい。

【００１３】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記指標が許容できるものであるか否かを判断し、当該判断結果に基づき、処理を実行することが好ましい。

【００１４】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記第２の演算手段は、前記標準偏差がχ²分布として分布するとの仮定に基づいて、前記指標を求めることが好ましい。

【００１５】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記第２の演算手段は、前記指標として、前記標準偏差の分布から尤度により決まる、前記標準偏差の信頼限界を求めることが好ましい。

【００１６】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記第２の演算手段は、前記基板上のショット毎に前記指標を求めることが好ましい。

【００１７】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記各点に関する前記標準偏差に基づいて、前記露光の処理を制御することが好ましい。

【００１８】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記基板上のショットを露光する前のセトリング時間、前記原版及び前記基板の各移動速度、前記基板上の複数ショットの露光順番、および露光中に加える振動のうちの少なくとも１つに関する設定を行うことが好ましい。

【００１９】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記指標に関する情報の表示、記憶、および外部装置への転送の少なくとも１つに関する制御を行うことが好ましい。

【００２０】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記各点に関する前記標準偏差に基づいて、前記露光の処理を停止することが好ましい。

【００２１】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記指標が許容できないものとされた、前記基板上のショットの数に基づいて、処理を実行することが好ましい。

【００２２】
本発明に係るデバイス製造方法は、上記の走査露光装置を用いて原版のパターンを基板に露光する工程を含むことを特徴とする。
本発明に係る操作露光方法は、原版と基板とを移動させることにより前記原版のパターンを前記基板に露光する走査露光方法であって、前記原版と前記基板とを移動させながら、前記基板上の複数点のうちの各点に関し、前記原版と前記基板との間の複数の位置ずれを計測する計測工程と、前記各点に関する、前記複数の位置ずれの標準偏差に基づいて、処理を実行する処理工程とを含むことを特徴とする。

Claims (17)

1. 原版と基板とを移動させることにより前記原版のパターンを前記基板に露光する走査露光装置であって、
   前記原版と前記基板とを移動させながら、前記基板上の複数点のうちの各点に関し、前記原版と前記基板との間の複数の位置ずれを計測する計測手段と、
   前記各点に関する、前記複数の位置ずれの標準偏差に基づいて、処理を実行する処理手段と
   を備えたことを特徴とする走査露光装置。
2. 前記原版を保持した原版ステージと前記基板を保持した基板ステージとを移動させながら、スリット形状光を用いて、前記原版のパターンを前記基板に露光することを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
3. 前記計測手段は、前記各点を前記スリット形状光により露光している間に、前記複数の位置ずれを計測することを特徴とする請求項２に記載の走査露光装置。
4. 前記複数点は、前記基板上のショット内にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の走査露光装置。
5. 前記標準偏差を算出する第１の演算手段と、前記標準偏差のばらつきの指標を求める第２の演算手段とを備えたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の走査露光装置。
6. 前記処理手段は、前記第２の演算手段により求められた前記指標に基づき、処理を実行することを特徴とする請求項５に記載の走査露光装置。
7. 前記処理手段は、前記指標が許容できるものであるか否かを判断し、当該判断結果に基づき、処理を実行することを特徴とする請求項６に記載の走査露光装置。
8. 前記第２の演算手段は、前記標準偏差がχ²分布として分布するとの仮定に基づいて、前記指標を求めることを特徴とする請求項５に記載の走査露光装置。
9. 前記第２の演算手段は、前記指標として、前記標準偏差の分布から尤度により決まる、前記標準偏差の信頼限界を求めることを特徴とする請求項５に記載の走査露光装置。
10. 前記第２の演算手段は、前記基板上のショット毎に前記指標を求めることを特徴とする請求項５に記載の走査露光装置。
11. 前記処理手段は、前記各点に関する前記標準偏差に基づいて、前記露光の処理を制御することを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
12. 前記処理手段は、前記基板上のショットを露光する前のセトリング時間、前記原版及び前記基板の各移動速度、前記基板上の複数ショットの露光順番、および露光中に加える振動のうちの少なくとも１つに関する設定を行うことを特徴とする請求項１１に記載の走査露光装置。
13. 前記処理手段は、前記指標に関する情報の表示、記憶、および外部装置への転送の少なくとも１つに関する制御を行うことを特徴とする請求項５に記載の走査露光装置。
14. 前記処理手段は、前記各点に関する前記標準偏差に基づいて、前記露光の処理を停止することを特徴とする請求項１１に記載の走査露光装置。
15. 前記処理手段は、前記指標が許容できないものとされた、前記基板上のショットの数に基づいて、処理を実行することを特徴とする請求項７に記載の走査露光装置。
16. 請求項１〜１５のいずれかに記載の走査露光装置を用いて原版のパターンを基板に露光する工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
17. 原版と基板とを移動させることにより前記原版のパターンを前記基板に露光する走査露光方法であって、
    前記原版と前記基板とを移動させながら、前記基板上の複数点のうちの各点に関し、前記原版と前記基板との間の複数の位置ずれを計測する計測工程と、
    前記各点に関する、前記複数の位置ずれの標準偏差に基づいて、処理を実行する処理工程と
    を含むことを特徴とする走査露光方法。