JP2002198321A - 光照射式加熱装置の光照射部の構造及び光照射式加熱装置 - Google Patents

光照射式加熱装置の光照射部の構造及び光照射式加熱装置

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JP2002198321A
JP2002198321A JP2000397555A JP2000397555A JP2002198321A JP 2002198321 A JP2002198321 A JP 2002198321A JP 2000397555 A JP2000397555 A JP 2000397555A JP 2000397555 A JP2000397555 A JP 2000397555A JP 2002198321 A JP2002198321 A JP 2002198321A
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Shinji Suzuki
信二 鈴木
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Ushio Inc
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Ushio Denki KK
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    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
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    • H01L21/67115Apparatus for thermal treatment mainly by radiation

Abstract

(57)【要約】 【課題】 外装表面の温度の高くなる部分を極力少なく
し、冷却風の集中吸気と集中排気とを可能とすること。 【解決手段】 冷却風を取り入れるダクト部30はミラ
ー5の背面側に装置外周を囲むように設けられており、
冷却風はダクト部30を介してランプ4に供給される。
ランプ4を冷却し、高温になった冷却風は、ミラー5の
背面とプレート10とにより囲まれた、ダクト部30の
中空部30aに集められ、排気ダクト20から排気され
る。ダクト部30が装置外周を囲むように設けられてお
り、高温となった冷却風はダクト部30の中空部30a
に集められ排気されるので、排気ダクト20の部分を除
き、装置外周の温度を低くすることができる。また、冷
却風取入口30bから冷却風を取り入れ、排気口20a
から排気する構造なので冷却風の集中吸気と集中排気を
行う循環冷却系を形成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ(以
下ウエハという)を、成膜、拡散、アニール等のため
に、急速加熱・高温保持・急速冷却処理する光照射式加
熱装置の光照射部の構造に関し、特にランプを冷却する
冷却風が流れる部分の構造および該構造を備えた光照射
式加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造工程における光照射式加熱処
理は、成膜、拡散、アニールなど、広い範囲にわたって
行われている。このような、光照射式加熱装置におい
て、ランプの各部分を適切な温度に冷却するための冷却
構造について、本出願人が先に提案した特開2000−
114196号公報に開示されている。同公報には、環
状ランプを用いた装置において、ランプの発光管部の冷
却風と、ランプのシール部の冷却風とを、風箱を介して
排気する構造が示されている。図5に上記公報に記載さ
れる冷却構造を示す。同図において、石英窓9によって
仕切られた光照射室1内には、ウエハ保持台2上に加熱
照射されるウエハ3が載置されている。このウエハ3を
加熱する光源部には、各々直径が異なる複数の環状の赤
外線を含む光を照射するランプ4が、同心円状に配置さ
れている。5はアルミ等の金属ミラーであり、表面には
赤外線を効率良く反射する、例えば金がメッキされてい
る。ミラー5の表面には同心円状の溝と、ランプ4の導
入管部8を通す貫通孔6が設けられており、ランプ4の
形状はその溝にはまる込むように設計されている。ミラ
ー5はランプ4からの光により高温になるので、ミラー
5の材質や表面のメッキの耐熱温度に合わせて、水冷式
等の冷却構造が設けられる。
【0003】上記光照射式加熱装置において、ウエハ3
の加熱処理はウエハを800〜1200°Cに加熱する
ことにより行われる。したがって、上記ミラー5の冷却
に加え、ランプ4の発光管部7、導入管部8、シール部
11等の各部が適切な温度になるように冷却する必要が
ある。このため、以下の冷却構造が採られている。ミラ
ー5の背面をプレート10で仕切って冷却風の通路であ
る風箱13を設け、プレート10の背面をカバー14で
仕切ってカバー室15を設ける。カバー室15には、シ
ール部11を冷却する冷却風の取入口17が設けられ
る。また、カバー室15の下部のプレート10には、ラ
ンプ4のシール部11と導入管部8の一部を通す貫通孔
16が設けられる。ランプ4の導入管部8は、ミラー
5、風箱13を貫通して、シール部11がカバー室15
まで達している。カバー室15のプレート10には、ラ
ンプ4の導入管部8を保持し、ランプ4を固定するラン
プ保持部材18や、ランプ4のリード線19とランプ点
灯電源からの配線を接続する端子台23等が設けられ
る。風箱13は、ミラー5上部とプレート10に挟まれ
た空洞であり、風箱13の一方には排気ダクト20が接
続され、排気ダクト20は排気装置(排気ブロア)21
に接続される。また、光照射室1には、ランプ4を冷却
するための冷却風の取入口22が設けられている。ラン
プ4の点灯時、上記排気ブロア21を動作させて、風箱
13を排風する。これにより、エアーが外部から、冷却
風として光照射室1の冷却風取入口22から取り込まれ
る。冷却風は、図5の矢印に示すように、ランプ4の表
面からランプ4とミラー5との隙間に回り込みながらラ
ンプ4を冷却し、ミラー5の導入管部8を通す貫通孔6
を通過して風箱13に入る。風箱13に入った冷却風
は、排気ブロア21によって引かれ風箱13から排気ダ
クト20を通って排気される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】図5に示す光照射式加
熱装置において、冷却風は、ランプ冷却後、100〜1
50℃になる。このため、風箱13の外装の表面温度
も、それに応じて高温になる。上記図5に示した装置に
おいては、光照射室側から、ミラー5、風箱13、カバ
ー室15という階層構造になっており、風箱13の外装
は、そのまま装置の外装となる。したがって、風箱13
にあたる部分(図5の斜線部分)の表面は、装置全周に
わたって高温となる。半導体製造工程における装置を始
め、各種装置には各国各社で厳しい安全基準が設けられ
ている。例えば、表面温度が60℃を越えるような場
合、装置を取り扱う作業者が直接触れることがないよう
に、防護柵やカバーを多重に設けなければならない。し
たがって、高温の部分が多い装置は、それに応じて防護
柵やカバーが必要になり、その分装置が大型化しコスト
アップになる。また、近年、ウエハの口径がますます大
型化しているが、光照射式加熱装置おいても、それに対
応してランプの本数や、個々のランプに投入するエネル
ギーも大きくする必要がある。したがって、ランプを冷
却するための冷却風の風量も多く必要になる。例えば、
200〜300mmφのウエハに対応する場合、光照射
式加熱装置は、10〜20m3 /分のランプ冷却風が必
要になる。
【0005】また、半導体製造装置は、温度、湿度、ご
みの量が厳しく管理されたクリーンルームに置かれる。
装置を稼動すると、ランプ冷却風として、上記のように
管理されたクリーンエアーを冷却風とし、大量に消費す
ることになり、製造コストのアップにつながる。そこ
で、半導体工場では、装置の冷却用は、排気を冷却して
再び冷却風として使用する循環冷却方式を採用すること
が望まれている。循環冷却方式を採用するためには、集
中吸気と集中排気とが行なえるような装置構造としなけ
ればならない。しかし、図5に示した従来の装置は、集
中吸気ではなく、光照射室の周囲から冷却風を取りこむ
ようにしているので、循環冷却方式を採用することが困
難である。本発明は上記事情を考慮してなされたもので
あって、本発明の目的は、ランプを冷却して高温になっ
た冷却風が通過するために外装表面の温度の高くなる部
分が、できるだけ装置表面にないようにするとともに、
集中吸気と集中排気とが可能な光照射式加熱装置の光照
射部の構造および光照射式加熱装置を提供することであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、光照射式加熱装置の光照射部を以下のような構造と
する。光照射室に配置されたランプの発光管部の背後
に、発光管部からの光を反射し、かつランプの導入管部
とシール部とが通る貫通孔を有するミラーと、ミラーの
背面側に設けられ、中空部を有しランプに対し冷却風を
供給するドーナツ型のダクト部と、ダクト部上に配置
し、ランプのシール部が通る貫通孔を有するプレートか
ら構成する。上記ダクト部は、冷却風取入口から冷却風
を取り入れ、光照射室とダクト部間に設けられた開口部
からランプに冷却風を供給する。ランプの発光管部を冷
却した冷却風は、上記ミラーの貫通孔を通り、ミラー背
面と、ダクト部の中空部と、プレートとによって囲まれ
た空間を介し、排気ダクトに設けられた排気口から排気
される。上記構造においては、冷却風を取り入れるダク
ト部は、ミラーの背面側に装置外周を囲むように設けら
れており、冷却風は該ダクト部を介してランプに供給さ
れる。このため、ダクト部の外装表面温度は、取り込ま
れる冷却風と同じ温度である。また、ランプを冷却し、
高温になった冷却風は、上記のミラー背面とプレートと
により囲まれた、ダクト部の中空部に集められ、排気ダ
クトから排気される。したがって、装置表面で高温にな
る部分は、この排気ダクトの部分だけである。この部分
だけが高温になるのであれば例えばカバー等を設けて
も、それほど大型化せず、コストアップを避けることが
できる。さらに、ダクト部に設けた冷却風取入口から冷
却風を取り入れ、排気ダクトに設けた排気口から排気す
るので、排気を冷却風として再利用する循環冷却系が容
易に構築できる。
【0007】
【発明の実施の形態】図1に本発明の実施例の光照射式
加熱装置の光照射部の構造を示す。なお、同図は分解斜
視図であり、組み立て時に各部のa,b,c,d,e点
が一致する。同図において、前記図5に示したものと同
一のものには同一の符号が付されており、4はランプ、
5はミラー、10はプレートであり、ミラー5とプレー
ト10の間に中空部30aを持つドーナツ形状のダクト
部30が設けられる。なお、図1においては、構成の概
要をわかりやすく示すために、各部分を固定するための
ねじや、細かい固定部材等はすべて省略している。ま
た、プレート10の上部には、前記図5に示したものと
同様に、ランプ4に電気を供給する端子台等が取り付け
られ、さらに、カバーが設けられカバー室を形成する
が、これも省略している。また、図1のランプ4より下
は、前記図5に示した光照射室1である。ランプ4は、
環状の発光管部7を有するフィラメントランプであり、
発光管部7に対して導入管部8が垂直に設けられ、その
端部にはリード線を接続するシール部11が設けられて
いる。ミラー5には、貫通孔6が設けられており、該貫
通孔6にランプ4のシール部11及び導入管部8を通
し、ランプ4をミラー5に固定する。ミラー5のランプ
側はミラー面であり、ランプ4の環形状に合わせた溝が
作られているが、図1では省略している。また、図1で
はランプの本数を2本に省略しているが、実際には、処
理ウエハの大きさに応じて十数本から数十本使用する。
【0008】ダクト部30は、前記したようにいわゆる
ドーナツ型であり中空部30aを有する。ミラー5は、
ダクト部30の下側に取り付けられる。ダクト部30に
は、冷却風取入口30bが2ケ所設けられており、冷却
風が取り入れられる。ダクト部30の、ミラー5が取り
付けられる部分には、複数の冷却風の吹出口30cが設
けられる。また、ミラー5には、ダクト部30の上記冷
却風の吹出口30cに対応して、貫通する冷却風吹出口
5aが設けられており、ランプ4等を冷却する冷却風は
ダクト30から上記吹出口30c、吹出口5aを介して
光照射室に供給される。ダクト部30の上部には、プレ
ート10が取りつけられる。このプレート10により、
ダクト部30内部は、冷却風取入口30bと冷却風吹出
口30cを除いて塞がれる。ランプ4のシール部11
は、プレート10の貫通孔16を貫通する。なお、前記
したように、プレート10の上には、ランプ4に電気を
供給する端子台、配線、また、ランプのシール部11を
保持固定する部材が配置される。さらにプレート10に
は図示しないカバーがかぶせられ、カバー室を形成す
る。ダクト部30の中空部30aは、下側をミラー5の
背面に、上側をプレート10の下面により塞がれ、閉空
間を形成する。ただし、該中空部30aの2つの冷却風
取入口30b間にあたる位置には、切り欠きが30dあ
り、そこに排気ダクト20が接続される。
【0009】次に図1における冷却風の流れを説明す
る。冷却風は、ダクト部30の2ケ所の冷却風取入口3
0bから、ダクト部30内部に取り入れられる。ダクト
部30内部の冷却風は、複数の冷却風吹出口30cか
ら、ミラー5の冷却風吹出口5aを介して、光照射室
(ミラー面側)に吹出される。吹出した冷却風は、ラン
プ4の発光管部8を冷却し、ミラー面に設けられた溝に
沿って流れ、ミラー5のランプ導入管部8及びシール部
11が貫通する貫通孔6から、上下をミラー5背面とプ
レート10とにより囲まれた中空部30aに取り込まれ
る。上記中空部30aに取りこまれた高温の冷却風は、
中空部30aの切り欠き30dから排気ダクト20を介
し、排気口20aから装置外に排気される。なお、図示
しないが排気口20aにはダクトを介して排気ブロアが
接続されている。
【0010】図2に、図1に示した上記光照射部の構造
における冷却風の流れを示す。図2(a)は図1におけ
るA部の断面図を示し、図2(b)はB部の断面図を示
す。また、図2では、ミラー5の下部に、図1には示さ
なかった石英窓9、ウエハ3、またプレート10の上部
にカバー14、カバー室15等を示したが、前記図5に
示した保持部材18、リード線19、端子台23等は省
略している。図2(a)のA部断面においては、主に冷
却風の排気の通路を示し、また、図2(b)のB部断面
においては、主に冷却風の取り入れ通路を示す。
【0011】まず、図2(a)により取り込まれた冷却
風の光照射室への吹き出しおよび排気について説明す
る。図2(a)においてダクト部30に取り込まれた冷
却風は、ダクト部30の底部に設けられた冷却風吹出口
30c(図1参照)、ミラー5に設けられた冷却風吹出
口5aを通って光照射室側に吹出し、ランプ4の発光管
部7を冷却し、ミラー5の貫通孔6を通り、中空部30
aに取りこまれる。ダクト部30の中空部30aには、
図1に示したように切り欠き30dが設けられており、
下側をミラー5の背面に、上側をプレート10により塞
がれた排気用の通風路が形成されている。中空部30a
に取り込まれた高温の冷却風はこの排気用の通風路を介
して排気ダクト20の排気口20aから排気される。ま
た、ランプ4のシール部11を冷却する冷却風は、前記
図5に示しものと同様、プレート10の上部に設けた、
カバー14の冷却風取入口17から取りこまれ、プレー
ト10のシール部が貫通する貫通孔16から、中空部3
0aに引き込まれる。なお、プレート10を水冷プレー
トとした場合には、必ずしもカバー14に上記冷却風取
入口17を設ける必要はない。次に、図2(b)により
光照射室への冷却風の給気について説明する。図2
(b)において、冷却風は冷却風の取入口30bからダ
クト部30に取りこまれる。ダクト30に取り込まれた
冷却風は、冷却風吹出口30c,5aから光照射室側に
吹出し、ランプ4を冷却する。ランプ4を冷却した冷却
風は図2(a)で説明したように、中空部30aに取り
込まれ排気ダクト20の排気口20aから排気される。
【0012】以上説明したように、ランプ4を冷却した
高温の冷却風が流れる中空部30aは、周囲を温度が低
い冷却風が取りこまれるダクト部30に囲まれている。
また、中空部30aの上面はプレート10を介してカバ
ー室15が設けられ、カバー室15の温度も室温と略同
等になる。さらに、中空部30aの下面は、水冷されて
いるミラー5である。したがって、装置外周において温
度の高い部分を少なくすることができる。装置表面にお
いて、排気ダクト20の部分のみが高温になる。しか
し、この部分だけであれば、カバーを設けても、従来ほ
ど装置が大型化することもなく、コストアップを避ける
ことができる。
【0013】図3は、上記装置において、装置から排気
された冷却風を冷却風として再利用する、循環冷却系を
取り付けた図である。図3において、ダクト部30の冷
却風取入口30b、及び排気口20aにそれぞれダクト
23a,23bを取り付ける。ランプを冷却した高温の
冷却風は、排気ブロア21により排気口20aから光照
射装置外に排気される。排気口20aから排気された高
温の冷却風は、ダクト23bを介して熱交換器24に取
り込まれここで室温程度にまで冷却され、排気ブロア2
1に送られる。排気ブロア21から排気された冷却風
は、ダクト23aを介して冷却風取入口30bに送ら
れ、再び冷却風として使用される。また、前記したよう
にカバー室15の冷却風取入口17からシール部11を
冷却するために、循環冷却系に取りこまれる冷却風につ
いては、その分、ダンパ25を介して排気ブロア21の
出口側に設けた排気口26から強制排気し、冷却風量や
風圧を調整する。シール部11の冷却には、クリーンエ
アーを使用するが、必要とされる風量は少なくてよいの
で、排気しても大きなコストアップにはならない。
【0014】なお、上記したプレート10は、水冷パイ
プを埋めこんだ、水冷プレートであっても良い。水冷プ
レートにすることで、高温の冷却風が接するプレートの
温度を下げ、さらに装置の外装表面温度を低くすること
ができる。また、プレート10を水冷プレートとした場
合には、必ずしもカバー室15の冷却風取入口17aか
らクリーンエアを取り込まなくてもよい。一方、プレー
ト10を水冷しない場合は、中空部30aに引きこまれ
た高温の冷却風により、プレート10の温度が高くな
る。したがって、装置表面に露出する高温部分を少なく
するためには、カバー14を設ける必要がある。なお、
カバー内部は、上記したように、シール部11を冷却す
るための冷却風が引き込まれるので、カバー表面温度は
低くなる。
【0015】図4に図1の変形例を示す。同図におい
て、前記図1に示したものと同一のものには同一の符号
が付されており、図1のものとの相違点は、ミラー5が
円板状で、ダクト部30の中空部30aにはめ込まれる
ようになっている点である。このため、ミラー5には冷
却風吹出口5aは設けられておらず、ダクト部30から
の冷却風は、ダクト部30の底面の設けられた冷却風吹
出口30cから光照射室側に吹き出す。それ以外の構造
および冷却風の取り込み、排気は図1に示したものと同
じであり、図1に示したものと同様、排気ダクト20の
部分を除き、装置表面の温度を低く抑えることができ
る。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように本発明においては以
下の効果を得ることができる。 (1)光照射式加熱装置の光照射部構造において、冷却
風が取りこまれるダクト部を、ランプを冷却した高温の
冷却風が流れる風箱が囲まれるように設けたので、装置
外周において温度の高い部分を少なくすることができ
る。このため、装置の安全性を高めることができ、装置
の大型化、コストアップを防ぐことができる。 (2)冷却風取入口から冷却風を取り入れ、排気口から
排気するようにしたので、循環冷却系の構築が容易にで
きる。このため、クリーンエアーを大量に消費せず、ラ
ンプを冷却することができ、製造コストを低下させるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の光照射式加熱装置の光照射部
の構造を示す図である。
【図2】図1に示す光照射部における冷却風の流れを説
明する図である。
【図3】図1に示す光照射部に排気された冷却風を再利
用する循環冷却系を取り付けた図である。
【図4】本発明の実施例の光照射部の変形例を示す図で
ある。
【図5】従来の冷却構造を示す図である。
【符号の説明】
1 光照射室 2 ウエハ保持台 3 ウエハ 4 ランプ 5 ミラー 5a 冷却風吹出口 6 ミラーの貫通孔 7 発光管部 8 導入管部 9 石英窓 10 プレート 11 シール部 13 風箱 14 カバー 15 カバー室 16 プレートの貫通孔 17 冷却風の取入口 20 排気ダクト 20a 排気口 21 排気ブロア 23a,23b ダクト 24 熱交換器 25 ダンパ 30 ダクト部 30a 中空部 30b 冷却風取入口 30c 冷却風吹出口 30d 切り欠き

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 発光管部と、発光管部の端部に設けられ
    た、導入管部とシール部とからなる複数のランプを光照
    射室に配置した光照射式加熱装置における光照射部の構
    造であって、 ランプの発光管部の背後に設けられ、発光管部からの光
    を反射し、かつランプ導入部及びシール部が通る貫通孔
    を有するミラーと、 上記ミラーの上部に設けられ、上記ランプに対し冷却風
    を供給する、中空部を有するダクト部と、 上記ダクト部の上部に設けられ、上記ランプのシール部
    が通る貫通孔を有するプレートとを備え、 上記ランプを冷却する冷却風は、上記ダクト部を通り、
    該ダクト部に設けられた冷却風吹出口から光照射室に吹
    出され、上記ランプの発光管部を冷却し、上記ミラーの
    貫通孔からミラーとダクト部とプレートによって囲まれ
    た、上記ダクト部の中空部を通って、光照射式加熱装置
    の外部に排気されることを特徴とする光照射式加熱装置
    の光照射部の構造。
  2. 【請求項2】 請求項1の構造を有する光照射部を備え
    た光照射式加熱装置であって、 光照射式加熱装置の外部に排気された冷却風が、熱交換
    器により冷却され、再び冷却風として、上記ダクト部に
    導入される循環冷却系が設けられていることを特徴とす
    る光照射式加熱装置。
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