JP2000021766A5 - - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、位置計測装置、位置計測方法、露光装置及びデバイス製造方法に関する。

【００１４】
本発明は、ステージの静止を待たずに位置計測を高精度に行える位置計測装置、位置計測方法、露光装置及びデバイス製造方法の提供を目的とする。

【００１５】
【課題を解説するための手段】
請求項１の発明の位置計測装置は、ステージ上に置かれた物体の上のマークの位置を計測する位置計測装置であって、
前記マークの画像を検出することにより画像データを得る画像検出手段と、
前記画像検出手段による画像検出の間に、前記ステージの位置を複数回計測する計測手段と、
前記画像検出手段により得られた画像データと前記計測手段により計測された前記ステージの複数の位置とに基づいて、前記マークの位置を算出する算出手段と
を有することを特徴としている。

【００１６】
請求項２の発明は、請求項１の発明において、前記画像検出手段は、信号取り込み時間の間、前記マークの画像信号を蓄積し、蓄積された画像信号に基づいて前記信号取り込み時間中の前記マークの平均的な位置を求めるために用いられる前記画像データを得ることを特徴としている。
請求項３の発明は、請求項１又は２の発明において、前記画像検出手段及び前記計測手段は、実質的に同じ期間中に、前記マークの画像データ及び前記ステージの位置をそれぞれ得ることを特徴としている。
請求項４の発明は、請求項１〜３のいずれか１項の発明において、前記画像検出手段が前記マークの画像を検出可能な位置に前記ステージが移動後、かつ前記ステージが止まる前に、前記画像検出手段及び前記計測手段は、前記マークの画像の検出及び前記ステージの位置の計測をそれぞれ開始することを特徴としている。
請求項５の発明は、請求項１〜４のいずれか１項の発明において、前記画像検出手段は、オフアクシススコープを含むことを特徴としている。
請求項６の発明は、請求項１〜５のいずれか１項の発明において、前記計測手段は、干渉計を含むことを特徴としている。
請求項７の発明は、請求項１〜６のいずれか１項の発明において、前記物体は複数の領域を有し、前記マークは前記複数の領域のそれぞれに対応して形成され、前記算出手段により算出された前記マークの位置に基づいて、前記複数の領域のそれぞれに関して前記ステージの目標位置を算出することを特徴としている。
請求項８の発明は、請求項７の発明において、前記算出手段は、前記複数の領域のうち定められた領域に関して、前記画像検出手段により得られた画像データと前記計測手段により計測された前記ステージの複数の位置とに基づいて、前記マークの位置偏差を算出し、前記位置偏差に基づいて、前記複数の領域のそれぞれに関して前記ステージの目標位置を算出することを特徴としている。
請求項９の発明は、請求項１〜８のいずれか１項の発明において、前記ステージを、前記画像検出手段が前記マークの画像を検出可能な位置において、等速で移動させるようにしたことを特徴としている。

【００１７】
請求項１０の発明の位置計測方法は、ステージ上に置かれた物体の上のマークの位置を計測する位置計測方法であって、
前記マークの画像を検出することにより画像データを得る画像検出工程と、
前記画像検出工程における画像検出の間に、前記ステージの位置を複数回計測する計測工程と、
前記画像検出工程において得られた画像データと前記計測工程において計測された前記ステージの複数の位置とに基づいて、前記マークの位置を算出する算出工程と
を含むことを特徴としている。

【００１８】
請求項１１の発明の露光装置は、請求項１〜９のいずれかに記載の位置計測装置を有し、前記物体にパターンを露光することを特徴としている。

【００１９】
請求項１２の発明のデバイス製造方法は、請求項１〜９のいずれかに記載の位置計測装置を用いて前記物体の位置合わせを行う位置合わせ工程を含むことを特徴としている。

【００２０】
請求項１３の発明のデバイス製造方法は、請求項１１に記載の露光装置を用いて前記物体にパターンを露光する露光工程を含むことを特徴としている。

【０１２２】
【発明の効果】
本発明によれば、ステージの静止を待たずに位置計測を高精度に行える位置計測装置、位置計測方法、露光装置及びデバイス製造方法を提供することができる。

Claims (13)

1. ステージ上に置かれた物体の上のマークの位置を計測する位置計測装置であって、
   前記マークの画像を検出することにより画像データを得る画像検出手段と、
   前記画像検出手段による画像検出の間に、前記ステージの位置を複数回計測する計測手段と、
   前記画像検出手段により得られた画像データと前記計測手段により計測された前記ステージの複数の位置とに基づいて、前記マークの位置を算出する算出手段と
   を有することを特徴とする位置計測装置。
2. 前記画像検出手段は、信号取り込み時間の間、前記マークの画像信号を蓄積し、蓄積された画像信号に基づいて前記信号取り込み時間中の前記マークの平均的な位置を求めるために用いられる前記画像データを得ることを特徴とする請求項１に記載の位置計測装置。
3. 前記画像検出手段及び前記計測手段は、実質的に同じ期間中に、前記マークの画像データ及び前記ステージの位置をそれぞれ得ることを特徴とする請求項１又は２に記載の位置計測装置。
4. 前記画像検出手段が前記マークの画像を検出可能な位置に前記ステージが移動後、かつ前記ステージが止まる前に、前記画像検出手段及び前記計測手段は、前記マークの画像の検出及び前記ステージの位置の計測をそれぞれ開始することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の位置計測装置。
5. 前記画像検出手段は、オフアクシススコープを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の位置計測装置。
6. 前記計測手段は、干渉計を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の位置計測装置。
7. 前記物体は複数の領域を有し、前記マークは前記複数の領域のそれぞれに対応して形成され、前記算出手段により算出された前記マークの位置に基づいて、前記複数の領域のそれぞれに関して前記ステージの目標位置を算出することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の位置計測装置。
8. 前記算出手段は、前記複数の領域のうち定められた領域に関して、前記画像検出手段により得られた画像データと前記計測手段により計測された前記ステージの複数の位置とに基づいて、前記マークの位置偏差を算出し、前記位置偏差に基づいて、前記複数の領域のそれぞれに関して前記ステージの目標位置を算出することを特徴とする請求項７に記載の位置計測装置。
9. 前記ステージを、前記画像検出手段が前記マークの画像を検出可能な位置において、等速で移動させるようにしたことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の位置計測装置。
10. ステージ上に置かれた物体の上のマークの位置を計測する位置計測方法であって、
    前記マークの画像を検出することにより画像データを得る画像検出工程と、
    前記画像検出工程における画像検出の間に、前記ステージの位置を複数回計測する計測工程と、
    前記画像検出工程において得られた画像データと前記計測工程において計測された前記ステージの複数の位置とに基づいて、前記マークの位置を算出する算出工程と
    を含むことを特徴とする位置計測方法。
11. 請求項１〜９のいずれかに記載の位置計測装置を有し、前記物体にパターンを露光することを特徴とする露光装置。
12. 請求項１〜９のいずれかに記載の位置計測装置を用いて前記物体の位置合わせを行う位置合わせ工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
13. 請求項１１に記載の露光装置を用いて前記物体にパターンを露光する露光工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。