JP5762072B2 - 位置検出方法、パターン描画方法、パターン描画装置およびコンピュータプログラム - Google Patents
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最良評価値≦しきい値
を満足する場合、つまり一の基準マークの位置情報を他の基準マークの位置情報から高い確からしさで補間できる場合、実測すべき基準マークから一の基準マークを除外している。このため、2枚目以降の基板Wについては、高い検出精度を保ちながら実測すべき基準マークの個数を低減することができ、スループットを向上させることができる。
評価値=(目標の誤差範囲−各基準マークの誤差の平均)/標準偏差
に基づいて算出される値などを用いてもよい。
40a、40b…光学ヘッド
62…CCDイメージセンサ(撮像部)
90…制御部
91…露光制御部
92…データ処理部
100…パターン描画装置
MK1、MK2、MK3、…、MKn…基準マーク
W…基板(物体)
Claims (8)
- 物体上に形成された複数の基準マークの位置を求める位置検出方法であって、
複数の基準マークの位置情報を実測する実測工程と、
前記複数の基準マークのうちの1つの基準マークを対象マークとし、前記対象マークを除く他の前記基準マークの実測された位置情報に基づき前記複数の基準マークの位置情報を算出し、前記複数の基準マークについて算出された位置情報と実測された位置情報とのズレ量を算出し、前記算出された位置情報が前記実測された位置情報と一致することの確からしさを指標する評価値を前記複数のズレ量に基づき求め、当該評価値が所定のしきい値以下であるときには実測すべき基準マークから前記対象マークを除外する実測マーク削減工程と
を備えることを特徴とする位置検出方法。 - 前記実測マーク削減工程は、
前記複数の基準マークの各々を対象マークとした場合の前記評価値をそれぞれ算出する算出工程と、
前記算出工程で算出された前記複数の評価値のうち最も小さい評価値を最良値として選出する選出工程と、
前記最良値が前記しきい値以下であるとき、前記最良値を算出したときの対象マークを除外する除外工程と
を有する請求項1に記載の位置検出方法。 - 前記実測マーク削減工程では、1つの対象マークを除外する毎に、前記算出工程、前記選出工程および前記除外工程が繰り返して実行される請求項2に記載の位置検出方法。
- 前記最良値が前記しきい値以下であるときには前記最良値を算出したときの対象マークを除外した上で前記実測マーク削減工程を繰り返す一方、前記最良値が前記しきい値を超えた時点で前記実測マーク削減工程の繰り返しを停止する請求項3に記載の位置検出方法。
- 第1の物体上に形成された複数の基準マークの位置情報を実測する第1の実測工程と、
前記複数の基準マークの実測された位置情報に基づいて前記第1の物体上に形成された第1の下層パターンに対して上層パターンを位置決めして描画する第1の描画工程と、
前記複数の基準マークのうちの1つの基準マークを対象マークとし、前記対象マークを除く他の前記基準マークの実測された位置情報に基づき前記複数の基準マークの位置情報を算出し、前記複数の基準マークについて算出された位置情報と実測された位置情報とのズレ量を算出し、前記算出された位置情報が前記実測された位置情報と一致することの確からしさを指標する評価値を前記複数のズレ量に基づき求め、当該評価値が所定のしきい値以下であるときには実測すべき基準マークから前記対象マークを除外する実測マーク削減工程と、
前記第1の下層パターンと同じ第2の下層パターンが形成された第2の物体上に形成された前記複数の基準マークのうち前記実測マーク削減工程で除外された対象マークを除く基準マークの位置情報を実測した後、前記位置情報に基づいて前記第2の物体上に形成された第2の下層パターンに対して上層パターンを位置決めして描画する第2の描画工程と
を備えることを特徴とするパターン描画方法。 - 前記第1の描画工程と並行して実測マーク削減工程を実行する請求項5に記載のパターン描画方法。
- 物体上に形成された複数の基準マークを撮像する撮像部と、
前記物体上に上層パターンを描画する光学ヘッドと、
前記光学ヘッドに対して前記物体を相対的に位置決めする位置決め機構部と、
前記撮像部、前記光学ヘッドおよび前記位置決め機構部を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
第1の物体上に形成された複数の基準マークを前記撮像部により撮像して前記複数の基準マークの画像を得るとともに、前記画像に基づいて前記複数の基準マークの位置情報を実測し、当該位置情報に基づいて前記第1の物体上に形成された第1の下層パターンに対して前記上層パターンを位置決めして前記光学ヘッドにより描画し、
前記複数の基準マークのうちの1つの基準マークを対象マークとし、前記対象マークを除く他の前記基準マークの実測された位置情報に基づき前記複数の基準マークの位置情報を算出し、前記複数の基準マークについて算出された位置情報と実測された位置情報とのズレ量を算出し、前記算出された位置情報が前記実測された位置情報と一致することの確からしさを指標する評価値を前記複数のズレ量に基づき求め、当該評価値が所定のしきい値以下であるときには実測すべき基準マークから前記対象マークを除外し、
前記第1の下層パターンと同じ第2の下層パターンが形成された第2の物体上に形成された複数の基準マークのうち除外された前記対象マークを除く基準マークを前記撮像部により撮像して前記複数の基準マークの画像を得るとともに、前記画像に基づいて前記複数の基準マークの位置情報を実測し、当該位置情報に基づいて前記第2の物体上に形成された第2の下層パターンに対して前記上層パターンを位置決めして前記光学ヘッドにより描画する
ことを特徴とするパターン描画装置。 - 物体上に形成された複数の基準マークの位置を求めるためのコンピュータプログラムであって、
複数の基準マークの位置情報を実測する実測機能と、
前記複数の基準マークのうちの1つの基準マークを対象マークとし、前記対象マークを除く他の前記基準マークの実測された位置情報に基づき前記複数の基準マークの位置情報を算出し、前記複数の基準マークについて算出された位置情報と実測された位置情報とのズレ量を算出し、前記算出された位置情報が前記実測された位置情報と一致することの確からしさを指標する評価値を前記複数のズレ量に基づき求め、当該評価値が所定のしきい値以下であるときには実測すべき基準マークから前記対象マークを除外する実測マーク削減機能と
をコンピュータに実現させる、コンピュータプログラム。
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JP2011065225A JP5762072B2 (ja) | 2011-03-24 | 2011-03-24 | 位置検出方法、パターン描画方法、パターン描画装置およびコンピュータプログラム |
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JP2011065225A JP5762072B2 (ja) | 2011-03-24 | 2011-03-24 | 位置検出方法、パターン描画方法、パターン描画装置およびコンピュータプログラム |
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JP2012204422A JP2012204422A (ja) | 2012-10-22 |
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