JP2002237200A - 半導体装置およびその検査方法 - Google Patents
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Abstract
ことを可能にする。 【解決手段】 半導体チップには、通常動作を実現する
集積回路に加えて、位相比較回路1が設けられる。位相
比較回路1は、集積回路の内部信号Aと外部信号との間
で位相の比較を行い、その結果を表現するモニタ信号MO
NSIGを、半導体チップの外部へ出力する。
Description
る半導体装置に関し、特に、集積回路の内部信号の位相
を外部において直接に検出可能とするための改良に関す
る。
装置において、集積回路の内部で発生する内部信号を、
外部から入力されるモード切替信号に応答して、外部へ
モニタ信号として出力するように構成されたものが、従
来より知られている。図20は、そのように構成された
半導体装置の一部を示す回路図である。図20の例で
は、外部から入力されるモード切替信号SMMがアクティ
ブ(図20の例ではハイレベル)であるときには、内部
信号は論理スイッチとしてのNAND回路90およびインバ
ータ91を経由して、モニタ信号として出力される。モ
ニタ信号は、半導体チップに形成されたボンディングパ
ッド、あるいは封止体の外部に露出する端子である外部
ピンへ出力される。外部ピンの中でもNC(Non Connec
t)ピンへ、モニタ信号が出力される半導体装置も知ら
れている。モード切替信号SMMは、集積回路の本来の機
能を実現する通常動作モードと、内部信号をモニタする
動作モードであるテストモードとの間で、半導体装置の
動作モードを切り替える機能を果たす。
移行させることによって、半導体チップのボンディング
パッド、あるいは半導体装置の外部ピンへ、内部信号を
直接に出力する半導体装置は、従来より知られていた。
しかしながら、近年において集積回路の高速化、高周波
数化が進行する中で、内部信号を単にモニタするだけで
なく、半導体チップの内部のローカルなレベルでの位相
差をも制御する必要が出てきた。これは、高速化が進む
につれて、一つの信号と別の信号との間のセットアップ
時間が短くなっているために、外部信号のタイミングを
合わせ込んだとしても、半導体チップの内部でのタイミ
ングを合わせ込まなければ、意味がないからである。す
なわち、集積回路の動作限界を見極めるためには、外部
ピンでのタイミング精度だけでなく、半導体チップの内
部でのタイミング精度も要求されるのである。このよう
な背景の中、半導体チップの内部レベルでの信号の位相
比較を可能にする半導体装置が求められるようになって
きた。
クRAM)で用いられている回路の一例を示す回路図で
ある。この回路は、信号EXTCKE(外部クロックイネーブ
ル信号;External Clock Enable信号)と、信号EXTCLK
(外部クロック信号;External Clock信号)との間で、
位相の比較を行うように構成されている。信号EXTCKE
は、クロックバッファ92によってバッファリングされ
た後、信号INTCKE(内部クロックイネーブル信号;Inte
rnal Clock Enable信号)として、クロックドインバー
タ94および97を制御する。信号EXTCLKは、クロック
バッファ93によってバッファリングされた後、信号IN
TCLK(内部クロック信号;Internal Clock信号)とし
て、クロックドインバータ94、二個のインバータ9
5,96で構成されるラッチ、クロックドインバータ9
7、および二個のインバータ98,99で構成されるラ
ッチを経て、内部信号として集積回路へ伝達される。
ないクロックジェネレータから一定の周期で供給される
信号であり、任意に変更することができない。一方、信
号EXTCKEあるいは信号INTCKEは、信号EXTCLKあるいは信
号INTCLKに対して任意にタイミングを変えることのでき
る非同期の信号である。したがって、図22のタイミン
グチャートが示すように、信号EXTCKEのタイミングを変
えることによって内部信号が変化する。
KEはロウレベルであり、内部信号は不定となっている。
図22において、ハッチングを付した部分は、信号の値
が不定であることを表現している。信号EXTCKEは、時刻
T1でハイレベルへ遷移し、時刻T4でロウレベルへ遷
移する。信号INTCLKが、時刻T2〜時刻T3の間におい
て、ハイレベルにあるときには、内部信号も同様にハイ
レベルとなる。一方、信号INTCLKが、時刻T4以後に、
ハイレベルとなっても、信号INTCLK(図22の符号Pの
部分)は内部信号には反映されない。すなわち、信号IN
TCKEがロウレベルであるときには、集積回路には信号IN
TCLKを無視した動作が現れる。このように、信号INTCLK
と信号INTCKEとの間の位相の関係に依存して集積回路の
動作が変化するので、信号EXTCKEのタイミングを様々に
変え、そのときの集積回路の動作を調べることにより、
間接的に二つの信号の位相差をモニタすることができ
る。
の回路は、通常動作モードで用いられる回路であるた
め、図21の回路を用いて、任意の内部信号と外部信号
との位相差をモニタすることはできない。さらに、集積
回路の動作を通じて間接的に二つの信号の位相差をモニ
タすることができるのみであって、位相差を直接にモニ
タすることはできないという問題点があった。
問題点を解消するためになされたもので、内部信号の位
相を直接に検出することを可能にする半導体装置、およ
び当該半導体装置を検査する検査方法を提供することを
目的とする。
(M≧1)個の半導体基板を有する半導体装置であっ
て、前記M個の半導体基板の各々が、集積回路と、前記
集積回路の内部で発生する内部信号と前記半導体装置の
外部から入力される外部信号との間で位相の比較を行
い、その結果をモニタ信号として出力する位相比較回路
と、前記モニタ信号を出力するためのモニタ信号用パッ
ドと、を備える。
導体基板を有する半導体装置であって、前記M個の半導
体基板の各々が、データ信号を出力するためのデータ配
線を有する集積回路と、前記集積回路の内部で発生する
内部信号と前記半導体装置の外部から入力される外部信
号との間で位相の比較を行い、その結果をモニタ信号と
して出力する位相比較回路と、前記データ配線へ前記モ
ニタ信号を出力する第1駆動回路と、を備える。
体装置において、前記集積回路が、前記データ信号を前
記データ配線へ出力する第2駆動回路を、さらに有し、
前記半導体装置の外部から入力されるモード切替信号が
特定の値であるときに限って、前記位相比較回路が前記
位相の比較を行うとともに前記第1駆動回路が前記デー
タ配線へ前記モニタ信号を出力し、前記モード切替信号
が前記特定の値でないときに限って、前記第2駆動回路
が前記データ信号を前記データ配線へ出力する。
発明の半導体装置において、前記位相比較回路が、前記
半導体装置の外部から入力されるモード切替信号が特定
の値であるときに限って、前記位相の比較を行う。
発明の半導体装置において、前記位相比較回路が、前記
モード切替信号として、前記集積回路への1ないし複数
の入力信号の一つを受信する。
いずれかの発明の半導体装置において、前記位相比較回
路が、前記外部信号として、前記集積回路への1ないし
複数の入力信号の一つを受信する。
いずれかの発明の半導体装置において、前記M個の半導
体基板の各々が、前記集積回路の内部で発生する複数の
信号の一つを、選択信号に応じて選択し、前記位相比較
回路へ前記内部信号として入力する選択回路を、さらに
備える。
体装置において、前記位相比較回路が、前記選択信号と
して、前記集積回路への1ないし複数の入力信号の少な
くとも一部を受信する。
体装置において、前記位相比較回路が、前記選択信号と
して、前記集積回路への1ないし複数の入力信号の少な
くとも一部を変換した信号を受信する。
体装置において、前記M個の半導体基板を封止する封止
体と、前記M個の半導体基板の各々に属する前記モニタ
信号用パッドに電気的に接続され、前記封止体の外部に
露出するモニタ信号用端子と、をさらに備える。
の発明の半導体装置において、前記M個の半導体基板の
各々が、前記モード切替信号を受信するモード切替信号
用パッドを、さらに備える。
導体装置において、前記M個の半導体基板を封止する封
止体と、前記M個の半導体基板の各々に属する前記モー
ド切替信号用パッドに電気的に接続され、前記封止体の
外部に露出するモード切替信号用端子と、をさらに備え
る。
のいずれかの発明の半導体装置において、前記M個の半
導体基板の各々が、前記外部信号を受信する外部信号用
パッドを、さらに備える。
導体装置において、前記M個の半導体基板を封止する封
止体と、前記M個の半導体基板の各々に属する前記外部
信号用パッドに電気的に接続され、前記封止体の外部に
露出する外部信号用端子と、をさらに備える。
導体装置において、前記M個の半導体基板の各々が、前
記選択信号を受信する選択信号用パッドを、さらに備え
る。
導体装置において、前記M個の半導体基板を封止する封
止体と、前記M個の半導体基板の各々に属する前記選択
信号用パッドに電気的に接続され、前記封止体の外部に
露出する選択信号用端子と、をさらに備える。
6のいずれかの発明の半導体装置において、前記Mが、
M≧2である。
方法であって、(a)第1ないし第16のいずれかの発明
の半導体装置を準備する工程と、(b)前記工程(a)で準備
された前記半導体装置について、前記M個の半導体基板
の各々に属する前記位相比較回路を動作させることによ
り、検査を行う工程と、を備える。
半導体装置の検査方法において、前記工程(b)が、(b-1)
前記M個の半導体基板の各々に属する前記集積回路の前
記内部信号の信号幅を測定する工程と、(b-2)前記信号
幅を規格値と比較することにより、前記半導体装置を選
別する工程と、を備える。
半導体装置の検査方法において、前記MがM≧2であっ
て、前記工程(b)が、(b-1)前記M個の半導体基板の間で
の、前記内部信号の位相のずれを測定する工程を、備え
る。
装置は、通常動作のための集積回路の他に図1が示す位
相比較回路1を、半導体チップ(半導体基板)に備えて
いる。位相比較回路1は、外部から入力されるモード切
替信号SMMがテストモードを指示する値、すなわちアク
ティブレベルであるときに、集積回路の内部で発生する
内部信号Aと、半導体装置の外部から入力される外部信
号との間で、位相の比較を行い、その結果をモニタ信号
MONSIGとして出力する。図1には、半導体装置がSDR
AMであって、外部信号が信号EXTDQM(外部データマス
ク信号;External Data Mask信号)である例が描かれて
いる。内部信号Aは、集積回路の内部の任意の部位で発
生する信号であり、位相検出の対象とされる信号であ
る。
よってバッファリングされた後、信号INTDQM(内部デー
タマスク信号;Internal Data Mask信号)として、論理
スイッチとしてのNAND回路3へ入力される。信号INTDQM
は、外部から入力されるモード切替信号SMMがアクティ
ブ(図1の例ではハイレベル)であるときには、NAND回
路3を通過して、信号ZSMMLATとして出力される。信号Z
SMMLATは、クロックドインバータ4および7を制御す
る。内部信号Aは、クロックドインバータ4、二個のイ
ンバータ5,6で構成されるラッチ、クロックドインバ
ータ7、および二個のインバータ8,9で構成されるラ
ッチを順に通過して、モニタ信号MONSIGとして出力され
る。モニタ信号MONSIGは、図示しない半導体チップに設
けられたボンディングパッドへ出力される。
を示すタイミングチャートである。位相比較回路1によ
る位相比較動作は、集積回路70による通常動作を妨げ
ることなく行われる。位相比較動作では、外部信号EXTD
QMの位相を非同期に変えるために、外部信号EXTDQMにも
とづく集積回路70のデータマスク動作には影響が現れ
るが、データ信号の読み出し/書込み動作は、通常動作
と変わりなく行われる。なお、図2以下のタイミングチ
ャートにおいて、ハッチングを付した部分は信号の値が
不定であることを表現する。
が異なっている。はじめに図2の動作例について説明す
る。時刻T1では、モード切替信号SMMがアクティブへ
遷移することにより、位相比較回路1が位相比較動作を
開始する。このとき、外部信号EXTDQM="H"(ハイレベ
ルであることを意味する)であるものとする。したがっ
て、時刻T1以後には、INTDQM="H"およびSMM="H"とな
るため、ZSMMLAT="L"(ロウレベルであることを意味す
る)となる。その結果、内部信号Aが信号SIGLAT(ラッ
チ信号)へ反映される。すなわち、SIGLAT="L"となる。
へ遷移する結果、信号SIGLATも"H"となる。時刻T3で
は、EXTDQM="L"となる。その結果、SMMLAT="H"となるの
で、内部信号Aはクロックドインバータ4を通過するこ
とができず、信号SIGLATへ反映されなくなる。同時に、
信号SIGLATはクロックドインバータ7を通過して、モニ
タ信号MONSIGへ反映される。すなわち、MONSIG="H"とな
る。時刻T4では、内部信号Aは、"H"から"L"へ遷移す
るが、クロックドインバータ4を通過できないので、モ
ニタ信号MONSIGは"H"を保持する。
号Aの立ち上がり時刻である時刻T2よりも遅く立ち下
がる場合には、モニタ信号MONSIGは、ハイレベルとな
る。これに対して、外部信号EXTDQMが、時刻T2よりも
早く立ち下がりる場合には、図3が示すように、モニタ
信号MONSIGは、ロウレベルとなる。したがって、モニタ
信号MONSIGのレベル遷移の時刻を測定することによっ
て、外部信号EXTDQMと内部信号Aとの間の位相差を知る
ことができる。
は信号INTDQMと内部信号Aとの間の位相差を検出する
が、外部信号EXTDQMと信号INTDQMとの間の位相差はゼロ
ないし一定であるため、直接的または間接的に外部信号
EXTDQMと内部信号Aとの間の位相差をも検出している。
本発明において、「外部信号と内部信号との位相の比
較」とは、このような間接的な比較をも包含する。すな
わち、「外部信号と内部信号との位相の比較」には、外
部信号を遅延ないし反転した信号と内部信号との比較も
含まれる。
備える半導体装置の一例を示すブロック図である。この
例では、半導体装置20はSDRAMとして構成されて
いる。半導体装置20は、半導体チップ(半導体基板)
21を備えており、この半導体チップ21には、半導体
装置20の本来の動作である通常動作を実現するための
集積回路70と、位相比較回路1とが作り込まれてい
る。位相比較回路1それ自身も、半導体チップ21に作
り込まれている以上、半導体チップ21に展開された集
積回路の全体の一部を構成する。ただし、通常動作のた
めの集積回路70と位相比較回路1とを区別するため
に、半導体チップ21に展開された集積回路全体から位
相比較回路1を除いた部分を、集積回路70と表現して
いる。
DRAMの動作を実現するために、制御回路71、メモ
リアレイ72、入出力回路73、行(row)アドレスバッ
ファ74、行デコーダ75、センスアンプ76、列(col
umn)デコーダ77、および列アドレスバッファ78を備
えている。制御回路71には、制御信号が入力される。
外部信号EXTDQMは、複数の制御信号の一部である。行ア
ドレスバッファ74および列アドレスバッファ78に
は、外部アドレス信号EXTADD(External Address信号)
が入力される。入出力回路73と外部との間では、デー
タ信号DQがやり取りされる。位相比較回路1には、集積
回路70の内部で生じた内部信号Aが入力されるととも
に、制御回路71を通じて外部信号EXTDQMが入力され
る。また、位相比較回路1から外部へ、モニタ信号MONS
IGが出力される。
的に示す平面図であり、半導体チップ21とその周囲を
描いている。半導体装置20は、図5が示すように、半
導体チップ21に加えて、半導体チップ21を封止する
封止体22と、半導体チップ21に電気的に接続され封
止体22の外部に露出する外部ピン(端子)23とを、
さらに備えていてもよい。封止体22は、例えば樹脂封
止体である。半導体チップ21には、集積回路70およ
び位相比較回路1と電気的に接続されるボンディングパ
ッド24、25が配列している。図5が示すように、ボ
ンディングパッド23,25には、外部ピン23に電気
的に接続されるボンディングパッド25と、接続されな
いボンディングパッド24との二種類があってもよい。
ボンディングパッド25は、例えばボンディングワイヤ
27を通じて、外部ピン23へ電気的に接続されてい
る。
24へ出力されても良く、ボンディングパッド25を通
じて外部ピン23へ出力されてもよい。後者の場合に
は、半導体チップ21が封止体22で封止された後、す
なわち完成した製品としての半導体装置20に対して
も、内部信号Aのモニタリングを実行することが可能と
なる。すなわち、製品レベルでの位相比較が可能とな
る。
外部信号EXTDQMのように、制御信号として集積回路70
へ入力される信号の一つである場合には、外部ピン23
およびボンディングパッド25を通じて入力される。し
たがって、完成した製品としての半導体装置20に対し
ても、位相比較のための外部信号を入力することができ
る。また、外部信号を入力するための特別のボンディン
グパッド25および外部ピン23を設ける必要がないと
いう利点も得られる。
一般には、集積回路70へ入力される信号以外であって
も良い。すなわち、集積回路70の動作には必要がな
く、もっぱら位相比較回路1を用いて内部信号Aの位相
をモニタする目的で外部から入力される信号が、外部信
号として位相比較回路1へ入力されても良い。この場合
には、集積回路70による通常動作に、全く影響を及ぼ
すことなく、位相比較動作を実行することができるとい
う利点がある。また、この場合には、外部信号の入力経
路は、ボンディングパッド24,25のいずれにも接続
されず、半導体チップ21に形成された配線26に、例
えばプローブ等の治具を接触させることにより外部信号
が位相比較回路1へ入力されてもよい。あるいは、ボン
ディングパッド24から外部信号を入力可能なように、
外部信号の入力経路をボンディングパッド24へ接続す
る形態を採ることも可能である。さらに、半導体装置2
0が製品として完成した後にも、外部ピン23を通じて
外部信号を入力可能なように、外部信号の入力経路を、
ボンディングパッド25を通じて外部ピン23へ接続し
た形態を採ることも可能である。この場合、外部ピン2
3として、NCピンを用いることも可能である。
も、外部信号と同様に、様々な形態が有り得る。すなわ
ち、モード切替信号SMMの入力経路は、ボンディングパ
ッド24,25のいずれにも接続されず、半導体チップ
21に形成された配線26に、例えばプローブ等の治具
を接触させることによりモード切替信号SMMが位相比較
回路1へ入力されてもよい。また、ボンディングパッド
24からモード切替信号SMMを入力可能なように、モー
ド切替信号SMMの入力経路をボンディングパッド24へ
接続する形態を採ることも可能である。さらに、半導体
装置20が製品として完成した後にも、外部ピン23を
通じてモード切替信号SMMを入力可能なように、モード
切替信号SMMの入力経路を、ボンディングパッド25を
通じて外部ピン23へ接続した形態を採ることも可能で
ある。この場合にも、外部ピン23として、NCピンを
用いることも可能である。
回路70へ入力される信号(例えば制御信号あるいは外
部アドレス信号EXTADD)の一部を用いることも可能であ
る。それらの信号の値あるいは、それらの値の組み合わ
せによって、位相比較回路1が位相比較動作を開始する
ように、半導体装置20を構成することが可能である。
この場合にも、完成した製品としての半導体装置20に
対して、位相比較のためのモード切替信号SMMを入力す
ることができる。また、モード切替信号SMMを入力する
ための特別のボンディングパッド25および外部ピン2
3を設ける必要がないという利点も得られる。
ちのいずれの形態が採られても、半導体チップ21の内
部で位相が比較されるので、半導体チップ21内部での
信号の位相の精度を判定することが可能である。したが
って、半導体チップ21内部のローカルなレベルでの位
相差の制御が可能となる。しかも、位相差を反映したモ
ニタ信号MONSIGを、パッド24または25を通じて外部
へ取り出すことができるので、位相差を直接にモニタす
ることができる。
えば、外部信号EXTDQM)が外部信号として用いられる場
合には、集積回路70を構成する回路部分のうち、外部
信号と内部信号との双方を用いて演算等を行う回路部分
に隣接した部位で、双方の信号の位相を比較することも
可能となる。それにより、当該回路部分のレベルで、精
度の高い位相差の制御を行うことも可能となる。
装置では、通常動作のための集積回路がデータを出力す
る経路を通じて、モニタ信号MONSIGが外部へ出力され
る。図6は、そのように構成された半導体装置の一例を
示すブロック図である。この半導体装置は、図4の装置
と同様にSDRAMとして構成されており、データ信号
DB,DB*をデータバス(データ配線)へ出力するデータバ
スドライブ回路31,32、および出力回路33を、半
導体チップ21に備えている。なお、本明細書および図
面において、信号名に付した"*"の記号(例えばDB*)
は、当該信号がロウアクティブであることを表示する。
て、信号RDAE(読み出し増幅器イネーブル信号;Read A
mp. Enable信号)の指示にしたがい、トリガ信号として
のクロック信号CLKQに同期して、データ信号DB,DB*を増
幅し、データ信号DQとして外部へ出力する。データ信号
DQは、ボンディングパッド25および外部ピン23(図
5)を通じて外部へ出力される。信号RDAEは、集積回路
70(図4)において、読み出しコマンド信号にもとづ
いて生成される信号であり、データバスにデータ信号D
B,DB*が送出されたときに、出力回路33が増幅動作を
行うべく指示する。コマンド信号とは、制御信号等の入
力信号の組み合わせをデコードすることによって得られ
る信号である。
替信号SMM、および信号RDBE(読み出しデータバスイネ
ーブル信号;Read Data Bus Enable信号)の指示にした
がい、クロック信号CLKQに同期して、モニタ信号MONSIG
をデータ信号DB,DB*として出力する。信号RDBEは、信号
RDAEと同様に、集積回路70(図4)において、読み出
しコマンド信号にもとづいて生成される。データバスド
ライブ回路32は、モード切替信号SMM、および信号RDB
Eの指示にしたがい、クロック信号CLKQに同期して、読
み出しデータRDをデータ信号DB,DB*として出力する。
替信号SMMがアクティブであるときに、データ信号DB,DB
*を出力し、データバスドライブ回路32は、モード切
替信号SMMがノーマルであるときに、データ信号DB,DB*
を出力する。このように、二つのデータバスドライブ回
路31,32が、モード切替信号SMMにもとづいて、選
択的に動作することにより、互いの動作に干渉すること
なく、集積回路70に備わる読み出しデータRDの出力経
路を通じて、モニタ信号MONSIGを外部へ出力することが
可能となっている。
部構成を示す回路図である。論理スイッチとしてのNAND
回路35は、モード切替信号SMMがアクティブであると
きに、信号RDBEを通過させる。インバータ36、遅延段
37、NAND回路38、インバータ39は、NAND回路35
を通過した信号RDBEにもとづいて、ワンショットパルス
としての信号MONDRVを生成する。NAND回路40,42、
インバータ41,43,44は、信号MONDRVと、位相比
較回路1(図1)から送られたモニタ信号MONSIGとにも
とづいて、MOS型トランジスタ45,46,47,4
8を選択的にオン・オフ駆動する。また、MOS型トラ
ンジスタ49,50は、信号RDBE*にもとづいてオン・
オフする。
イレベル)であれば、MOS型トランジスタ49,50
がともにオンするので、データ信号DB,DB*はいずれも、
ロウレベルとなる。信号RDBE*がアクティブであるとき
には、データ信号DB,DB*は、信号MONDRVとモニタ信号MO
NSIGとによって定まる。信号MONDRVがノーマル(ロウレ
ベル)であるときには、データ信号DB,DB*はいずれもハ
イインピーダンス状態となる。一方、信号MONDRVがアク
ティブであるときには、データ信号DB,DB*は、モニタ信
号MONSIGによって定まる。モニタ信号MONSIGがアクティ
ブ(ハイレベル)であれば、データ信号DB,DB*はアクテ
ィブ(DB="H",DB*="L")となり、モニタ信号MONSIGがノ
ーマルであれば、データ信号DB,DB*はノーマルとなる。
替信号SMMがレベル反転して入力される点、および、モ
ニタ信号MONSIGに代えて読み出し信号RDが入力される点
を除いて、データバスドライブ回路31と同等に構成さ
れる。
路31の動作を示すタイミングチャートである。図8と
図9との間で、外部信号EXTDQMの位相が異なっている。
外部信号EXTDQMの位相に関して、図8は図2と同等であ
り、図9は図3と同等である。はじめに図8の動作例に
ついて説明する。時刻T1〜T4の期間での、位相比較
回路1の動作は、図2と同等である。
る。それに伴い、ワンショットパルスの形式で、信号MO
NDRVが一時的にハイレベルとなる。この時に、MONSIG="
H"であるため、データ信号DBが、ハイレベルに駆動され
る。データ信号DB*は、ロウレベルにとどまる。信号MON
DRVがノーマルへ復帰すると、データバスドライブ回路
31の出力はハイインピーダンス状態となるが、データ
バスには図示しない容量が付随しているため、信号RDBE
がノーマルに復帰する時刻T7までは、データ信号DB,D
B*の値はそのまま維持される。
ことを受けて、信号RDAEが活性化される。その結果、デ
ータ信号DB,DB*が出力回路33によって増幅される。時
刻T6では、出力回路33は増幅した信号を、クロック
信号CLKQの立ち上がりに同期して、データ信号DQとして
出力する。したがって、図8のケースでは、データ信号
DQとして、ハイレベルが出力される。なお、図8におい
て、終端レベルVTは、データ信号DQの基準として出力回
路33の内部で設定される、従来周知の基準値を意味す
る。
刻T1〜T4の期間での、位相比較回路1の動作は、図
3と同等である。時刻T5では、信号RDBEがアクティブ
となる。それに伴い、ワンショットパルスの形式で、信
号MONDRVが一時的にハイレベルとなる。この時に、MONS
IG="L"であるため、データ信号DB*が、ハイレベルに駆
動される。データ信号DBは、ロウレベルにとどまる。信
号RDBEがノーマルに復帰する時刻T7までは、データ信
号DB,DB*の値はそのまま維持される。
ことを受けて、信号RDAEが活性化される。その結果、デ
ータ信号DB,DB*が出力回路33によって増幅される。時
刻T6では、出力回路33は増幅した信号を、クロック
信号CLKQの立ち上がりに同期して、データ信号DQとして
出力する。したがって、図9のケースでは、データ信号
DQとして、ロウレベルが出力される。
70にすでに備わるデータバスへ、モニタ信号MONSIGが
出力されるので、モニタ信号MONSIGを出力するためのボ
ンディングパッド24,25および外部ピン23を、新
たに設ける必要がない。また、外部ピン23を通じてモ
ニタ信号MONSIGを取り出すことができるので、ウェハレ
ベルだけでなく、製品レベルでの位相比較が可能とな
る。このことは、製品の仕上がり具合のロット毎のばら
つき(トランジスタ、配線、コンタクトホールなどにお
ける製造ばらつき)を、半導体装置が製品として完成し
た後においても、確認可能にする。すなわち、本実施の
形態の半導体装置は、完成後の製品に対する評価および
解析にも適している。
して、位相比較を実行することにより、位相関係の良否
(Pass/Fail)を判定した結果をプロットして得られる
グラフ(シュムプロット;Schmoo Plot)を例示してい
る。図10において、横軸は、外部信号EXTDQMの立ち下
がり時刻に関して、最良の時刻からのずれを表してい
る。縦軸は、半導体装置に供給される電源電圧EXVDDを
表している。黒い帯状の領域が、良好な領域を表現して
いる。すなわち、図10は、電源電圧EXVDDを様々に変
えつつ位相比較を行った結果を表現している。
ストモードに設定した上で、外部信号EXTDQMの立ち下が
りのタイミングを、例えば早いタイミング(横軸の負の
領域)から遅いタイミング(横軸の正の領域)へと変え
つつ、モニタ信号MONSIGを計測することにより得られ
る。位相関係が良好であることに対応するモニタ信号MO
NSIGの値、すなわち期待値がハイレベルであるとすれ
ば、図11が示すように、信号ZSMMLATが立ち下がる時
刻t1が、内部信号Aが立ち上がる期間t2〜t3より
も早ければ、モニタ信号MONSIGとしてロウレベルの値が
得られる。すなわち、図11のケースでは、不良(Fai
l)と判定される。
下がる時刻t1が、内部信号Aが立ち上がる期間t2〜
t3の間にあれば、モニタ信号MONSIGとしてハイレベル
の値が得られる。すなわち、図12のケースでは、良好
(Pass)と判定される。また、図13が示すように、信
号ZSMMLATが立ち下がる時刻t1が、内部信号Aが立ち
上がる期間t2〜t3よりも遅ければ、モニタ信号MONS
IGとしてロウレベルの値が得られる。すなわち、図13
のケースでは、不良(Fail)と判定される。
相関係が良好な領域の時間幅を読み取ることができる。
この時間幅は、モニタの対象とされる内部信号Aの信号
幅(パルス幅)に相当する。この信号幅には、製品のロ
ットごとに異なるプロセスパラメーター(トランジスタ
の閾値電圧、配線抵抗、コンタクト抵抗など)によっ
て、差異が生じる。したがって、シュムプロットから読
み取られた信号幅を、あらかじめ設定された基準にもと
づいて評価することにより、製品の品質管理に役立てる
ことも可能となる。その好ましい手順については、実施
の形態5において説明する。
は、実施の形態1の半導体装置20に対しても、モニタ
信号MONSIGを観測することにより、同様に得ることが可
能である。
装置は、複数の内部信号の中から任意の一つを自在に選
択して、位相比較の対象とすることが可能なように構成
される。図14は、そのように構成された半導体装置の
一例を示すブロック図である。この半導体装置は、図4
の装置と同様にSDRAMとして構成されており、位相
比較回路1に加えて選択回路50を、半導体チップ21
に備えている。選択回路50は、集積回路70の複数の
内部信号A〜Dの中から、選択信号に応じて一つを選択
し、内部信号Sとして位相比較回路1へ入力する。図1
4の例では、選択信号として、外部アドレス信号EXTADD
の中の2ビット分が、選択回路50へ入力されている。
を示す回路図である。この例では、選択回路50は、NA
ND回路51〜54、インバータ55〜58、およびNOR
回路59を備えている。NAND回路51〜54には、内部
信号A〜Dがそれぞれ入力されとともに、外部アドレス
信号EXTADD<1>,<0>が、直接にあるいはインバータ55
〜58のいずれかを通じて入力されている。これによ
り、2ビットの外部アドレス信号EXTADD<1>,<0>の4個
の値"00","01","10",および"11"に対応して、NAND回路
A〜Dが、それぞれ選択的に内部信号A〜Dを通過させ
る。NAND回路A〜Dのいずれかを通過した内部信号は、
NOR回路59を通過して、内部信号Sとして位相比較回
路1へ入力される。
外部アドレス信号EXTADDの下位2ビットが用いられる例
を示したが、外部アドレス信号EXTADDの他の部分を用い
ることも当然ながら可能である。通常動作モードにおい
て、外部アドレス信号を構成する一つのビットEXTADD<7
>を"L"に設定しないと、CASレーテンシー(カラムア
ドレスストローブ信号CASがアクティブとなった後に読
み出し信号が出力されるまでの遅延期間)、バーストレ
ングス(1回の読み出し動作でシリアルに出力される読
み出し信号のビット数)等を設定するモードにエントリ
ーしないように構成されたSDRAMが、従来より知ら
れている。このように機能するビットEXTADD<7>を、選
択信号として用いることも可能である。
てコマンド信号COM<1>,<0>を用いることも可能である。
コマンド信号COM<1>,<0>は、制御信号等の入力信号の組
み合わせをデコードすることによって得られる。
択信号として集積回路70(図4)へ入力される外部ア
ドレス信号あるいは制御信号などの入力信号、ないし入
力信号を変換して得られるコマンド信号が用いられるの
で、完成した製品としての半導体装置に対して、位相比
較の対象とすべき内部信号を自在に選択することができ
る。また、選択信号を入力するための特別のボンディン
グパッド25および外部ピン23(図5)を設ける必要
がないという利点も得られる。
般には、集積回路70へ入力される信号以外であっても
良い。すなわち、集積回路70の動作には必要がなく、
もっぱら選択回路50を用いて複数の内部信号から任意
の一つを選択する目的で外部から入力される信号が、選
択信号として選択回路50へ入力されても良い。この場
合には、集積回路70による通常動作に、全く影響を及
ぼすことなく、位相比較動作を実行することができると
いう利点がある。また、この場合には、選択信号の入力
経路は、ボンディングパッド24,25のいずれにも接
続されることなく、半導体チップ21に形成された配線
26に、例えばプローブ等の治具を接触させることによ
り選択信号が位相比較回路1へ入力されてもよい。ある
いは、ボンディングパッド24から選択信号を入力可能
なように、選択信号の入力経路をボンディングパッド2
4へ接続する形態を採ることも可能である。さらに、半
導体装置が製品として完成した後にも、外部ピン23を
通じて選択信号を入力可能なように、選択信号の入力経
路を、ボンディングパッド25を通じて外部ピン23へ
接続した形態を採ることも可能である。この場合、外部
ピン23として、NCピンを用いることも可能である。
装置は、複数の半導体チップ(半導体基板)を備え、こ
れら複数の半導体チップの間で、内部信号どうしの位相
の差を検知することが可能なように構成される。図17
は、そのように構成された半導体装置の一例を示すブロ
ック図である。この半導体装置80は、基板の上に複数
の半導体チップ81〜84を設置した半導体モジュール
として構成されている。図17の例では、半導体チップ
81〜84の各々は、実施の形態2の半導体装置と同等
に構成される。
ップ選択信号CS0〜CS3、信号EXTDQM、モード切替信号SM
M、およびデータ信号DQが、入力または出力される。チ
ップ選択信号CS0〜CS3は、半導体チップ81〜84を選
択的に活性化するための信号である。信号EXTDQMは、半
導体チップ81〜84の各々に設けられた位相比較回路
1へ、外部信号として入力される。モード切替信号SMM
も、半導体チップ81〜84の各々に設けられた位相比
較回路1へ入力される。データ信号DQは、半導体チップ
81〜84のうち、チップ選択信号CS0〜CS3で選択され
た一つから出力される。
での、内部信号どうしの位相の差を検出する方法につい
て説明する。まず、チップ選択信号CS0を通じて、半導
体チップ81を活性化する。つぎに、半導体チップ81
に対して、実施の形態2で説明した方法を実行すること
により、位相差の検出を行う。つぎに、チップ選択信号
CS3を通じて、半導体チップ84を活性化する。つぎ
に、半導体チップ84に対して、実施の形態2で説明し
た方法を実行することにより、位相差の検出を行う。そ
の結果、図18が示すように、半導体チップ81および
84の双方に対して、シュムプロットが得られる。図中
に"PASS"を付した矢印が、位相関係の良好な範囲を表示
している。
チップ81および84の間で、位相関係の良好な範囲に
ずれΔtが生じていることがわかる。このずれΔtは、
位相比較の対象とされた内部信号の位相に関する、半導
体チップ81および84の間でのずれに相当している。
このように、半導体装置80では、複数の半導体チップ
の間での内部信号の位相のずれを測定することが可能で
ある。
形態1〜4の各々による半導体装置の好ましい検査方法
について説明する。図19は、好ましい検査方法の手順
を示すフローチャートである。処理が開始されると、製
品としての半導体装置に対して、従来周知の機能テスト
が行われる(ステップS1)。機能テストの結果、合格
と判定されると(ステップS2)、モード切替信号SMM
をアクティブにすることにより、半導体装置の動作モー
ドがテストモードに設定される(ステップS3)。つぎ
に、内部信号の信号幅が測定される(ステップS4)。
信号幅の測定は、すでに述べた手法でシュムプロットを
得ることにより達成される。
規格値と比較される(ステップS5)。信号幅が規格値
以下であれば、検査対象とされる製品は、良品であって
高速品(すなわち動作速度の速い製品)として出荷すべ
き旨が決定される(ステップS6)。逆に、信号幅が規
格値以下でなければ、検査対象とされる製品は、良品で
あって低速品(すなわち動作速度の遅い製品)として出
荷すべき旨が決定される(ステップS7)。機能テスト
の結果、不合格と判定されると(ステップS2)、検査
対象とされる製品は、不良品であって、出荷禁止すべき
旨が決定される(ステップS8)。ステップS6〜S8
のいずれかが終了すると、当該製品に対する検査は終了
する。以上の処理(ステップS1〜S8)が、多数の製
品について反復的に実行される。
導体装置に対してだけではなく、半導体チップ21に対
しても、同様に実行することが可能である。したがっ
て、図19の処理は、実施の形態1〜4で述べたすべて
の種類の半導体装置に対して実行することが可能であ
る。実施の形態4の半導体装置では、複数の半導体チッ
プ81〜84のそれぞれについて、信号幅の測定を行い
(ステップS4)、そのいずれもが規格値以下であれば
(ステップS5)、高速品として出荷すべき旨の決定を
行えばよい(ステップS6)。
部で位相が比較されるので、半導体基板内部での信号の
位相の精度を判定することが可能である。したがって、
半導体基板内部のローカルなレベルでの位相差の制御が
可能となる。しかも、位相差を反映したモニタ信号を、
モニタ信号用パッドを通じて外部へ取り出すことができ
るので、位相差を直接にモニタすることができる。
で位相が比較されるので、半導体基板内部での信号の位
相の精度を判定することが可能である。したがって、半
導体基板内部のローカルなレベルでの位相差の制御が可
能となる。しかも、位相差を反映したモニタ信号を、デ
ータ配線を通じて外部へ取り出すことができるので、位
相差を直接にモニタすることができる。また、モニタ信
号を外部へ取り出すためのパッドあるいは端子を必要と
しない。
動回路が排他的に動作するので、データ配線における信
号の衝突を防止することができる。
応じて、位相比較回路が動作するので、テストを実行す
るとき以外での無用な動作を防止することができる。
モード切替信号として集積回路への1ないし複数の入力
信号の一つを受信するので、モード切替信号を入力する
ためのパッドあるいは端子を必要としない。
外部信号として集積回路への1ないし複数の入力信号の
一つを受信するので、外部信号を入力するためのパッド
あるいは端子を必要としない。
ので、複数の内部信号のうちの一つを、位相比較の対象
として自在に選択することができる。
選択信号として集積回路への1ないし複数の入力信号の
少なくとも一部を受信するので、選択信号を入力するた
めのパッドあるいは端子を必要としない。
選択信号として、集積回路への1ないし複数の入力信号
の少なくとも一部を変換した信号を受信するので、選択
信号を入力するためのパッドあるいは端子を必要としな
い。
子が備わるので、封止体で封止された製品としての半導
体装置に対して、モニタ信号を外部から入力することが
できる。
用パッドが備わるので、モード切替信号をパッドを通じ
て容易に入力することができる。
用端子が備わるので、封止体で封止された製品としての
半導体装置に対して、モード切替信号を外部から入力す
ることができる。
ドが備わるので、外部信号をパッドを通じて容易に入力
することができる。
が備わるので、封止体で封止された製品としての半導体
装置に対して、外部信号を外部から入力することができ
る。
ドが備わるので、選択信号をパッドを通じて容易に入力
することができる。
が備わるので、封止体で封止された製品としての半導体
装置に対して、選択信号を外部から入力することができ
る。
板が備わるので、複数の半導体基板の間での、内部信号
の位相のずれを測定することができる。
動作させることにより、半導体装置の検査を行うことが
できる。半導体基板の内部で位相が比較されるので、半
導体基板内部での信号の位相の精度を判定することが可
能である。したがって、半導体基板内部のローカルなレ
ベルでの位相差の制御が可能となる。しかも、位相差を
反映したモニタ信号を、モニタ信号用パッドあるいはデ
ータ配線を通じて外部へ取り出すことができるので、位
相差を直接にモニタすることができる。
装置の特徴を生かして、内部信号の信号幅にもとづい
て、動作速度の高低を反映した半導体装置の選別を行う
ことができる。
基板を有する本発明の半導体装置の特性を生かして、複
数の半導体基板の間での、内部信号の位相のずれを測定
することができ、それによって半導体装置の評価、ある
いは位相差の制御に役立てることができる。
ある。
である。
である。
である。
である。
である。
である。
である。
ロット図である。
図である。
図である。
図である。
図である。
ブロック図である。
図である。
ロット図である。
流れ図である。
る。
置、22 封止体、23 端子、24,25 パッド、
31,32 駆動回路、50 選択回路、70集積回
路、DB,DB* データ信号、MONSIG モニタ信号、SMM
モード切替信号。
Claims (20)
- 【請求項1】 M(M≧1)個の半導体基板を有する半
導体装置であって、 前記M個の半導体基板の各々が、 集積回路と、 前記集積回路の内部で発生する内部信号と前記半導体装
置の外部から入力される外部信号との間で位相の比較を
行い、その結果をモニタ信号として出力する位相比較回
路と、 前記モニタ信号を出力するためのモニタ信号用パッド
と、を備える半導体装置。 - 【請求項2】 M(M≧1)個の半導体基板を有する半
導体装置であって、 前記M個の半導体基板の各々が、 データ信号を出力するためのデータ配線を有する集積回
路と、 前記集積回路の内部で発生する内部信号と前記半導体装
置の外部から入力される外部信号との間で位相の比較を
行い、その結果をモニタ信号として出力する位相比較回
路と、 前記データ配線へ前記モニタ信号を出力する第1駆動回
路と、を備える半導体装置。 - 【請求項3】 前記集積回路が、前記データ信号を前記
データ配線へ出力する第2駆動回路を、さらに有し、 前記半導体装置の外部から入力されるモード切替信号が
特定の値であるときに限って、前記位相比較回路が前記
位相の比較を行うとともに前記第1駆動回路が前記デー
タ配線へ前記モニタ信号を出力し、 前記モード切替信号が前記特定の値でないときに限っ
て、前記第2駆動回路が前記データ信号を前記データ配
線へ出力する、請求項2に記載の半導体装置。 - 【請求項4】 前記位相比較回路が、前記半導体装置の
外部から入力されるモード切替信号が特定の値であると
きに限って、前記位相の比較を行う、請求項1または請
求項2に記載の半導体装置。 - 【請求項5】 前記位相比較回路は、前記モード切替信
号として、前記集積回路への1ないし複数の入力信号の
一つを受信する、請求項3または請求項4に記載の半導
体装置。 - 【請求項6】 前記位相比較回路は、前記外部信号とし
て、前記集積回路への1ないし複数の入力信号の一つを
受信する、請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の
半導体装置。 - 【請求項7】 前記M個の半導体基板の各々が、前記集
積回路の内部で発生する複数の信号の一つを、選択信号
に応じて選択し、前記位相比較回路へ前記内部信号とし
て入力する選択回路を、さらに備える、請求項1ないし
請求項6のいずれかに記載の半導体装置。 - 【請求項8】 前記位相比較回路は、前記選択信号とし
て、前記集積回路への1ないし複数の入力信号の少なく
とも一部を受信する、請求項7に記載の半導体装置。 - 【請求項9】 前記位相比較回路は、前記選択信号とし
て、前記集積回路への1ないし複数の入力信号の少なく
とも一部を変換した信号を受信する、請求項7に記載の
半導体装置。 - 【請求項10】 前記M個の半導体基板を封止する封止
体と、 前記M個の半導体基板の各々に属する前記モニタ信号用
パッドに電気的に接続され、前記封止体の外部に露出す
るモニタ信号用端子と、をさらに備える、請求項1に記
載の半導体装置。 - 【請求項11】 前記M個の半導体基板の各々が、 前記モード切替信号を受信するモード切替信号用パッド
を、さらに備える、請求項3または請求項4に記載の半
導体装置。 - 【請求項12】 前記M個の半導体基板を封止する封止
体と、 前記M個の半導体基板の各々に属する前記モード切替信
号用パッドに電気的に接続され、前記封止体の外部に露
出するモード切替信号用端子と、をさらに備える、請求
項11に記載の半導体装置。 - 【請求項13】 前記M個の半導体基板の各々が、 前記外部信号を受信する外部信号用パッドを、さらに備
える、請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の半導
体装置。 - 【請求項14】 前記M個の半導体基板を封止する封止
体と、 前記M個の半導体基板の各々に属する前記外部信号用パ
ッドに電気的に接続され、前記封止体の外部に露出する
外部信号用端子と、をさらに備える、請求項13に記載
の半導体装置。 - 【請求項15】 前記M個の半導体基板の各々が、 前記選択信号を受信する選択信号用パッドを、さらに備
える、請求項7に記載の半導体装置。 - 【請求項16】 前記M個の半導体基板を封止する封止
体と、 前記M個の半導体基板の各々に属する前記選択信号用パ
ッドに電気的に接続され、前記封止体の外部に露出する
選択信号用端子と、をさらに備える、請求項15に記載
の半導体装置。 - 【請求項17】 前記Mが、M≧2である、請求項1な
いし請求項16のいずれかに記載の半導体装置。 - 【請求項18】 (a)請求項1ないし請求項16のいず
れかに記載の半導体装置を準備する工程と、 (b)前記工程(a)で準備された前記半導体装置について、
前記M個の半導体基板の各々に属する前記位相比較回路
を動作させることにより、検査を行う工程と、を備え
る、半導体装置の検査方法。 - 【請求項19】 前記工程(b)が、 (b-1)前記M個の半導体基板の各々に属する前記集積回
路の前記内部信号の信号幅を測定する工程と、 (b-2)前記信号幅を規格値と比較することにより、前記
半導体装置を選別する工程と、を備える、請求項18に
記載の半導体装置の検査方法。 - 【請求項20】 前記MがM≧2であって、 前記工程(b)が、 (b-1)前記M個の半導体基板の間での、前記内部信号の
位相のずれを測定する工程を、備える、請求項18に記
載の半導体装置の検査方法。
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