JP2002229220A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3759526B2 (ja) 2003-10-30 2006-03-29 丸善石油化学株式会社 半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法
KR101191687B1 (ko) 2004-04-30 2012-10-16 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤 반도체 리소그래피용 공중합체와 그 제조 방법, 및 조성물
JP4698972B2 (ja) * 2004-05-10 2011-06-08 三菱レイヨン株式会社 レジスト用重合体の製造方法
JP5172118B2 (ja) * 2006-08-04 2013-03-27 三菱レイヨン株式会社 重合体湿粉、重合体湿粉の製造方法、重合体の製造方法およびレジスト組成物の製造方法
JP4979300B2 (ja) * 2006-08-04 2012-07-18 三菱レイヨン株式会社 重合体湿粉、重合体湿粉の製造方法、および重合体の製造方法
JP4989940B2 (ja) * 2006-08-11 2012-08-01 三菱レイヨン株式会社 重合体の製造方法およびレジスト組成物の製造方法
JP5362177B2 (ja) * 2006-08-25 2013-12-11 三菱レイヨン株式会社 レジスト用重合体湿粉の製造方法
JP5092721B2 (ja) * 2007-12-05 2012-12-05 Jsr株式会社 フォトレジスト用樹脂の製造方法
US20110040056A1 (en) * 2008-03-17 2011-02-17 Arimichi Okumura Process for production of polymer
JP5640787B2 (ja) * 2011-02-09 2014-12-17 三菱レイヨン株式会社 重合体の製造方法
JP5939009B2 (ja) * 2012-04-17 2016-06-22 三菱レイヨン株式会社 (メタ)アクリル酸エステルの評価方法及びリソグラフィー用共重合体の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4491628A (en) * 1982-08-23 1985-01-01 International Business Machines Corporation Positive- and negative-working resist compositions with acid generating photoinitiator and polymer with acid labile groups pendant from polymer backbone
JPS62106911A (ja) * 1985-11-01 1987-05-18 Sekisui Chem Co Ltd 医療器材用樹脂組成物の安定化助剤の精製方法
JPH06220106A (ja) * 1993-01-26 1994-08-09 Tosoh Corp 共重合体の製造法
JPH10168119A (ja) * 1996-12-12 1998-06-23 Mitsui Chem Inc ポリオレフィンの精製方法
JP2001506769A (ja) * 1996-12-18 2001-05-22 クラリアント インターナショナル リミテッド 重合体添加剤を含有するフォトレジスト組成物
JP4012600B2 (ja) * 1997-06-23 2007-11-21 富士通株式会社 酸感応性重合体、レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および半導体装置の製造方法

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