KR20000017153A - 광조사식 가열장치의 냉각구조 - Google Patents

광조사식 가열장치의 냉각구조 Download PDF

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KR20000017153A
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미노베다케시
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다나카 아키히로
우시오덴키 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 목적은, 웨이퍼를 800∼1200℃ 정도의 고온으로 가열하여도 램프의 발광관부, 도입관부, 시일부 등의 각부를 적절한 온도로 용이하게 제어할 수 있는 광조사식 가열장치의 냉각구조를 제공하는 것이다.
발광관부와, 발광관부의 단부에 설치된 도입관부와 시일부로 이루어진 복수의 램프를 광조사실에 배치한 광조사식 가열장치에 있어서, 램프의 발광관부의 배후에 발광관부로부터의 광을 반사하고, 또한 도입관부와 시일부가 통하는 관통공을 가지는 미러와, 램프의 시일부가 통하는 관통공을 가지는 플레이트와 냉각풍 인입구 또는 냉각풍 배출구를 가지는 커버로 이루어진 커버실과, 커버실의 플레이트와 미러의 사이에 설치된 덕트를 통해 배기장치 또는 송풍장치에 접속된 바람통을 설치하고, 배기장치에 의해 커버의 냉각풍 인입구로부터 플레이트의 관통공, 바람통, 덕트를 거치고 아울러 광조사실의 냉각풍 인입구로부터 광조사실, 미러의 관통공, 바람통, 덕트를 통해 배풍하거나, 또는 송풍장치에 의해 덕트, 바람통, 플레이트의 관통공을 통해 커버의 냉각풍 배출구에, 및 덕트, 바람통, 미러의 관통공, 광조사실을 통해 광조사실의 냉각풍 배출구에 송풍함으로써 램프 등을 냉각하도록 구성했다.

Description

광조사식 가열장치의 냉각구조{Cooling structure for light illuminating-type heating apparatus}
본 발명은 반도체 웨이퍼(이하 웨이퍼)를 성막(成膜), 확산, 어닐링 등을 위해 광을 이용하여 가열처리하는 광조사식 가열장치에 관한 것이다.
반도체 제조공정에 있어서 광조사 가열처리는 성막, 확산, 어닐링 등, 넓은 범위에 걸쳐서 행해지고 있다.
어느 처리나 웨이퍼를 고온으로 가열처리하는 것이다. 광조사식 가열장치를 사용하면, 웨이퍼를 급속히 가열할 수 있고, 1000℃ 이상의 온도까지 수십초부터 수십초 사이에 승온시킬 수 있다. 그리고 광조사를 정지하면 급속히 냉각할 수 있다.
광조사식 가열장치로서 예를들면 특개평8-45863을 들 수 있다. 이것을 도1에 도시한다. 석영창(9)에 의해 분할된 광조사실(1) 내에는 웨이퍼 유지대(2) 위에 가열조사되는 웨이퍼(3)가 얹혀있다. 석영창(9)은 웨이퍼(3) 근방과 램프 근방의 분위기를 다른 것으로 할 때에 이용된다. 이 웨이퍼(3)를 가열하는 광원부는 각각 직경이 다른 복수의 고리상의 적외선 램프(4)가 동심원상으로 배치되는 구조로 되어 있다. 5는 미러이고, 알루미늄 등의 금속에 의해 동심원상의 홈과 램프(4)의 도입관부(8)를 통하게 하는 관통공(6)이 설치되어 있다. 램프(4)의 형상은 그 홈에 꼭 맞게 설계되어 있다. 미러(5)의 반사면은 램프(4) 점등시, 램프(4)로부터 방사되는 자외선을 반사하도록 금속, 예를 들면 금이 도금되어 있다.
또, 미러(5)는 램프(4)로부터 광에 의해 고온으로 되기 때문에, 미러(5)의 재질이나 표면 도금의 내열온도에 맞추어 냉각기구가 설치된다. 공기냉각만으로 부족하면, 수냉 등의 냉각기구가 설치된다. 예를들면 미러를 알루미늄으로 제작한 경우에는 600℃ 이상이 되면 알루미늄은 용해되어 버리기 때문에, 그 때에는 물에 의한 냉각이 행해진다.
광원에 사용하는 램프(4)의 예를 도2에 도시한다. 램프(4) 내에 설치된 필라멘트(12)가 발광하는 발광관부(7)와, 발광관부(7)의 단부에 설치된 도입관부(8)와, 도입관부(8)의 단부를 봉지하여 필라멘트(12)와 리드선(19)을 접속하는 시일박(箔)을 설치한 시일부(11)로 나뉘어진다.
도3에 도시하는 미러(5)의 반사면과 램프(4)와 같이 램프(4)는 시일부(11)와 도입관부(8)를 미러(5)의 관통공(6)에 통하게 하고, 발광관부(7)를 미러(5)의 동심원상의 홈으로 받아들여 도시하지 않은 고정부재로 램프(4)를 고정한다. 도1과 같이 시일부(11)는 미러(5)의 상부로 나오고, 시일부(11)로부터의 배선(리드선:19)이 접속기나 단자대 등을 통해서 램프 점등 전원에 접속된다.
램프(4)가 장치된 광원부를 도1의 웨이퍼측에서 본 도면을 도4에 도시한다. 사선부분은 램프(4)의 도입관부(8)를 통하게 하는 미러(5)의 관통공(6)이다. 7은 발광관부이고, 12는 발광관내의 필라멘트이다.
이와 같은 종래의 장치에 있어서는 램프(4) 각부의 온도가 적절한 온도가 되도록 냉각할 필요가 있지만, 그 점에 대해 충분히 고려되어 있지 않았다.
즉, 램프는 점등시, 각 부분을 적절한 온도로 보호할 필요가 있다.
1. 필라멘트(12)가 발광하고 있는 발광관부(7)의 봉체(封體)의 표면온도는 800℃ 이하로 하지 않으면 않된다. 즉, 웨이퍼(3) 처리를 위해 램프(4)의 입력전력을 크게 하면, 필라멘트(12)로부터 방사되는 광량이 커지기 때문에, 램프(4)의 봉체온도가 상승한다. 그러나 봉체의 온도가 800℃ 이상이 되면, 봉체의 재료인 석영이 재결정화를 일으켜 뽀얗게 흐려진다(이것을 실투라고 한다). 실투하면 광의 투과율이 낮아지고, 램프(4)로부터 웨이퍼(3)에 대해 소정의 광에너지를 얻을 수 없게 된다.
2. 시일부(11)는 300℃ 이하로 하지 않으면 않된다. 즉, 이 온도 이상이 되면 시일박(몰리브덴)이 산화하여 팽창하기 때문에, 시일부(11)에 분열이 생겨 파손된다.
3. 도입관부(8)는 250℃ 이상으로 하지 않으면 않된다. 즉, 이 온도 이하에서는 램프(4) 내부에 봉입된 할로겐 가스와, 필라멘트(12)로부터 증발한 텅스텐과의 화합물인 텅스텐-할로겐 화합물이 온도가 낮은 도입관부(8)의 내벽에 응축·퇴적한다. 따라서, 증발한 텅스텐이 텅스텐-할로겐 화합물이 되어 다시 필라멘트(12)로 되돌아간다고 하는 할로겐 사이클이 성립되지 않게 되고, 필라멘트(12)가 가늘어져 단선에 이른다. 따라서 필라멘트(12)의 수명이 짧아진다. 또, 기화하고 있는 할로겐 가스가 감소하기 때문에, 증발한 텅스텐이 할로겐과 반응하지 않고 발광관부(7)의 내벽에 부착하는 현상, 즉 램프(4)의 흑화가 일어난다. 흑화가 생기면, 필라멘트(12)로부터의 광 에너지가 흑화한 부분에서 흡수되어 버리기 때문에, 웨이퍼(3)에 소정의 에너지를 조사할 수 없게 된다. 이와 같이 도입관부(8)는 그 온도를 250℃ 이상으로 하지 않으면 않되지만, 도입관부(8)는 웨이퍼(3)의 광조사에 기여하지 않는 부분이고, 필라멘트(12)의 발광부가 설치되어 있지 않기 때문에, 이 부분의 온도가 낮아지기 쉽다. 따라서 도입관부(8)가 적절한 온도가 되도록 제어할 필요가 있다.
4. 웨이퍼(3)의 가열처리 장치는 웨이퍼를 800∼1200℃로 가열할 필요가 있다. 즉, 최근에는 1150℃로 산화막을 만드는 것이 일반적으로 행해진다. 그런데 도1과 같은 장치에서 램프(4)를 점등한 경우, 램프(4)의 냉각이 행해지고 있지 않기 때문에, 램프(4)의 발광관부(7)의 봉체 온도를 800℃ 이하로 유지하기 위해서는 램프(4)에 입력할 수 있는 최대의 필라멘트 단위 길이당 전력은 60W/㎝이며, 이것은 웨이퍼(3)를 800∼1200℃로 가열하기에는 부족한 전력이었다.
상기한 상황을 해결하기 위해서 램프 입력을 올리고 또한 램프 냉각을 위해 램프(4)에 냉각풍을 내뿜는 것도 생각할 수 있다. 그러나 램프(4)의 냉각풍이 닿는 부분(미러(5)의 반사측)의 온도만은 낮아지게 되지만, 미러(5)와 램프(4)의 사이에는 냉각풍이 들어가기 어렵고 그 부분(미러(5)측에 대향한 부분)의 냉각이 어렵다. 또, 발광관부(7)의 온도제어와는 별도로 시일부(11)와 도입관부(8)를 상기와 같은 온도범위로 유지할 필요가 있다. 이 때문에 각부에 온도 조정 기구를 복수개 설치할 필요가 있고, 장치의 구조가 복잡하게 된다고 하는 문제가 있다.
이와 같은 상황을 감안하여, 본 발명은 웨이퍼를 800∼1200℃ 정도의 고온으로 가열해도 램프의 발광관부, 도입관부, 시일부 등의 각부를 적절한 온도로 용이하게 제어할 수 있는 광조사식 가열장치의 냉각구조를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해 발광관부와, 발광관부의 단부에 설치된 도입관부와 시일부로 이루어진 복수의 램프를 광조사실에 배치한 광조사식 가열장치에 있어서, 램프의 발광관부의 배후에 발광관부로부터 광을 반사하고, 또한 도입관부와 시일부가 통하는 관통공을 가지는 미러와, 램프의 시일부가 통하는 관통공을 가지는 플레이트와 냉각풍 인입구를 가지는 커버로 이루어진 커버실과, 커버실의 플레이트와 미러 사이에 설치된 덕트를 통해 배기장치에 접속된 바람통을 설치하고, 배기장치에 의해 커버의 냉각풍 인입구로부터 플레이트의 관통공, 바람통, 덕트를 통해서, 및 광조사실의 냉각풍 인입구로부터 광조사실, 미러의 관통공, 바람통, 덕트를 통해 배풍함으로써 램프 등을 냉각하도록 구성한 것이다. 또, 상기 커버를 개구의 크기를 변화시킬 수 있는 냉각풍 인입구를 가지는 커버로 한 것이다.
또한, 발광관부와, 발광관부의 단부에 설치된 도입관부와 시일부로 이루어진 복수의 램프를 광조사실에 배치한 광조사식 가열장치에 있어서, 램프의 발광관부의 배후에 발광관부로부의 광을 반사하고, 또한 도입관부와 시일부가 통하는 관통공을 가지는 미러와, 램프의 시일부가 통하는 관통공을 가지는 플레이트와 냉각풍 배출구를 가지는 커버로 이루어지는 커버실과, 커버실의 플레이트와 미러 사이에 설치된 덕트를 통해 송풍장치에 접속된 바람통를 설치하고, 상기 송풍장치에 의해 덕트, 바람통, 플레이트의 관통공을 통해 커버의 냉각풍 배출구에, 및 덕트, 바람통, 미러의 관통공, 광조사실을 통해 광조사실의 냉각풍 배출구에 송풍함으로써 램프 등을 냉각하도록 구성한 것이다. 또, 상기 커버를 개구의 크기를 변화시킬 수 있는 냉각풍 배출구를 가지는 커버로 한 것이다.
도1은 종래의 광조사식 가열장치의 단면도이다.
도2는 광원에 사용하는 램프의 사시도이다.
도3은 미러의 반사면과 램프의 관계를 도시하는 사시도이다.
도4는 웨이퍼측에서 본 광원부의 도면이다.
도5는 본 발명의 광조사식 가열장치의 냉각구조의 단면도이다.
도6은 본 발명의 냉각구조에 있어서 냉각풍의 흐름을 도시하는 도면이다.
도7은 본 발명의 냉각구조에 있어서 냉각풍량을 조정하는 기구를 도시하는 도면이다.
도8은 본 발명의 광조사식 가열장치의 다른 냉각구조의 단면도이다.
도9는 싱글앤드형의 렘프에 있어서 미러의 반사면과 램프의 관계를 도시하는 사시도이다.
〈 부호의 설명 〉
1 : 광조사실 18 : 램프의 유지부재
2 : 웨이퍼 유지대 19 : 리드선
3 : 웨이퍼 20 : 덕트
4 : 램프 21 : 블로어
5 : 미러 22 : 냉각풍 인입구
6 : 미러의 관통공 23 : 단자대
7 : 발광관부 24 : 조정판 개구
8 : 도입관부 25 : 조정판
9 : 석영창 30 : 압축 에어 공급장치
10 : 플레이트 31 : 통풍로
11 : 시일부 32 : 커버
12 : 필라멘트 33 : 냉각풍 배출구
13 : 바람통 34 : 냉각풍 배출구
14 : 커버
15 : 커버실
16 : 플레이트의 관통공
17 : 냉각풍 인입구
다음에 본 발명의 실시예를 도면 5, 6, 7에 기초하여 설명한다.
미러(5)의 배면을 플레이트(10)로 분할하여 냉각풍의 통로인 바람통(13)를 설치하고, 플레이트(10)의 배면을 커버(14)로 분할하여 커버실(15)을 설치한다. 커버(14)에는 시일부(11)를 냉각하는 냉각풍 인입구(17)를 설치한다.
커버실(15) 하부의 플레이트(10)에는 램프(4)의 시일부(11)와 도입관부(8)의 일부를 통하게 하는 관통공(16)을 설치한다. 램프(4)의 도입관부(8)는 미러(5), 바람통(13)을 관통하고, 시일부(11)가 커버실(15)까지 도달하고 있다.
커버실(15)의 플레이트(10)에는, 램프의 도입관부(8)를 유지하고 램프(4)를 고정하는 램프 유지부재(18)나 램프의 리드선(19)과 램프 점등전원으로부터의 배선을 접속하는 단자대(23) 등이 설치된다.
바람통(13)은 미러(5) 상부와 플레이트(10)에 끼워진 공동으로, 바람통(13)의 한쪽에는 덕트(20)가 접속되고 덕트(20)는 배기장치(블로어:21)에 접속된다. 바람통(13)의 냉각풍의 흐름에 수직한 단면적(도5에서 커버실측으로부터 광조사실측에 절단한 냉각풍이 통과하는 면)은 미러(5)와 플레이트(10)에 설치된 구멍 면적의 합계보다 충분히 크게 취한다. 그렇게 하면, 냉각풍량은 상기 구멍의 면적에 의해 비율이 제어되기 때문에, 미러(5)의 복수의 관통공(6)끼리, 및 플레이트(10)의 복수의 관통공(16)끼리 내에서 거의 균등한 풍량이 통과한다.
광조사실(1)에는 웨이퍼 유지대(2) 위에 광가열처리를 행하는 웨이퍼(3)를 얹어 놓는다. 광조사실(1)에는 램프(4)를 냉각하는 냉각풍의 인입구(22)를 설치한다. 냉각풍 인입구(22)의 개구의 크기는 변경할 수 있도록 해 두면, 램프(4)의 발광부(7), 도입관부(8)의 온도를 제어할 수 있다.
램프(4) 점등시, 블로어(21)를 동작시켜 바람통(13)을 배풍한다.
에어가 외부로부터 냉각풍으로서 광조사실(1)의 냉각풍 인입구(22)로부터 인입된다. 냉각풍은 램프(4)의 표면으로부터 램프(4)와 미러(5)의 틈에 돌아 들어가면서 미러(4)의 도입관부(8)를 통하게 하는 관통공(6)을 관통하여 바람통(13)으로 들어간다. 바람통(13)로부터 블로어(21)에 의해 이끌려 덕트(20)를 통해 배기된다.
한편, 커버실(15)의 커버(14)의 냉각풍 인입구(17)로부터도 외부로부터 냉각풍을 받아들이고, 램프(4)의 시일부(11)를 냉각하면서 플레이트(10)의 관통공(16)을 통하여, 바람통(13)으로 들어간다. 블로어(21)에 의해 이끌려져 바람통(13)로부터 덕트(20)를 통하여 배기된다.
커버실(15) 커버(14)의 냉각풍 인입구(17)의 개구의 크기를 조정할 수 있도록 하면, 시일부(11)의 냉각풍량을 조정할 수 있다. 개구의 크기를 바꾸는 예로서는 예를 들면 도7과 같이 해서 행할 수 있다. 즉, 커버(14)의 냉각풍 인입구(17)의 전면에 조정판 개구(24)를 가지는 조정판(25)을 미끄럼 자유롭게 설치하고 있고, 이 조정판(25)을 슬라이드시켜 냉각풍량을 조정할 수 있다. 또한, 이 구성은 냉각풍 인입구(22)에도 채용할 수 있다. 그러나 커버실(15)의 커버(14)가 없는 경우에는 플레이트(10)의 관통공(16)의 개구의 크기를 변화시키는 것에 의해서도 시일부(11)의 냉각풍량을 조정할 수 있다.
석영창(9)을 램프(4)와 웨이퍼(3) 사이에 설치함으로써 램프 냉각풍에 의한 바람의 흐름이 웨이퍼(3) 근방의 분위기에 대해 영향을 미치지 않도록 할 수 있다. 그 때에는 램프 냉각풍의 인입구(22)는 석영창(9)과 램프(4) 사이에 설치되게 된다.
장치의 광원부의 구조를 이와 같이 함으로써 램프에 필라멘트 단위 길이당 80∼120W/㎝의 전력을 넣어서 웨이퍼를 800∼1200℃로 가열해도 램프(4) 각부의 온도를 소망의 온도로 할 수 있었다.
즉, 냉각풍 인입구(22)로부터 냉각풍이, 램프(4)의 표면으로부터 램프(4)와 미러(5)의 틈에 돌아 들어가서 램프(4)의 발광관부(7) 전체를 냉각하기 때문에, 램프 표면 온도를 800℃ 이하로 냉각할 수 있다.
이 냉각풍은 램프(4)의 열을 빼앗음으로써 고온으로 되고, 그 후 관통공(6)을 지나 바람통(13)의 램프 도입관부(8) 근방을 통과함으로써, 도입관부(8) 근방의 온도를 250℃ 이상으로 유지할 수 있다. 따라서 도입관부(8)가 저온이 되는 것에 의한 필라멘트(12)의 단수명화 및 램프(4)의 흑화를 방지할 수 있다. 냉각풍 인입구(22)의 개구의 크기를 조절할 수 있도록 하면, 냉각풍량을 적절한 풍량으로 할 수 있고, 램프(4)의 발광관부(7), 도입관부(8)의 온도제어도 용이하게 행할 수 있다.
커버(14)의 냉각풍 인입구(17)로부터 실온의 냉각풍이 도입 시일부(11)를 냉각하기 때문에, 시일부(11)를 350℃ 이하로 냉각할 수 있다. 이 시일부(11)를 냉각한 냉각풍은 플레이트(10)의 관통공(16)을 통해서 바람통(13)으로 들어간다. 커버(14)의 냉각풍 인입구(17)의 개구의 크기를 조절할 수 있도록 하면, 냉각풍량을 적절한 풍량으로 할 수 있고, 램프(4)의 시일부(11), 도입관부(8)의 온도제어도 용이하게 행할 수 있다.
다음에, 본 발명의 다른 실시예를 도8에 기초하여 설명한다. 상기 도5, 도6, 도7의 실시예에서는 바람통(13)에 접속된 덕트(20)에 배기장치(블로어 : 21)를 접속하고 배기함으로써 냉각을 행하였지만, 이 도8에 도시하는 실시예에서는 배기장치(블로어 : 21) 대신에 송풍장치(압축 에어 공급장치 : 30)를 접속하고 송풍함으로써 냉각을 행하고 있다. 또한 이 경우 그 밖의 구성은 상기 도5, 도6, 도7에 도시하는 실시예의 구성과 거의 동일하다.
램프(4) 점등시, 압축 에어 공급장치(30)를 동작시켜 바람통(13)에 송풍한다.
압축 에어 공급장치(30)로부터 송풍된 에어는 덕트(20)를 통해 바람통(13)으로부터 냉각풍으로서 미러(4)의 도입관부(8)를 통하게 하는 관통공(6)을 통과한다. 냉각풍은 램프(4)와 미러(5)의 틈에 돌아 들어가면서 램프(4)를 냉각하고 광조사실(1)의 냉각풍 배출구(34)로부터 외부에 배기(방출)된다.
그리고 도8에 도시하는 바와 같이, 미러(5)와 램프(4)의 발광관부(7)의 근방에 복수의 소 직경의 구멍, 또는 슬릿상의 관통공인 통풍로(31)를 설치하고 통풍로(31)에 냉각풍이 흐르도록 해도 된다. 바람통(13)에 송풍된 에어는 냉각풍으로서 통풍로(31)를 통해 램프(4)의 발광관부(7)에 내뿜어져 램프(4)를 냉각한다.
한편, 압축 에어 공급장치(30)로부터 송풍된 에어는 바람통(13)로부터 플레이트(10)의 관통공(16)을 통하여 램프(4)의 시일부(11)를 냉각하고, 커버실(15)의 커버(14)의 내각풍 배출구(33)로부터도 외부에 배출(방출)된다.
상기 실시예의 경우와 동일하게 커버실(15)의 커버(14)의 냉각풍 배출구(33)를 도7과 같이 하여 그 개구의 크기를 조정하고 시일부(11)의 냉각풍량을 조정한다.
송풍에 의한 냉각을 행해도 배풍에 의한 냉각의 경우와 동일하게 램프(4) 각부의 온도를 소망의 온도로 할 수 있었다.
즉, 관통공(6)으로부터 냉각풍이 램프(4)의 표면으로부터 램프(4)와 미러(5)의 틈에 돌아 들어가서 램프(4)의 발광관부(7) 전체를 냉각하고, 또 통풍로(31)로부터 냉각풍이 램프(4)의 발광관부(7)에 내뿜어져서 냉각하기 때문에, 램프 표면 온도를 800℃ 이하로 냉각할 수 있다.
도입관부(8) 근방의 온도는 발광관부(7)로부터 열전도에 의한 열과 냉각풍에 의한 냉각 밸런스를 고려하여 송풍량을 조절함으로써 조절된다. 냉각풍이 배기되는 냉각풍 배출구(34)의 개구의 크기를 조절할 수 있도록 하고, 냉각풍량을 적절한 풍량으로 해도 된다. 또한 도입관부(8)가 너무 차가워져서 할로겐 사이클을 유지할 수 없을 때에는, 도8에 도시하는 바와 같이 도입관부(8)에 직접 냉각풍이 닿지 않도록 커버(32)를 설치해도 된다. 이와 같이 해서 도입관부(8) 근방에 온도를 250℃ 이상으로 유지할 수 있다.
바람통(13)로부터 플레이트(10)의 관통공(16)을 통하여 시일부(11)를 냉각하기 때문에, 시일부(11)를 350℃ 이하로 냉각할 수 있다. 이 시일부(11)를 냉각한 냉각풍은 커버실(15)의 커버(14)의 냉각풍 배출구(33)로부터 외부로 배출(방출)된다.
커버(14)의 냉각풍 배출구(33)의 개구의 크기를 조절할 수 있도록 하면, 냉각풍량을 적절한 풍량으로 할 수 있고 램프(4)의 시일부(11), 및 도입관부(8)의 온도제어도 용이하게 행할 수 있다.
또한, 본 실시예에서는 발광관부가 고리상의 램프를 이용한 경우에 대해 기술하였으나, 발광관부의 형상에 의하지 않고 동일한 냉각구조를 취할 수 있다. 예를 들면 발광관부가 반원상의 램프를 조합하여 고리상으로 했을 경우에도, 또 발광관부가 직관상, 사각형상의 램프인 경우에도, 동일의 냉각구조를 채용할 수 있다. 시일부가 1개소의 싱글앤드라고 불리는 형태의 램프이어도, 도3에 대응하여 도9에 도시하는 바와 같이 미러(5)의 반사면을 공기(椀)상으로 하고 거기에 미러의 관통공(6)을 설치하여 램프(7)의 도입관부(8), 시일부(11)를 통하게 함으로써 동일의 냉각구조를 적용할 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 의해 이하의 효과를 얻을 수 있다.
1. 램프에 큰 입력을 넣어도 램프의 발광관부의 온도를 실투가 생기지 않는 온도로 억제할 수 있다.
2. 램프에 큰 입력을 넣어도 램프의 시일부의 온도를 박산화가 일어나지 않는 온도로 할 수 있다.
3. 상기 2점을 위해 냉각을 행하여도 램프의 도입관부의 온도를 할로겐 사이클이 일어나는 온도로 유지할 수 있다.
이것들을 동시에 만족할 수 있는 광조사식 가열장치의 냉각구조를 제공할 수 있다.

Claims (4)

  1. 발광관부와, 발광관부의 단부에 설치된 도입관부와 시일부로 이루어진 복수의 램프를 광조사실에 배치한 광조사식 가열장치에 있어서,
    램프의 발광관부의 배후에 발광관부로부터의 광을 반사하고 또한 램프의 도입관부와 시일부가 통하는 관통공을 가지는 미러와,
    램프의 시일부가 통하는 관통공을 가지는 플레이트와 냉각풍 인입구를 가지는 커버로 이루어진 커버실과,
    커버실의 플레이트와 미러 사이에 설치되어 덕트를 통해 배기장치에 접속된 바람통을 설치하고,
    배기장치에 의해 커버의 냉각풍 인입구로부터 플레이트의 관통공, 바람통, 덕트를 통해서, 그리고 광조사실의 냉각풍 인입구로부터 광조사실, 미러의 관통공, 바람통, 덕트를 통해 배풍함으로써 램프 등을 냉각하는 것을 특징으로 하는 광조사식 가열장치의 냉각구조.
  2. 제1항에 있어서, 상기 냉각풍 인입구 중 적어도 한쪽 인입구는 개구의 크기를 변화시킬 수 있는 냉각풍 인입구인 것을 특징으로 하는 광조사식 가열장치의 냉각구조.
  3. 발광관부와, 발광관부의 단부에 설치된 도입관부와 시일부로 이루어진 복수의 램프를 광조사실에 배치한 광조사식 가열장치에 있어서,
    램프의 발광관부의 배후에 발광관부로부터의 광을 반사하고 또한 램프의 도입관부와 시일부가 통하는 관통공을 가지는 미러와,
    램프의 시일부가 통하는 관통공을 가지는 플레이트와 냉각풍 배출구를 가지는 커버로 이루어진 커버실과,
    커버실의 플레이트와 미러 사이에 설치되어 덕트를 통해 송풍장치에 접속된 바람통를 설치하고,
    상기 송풍장치에 의해 덕트, 바람통, 플레이트의 관통공을 통해 커버의 냉각풍 배출구로, 그리고 덕트, 바람통, 미러의 관통공, 광조사실을 통해 광조사실의 냉각풍 배출구로 송풍함으로써 램프 등을 냉각하는 것을 특징으로 하는 광조사식 가열장치의 냉각구조.
  4. 제3항에 있어서, 상기 냉각풍 배출구 중 적어도 한쪽 배출구는 개구의 크기를 변화시킬 수 있는 냉각풍 배출구인 것을 특징으로 하는 광조사식 가열장치의 냉각구조.
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