JP4551071B2 - 顕微鏡用電動ステージ制御システム、該制御装置、及び該制御方法 - Google Patents
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Description
一方、医学、生物学の分野においても、電動化された顕微鏡の低価格化に相まって、需要が増している。そして、より使いやすく、より低価格な電動化された顕微鏡が望まれてきた。例えば、特許文献1には、被検体を固定する移動可能なステージと、任意の位置に移動されたステージ上の前記被検体を撮像し、撮像信号を出力する撮像手段と、前記撮像信号に対応する前記ステージの絶対位置を表す絶対座標を取得する取得手段と、前記絶対座標を記憶する記憶手段と、前記被検体を前記ステージに再固定する場合、前記記憶手段の記憶値に基づいて前記ステージを移動させる移動制御手段とを具備する撮像装置及び顕微鏡画像伝送システムが記載されている。
そして、前記初検体を前記ステージに再固定する場合は、前記記憶手段の記憶値に基づいて前記ステージを移動させるようにする。
顕微鏡用ステージは、平面上を連続的に走査しながら、所望の観察点を探し位置決めするものである。従来の顕微鏡用ステージでは、モータなどの駆動手段の駆動量と、これに対する実際のステージ変位量との誤差発生は避けることが出来ない。この誤差の主な要因は、動力伝達手段が歯車列などで構成されることによるこれら歯車間のガタによるバックラッシュである。
顕微鏡用電動ステージは、電動化された顕微鏡の主要な構成要素のひとつである。パーソナルコンピューターを核とする電動化された顕微鏡を含むシステムでは、あらかじめ作業者はジョイスティックやトラックボールなどの操作により標本上の観察、測定点を複数選び、これらの位置座標を一且記憶し、以降、パーソナルコンピューター上のプログラムにより選択された観察、測定点について、画像処理、計測処理などを自動に制御することが行われている。
このようなバックラッシュ、位置選択誤差の影響を取り除き、駆動手段の駆動量と、これに対する実際のステージ変位量との誤差を無くすために、特許文献2では、試料が載せられた試料ステージと、試料の位置を検出する試料位置検出手段と、試料ステージを移動させるための駆動手段と、試料ステージの移動を操作する操作手段と、操作手段からの信号に基づいて駆動手段を制御する制御部とを備えており、該制御部は、操作手段からの試料の移動についての信号と試料位置検出手段からの試料の実際の移動を示す信号とに基づいて駆動手段を制御するように構成したことを特徴とする試料ステージ駆動装置が記載されている。
ンドをインターフェースを介して送ると、電動ステージは現在のX座標及びY座標を取得してインターフェースを介してパソコンへ返す。
また、ステージのX方向及びY方向にはリニアエンコーダ及びリニアエンコーダのパターンを読み取る検出ヘッドがそれぞれ取り付けられるため、観察作業を行う場合、ステージ周りの使い勝手が悪くなるという問題がある。
以上の問題に起因して、従来の顕微鏡用電動ステージでは、電動ステージの所望の位置を記憶させ、再びその位置に顕微鏡用電動ステージを復帰させる場合、どのような精密な機構であってもバックラッシュ(機械要素間の接触面の遊びのこと)によるロストモーション(遊びや、機械系の剛性と摩擦力などの関係によって出力されない運動)が生じるので、その復帰位置に誤差が生じるという問題があった。
また上記課題は、特許請求の範囲の請求項3に記載の発明によれば、前記ステージ移動制御手段は、前記移動量誤差取得手段により取得した移動量誤差に基づいて、前記ステージ移動手段を制御することを特徴とする請求項2に記載の顕微鏡用電動ステージ制御システムを提供することによって達成できる。
また上記課題は、特許請求の範囲の請求項4に記載の発明によれば、標本を載置するためのステージを有する顕微鏡の該ステージを該顕微鏡の光軸に対して垂直方向に移動させる動作を制御する顕微鏡用電動ステージ制御装置において、前記ステージを移動させる情報である移動情報を取得する取得手段と、前記ステージの移動を停止させる場合、前記取得手段により取得した移動情報に基づいて生成される情報であって、停止させる位置及び停止させるときの方向に関する該情報である停止位置方向情報を格納する停止位置方向格納手段と、前記ステージを前記位置に移動させて停止させるときに、前記停止位置方向格納手段に格納された前記停止位置方向情報の前記方向と同方向から移動させて前記位置に停止させるように前記ステージの動作を制御するステージ移動制御手段と、を備えることを特徴とする顕微鏡用電動ステージ制御装置を提供することによって達成できる。
また上記課題は、特許請求の範囲の請求項7に記載の発明によれば、前記ステージ移動制御処理は、前記移動量誤差取得処理により取得した移動量誤差に基づいて、前記ステージの移動を制御することを特徴とする請求項6に記載の顕微鏡用電動ステージ制御方法を提供することによって達成できる。
本実施形態では、顕微鏡用電動ステージの所望の位置を記憶させ、再びその位置に顕微鏡用電動ステージを復帰させる場合、どのような精密な機構であってもバックラッシュ(機械要素間の接触面の遊びのこと)によるロストモーション(遊びや、機械系の剛性と摩擦力などの関係によって出力されない運動)が生じるので、この影響を考慮した顕微鏡用電動ステージシステムについて説明する。
図3は、本実施形態における顕微鏡用電動ステージの斜視図である。同図において、電動ステージ5は、顕微鏡1に取り付けるための固定部材10に対して一方向に移動可能な可動部材11上に標本2を載せ、直交するもう一方には、標本2を挟んだ状態で可動部材11上を滑らせるクレンメル12にて顕微鎖1の光軸OPに対して標本2の2次元走査を行っている。
10[mm]×π/(200×64)= 2.5[μm]
の分解能をもつことになり、微小な送りが可能となる。
図4は、本実施形態におけるステージの位置管理をする制御手段の斜視図である。同図において、固定部材10には、フォトインタラプタ型のY原点センサ30が配設されている。また、可動部材11には、Y原点サンサ30を遮光する遮光板31が配設されている。Y原点センサ30と遮光板31とにより原点検出手段を構成している。可動部材11を駆動する際は、可動部材11を決まった一方向に移動し、遮光板31にてY原点センサ30を遮光する。
図5は、本実施形態における制御部32の構成を示す。制御部32は、CPU(Central Processing Unit)32−1とROM(Read Only Memory)32−2とRAM(Random Access Memory)32−3、不揮発メモリ32−4および、Xパルスジェネレータ32−5、Xドライバ32−6、Yパルスジェネレータ32−7、Yドライバ32−8、からなり、各々CPUバスを介して接続されている。
制御部32には、外部通信手段としてRS−232Cや、USBあるいは、イーサネット(登録商標)等の外部通信部(以下、I/F(インターフェース)と略する)が設けられており、Host70から、CPU32−1が、このI/Fを介してコマンドを送受することにより、操作部56からの操作と同等の駆動部制御を行うとともに、外部との情報交換を行う。
図7は、本実施形態における操作部の操作によって発生する制御の処理フローを示す。ジョイスティック56−3の操作により測定点を選択する動作を示す。まず、電源が投入されると、CPU32−1は不揮発メモリ32−4から電源切断時のX位置、Y位置を読み出し、Xパルスジェネレータ32−5のXカウンタ32−5−1へX位置を書き込み、Yパルスジェネレータ32−7のYカウンタ32−7−1へY位置を書き込む(S1−1)。不揮発メモリ32−4から読み出すこのX位置、Y位置の単位はXカウンタ32−5−1、Yカウンタ32−7−1がカウントする出力パルス数である。
上記(1)「X軸とY軸ともに操作される」場合について説明する。S1−2でジョイスティック56−3が操作され、CPU32−1によりそれがX軸方向へ操作されたことが検知されると(S1−6で「Yes」へ進む)、ジョイスティック処理をする(S1−7)。さらに、CPU32−1によりY軸方向へ操作されたことが検知されると(S1−8で「Yes」へ進む)、ジョイスティック処理をする(S1−9)。
図9は、本実施形態におけるジョイスティック操作角に由来するディジタルデータからパル速度への変換するテーブル(速度変換テーブル80)である。このテーブル80は、ROM32−2や不揮発メモリ32−4に予め格納されているのである。この速度変換テーブル80には、0〜225の各ディジタルデータに対応するパルス速度が設定されている。この速度変換テーブル80については、後述する。
さて、再び図7の説明に戻る。ここでは、ジョイスティック56−3の操作を止めた場合についての処理を説明する。ジョイスティック56−3の操作が止められると、CPU32−1は、Xパルスジェネレータ32−5へ停止を書き込み、ステージのX方向移動を停止し、Yパルスジェネレータ32−7へ停止を書き込みステージのY方向移動を停止する(S1−3)。
これらのボタンのうち、いずれかが操作されると(S1−4で「Yes」に進む)、各ボタンに応じた処理が実行される(S1−5)。いずれのボタンも操作されない場合(S1−4で「No」に進む)、ジョイスティック56−3の検出(S1−2)へ戻る。
図12は、本実施形態におけるX位置、Y位置及びその位置に停止するときの方向を格納するためのテーブルである。以下、本テーブルを停止時位置方向テーブル90という。同図は、本実施形態での復帰動作のためのデータ構造図(初期値)である。このデータは、不揮発メモリ32−4に格納されており、「記憶No.」、「位置(X軸)」、「位置(Y軸)」、「停止時方向(X軸)」、「停止時方向(Y軸)」のデータ項目から構成され、これらを16セット格納することができる。「記憶No.」には0〜15の値が格納される。
この変数:インデックスは、図12の停止時位置方向テーブル90の記憶No.である。つまり、この変数:インデックスは、後述する記憶ボタン56−2c、復帰ボタン56−2dが操作された場合の対象データを指し示すものである。本実施形態では、記憶No.を0〜15の16個としている。インデックスが最大値15を超えた場合(SB1−2で「Yes」へ進む)は、インデックスを0とする(SB1−3)。また、インデックスが15以下の場合(SB1−2で「No」へ進む)は、次の処理へ進む。
図14は、本実施形態におけるデクリメントボタン56−2bが操作された場合(図11のA2)の処理フローを示す。デクリメントボタン56−2bが操作されると、CPU32−1はこれを検出して、RAM32−3に確保した変数:インデックスをデクリメントする(SB2−1)。
この変数:インデックスは図12の停止時位置方向テーブル90の記憶No.である。つまり、この変数:インデックスは、後述する記憶ボタン56−2c、復帰ボタン56−2dが操作された場合の対象データを指し示すものである。本実施形態では、記憶No.を0〜15の16個としている。インデックスが最小値0より小さい場合(SB2−2で「Yes」へ進む)は、インデックスを最大値15とする(SB2−3)。また、インデックスが最小値0より小さい場合(SB2−2で「No」へ進む)は、次の処理へ進む。
図15は、本実施形態における記憶ボタン56−2cが操作された場合(図11のA3)の処理フローを示す。まず、パルスジェネレータのカウンタから現在の位置を読み出す(SB3−1)。ここでは、CPU32−1は、記憶ボタン56−2cへの操作を検出すると、Xカウンタ、Yカウンタからそれぞれ位置(パルス単位)を読み出し、現在のインデックスが指す不揮発メモリ32−4に確保された停止時位置方向テーブル90(図12)のX軸位置、Y軸位置へ書き込み、記憶する。
RAM32−2に確保した符号付き変数:
pulse_X ← dst_X − now_X
CPU32−1は、Y軸移動量:pulse_Yを求める。Y軸移動量は、復帰Y位置から現在のY位置を減じたものである。
pulse_Y ← dst_Y − now_Y
次に、現在位置から復帰位置への移動方向を求める(SB4−4)。CPU32−1は、X軸復帰移動の方向を求める。X軸復帰移動の方向は、pulse_Xの符号を調べることで分かる。pulse_Xが正数であれば原点センサから遠ざかる方向であり、pulse_Xが負数であれば原点センサヘ向かう方向である。
次に、X,Y移動方向が、停止時X,Y駆動方向と同じ方向か否かを判断する(SB4−5)。ここでは、pulse_Xとlast_dir_Xとの符号が同一で、かつ、pulse_Yとlast_dir_Yとの符号が同一であるかを判断する。この条件を満たす場合(SB4−5で「Yes」へ進む)、処理B1へ進む。また、この条件を満たさない場合(SB4−5で「No」へ進む)、処理SB4−6へ進む。
図20は、本実施形態におけるX移動方向のみが停止時X駆動方向と同一の場合の可動部材11の移動処理(図17のB2の処理)を示す。まず、Xパルスジェネレータへ駆動方向、移動量(駆動パルス量)、規定パルス速度を書き込む(SB4−21)。
次に、Xパルス出力が終了するまで、CPU32−1は待機状態になり(SB4−34で「No」へ進む)、Xパルス出力が終了すると(SB4−34で「Yes」へ進む)、SB4−25へ進む。
pulse_XにX軸over−run量を加えた値を書き込む。例えば、X軸over−run量=2、pulse_X=1000とすると、pulse_Xに書き込まれた移動量は、pulse_X=1002となる。
SB4−44で「Yes」へ進んだ場合、Xパルスジェネレータへ逆の駆動方向、over−run量(駆動パルス量)、規定パルス速度を書き込み、パルス出力を開始する(SB4−45)。ここでは、X軸ステージが復帰位置を通り過ぎて停止すると、CPU32−1は、Xパルスジェネレータ32−5を経てこれを検出する。CPU32−1は、Xパルスジェネレータ32−5へ駆動方向をlast_dir_X:−1の示す原点へ向かう方向とし、駆動パルス量をX軸over−run量とし、予め決められた復帰時のパルス速度を書き込み、さらにパルス出力開始を書き込み、X軸ステージを移動開始する。
次に、Yパルスジェネレータへ逆の駆動方向、over−run量(駆動パルス量)、規定パルス速度を書き込み、パルス出力を開始する(SB4−47)。ここでは、Y軸ステージが復帰位置を通り過ぎて停止すると、CPU32−1は、Yパルスジェネレータ32−7を経てこれを検出する。CPU32−1は、Yパルスジェネレータ32−7へ駆動方向をlast_dir_Y:−1の示す原点へ向かう方向とし、駆動パルス量をY軸over−run量とし、予め決められた復帰時のパルス速度を書き込み、さらにパルス出力開始を書き込み、Y軸ステージを移動開始する。
次に、Xパルスジェネレータへ逆の駆動方向、over−run量(駆動パルス量)、規定パルス速度を書き込み、パルス出力を開始する(SB4−52)。ここでは、X軸ステージが復帰位置を通り過ぎて停止すると、CPU32−1は、Xパルスジェネレータ32−5を経てこれを検出する。CPU32−1は、Xパルスジェネレータ32−5へ駆動方向をlast_dir_X:−1の示す原点へ向かう方向とし、駆動パルス量をX軸over−run量とし、予め決められた復帰時のパルス速度を書き込み、さらにパルス出力開始を書き込み、X軸ステージを移動開始する。
また、復帰ボタンの操作により、記憶した位置への復帰動作に際して、X軸停止時方向、Y軸停止時方向が同じ方向となるよう制御しているので、バックラッシュなどに起因するロストモーションの影響を取り除くことが可能である。
本実施形態では、バックラッシュによるロストモーションの影響から生じる移動量誤差を制御する。ここで、移動量誤差について説明する。顕微鏡用電動ステージを機構的に駆動させても、実際に顕微鏡用電動ステージが動作し始めるには、時間的な誤差が生じる。そこで、時間的な誤差がない場合(すなわち、バックラッシュがない場合)の顕微鏡用電動ステージの移動量と時間的な誤差がある場合(すなわち、バックラッシュがある場合)の顕微鏡用電動ステージの移動量の差を移動量誤差という。
制御部32には、外部通信手段としてRS−232Cや、USBあるいは、イーサネット(登録商標)等の外部通信部が設けられており、PC等の外部機器70(以下、Hostという)から、CPU32−1が、このI/Fを介してコマンドを送受することにより、操作部56からの操作と同等の駆動部制御を行うとともに、外部との情報交換を行う。
図27は、本実施形態における操作部の操作によって発生する制御の処理フローを示す。S1−1〜S1−12は、第1の実施形態と同様であるので、ここでは、S2−1とS2−2の処理について述べる。
一方、CPU32−1は、Y原点センサ30の信号がonであると(SC1−1で「Yes」へ進む)、Yステッピングモーター20を+方向へ所定パルス量(20パルス)にて駆動し、可動部材11を50[μm](=2.5[μm/p]×20[p])を+方向へ移動する(SC1−2)。
このようにして、Y原点センサ30を遮光版31が遮光し、Y原点センサ30の信号がonとなる位置に可動部材11は位置づけられ、原点検出動作の前半が終了する。
次に、CPU32−1は、可動部材11をY軸+方向(原点から遠ざかる方向)へ低速で駆動を開始する(SC1−8)。
次に、CPU32−1は、Yパルスジェネレータ32−7のYカウンタ32−7−1からカウントを読み出し、この値をY軸移動量誤差を保持する変数として、RAM32−3に確保した変数:err_Yに格納する(SC1−11)。
さて、CPU32−1は、X軸に関しても、上記したY軸の処理と全く同様にSC1−1〜SC1−12を行い、X軸移動量誤差を保持する変数として、RAM32−3に確保した変数:err_Xに格納する(SC1−1〜SC1−12)。
図30は、本実施形態における移動量誤差取得コマンドを受信した場合(図28の処理C2)の詳細なフローを示す。まず、CPU32−1は、移動量誤差取得コマンドを受信すると、X軸移動量誤差を保持する変数として、RAM32−3に確保した変数:err_XとY軸移動量誤差を保持する変数として、RAM32−3に確保した変数:err_Yと読み込む(SC2−1)。
これより、Hostは、この通知コマンドを受信することで移動量誤差を知ることが出来る。なお、移動量誤差取得コマンドにより、移動量誤差を取得し、この値をover−run量に用いることで、任意の測定点への移動動作のタクトタイムを最短に縮めることができる。
これより、Hostは、この通知コマンドを受信することでステージの位置を知ることが出来る。
これより、Hostは、この通知コマンドを受信することでステージの移動停止時方向を知ることが出来る。
以上のようなコマンドセットを持っているので、Host上で所望のシステムを実現するアプリケーションプログラムから、本実施形態のコマンドを使うことが可能である。よって、Hostは、ジョイスティック操作により選択した観察、測定点に対して、都度、位置取得コマンドによる位置の取得、および、移動停止時方向取得コマンドによる停止時方向の取得が可能であり、以降これらの位置を復帰移動する際に、位置取得コマンドにより現在位置を取得し、適当なover−run量を加え、X軸停止時方向、Y軸停止時方向が同じ方向となるよう移動コマンドを用いることができる。すなわち、最小のover−run量で復帰動作を行うことができるので、時間的にも最短で行うことができる。
2 標本
3 対物レンズ
4 コンデンサ
5 電動ステージ
10 固定部材
11 可動部材
20 ステッピングモータ
30 Y原点センサ
31 遮光板
32 制御部
32−1 CPU
32−2 ROM
32−3 RAM
32−4 不揮発メモリ
32−5 Xパルスジェネレータ
32−5−1 Xカウンタ
32−6 Xドライバ
32−7 Yパルスジェネレータ
32−7−1 Yカウンタ
32−8 Yドライバ
56 操作部
56−1 表示部
56−2 操作入力部
56−2a インクリメントボタン
56−2b デクリメントボタン
56−2c 記憶ボタン
56−2d 復帰ボタン
56−3 ジョイスティック
70 Host
80 速度変換テーブル
90 停止時位置方向テーブル
Claims (7)
- 標本を載置するためのステージを有する顕微鏡の該ステージの動作を制御する顕微鏡用電動ステージ制御システムにおいて、
前記ステージを前記顕微鏡の光軸に対して垂直方向に移動させるステージ移動手段と、
前記ステージを移動させるための指示情報を取得する移動指示取得手段と、
前記移動指示取得手段により取得した前記指示情報に基づいて生成される情報であって、前記ステージ移動手段の動作を停止させる位置及び停止させるときの方向に関する該情報である停止位置方向情報を格納する停止位置方向格納手段と、
前記ステージを前記位置に移動させて停止させるときに、前記停止位置方向格納手段に格納された前記停止位置方向情報の前記方向と同方向から移動させて前記位置に停止させるように前記ステージ移動手段の動作を制御するステージ移動制御手段と、
を備えることを特徴とする顕微鏡用電動ステージ制御システム。 - 前記顕微鏡用電動ステージ制御システムは、さらに、
前記ステージ移動手段により移動した前記ステージの実際の移動量と前記ステージ移動制御手段の制御で指示されている該ステージの移動量との誤差を取得する移動量誤差取得手段と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の顕微鏡用電動ステージ制御システム。 - 前記ステージ移動制御手段は、前記移動量誤差取得手段により取得した移動量誤差に基づいて、前記ステージ移動手段を制御することを特徴とする請求項2に記載の顕微鏡用電動ステージ制御システム。
- 標本を載置するためのステージを有する顕微鏡の該ステージを該顕微鏡の光軸に対して垂直方向に移動させる動作を制御する顕微鏡用電動ステージ制御装置において、
前記ステージを移動させる情報である移動情報を取得する取得手段と、
前記ステージの移動を停止させる場合、前記取得手段により取得した移動情報に基づいて生成される情報であって、停止させる位置及び停止させるときの方向に関する該情報である停止位置方向情報を格納する停止位置方向格納手段と、
前記ステージを前記位置に移動させて停止させるときに、前記停止位置方向格納手段に格納された前記停止位置方向情報の前記方向と同方向から移動させて前記位置に停止させるように前記ステージの動作を制御するステージ移動制御手段と、
を備えることを特徴とする顕微鏡用電動ステージ制御装置。 - 標本を載置するためのステージを有する顕微鏡の該ステージの動作を制御する顕微鏡用電動ステージ制御方法において、
前記ステージを前記顕微鏡の光軸に対して垂直方向に移動させるための指示情報を取得する移動指示取得処理と、
前記移動指示取得処理により取得した前記指示情報に基づいて得られる情報であって、前記ステージの移動の動作が停止させる位置及び停止させる方向に関する該情報である停止位置方向情報に基づいて、前記ステージを前記位置に移動させて停止させるときに、前記停止位置方向情報の前記方向と同方向から前記ステージを移動させて前記位置に停止させるように前記ステージの移動を制御するステージ移動制御処理と、
を行うことを特徴とする顕微鏡用電動ステージ制御方法。 - 前記顕微鏡用電動ステージ制御方法は、さらに、
移動した前記ステージの実際の移動量と前記ステージ移動制御処理の制御で指示されている該ステージの移動量との誤差を取得する移動量誤差取得処理と、
を行うことを特徴とする請求項5に記載の顕微鏡用電動ステージ制御方法。 - 前記ステージ移動制御処理は、前記移動量誤差取得処理により取得した移動量誤差に基づいて、前記ステージの移動を制御することを特徴とする請求項6に記載の顕微鏡用電動ステージ制御方法。
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Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005013152B4 (de) * | 2005-03-22 | 2007-11-15 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Automatisiertes Mikroskop |
EP2115516B1 (en) * | 2007-01-11 | 2012-04-11 | Renishaw PLC | A sample positioning stage and method of operation |
JP2009162974A (ja) * | 2008-01-07 | 2009-07-23 | Olympus Corp | 顕微鏡システム及びその制御方法 |
EP2376965B1 (en) | 2008-12-15 | 2020-11-11 | Koninklijke Philips N.V. | Scanning microscope |
JP5369720B2 (ja) * | 2009-01-29 | 2013-12-18 | 三洋電機株式会社 | 観察装置、観察システム、制御装置、および制御プログラム |
DE102010026030A1 (de) | 2010-07-03 | 2012-01-05 | Carl Zeiss Microlmaging Gmbh | Kreuztisch für Mikroskope |
DE102010061167B3 (de) * | 2010-12-10 | 2012-05-31 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Mikroskoptisch |
US9739994B1 (en) | 2016-12-09 | 2017-08-22 | William A. Loeb | Methods and apparatus for reacquiring a target on a microscope slide |
KR20230169932A (ko) * | 2021-01-06 | 2023-12-18 | 엠마우스 메디컬 인코포레이티드 | 세포 배양 평가 시스템 및 방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000284186A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Sapporo Breweries Ltd | 観察装置の位置設定手段における座標変換方法及び座標変換手段を備える観察装置 |
JP2003029163A (ja) * | 2001-07-16 | 2003-01-29 | Nikon Corp | 顕微鏡システム |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4843563A (en) * | 1985-03-25 | 1989-06-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Step-and-repeat alignment and exposure method and apparatus |
WO1987006357A1 (en) | 1986-04-09 | 1987-10-22 | Sapporo Breweries, Ltd. | Microscope provided with automatic sweep device |
JPH02174046A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-05 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡およびこれに用いる試料微動装置の制御方法 |
US5171963A (en) * | 1990-05-21 | 1992-12-15 | Ntn Corporation | Laser processing device and laser processing method |
US5103338A (en) | 1990-10-04 | 1992-04-07 | Crowley Kevin D | Apparatus for positioning objects for microscopic examination |
EP0567681B1 (en) | 1992-04-30 | 1997-07-23 | Becton, Dickinson and Company | Method and apparatus for controlling coordinate displacements of a platform |
DE69317857T2 (de) * | 1992-11-20 | 1998-08-06 | Topometrix | Linearisierungs- und Eichungssystem für einen Abtastungsapparat |
US5557456A (en) | 1994-03-04 | 1996-09-17 | Oncometrics Imaging Corp. | Personal interface device for positioning of a microscope stage |
JPH07272660A (ja) | 1994-03-28 | 1995-10-20 | Jeol Ltd | 試料ステージ駆動装置 |
US5646403A (en) * | 1994-10-28 | 1997-07-08 | Nikon Corporation | Scanning electron microscope |
DE69530367T2 (de) | 1995-03-06 | 2004-02-19 | Perkin-Elmer Ltd., Beaconsfield | Kontrolle eines Mikroskopprobenträgers |
JPH09120031A (ja) | 1995-10-25 | 1997-05-06 | Olympus Optical Co Ltd | 撮像装置及び顕微鏡画像伝送システム |
JP3647953B2 (ja) * | 1995-12-13 | 2005-05-18 | ファナック株式会社 | 加工作用点の位置ずれ補正方法 |
JP3548428B2 (ja) * | 1998-07-03 | 2004-07-28 | キヤノン株式会社 | 位置計測装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
US6476388B1 (en) * | 1998-10-19 | 2002-11-05 | Hitachi, Ltd. | Scanning electron microscope having magnification switching control |
JP4737968B2 (ja) * | 2004-10-13 | 2011-08-03 | 株式会社東芝 | 補正装置、補正方法、補正プログラム及び半導体装置の製造方法 |
-
2003
- 2003-09-19 JP JP2003329150A patent/JP4551071B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-09-09 US US10/939,311 patent/US7136708B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-14 EP EP04021827.3A patent/EP1517168B1/en not_active Ceased
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000284186A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Sapporo Breweries Ltd | 観察装置の位置設定手段における座標変換方法及び座標変換手段を備える観察装置 |
JP2003029163A (ja) * | 2001-07-16 | 2003-01-29 | Nikon Corp | 顕微鏡システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US20050063052A1 (en) | 2005-03-24 |
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