TWI613491B - 光照射裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種抑制朝向設置在光出射開口部之構件的出射側表面之異物附著的光照射裝置。

本發明之光照射裝置1係構成為於光照射器2之殼體3收納有反射鏡5及光源4，於殼體3之光出射開口部3A具備有光透過性之構件，於該構件之光出射側具備有氣簾器具60，而抑制異物附著至設置在光出射開口部3A之構件。

Description

光照射裝置

本發明係關於一種於殼體具備反射鏡及光源之光照射裝置。

習知，已知有如下之光照射裝置：於光照射器之殼體收納反射鏡及光源，照射來自光源之直射光及來自反射鏡之反射光(例如，參照專利文獻1)。於該光照射裝置中，在光出射開口部設置偏光片單元，於殼體內之反射鏡與偏光片單元之間設置供給氣體之氣體供給手段，藉由將反射鏡與偏光片單元之間設為正壓，而防止異物侵入至殼體內。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利第5056991號公報

然而，上述習知之構成係向殼體內之光出射開口部之內側供給氣體，故雖可防止異物向殼體內之侵入，但存在異物附著至設置於光出射開口部之構件(偏光片單元)之下表面(光出射側的面)之虞。本發明係鑒於上述情況而完成者，其目的在於提供一種抑制異物 向設置於光出射開口部之構件之光出射側表面之附著的光照射裝置。

為了達成上述目的，本發明之光照射裝置之特徵在於：於光照射器之殼體收納有反射鏡及光源，於上述殼體之光出射開口部具備有光透過性之構件，且於該構件之光出射側具備有氣簾器具。

於上述構成中，上述氣簾器具亦可於上述光出射開口部之短邊方向形成氣簾。

於上述構成中，上述氣簾器具亦可與上述光源之長邊方向產生正交而形成氣簾。

於上述構成中，上述氣簾器具亦可與上述構件以大致平行之方式吹出空氣並遍及上述光出射開口部之整體而形成氣簾。

於上述構成中，亦可於上述殼體之光出射開口部具備有偏光片單元，於上述偏光片單元之光出射側具備有上述氣簾器具。

於上述構成中，亦可於上述偏光片單元之光出射側具備有光透過構件，於上述光透過構件之光出射側具備有上述氣簾器具。

於上述構成中，亦可於上述殼體之光出射開口部依序具備有光透過構件及偏光片單元，於上述偏光片單元之光出射側具備有上述氣簾器具。

於上述構成中，上述氣簾器具亦可以對向之方式具備有吹出空氣之吹氣噴嘴、及對自該吹氣噴嘴所吹出之空氣進行排氣之排氣噴嘴。

根據本發明，由於在收納有反射鏡及光源之殼體之光出射開口部具備氣簾器具，故可抑制異物附著至設置於光出射開口部之構件之光出射側表面。

1、100、200、300‧‧‧光配向裝置(光照射裝置)

2‧‧‧光照射器

3‧‧‧殼體

3A‧‧‧光出射開口部

4‧‧‧燈(光源)

5‧‧‧反射鏡

5A‧‧‧貫通孔

6、70‧‧‧透明體(光透過構件)

7‧‧‧波長選擇濾波器

8‧‧‧偏光片單元固定台

8A‧‧‧框體

10‧‧‧偏光片單元

12‧‧‧單位偏光片單元

14‧‧‧框架

16‧‧‧線柵偏光片

19‧‧‧螺桿

20、220‧‧‧冷卻單元

20A‧‧‧冷卻單元箱

21、64‧‧‧送風器

21A、62A‧‧‧吹出口

21B、63A‧‧‧吸入口

22‧‧‧冷卻器

23‧‧‧過濾器

24‧‧‧腔室

24A‧‧‧入口

24B‧‧‧出口

25、26、27、28、29、65‧‧‧導管

28A、29A‧‧‧延伸部

28B、29B‧‧‧縮徑部

28C、29C‧‧‧支持構件

30‧‧‧熱源冷卻路徑

31‧‧‧間隔壁

31A‧‧‧開口

31B‧‧‧通風孔

40‧‧‧偏光片冷卻路徑

50‧‧‧正壓機構

51‧‧‧流量調節手段

52‧‧‧導入口

60、160‧‧‧氣簾器具

61‧‧‧空氣供給埠

62、162‧‧‧吹氣噴嘴

63‧‧‧排氣噴嘴

162A‧‧‧噴嘴本體

162B、162C‧‧‧吹出埠

A‧‧‧線方向

AC‧‧‧氣簾

B‧‧‧排列方向

C1‧‧‧偏光軸

R、S、T‧‧‧空間

W‧‧‧光配向對象物(工件)

X‧‧‧線性運動方向

δ1、δ2‧‧‧間隙

圖1係表示本發明之第1實施形態之光配向裝置之前視圖。

圖2係將圖1之光照射器放大表示之圖。

圖3係表示偏光片單元之構成之圖，(A)係俯視圖，(B)係側剖視圖。

圖4係表示本發明之第2實施形態之光配向裝置之前視圖。

圖5係表示本發明之第3實施形態之光配向裝置之前視圖。

圖6係表示本發明之變形例之光配向裝置之前視圖。

圖7係表示本發明之另一變形例之光配向裝置之前視圖。

以下，參照圖式，對本發明之實施形態進行說明。圖1係表示本實施形態之光配向裝置之前視圖。圖2係將圖1之光照射器放大表示之圖。圖3係表示偏光片單元之構成之圖，圖3(A)係俯視圖，圖3(B)係側剖視圖。如圖1及圖2所示，光配向裝置1係向板狀或者帶狀之光配向對象物(工件)W之光配向膜照射偏光之光而進行光配向之光照射裝置。光配向裝置1具備向正下方照射偏光之光之光照射器2。於對光配向對象物W進行光配向時，藉由搬送機構(未圖示)而沿線性運動方向X移送光配向對象物W並通過光照射器2之正下方，於該通過時暴露於偏光之光而光配向膜被配向。於本實施形態中，光配向對象物W係於俯視時形成為矩形狀，以光配向對象物W之短邊方向與線性運動方向X一致之方式被移送。

光照射器2係於在下表面具有光出射開口部3A之殼體3內具備作為光源之燈4及反射鏡5，並且於光出射開口部3A具備偏光片單元10。殼體3係於距光配向對象物W既定距離之上方位置，支 持於照射器設置台座(未圖示)。燈4為放電燈，使用有延伸成至少與光配向對象物W之長邊方向之長度相等以上之直管型(棒狀)紫外線燈。反射鏡5係剖面為橢圓形且沿燈4之長邊方向延伸之圓柱凹面反射鏡，將燈4之光聚光而自光出射開口部3A向偏光片單元10照射。

光出射開口部3A係形成於燈4之正下方之於俯視時呈矩形狀之開口部，以長邊方向與燈4之長邊方向一致之方式設置。於光出射開口部3A，設置有由例如石英板等不具有濾波器特性(波長選擇特性)之光透過構件形成之板狀之透明體6，由該透明體6封閉光出射開口部3A。又，於光出射開口部3A之內側，設置有選擇透過之光之波長之波長選擇濾波器7，光照射器2係藉由該波長選擇濾波器7而照射所期望之波長之光。該等透明體6及波長選擇濾波器7構成本實施形態之光透過構件。再者，雖本實施形態係設置有波長選擇濾波器7，但於燈4本身可出射所期望之波長之光之情況下，亦可省略波長選擇濾波器7。

偏光片單元10係配置於透明體6與光配向對象物W之間，使照射至光配向對象物W之光偏光。藉由該偏光之光照射至光配向對象物W之光配向膜，而該光配向膜被配向。如圖3所示，偏光片單元10具備數個單位偏光片單元12、及將該等單位偏光片單元12橫向並列地整列成一排之框架14。框架14係將各單位偏光片單元12連接配置之板狀之框體。單位偏光片單元12具備形成為大致矩形板狀之線柵偏光片(偏光片)16。於本實施形態中，各單位偏光片單元12係以線方向A變得與線性運動方向X平行之方式支持線柵偏光片16，使與該線方向A正交之方向、與線柵偏光片16之排列方向B一致。

線柵偏光片16係直線偏光片中之一種，其係於基板之 表面形成有柵格者。如上所述，由於燈4為棒狀，因此向線柵偏光片16入射各種角度之光，但即便為傾斜入射之光，線柵偏光片16亦將其直線偏光化而使其透過。線柵偏光片16係以如下方式支持於單位偏光片單元12：將其法線方向設為轉動軸，使該轉動軸於面內轉動而可微調整偏光軸C1之方向。即，數個線柵偏光片16係以彼此隔開間隙之方式配置，以便可微調整偏光軸C1之方向。對於所有單位偏光片單元12，以線柵偏光片16之偏光軸C1於既定之照射基準方向上對齊之方式微調整，藉此可獲得遍及偏光片單元10之長軸方向之全長，且偏光軸C1高精度地對齊之偏光之光，從而可實現高品質之光配向。經調整過偏光軸C1之線柵偏光片16係於單位偏光片單元12之上端及下端藉由螺桿(固定手段)19而固定於框架14，藉此固定配置於框架14。該等透明體6、波長選擇濾波器7、及偏光片單元10構成本實施形態之光透過性之構件。

又，如圖1及圖2所示，光配向裝置1具備冷卻燈4、反射鏡5、波長選擇濾波器7、及偏光片單元10之冷卻單元20。該冷卻單元20係分別獨立地具備用以冷卻燈4及反射鏡5之熱源冷卻路徑30、與用以冷卻偏光片單元10之偏光片冷卻路徑40。於熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40之各者，設置有吹送冷卻風之送風器21、21，對冷卻風進行冷卻之冷卻器22、22，及去除包含於冷卻風之塵埃等異物之過濾器23、23。送風器21係配置於冷卻器22之上游側。藉此，可防止藉由冷卻器22而冷卻之冷卻風因送風器21之熱源被再加熱之情況。本實施形態係於送風器21中使用吹風器，於冷卻器22中使用水冷式散熱器，於過濾器23中使用高效率粒子空氣(HEPA，High Efficiency Particulate Air)過濾器，但送風器21、冷卻器22、及過濾器 23並不限定於該等構成。

於熱源冷卻路徑30，送風器21、冷卻器22、及過濾器23係收容於設置於殼體3之外部之冷卻單元箱20A內。於本實施形態中，冷卻單元箱20A係以與殼體3相隔之方式配置於殼體3之上方，但冷卻單元箱20A之配置位置並不限定於此。於冷卻單元箱20A內，設置有腔室24，由導管25連接送風器21之吹出口21A與腔室24之入口24A。腔室24係自入口24A向下游側擴徑，於腔室24內之上游側配置有冷卻器22，於下游側配置有過濾器23。腔室24之出口24B與殼體3係由導管26連接，送風器21之吸入口21B與殼體3係由導管27連接。

於殼體3內，以與殼體3隔開間隙δ1之方式設置有包圍燈4及反射鏡5之側方之間隔壁31。間隔壁31係於下部具有使燈4及反射鏡5露出於下方之開口31A，並且於上部具有通風孔31B。導管26係連接於與間隔壁31之外側之間隙δ1對應之位置的殼體3，導管27係連接於與間隔壁31之內側之空間R對應之位置的殼體3。該等送風器21、導管25、腔室24(冷卻器22、過濾器23)、導管26、間隔壁31之外側之間隙δ1、間隔壁31之內側之空間R、及導管27構成熱源冷卻路徑30。

於熱源冷卻路徑30，自送風器21吹出之冷卻風(空氣)係經由導管25而於腔室24內流動，從而藉由冷卻器22被冷卻，並且藉由過濾器23而去除異物。冷卻風係藉由該過濾器23而以露點(dew point)成為-50℃~-90℃以下之程度之方式被除濕，並且去除異物而成為低露點高淨化度空氣(潔淨乾燥空氣(clean dry air))。成為潔淨乾燥空氣之冷卻風係經由導管26而供給至殼體3內。於殼體3內，冷卻風係 通過間隔壁31與殼體3之間之間隙δ1，於間隔壁31與透明體6之間之間隙δ2流動，從而流入至反射鏡5內、及處於反射鏡5之外側且間隔壁31內之空間R而冷卻燈4及反射鏡5。冷卻燈4及反射鏡5而溫度變高之冷卻風係自形成於反射鏡5之上部之貫通孔5A，接著自反射鏡5之外側向間隔壁31內之空間R流動，從而經由導管27吸入至送風器21而再次被冷卻。如上所述，冷卻風係於熱源冷卻路徑30循環。

於偏光片冷卻路徑40，在冷卻單元箱20A亦配置有送風器21、配置於腔室24內之冷卻器22、及過濾器23，由導管25連接送風器21之吹出口21A與腔室24之入口24A。又，腔室24之出口24B與殼體3係由導管28連接，送風器21之吸入口21B與殼體3係由導管29連接。

導管28具備：延伸部28A，其遍及殼體3之光出射開口部3A、更詳細而言遍及偏光片單元10之長邊方向之長度延伸；及縮徑部28B，其自延伸部28A縮徑。縮徑部28B係連接於腔室24之出口24B，延伸部28A係連接於殼體3。同樣地，導管29具備：延伸部29A，其遍及殼體3之光出射開口部3A、更詳細而言遍及偏光片單元10之長邊方向之長度延伸；及縮徑部29B，其自延伸部29A縮徑。縮徑部29B係連接於送風器21之吸入口21B，延伸部29A係連接於殼體3。延伸部28A及延伸部29A係經由板狀之支持構件28C、29C而支持於殼體3。

偏光片單元10係於殼體3之外側，在與光出射開口部3A對向之位置，以與透明體6隔開空間S之方式設置，框架14固定於偏光片單元固定台8。於殼體3與偏光片單元固定台8之間連接有導管28、29。導管28係連接於線性運動方向X之一端側，導管29係連 接於線性運動方向X之另一端側。該等送風器21、導管25、腔室24(冷卻器22、過濾器23)、導管28、透明體6與偏光片單元10之間之空間S、及導管29構成偏光片冷卻路徑40。即，該偏光片冷卻路徑40構成冷卻透明體6與偏光片單元10之間之空間S之空間冷卻路徑。

於偏光片冷卻路徑40，自送風器21吹出之冷卻風係經由導管25而於腔室24內流動，藉由冷卻器22被冷卻，並且藉由過濾器23而去除異物，從而經由導管28流入至透明體6與偏光片單元10之間之空間S而冷卻偏光片單元10。此時，流入於空間S之冷卻風係以相對於燈4之長邊方向正交之方式流動。冷卻偏光片單元10而溫度變高之冷卻風係經由導管29吸入至送風器21，從而再次被冷卻。如上所述，冷卻風係於偏光片冷卻路徑40循環。

又，偏光片冷卻路徑40係與熱源冷卻路徑30完全獨立，故藉由分別控制於熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40流動之冷卻風之溫度，可個別地冷卻燈4及偏光片單元10。此時，個別地控制送風器21、21，以使熱源冷卻路徑30之冷卻風之風速相對較慢，使偏光片冷卻路徑40之冷卻風之風速相對較快之方式進行設定，藉此能夠以相對較高之溫度冷卻光源4，以相對較低之溫度冷卻偏光片單元10。藉此，可適當地冷卻燈4及偏光片單元10。而且，向透明體6與偏光片單元10之間之空間S供給冷卻風之導管28、及自空間S排出冷卻風之導管29係遍及偏光片單元10之長邊方向之長度延伸，故可遍及偏光片單元10之整體而大致均勻地冷卻。

另外，存在於光配向對象物W之處理中(照射中)，自配向膜產生釋氣(out gas)之情況。又，於配置光配向裝置1之環境，亦存在例如紙粉等異物。若該釋氣等異物混入或附著至線柵偏光片16，則 線柵偏光片16之偏光特性發生變化而造成不良影響。因此，於本實施形態中，光配向裝置1具備正壓機構50，該正壓機構50係將透明體6與偏光片單元10間之空間S設為正壓。更具體而言，於將送風器21之吸入口21B與殼體3連接之導管29，設置有由例如阻尼器等構成之流量調節手段51。使用該流量調節手段51減少於位於空間S之下游之導管29流動之冷卻風的流量，藉此可將透明體6與偏光片單元10間之空間S設定為正壓。

若空間S成為正壓，則自偏光片單元10之間隙向外部吹出冷卻風，因此可防止異物自偏光片單元10之間隙侵入至偏光片冷卻路徑40內。藉此，可確實地防止異物附著、或侵入至偏光片單元10。作為偏光片單元10之間隙，例如可列舉偏光片單元10之框架14與偏光片單元固定台8之間之間隙、或數個線柵偏光片16間之間隙等。因此，可不設置氣密地封閉該等間隙之手段，而確實地防止異物向偏光片冷卻路徑40之侵入，因此可削減光配向裝置100之零件件數，簡化製造步驟。

又，於導管29，形成有自外部導入空氣之導入口52。經由該導入口52而僅按照自偏光片單元10之間隙吹出之空氣量自外部導入空氣，因此可防止偏光片冷卻路徑40內過度地成為負壓，從而可高效率地運轉送風器21。本實施形態係於流量調節手段51之下游設置有導入口52，但導入口52係只要處於冷卻器22及過濾器23之上游，則可設置於任意之位置。該等流量調節手段51及導入口52構成本實施形態之正壓機構50。

又，如圖1及圖2所示，光配向裝置1具備形成氣簾AC之氣簾器具60。氣簾器具60具備：空氣供給埠61，其被供給高壓 之空氣；吹氣噴嘴62，其吹出所供給之空氣；排氣噴嘴63，其對所吹出之空氣進行排氣；及送風器(吹風器)64，其引入空氣。供給至空氣供給埠61之空氣係以露點成為-50℃~-90℃以下之程度之方式被除濕，並且去除異物而成為低露點高淨化度空氣(潔淨乾燥空氣)。再者，若為相同之低露點高淨化度，且使紫外線透過，則亦可使用除潔淨乾燥空氣外之氣體、例如氮氣等惰性氣體。供給至吹氣噴嘴62之空氣可自設置光配向裝置1之工廠之設備供給，亦可自另外設置之空氣生成手段(例如，儲氣罐)供給。

吹氣噴嘴62係沿燈4之長邊方向延伸，具備1個吹出口62A。該吹出口62A係遍及殼體3之光出射開口部3A之長邊方向之長度、更詳細而言遍及偏光片單元10之長邊方向之長度而設置。又，吹出口62A係以與偏光片單元10大致平行地吹出空氣之方式配置。排氣噴嘴63係沿燈4之長邊方向延伸，具備與吹氣噴嘴62對向之1個吸入口63A。即，吸入口63A係遍及光出射開口部3A、更詳細而言遍及偏光片單元10之長邊方向之長度而設置。排氣噴嘴63之出口係經由導管65而與送風器64連接。本實施形態係各設置有1個吹出口62A及排氣噴嘴63，但亦可遍及殼體3之光出射開口部3A之長邊方向之長度、更詳細而言遍及偏光片單元10之長邊方向之長度而設置數個吹出口62A及排氣噴嘴63。該等吹氣噴嘴62及排氣噴嘴63可固定於殼體3，亦可固定於支持殼體3之照射器設置台座(未圖示)。進而，本實施形態係於送風器64中使用吹風器，但送風器21並不限定於該等構成。

供給於吹氣噴嘴62之空氣係自遍及光出射開口部3A而設置之吹出口62A，以相對於燈4之長邊方向正交之方式於光出射開 口部3A之下方、更詳細而言於偏光片單元10之下方流動。藉此，於光出射開口部3A之下方形成氣簾AC。所吹出之空氣係自排氣噴嘴63之吸入口63A被吸入，經由導管65而引入至送風器64，從而作為工廠排氣而自送風器64排出。

如上所述，於殼體3之光出射開口部3A設置形成氣簾AC之氣簾器具60，藉此於光出射開口部3A形成氣簾AC，因此可於異物附著至設置於光出射開口部3A之構件前吹飛異物。藉此，可防止異物附著至設置於光出射開口部3A之構件之下表面(光出射側之面)。又，遍及光出射開口部3A之長度設置有吹氣噴嘴62之吹出口62A，故遍及光出射開口部3A之整體而形成氣簾AC，因此可確實地防止異物附著至設置於光出射開口部3A之構件，從而可防止光量降低。進而，氣簾器具60係於光出射開口部3A及燈4之短邊方向形成有氣簾AC，因此與於光出射開口部3A及燈4之長邊方向形成氣簾AC之情況相比，可使空氣之流量變少。因此，可減輕供給空氣之工廠之設備之負擔，又，無須另外設置加壓手段，進而可降低送風器64之能力，從而可將送風器64小型化。

特別是，本實施形態係於光出射開口部3A具備偏光片單元10。若異物附著至該偏光片單元10，則於附著有異物之部分，紫外線之透過率降低，照射至光配向對象物W之偏光之光之照度降低。本實施形態係於偏光片單元10之出口(光出射側)具備氣簾器具60，故於偏光片單元10之下方形成氣簾AC，因此可防止異物附著至偏光片單元10之下表面，抑制偏光特性及光量降低。又，由於在偏光片單元10之下方形成空氣之流動，因此亦可藉由該空氣之流動而更有效地冷卻偏光片單元10。

如以上說明，根據本實施形態，構成為於光照射器2之殼體3收納反射鏡5及燈4，於殼體3之光出射開口部3A具備氣簾器具60。根據該構成，可抑制異物附著至設置於光出射開口部3A之構件(於本實施形態中為偏光片單元10)之下表面。

又，根據本實施形態，氣簾器具60構成為於光出射開口部3A之短邊方向形成氣簾AC。根據該構成，可使氣簾AC之風流動之長度變短，因此與於光出射開口部3A之長邊方向形成氣簾AC之情況相比，可使空氣之流量變少。

又，根據本實施形態，氣簾器具60構成為於與燈4之長邊方向正交而形成氣簾AC。根據該構成，可使氣簾AC之風流動之長度變短，因此與於燈4之長邊方向形成氣簾AC之情況相比，可使空氣之流量變少。

又，根據本實施形態，構成為於殼體3之光出射開口部3A具備偏光片單元10，於偏光片單元10之光出射側具備氣簾器具60。根據該構成，於光配向對象物W與對向於該光配向對象物W之偏光片單元10之間形成氣簾AC，因此可抑制異物附著至偏光片單元10之下表面。

<第2實施形態>

第1實施形態係以與光配向對象物W對向之方式設置有偏光片單元10，但第2實施形態係於偏光片單元10之光出射側具備透明體(光透過構件)70。再者，第2實施形態係對與第1實施形態相同之部分之標示相同之符號而省略其說明。圖4係表示第2實施形態之光配向裝置100之前視圖，且係將偏光片單元10之周邊放大表示之圖。光配向 裝置100具備光照射器2、偏光片單元10、冷卻單元20，並且如圖4所示，具備透明體(光透過構件)70、及形成氣簾AC之氣簾器具160。

透明體70係例如石英板等不具有濾波器特性(波長選擇特性)之板狀之光透過構件。該透明體70係設置於偏光片單元10之光出射側，偏光片單元10由透明體70覆蓋。具體而言，於偏光片單元固定台8，在偏光片單元10之下方形成有於俯視時呈矩形狀之框體8A，於該框體8A內支持有透明體70。藉此，於偏光片單元固定台8，形成由偏光片單元10及透明體70分隔之空間T。

氣簾器具160具備被供給高壓之空氣之空氣供給埠61、及吹出所供給之空氣之吹氣噴嘴162。空氣供給埠61係固定於偏光片單元固定台8，於偏光片單元固定台8設置有吹氣噴嘴162。吹氣噴嘴162具備一對噴嘴本體162A，該等一對噴嘴本體162A係配置於透明體70之兩側，沿燈4之長邊方向延伸。於一對噴嘴本體162A，分別連接有空氣供給埠61。

又，吹氣噴嘴162具備自各噴嘴本體162A向透明體70之上方延伸之吹出埠(吹出口)162B、及自各噴嘴本體162A向透明體70之下方延伸之吹出埠(吹出口)162C。吹出埠162B、162C係彼此對向，遍及殼體3之光出射開口部3A之長邊方向之長度、更詳細而言遍及透明體70之長邊方向之長度而設置。又，吹出埠162B、162C係正交於燈4之長邊方向而延伸，以便與透明體70大致平行地吹出空氣。

進而，吹氣噴嘴162係以如下方式構成：自吹出埠162B吹出之空氣於正交於燈4之長邊方向之方向上，在透明體70(偏光片單元10)之中間(於本實施形態中為大致中央)合流。此時，向各空氣供給埠61供給同壓之空氣，並且使吹氣噴嘴162內之路徑於兩側相同，藉 此可使空氣於大致中央合流。

再者，本實施形態係於一對噴嘴本體162A之各者設置空氣供給埠61，但只要使一對噴嘴本體162A連通，則設置1個空氣供給埠61即可。又，於各噴嘴本體162A各設置1個吹出埠162B、162C，但亦可遍及殼體3之光出射開口部3A之長邊方向之長度、更詳細而言遍及偏光片單元10之長邊方向之長度而設置數個吹出埠162B、162C。

供給於吹氣噴嘴162之空氣係自遍及光出射開口部3A而設置之吹出埠162B，以相對於燈4之長邊方向正交之方式於偏光片單元10與透明體70之間之空間T流動。藉此，於偏光片單元10之下方形成氣簾AC。如上所述，由於在偏光片單元10之下方形成空氣之流動，因此亦可藉由該空氣之流動而更有效地冷卻偏光片單元10。又，由於空間T成為正壓，因此自透明體70與偏光片單元固定台8之間隙(以下，稱為透明體70之間隙)向外部吹出空氣，因此可防止異物自透明體70與偏光片單元固定台8之間隙侵入至空間T內。藉此，可確實地防止異物附著或侵入至偏光片單元10。如上所述，可不設置氣密地封閉透明體70之間隙及偏光片單元10之間隙之手段，而確實地防止異物向空間T及偏光片冷卻路徑40之侵入。其結果，可削減光配向裝置1之零件件數，簡化製造步驟。

供給於吹氣噴嘴162之空氣係自遍及光出射開口部3A而設置之吹出埠162C，以相對於燈4之長邊方向正交之方式於透明體70之下方流動。藉此，於透明體70之下方形成氣簾AC，因此可於異物附著至透明體70前吹飛異物，從而可防止異物附著至透明體70之下表面(光出射側之面)。又，由於以自吹出埠162B吹出之空氣於透明體70之中間合流之方式構成，故可使空氣之流量變少，因此可減輕供 給空氣之工廠之設備之負擔，又，無須另外設置加壓手段。

如上所述，根據本實施形態，由於在偏光片單元10之出口具備光透過構件即透明體70，故可抑制異物侵入或附著至偏光片單元10。又，由於在透明體70之出口具備氣簾器具60，故於光配向對象物W與對向於該光配向對象物W之透明體70之間形成氣簾AC，因此可抑制異物附著至透明體70之下表面。

又，根據本實施形態，構成為於殼體3之光出射開口部3A，自出口側依序具備透明體70及偏光片單元10，於偏光片單元10之出口具備氣簾器具60。於該構成中，在偏光片單元10之出口具備透明體70，故可抑制異物侵入或附著至偏光片單元10。又，由於在透明體70與偏光片單元10之間之空間T形成氣簾AC，因此可藉由氣簾AC之空氣之流動而更有效地冷卻偏光片單元10。又，因於空間T形成氣簾AC而空間T成為正壓，因此可自透明體70之間隙向外部吹出冷卻風，因此可防止異物侵入至空間T內。再者，本實施形態係於空間T形成氣簾AC，但亦可省略空間T之氣簾AC。

<第3實施形態>

第2實施形態係設置有偏光片單元10，但第3實施形態係省略偏光片單元10。再者，第3實施形態係對與第1實施形態相同之部分標示相同之符號而省略其說明。圖5係表示第3實施形態之光配向裝置200之前視圖。光配向裝置200具備光照射器2、冷卻單元220、及氣簾器具60。冷卻單元220係除不具備偏光片冷卻路徑40外，與第1實施形態之冷卻單元20相同地構成。

即，光配向裝置200構成為於殼體3之光出射開口部3A 具備作為光透過構件之透明體6，於透明體6之出口具備氣簾器具60。根據該構成，於光配向對象物W與對向於該光配向對象物W之透明體6之間形成氣簾AC，因此可抑制異物附著至透明體6之下表面。

然而，上述實施形態為本發明之一態樣，當然可於不脫離本發明之主旨之範圍內適當地變更。例如，上述第1及第2實施形態係於偏光片冷卻路徑40，在將送風器21之吸入口21B與殼體3連接之導管29設置正壓機構50，但亦可如圖6所示之光照射裝置300般僅藉由導管29將送風器21之吸入口21B與殼體3連接。

又，上述實施形態係藉由自吹氣噴嘴62吹出空氣，並且自排氣噴嘴63對空氣進行排氣而形成有氣簾AC，但形成氣簾AC之構成並不限定於此。例如，亦可藉由如下方式形成氣簾AC：不自吹氣噴嘴62吹出空氣，而自排氣噴嘴63對空氣進行排氣。又，亦可藉由如下方式形成氣簾AC：如圖7所示，省略吹氣噴嘴62，自排氣噴嘴63對空氣進行排氣。

又，上述實施形態係將放射紫外線之燈4作為光源而進行了說明，但光源並不限定於此。又，上述實施形態係作為光透過構件而設置有透明體6、波長選擇濾波器7、及透明體70，但光透過構件並不限定於該等。

又，上述實施形態係由數個線柵偏光片16構成偏光片單元10，但線柵偏光片16亦可為1個。又，上述實施形態係作為偏光片而使用線柵偏光片16，但偏光片亦可為使用有例如蒸鍍膜之偏光片。

又，上述實施形態係自上游按照送風器21、冷卻器22、過濾器23之順序配置，但該等之配置順序可任意變更。又、上述實施形態係為了個別地控制於熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40流動 之冷卻風之溫度，個別地控制送風器21、21，但亦可將冷卻器22、22之冷卻溫度設定為不同之溫度。

又，上述實施形態係使熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40完全獨立，但亦可將熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40之一部分、例如送風器21、冷卻器22、過濾器23中之至少1個共通化。又，上述實施形態係使熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40之冷卻風循環，但並非必須使冷卻風循環。

1‧‧‧光配向裝置(光照射裝置)

2‧‧‧光照射器

3‧‧‧殼體

4‧‧‧燈(光源)

5‧‧‧反射鏡

5A‧‧‧貫通孔

6‧‧‧透明體

7‧‧‧波長選擇濾波器

10‧‧‧偏光片單元

20‧‧‧冷卻單元

20A‧‧‧冷卻單元箱

21、64‧‧‧送風器

21A、62A‧‧‧吹出口

21B、63A‧‧‧吸入口

22‧‧‧冷卻器

23‧‧‧過濾器

24‧‧‧腔室

24A‧‧‧入口

24B‧‧‧出口

25、26、27、28、29、65‧‧‧導管

28B、29B‧‧‧縮徑部

30‧‧‧熱源冷卻路徑

31‧‧‧間隔壁

31A‧‧‧開口

31B‧‧‧通風孔

40‧‧‧偏光片冷卻路徑

50‧‧‧正壓機構

51‧‧‧流量調節手段

52‧‧‧導入口

60‧‧‧氣簾器具

61‧‧‧空氣供給埠

62‧‧‧吹氣噴嘴

63‧‧‧排氣噴嘴

AC‧‧‧氣簾

R、S‧‧‧空間

W‧‧‧光配向對象物(工件)

X‧‧‧線性運動方向

δ1、δ2‧‧‧間隙

Claims (8)

1. 一種光照射裝置，其特徵在於：於光照射器之殼體收納有反射鏡及光源，於上述殼體之光出射開口部具備有偏光片單元，於該構件之光出射側具備有氣簾器具，該氣簾器具係在上述偏光片單元之光出射側，以與上述偏光片單元大致平行之方式吹出空氣，且遍及上述光出射開口部之整體而形成氣簾。
2. 如申請專利範圍第1項之光照射裝置，其中，上述氣簾器具係於上述光出射開口部之短邊方向形成氣簾。
3. 如申請專利範圍第1項之光照射裝置，其中，上述氣簾器具係與上述光源之長邊方向產生正交而形成氣簾。
4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光照射裝置，其於上述偏光片單元之光出射側具備有光透過構件，於上述光透過構件之光出射側具備有上述氣簾器具。
5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光照射裝置，其於上述殼體之光出射開口部依序具備有光透過構件及上述偏光片單元，且於上述偏光片單元之光出射側具備有上述氣簾器具。
6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光照射裝置，其中，上述氣簾器具係以對向之方式具備有吹出空氣之吹氣噴嘴、及對自該吹氣噴嘴所吹出之空氣進行排氣之排氣噴嘴。
7. 如申請專利範圍第4項之光照射裝置，其中，上述氣簾器具係以對向之方式具備有吹出空氣之吹氣噴嘴、及對自該吹氣噴嘴所吹出之空氣進行排氣之排氣噴嘴。
8. 如申請專利範圍第5項之光照射裝置，其中，上述氣簾器具係以對向之方式具備有吹出空氣之吹氣噴嘴、及對自該吹氣噴嘴所吹出之空氣進行排氣之排氣噴嘴。