TWI610118B - 光配向裝置 - Google Patents

Abstract

本發明係提供一種可適當地冷卻光源及偏光片單元之光照射裝置。

本發明之光照射裝置1構成為於光照射器2之殼體3收納反射鏡5及光源4，於殼體3之光出射開口部3A具備光透過構件6、7及偏光片單元10，且使反射鏡5及光源4之熱源冷卻路徑30、與光透過構件6、7和偏光片單元10間之空間冷卻路徑40獨立，從而個別地冷卻光源4及偏光片單元10。

Description

光配向裝置

本發明係關於一種具備光源及偏光片單元之光照射裝置。

習知，已知有如下之光照射裝置：於光照射器之殼體內具備光源，藉由設置於殼體之光出射開口部之偏光片單元而使來自光源之光偏光並照射(例如，參照專利文獻1)。該光照射裝置係於殼體內具備光源及偏光片單元之冷卻路徑。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利第5056991號公報

於光照射裝置中，光源於低溫下壽命短，故需要以溫度變得相對較高之方式被冷卻，另一方面，就耐熱性之觀點而言，偏光片單元係需要以溫度變得相對較低之方式被冷卻。然而，上述習知之構成中，為利用冷卻偏光片單元後之冷卻風來冷卻光源之構成，故存在若欲充分地冷卻偏光片單元，則光源被過度冷卻之問題。本發明係鑒於上述情況而完成者，其目的在於提供一種可適當 地冷卻光源及偏光片單元之光照射裝置。

為了達成上述目的，本發明之光照射裝置之特徵在於：於光照射器之殼體收納反射鏡及光源，於上述殼體之光出射開口部具備光透過構件及偏光片單元，且使反射鏡及光源之熱源冷卻路徑、與光透過構件和偏光片單元間之空間冷卻路徑獨立。

於上述構成中，亦可將上述光透過構件與上述偏光片單元間之空間設定為正壓。

於上述構成中，上述偏光片單元亦可將數個偏光片橫向並列配置而形成。

於上述構成中，亦可於上述熱源冷卻路徑及上述空間冷卻路徑流動經冷卻器冷卻後之冷卻風。

又，本發明之特徵在於：於光照射器之殼體收納反射鏡及光源，於上述殼體之光出射開口部以封閉該光出射開口部之方式具備光透過構件，於該光透過構件之外側，在與該光透過構件對向之位置與該光透過構件隔開空間而設置偏光片單元，且使向上述殼體之上述光出射開口部之內側供給冷卻風之反射鏡及光源之熱源冷卻路徑、與向上述光透過構件與上述偏光片單元之間之上述空間供給冷卻風之偏光片單元之偏光片冷卻路徑獨立，且上述光透過構件與上述偏光片單元之間之上述空間構成上述偏光片冷卻路徑。

又，本發明係一種光照射裝置，其特徵在於具備：平台搬送台座；照射器設置台座，其設置照射偏光之光之光照射器；2個工作平台，其等設置於上述照射器設置台座之兩側；線性運動機構，其以通過上述光照射器之正下方之方式移送各工作平台；及 機器人裝置，其與上述平台搬送台座平行地配置並向各工作平台載置工件，且包含可於線性運動方向上移動之臂及固定於臂且保持工件之保持部；且，於第1工作平台與上述光照射器之照射區域之間，確保有供第2工作平台上之工件通過照射區域之程度以上之空間，於第2工作平台與照射區域之間，確保有供第1工作平台上之工件通過照射區域之程度以上之空間。

於上述構成中，亦可為，上述線性運動機構向上述光照射器之照射區域移動第1工作平台，當第1工作平台上之工件通過上述照射區域後，使第1工作平台返回至原來之位置，並且向上述光照射器之照射區域移動第2工作平台，當第2工作平台上之工件通過上述照射區域後，使第2工作平台返回至原來之位置。

於上述構成中，亦可具備旋轉驅動機構，該旋轉驅動機構係與各工作平台對應而設置，且旋轉驅動工作平台以對工作平台上之工件之角度進行微調整。

於上述構成中，亦可為上述機器人裝置移動上述臂而自外部接收工件，將工件載置至角度調整裝置之調整平台上，於角度調整裝置將工件之姿勢設為正姿勢後，自角度調整裝置向工作平台上載置工件。

於上述構成中，亦可為上述機器人裝置為如下者：包含與平台搬送台座平行地設置之平板(surface plate)、支持於該平板之機器人、及沿線性運動方向移動該機器人之往返驅動機構。

根據本發明，由於使反射鏡及光源之熱源冷卻路徑、與光透過構件和偏光片單元間之空間冷卻路徑獨立，故而可個別地 冷卻光源及偏光片單元，從而可適當地冷卻光源及偏光片單元。

1、100、200‧‧‧光配向裝置(光照射裝置)

2‧‧‧光照射器

3‧‧‧殼體

3A‧‧‧光出射開口部

4‧‧‧燈(光源)

5‧‧‧反射鏡

5A‧‧‧貫通孔

6‧‧‧透明體(光透過構件)

7‧‧‧波長選擇濾波器(光透過構件)

8‧‧‧偏光片單元固定台

10‧‧‧偏光片單元

12‧‧‧單位偏光片單元

14‧‧‧框架

16‧‧‧線柵偏光片

19‧‧‧螺桿

20‧‧‧冷卻單元

20A‧‧‧冷卻單元箱

21‧‧‧送風器

21A‧‧‧吹出口

21B‧‧‧吸入口

22‧‧‧冷卻器

23‧‧‧過濾器

24‧‧‧腔室

24A‧‧‧入口

24B‧‧‧出口

25、26、27、28、29‧‧‧導管

28A、29A‧‧‧延伸部

28B、29B‧‧‧縮徑部

28C、29C‧‧‧支持構件

30‧‧‧熱源冷卻路徑

31‧‧‧間隔壁

31A‧‧‧開口

31B‧‧‧通風孔

40‧‧‧偏光片冷卻路徑(空間冷卻路徑)

50‧‧‧正壓機構

51‧‧‧流量調節手段

52‧‧‧導入口

81‧‧‧平台搬送台座

82‧‧‧照射器設置台座

83‧‧‧工作平台

84‧‧‧線性運動機構

85‧‧‧角度調整裝置

90‧‧‧機器人裝置

91‧‧‧平板

92‧‧‧機器人

92A‧‧‧臂

92B‧‧‧保持部

93‧‧‧往返驅動機構

A‧‧‧線方向

B‧‧‧排列方向

C1‧‧‧偏光軸

L‧‧‧燈4之長軸

P1‧‧‧一端

P2‧‧‧另一端

R、S‧‧‧空間

W‧‧‧光配向對象物

X‧‧‧線性運動方向

δ1、δ2‧‧‧間隙

圖1係示意性地表示本發明之第1實施形態之光配向裝置之前視圖。

圖2係表示光配向裝置之前視圖。

圖3係將圖2之光照射器放大表示之圖。

圖4係表示偏光片單元之構成之圖，(A)係俯視圖，(B)係側剖視圖。

圖5係表示本發明之變形例之光配向裝置之前視圖。

圖6係示意性地表示具備本發明之第2實施形態之光配向裝置之光配向照射系統的構成之俯視圖，且表示第1及第2工作平台之待機狀態。

圖7係示意性地表示光配向照射系統之構成之俯視圖，表示向第1工作平台設置光配向對象物之狀態。

圖8係示意性地表示光配向照射系統之構成之俯視圖，表示於第1工作平台之移動中，機器人接收下一光配向對象物之狀態。

圖9係示意性地表示光配向照射系統之構成之俯視圖，表示於第1工作平台之移動中，將下一光配向對象物設置至第2工作平台之狀態。

圖10係示意性地表示光配向照射系統之構成之俯視圖，表示於第1及第2工作平台之移動中，使機器人移動之狀態。

圖11係示意性地表示光配向照射系統之構成之俯視圖，表示於第2工作平台之移動中，將進而下一光配向對象物設置至第1工 作平台之狀態。

以下，參照圖式，對本發明之實施形態進行說明。

<第1實施形態>

圖1係示意性地表示第1實施形態之光配向裝置之前視圖，圖2係表示光配向裝置之圖。圖3係將圖2之光照射器放大表示之圖。圖4係表示偏光片單元之構成之圖，圖4(A)係俯視圖，圖4(B)係側剖視圖。如圖1所示，光配向裝置1係向板狀或者帶狀之光配向對象物(工件)W之光配向膜照射偏光之光而進行光配向之光照射裝置。

光配向裝置1具備：平台搬送台座81；照射器設置台座82；工作平台(平台)83，其載置光配向對象物W(圖2)；及光照射器2，其向正下方照射偏光之光。照射器設置台座82係於距平台搬送台座81既定距離之上方位置，橫架於平台搬送台座81之寬度方向(垂直於下文將述之線性運動機構之線性運動方向X的方向)之門體，其兩個柱固定於平台搬送台座81。照射器設置台座82內置光照射器2，光照射器2向正下方照射偏光之光。再者，為了分離伴隨工作平台83之移動之振動、與因光照射器2之冷卻引起之振動，亦可為如下之構成：不將照射器設置台座82固定於平台搬送台座81，而與該平台搬送台座81單獨設置。平台搬送台座81、及照射器設置台座82亦可具有抗振構造。於平台搬送台座81，內設有線性運動機構84(圖6)，該線性運動機構84係以使平台搬送台座81之面上通過光照射器2之正下方之方式，沿線性運動方向X移送工作平台83。於對光配向對象物W進行光配向時，藉由線性 運動機構84而沿線性運動方向X移送載置於工作平台83之光配向對象物W並通過光照射器2之正下方，於該通過時暴露於偏光之光而光配向膜被配向。於本實施形態中，光配向對象物W係於俯視時形成為矩形狀，以光配向對象物W之短邊方向與線性運動方向X一致之方式被移送。

如圖2及圖3所示，光照射器2係於在下表面具有光出射開口部3A之殼體3內具備作為光源之燈4及反射鏡5，並且於光出射開口部3A具備偏光片單元10。殼體3係於距光配向對象物W既定距離之上方位置，支持於照射器設置台座82。燈4為放電燈，使用有延伸成至少與光配向對象物W之長邊方向之長度相等以上之直管型(棒狀)紫外線燈。反射鏡5係剖面為橢圓形且沿燈4之長邊方向延伸之圓柱凹面反射鏡，將燈4之光聚光而自光出射開口部3A向偏光片單元10照射。

光出射開口部3A係形成於燈4之正下方之於俯視時呈矩形狀之開口部，以長邊方向與燈4之長邊方向一致之方式設置。於光出射開口部3A，設置有由例如石英板等不具有濾波器特性(波長選擇特性)之光透過構件形成之板狀之透明體6，由該透明體6封閉光出射開口部3A。又，於光出射開口部3A之內側，設置有選擇透過之光之波長之波長選擇濾波器7，光照射器2係藉由該波長選擇濾波器7而照射所期望之波長之光。該等透明體6及波長選擇濾波器7構成本實施形態之光透過構件。再者，雖本實施形態係設置有波長選擇濾波器7，但於燈4本身可出射所期望之波長之光之情況下，亦可省略波長選擇濾波器7。

偏光片單元10係配置於透明體6與光配向對象物W 之間，使照射至光配向對象物W之光偏光。因該偏光之光照射至光配向對象物W之光配向膜，而該光配向膜被配向。如圖4所示，偏光片單元10具備數個單位偏光片單元12、及將該等單位偏光片單元12橫向並列地整列成一排之框架14。框架14係將各單位偏光片單元12連接配置之板狀之框體。單位偏光片單元12具備形成為大致矩形板狀之線柵偏光片(偏光片)16。

於本實施形態中，各單位偏光片單元12係以線方向A變得與線性運動方向X平行之方式支持線柵偏光片16，使與該線方向A正交之方向、與線柵偏光片16之排列方向B一致。

線柵偏光片16係直線偏光片中之一種，其係於基板之表面形成有柵格者。如上所述，由於燈4為棒狀，因此向線柵偏光片16入射各種角度之光，但即便為傾斜入射之光，線柵偏光片16亦將其直線偏光化而使其透過。線柵偏光片16係以如下方式被支持於單位偏光片單元12：將其法線方向設為轉動軸，使該轉動軸於面內轉動而可微調整偏光軸C1之方向。即，數個線柵偏光片16係以彼此隔開間隙之方式配置，以便可微調整偏光軸C1之方向。對於所有單位偏光片單元12，以線柵偏光片16之偏光軸C1於既定之照射基準方向上對齊之方式微調整，藉此可獲得跨及偏光片單元10之長軸方向之全長，且偏光軸C1高精度地對齊之偏光之光，從而可實現高品質之光配向。偏光軸C1經調整之線柵偏光片16係單位偏光片單元12之上端及下端藉由螺桿(固定手段)19而固定於框架14，藉此固定配置於框架14。

又，如圖2及圖3所示，光配向裝置1具備冷卻燈4、反射鏡5、波長選擇濾波器7、及偏光片單元10之冷卻單元20。該 冷卻單元20係分別獨立地具備用以冷卻燈4及反射鏡5之熱源冷卻路徑30、及用以冷卻偏光片單元10之偏光片冷卻路徑40。於熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40之各者，設置有吹送冷卻風之送風器21、21、對冷卻風進行冷卻之冷卻器22、22，及去除包含於冷卻風之塵埃等異物之過濾器23、23。送風器21係配置於冷卻器22之上游側。藉此，可防止藉由冷卻器22而冷卻之冷卻風因送風器21之熱源被再加熱。本實施形態中送風器21係使用吹風器，冷卻器22係使用水冷式散熱器，過濾器23係使用高效率粒子空氣(HEPA，High Efficiency Particulate Air)過濾器，但送風器21、冷卻器22、及過濾器23並不限定於該等構成。

於熱源冷卻路徑30，送風器21、冷卻器22、及過濾器23係收容於設置於殼體3之外部之冷卻單元箱20A內。於本實施形態中，冷卻單元箱20A係以與殼體3相隔之方式配置於殼體3之上方，但冷卻單元箱20A之配置位置並不限定於此。於冷卻單元箱20A內，設置有腔室24，由導管25連接送風器21之吹出口21A與腔室24之入口24A。腔室24係自入口24A向下游側擴徑，於腔室24內之上游側配置有冷卻器22，於下游側配置有過濾器23。腔室24之出口24B與殼體3係由導管26連接，送風器21之吸入口21B與殼體3係由導管27連接。

於殼體3內，以與殼體3隔開間隙δ1之方式設置有包圍燈4及反射鏡5之側方之間隔壁31。間隔壁31係於下部具有使燈4及反射鏡5露出於下方之開口31A，並且於上部具有通風孔31B。導管26係連接於與間隔壁31之外側之間隙δ1對應之位置的殼體3，導管27係連接於與間隔壁31之內側之空間R對應之位置 的殼體3。該等送風器21、導管25、腔室24(冷卻器22、過濾器23)、導管26、間隔壁31之外側之間隙δ1、間隔壁31之內側之空間R、及導管27構成熱源冷卻路徑30。

於熱源冷卻路徑30，自送風器21吹出之冷卻風(空氣)係經由導管25而於腔室24內流動，從而藉由冷卻器22被冷卻，並且藉由過濾器23而去除異物。冷卻風係藉由該過濾器23而以露點(dew point)成為-50℃~-90℃以下之程度之方式被除濕，並且去除異物而成為低露點高淨化度空氣(潔淨乾燥空氣(clean dry air))。成為潔淨乾燥空氣之冷卻風係經由導管26而供給至殼體3內。於殼體3內，冷卻風係通過間隔壁31與殼體3之間之間隙δ1，於間隔壁31與透明體6之間之間隙δ2流動，從而流入至反射鏡5內、及處於反射鏡5之外側且間隔壁31內之空間R而冷卻燈4及反射鏡5。冷卻燈4及反射鏡5而溫度變高之冷卻風係自形成於反射鏡5之上部之貫通孔5A，接著自反射鏡5之外側向間隔壁31內之空間R流動，從而經由導管27吸入至送風器21而再次被冷卻。如上所述，冷卻風係於熱源冷卻路徑30循環。

於偏光片冷卻路徑40，在冷卻單元箱20A亦配置有送風器21、配置於腔室24內之冷卻器22、及過濾器23，由導管25連接送風器21之吹出口21A與腔室24之入口24A。又，腔室24之出口24B與殼體3係由導管28連接，送風器21之吸入口21B與殼體3係由導管29連接。

導管28具備：延伸部28A，其跨及殼體3之光出射開口部3A、更詳細而言跨及偏光片單元10之長邊方向之長度延伸；及縮徑部28B，其自延伸部28A縮徑。縮徑部28B係連接於腔 室24之出口24B，延伸部28A係連接於殼體3。同樣地，導管29具備：延伸部29A，其跨及殼體3之光出射開口部3A、更詳細而言跨及偏光片單元10之長邊方向之長度延伸；及縮徑部29B，其自延伸部29A縮徑。縮徑部29B係連接於送風器21之吸入口21B，延伸部29A係連接於殼體3。延伸部28A及延伸部29A係經由板狀之支持構件28C、29C而支持於殼體3。

偏光片單元10係於殼體3之外側，以與透明體6隔開空間S之方式設置於與光出射開口部3A對向之位置，框架14固定於偏光片單元固定台8。於殼體3與偏光片單元固定台8之間連接有導管28、29。導管28係連接於線性運動方向X之一端側，導管29係連接於線性運動方向X之另一端側。該等送風器21、導管25、腔室24(冷卻器22、過濾器23)、導管28、透明體6與偏光片單元10之間之空間S、及導管29構成偏光片冷卻路徑40。即，該偏光片冷卻路徑40構成冷卻透明體6與偏光片單元10之間之空間S之空間冷卻路徑。

於偏光片冷卻路徑40，自送風器21吹出之冷卻風係經由導管25而於腔室24內流動，藉由冷卻器22被冷卻，並且藉由過濾器23而去除異物，從而經由導管28流入至透明體6與偏光片單元10之間之空間S而冷卻偏光片單元10。此時，流入於空間S之冷卻風係以相對於燈4之長邊方向正交之方式流動。冷卻偏光片單元10而溫度變高之冷卻風係經由導管29吸入至送風器21，從而再次被冷卻。如上所述，冷卻風係於偏光片冷卻路徑40循環。

又，偏光片冷卻路徑40係與熱源冷卻路徑30完全獨立，故藉由分別控制於熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40流動 之冷卻風之溫度，可個別地冷卻燈4及偏光片單元10。此時，個別地控制送風器21、21，以使熱源冷卻路徑30之冷卻風之風速相對較慢，使偏光片冷卻路徑40之冷卻風之風速相對較快之方式進行設定，藉此能夠以相對較高之溫度冷卻光源4，以相對較低之溫度冷卻偏光片單元10。藉此，可適當地冷卻燈4及偏光片單元10。而且，向透明體6與偏光片單元10之間之空間S供給冷卻風之導管28、及自空間S排出冷卻風之導管29係跨及偏光片單元10之長邊方向之長度延伸，故可跨及偏光片單元10之整體而大致均勻地冷卻。

另外，存在於光配向對象物W之處理中(照射中)，自配向膜產生釋氣(outgas)之情況。又，於配置光配向裝置1之環境，亦存在例如紙粉等異物。若該釋氣等異物混入或附著至線柵偏光片16，則線柵偏光片16之偏光特性發生變化而造成不良影響。因此，於本實施形態中，光配向裝置1具備正壓機構50，該正壓機構50係將透明體6與偏光片單元10間之空間S設為正壓。更具體而言，於將送風器21之吸入口21B與殼體3連接之導管29，設置有由例如阻尼器等構成之流量調節手段51。使用該流量調節手段51減少於位於空間S之下游之導管29流動之冷卻風的流量，藉此可將透明體6與偏光片單元10間之空間S設定為正壓。

若空間S成為正壓，則自偏光片單元10之間隙向外部吹出冷卻風，因此可防止異物自偏光片單元10之間隙侵入至偏光片冷卻路徑40內。藉此，可確實地防止異物附著、或侵入至偏光片單元10。作為偏光片單元10之間隙，例如可列舉偏光片單元10之框架14與偏光片單元固定台8之間之間隙、或數個線柵偏光 片16間之間隙等。因此，可不設置氣密地封閉該等間隙之手段，而確實地防止異物向偏光片冷卻路徑40之侵入，因此可削減光配向裝置100之零件件數，簡化製造步驟。

又，於導管29，形成有自外部導入空氣之導入口52。經由該導入口52而僅按照自偏光片單元10之間隙吹出之空氣量自外部導入空氣，因此可防止偏光片冷卻路徑40內過度地成為負壓，從而可高效率地運轉送風器21。本實施形態係於流量調節手段51之下游設置有導入口52，但導入口52係只要處於冷卻器22及過濾器23之上游，則可設置於任意之位置。該等流量調節手段51及導入口52構成本實施形態之正壓機構50。

如以上說明，根據本實施形態，光配向裝置1構成為：於光照射器2之殼體3收納反射鏡5及燈4，於殼體3之光出射開口部3A具備透明體6、波長選擇濾波器7等光透過構件、及偏光片單元10，且使反射鏡5及燈4之熱源冷卻路徑30、與光透過構件和偏光片單元10間之偏光片冷卻路徑40獨立。根據該構成，可藉由個別地控制於熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40流動之冷卻風之溫度，而個別地冷卻燈4及偏光片單元10，因此可適當地冷卻燈4及偏光片單元10。

又，根據本實施形態，由於為將透明體6與偏光片單元10間之空間S設定為正壓之構成，故可自偏光片單元10之間隙向外部吹出冷卻風，因此可防止異物侵入至光配向裝置100內。

又，根據本實施形態，偏光片單元10為將數個線柵偏光片16橫向並列配置而形成之構成。於該構成中，亦可藉由將透明體6與偏光片單元10間之空間S設定為正壓，而自數個線柵 偏光片16間之間隙向外部吹出冷卻風，因此可防止異物侵入至光配向裝置100內。

再者，本實施形態係於偏光片冷卻路徑40，雖在將送風器21之吸入口21B與殼體3連接之導管29設置正壓機構50，但亦可如圖5所示之光照射裝置100般僅藉由導管29連接送風器21之吸入口21B與殼體3。

<第2實施形態>

其次，參照圖6至圖11，對本發明之第2實施形態進行說明。上述第1實施形態係光配向裝置1具有1個工作平台83，但第2實施形態係光配向裝置200構成為具有2個工作平台83之雙平台型。再者，圖6至圖11係對與圖1所示之光配向裝置1相同之部分標示相同之符號而省略說明。圖6係示意性地表示具備第2實施形態之光配向裝置200之光配向照射系統之構成的俯視圖，且係表示工作平台83之待機狀態之圖。光配向照射系統係具備光配向裝置200、機器人裝置90、及角度調整裝置85而構成。

光配向裝置200具備平台搬送台座81、照射器設置台座82、2個工作平台83、及光照射器2。於平台搬送台座81，內設有線性運動機構84及旋轉驅動機構(未圖示)，該線性運動機構84係以使平台搬送台座81之面上通過光照射器2之正下方之方式，沿線性運動方向X移送工作平台83，該旋轉驅動機構係以與各工作平台83對應之方式設置，旋轉驅動工作平台83。該旋轉驅動機構係以光配向對象物W成為如下之正姿勢之方式，使工作平台83旋轉而微調整光配向對象物W之角度：光配向對象物W之一 對邊相對於燈4之長軸L一致(平行)，光配向對象物W之另一對邊相對於燈4之長軸L正交。又，於照射光配向對象物W時所需之偏光之光之偏光軸角度相對於燈4的長軸L為既定角度之情況下，旋轉驅動機構使工作平台83旋轉既定角度。

機器人裝置90係具備以平行於光配向裝置200之平台搬送台座81之方式設置之平板91、被支持於該平板91之機器人92、沿線性運動方向X往返移動機器人92之往返驅動機構93而構成。機器人92具備：臂92A，其可沿線性運動方向X往返移動(旋轉及伸縮)；及保持部92B，其固定於臂92A，保持光配向對象物W。臂92A係以可於水平面上旋轉之方式支持於平板91。本實施形態之臂92A係以具有轉動自如之數個關節而伸縮自如之方式構成之多關節臂，但臂92A之構成並不限定於此。機器人92移動臂92A，自外部接收光配向對象物W，將光配向對象物W載置至角度調整裝置85之調整平台上，並且自角度調整裝置85向工作平台83上載置光配向對象物W。

角度調整裝置85省略圖示，但其具備調整平台，該調整平台係載置光配向對象物W並調整光配向對象物W之角度。角度調整裝置85係以成為如下之正姿勢之方式調整光配向對象物W之角度：光配向對象物W之一對邊相對於燈4之長軸L一致(平行)，光配向對象物W之另一對邊相對於燈4之長軸L正交。

其次，對光配向照射系統之動作進行說明。此處，為了方便說明，將一工作平台83稱為第1工作平台83、將另一工作平台83稱為第2工作平台83。如圖6所示，於初始狀態下，第1及第2工作平台83分別位於線性運動方向X之一端P1側、另一端 P2側，並且機器人92位於一端P1側，燈4點燈。

首先，機器人92係自光配向裝置200之外部接收光配向對象物W，於藉由角度調整裝置85而將光配向對象物W設為正姿勢後，如圖7所示般將光配向對象物W載置至第1工作平台83上。第1工作平台83之旋轉驅動機構係驅動第1工作平台83，微調整光配向對象物W之角度，並且若需要則使光配向對象物W相對於燈4之長軸L而僅旋轉既定之角度。接著，如圖8所示，線性運動機構84使第1工作平台83移動，藉此向光配向對象物W照射偏光之光。

於在第1工作平台83對光配向對象物W進行照射之期間，機器人92係移動臂92A而自光配向裝置200之外部接收下一光配向對象物W，藉由角度調整裝置85將光配向對象物W設為正姿勢而再次接收光配向對象物W。接著，如圖9所示，機器人92係藉由往返驅動機構93而向另一端P2側移動，從而移動臂92A而將光配向對象物W載置至第2工作平台83上。第2工作平台83之旋轉驅動機構係微調整光配向對象物W之角度，並且若需要則使光配向對象物W相對於燈4之長軸L旋轉既定之角度。接著，如圖10所示，線性運動機構84追隨第1工作平台83之返路之移動而使第2工作平台83移動，藉此向第2工作平台83上之光配向對象物W照射偏光之光。於在第1及第2工作平台83對光配向對象物W進行照射之期間，機器人92係藉由往返驅動機構93而向一端P1側移動。

於在第2工作平台83對光配向對象物W進行照射之期間，機器人92係如圖11所示般自第1工作平台83接收光配向 對象物W，並配置至外部之保管場所。接著，機器人92係自外部接收光配向對象物W，於藉由角度調整裝置85將光配向對象物W設為正姿勢後，將光配向對象物W載置至第1工作平台83上。即，於第1工作平台83與光照射器2之照射區域之間，確保有供第2工作平台83上之光配向對象物W通過照射區域之程度以上之空間，於第2工作平台83與照射區域之間，確保有供第1工作平台83上之光配向對象物W通過照射區域之程度以上之空間。如上所述，設置2個工作平台83，以追隨一工作平台83之移動之方式使另一工作平台83移動，藉此可縮短光配向對象物W之處理(光配向照射)之步驟作業時間。

然而，上述實施形態為本發明之一態樣，當然可於不脫離本發明之主旨之範圍內適當地變更。例如，上述實施形態係將放射紫外線之燈4作為光源而進行了說明，但光源並不限定於此。又，上述實施形態係作為光透過構件而設置有透明體6及波長選擇濾波器7，但光透過構件並不限定於該等。

又，上述實施形態係由數個線柵偏光片16構成偏光片單元10，但線柵偏光片16亦可為1個。又，上述實施形態係作為偏光片而使用線柵偏光片16，但偏光片亦可為使用有例如蒸鍍膜之偏光片。

又，上述實施形態係自上游按照送風器21、冷卻器22、過濾器23之順序配置，但該等送風器21、冷卻器22、過濾器23之配置順序可任意變更。

又，上述實施形態係為了個別地控制於熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40流動之冷卻風之溫度，個別地控制送風器21、21， 但亦可將冷卻器22、22之冷卻溫度設定為不同之溫度。

又，上述實施形態係使熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40完全獨立，但亦可將熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40之一部分、例如送風器21、冷卻器22、過濾器23中之至少1個共通化。又，上述實施形態係使熱源冷卻路徑30及偏光片冷卻路徑40之冷卻風循環，但並非必須使冷卻風循環。

1‧‧‧光配向裝置(光照射裝置)

2‧‧‧光照射器

4‧‧‧燈(光源)

5‧‧‧反射鏡

10‧‧‧偏光片單元

81‧‧‧平台搬送台座

82‧‧‧照射器設置台座

83‧‧‧工作平台

X‧‧‧線性運動方向

Claims (5)

1. 一種光配向裝置，其係向光配向對象物之光配向膜照射偏光之光而進行光配向之光配向裝置，其特徵在於：於光照射器之殼體收納反射鏡及光源，於上述殼體之光出射開口部以封閉該光出射開口部之方式具備光透過構件，於該光透過構件之外側，在與該光透過構件對向之位置與該光透過構件隔開空間而設置偏光片單元，並使向上述殼體之上述光出射開口部之內側供給冷卻風之反射鏡和光源之熱源冷卻路徑、與向上述光透過構件與上述偏光片單元之間之上述空間供給冷卻風之偏光片單元之偏光片冷卻路徑獨立，上述光透過構件與上述偏光片單元係構成上述偏光片冷卻路徑。
2. 如申請專利範圍第1項之光配向裝置，其中，將上述光透過構件與上述偏光片單元間之空間設定為正壓。
3. 如申請專利範圍第1項之光配向裝置，其中，上述偏光片單元係將複數個偏光片橫向並列配置而形成。
4. 如申請專利範圍第2項之光配向裝置，其中，上述偏光片單元係將複數個偏光片橫向並列配置而形成。
5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之光配向裝置，其中，於上述熱源冷卻路徑及上述偏光片冷卻路徑，流動經冷卻器冷卻後之冷卻風。