JP5825546B2 - 露光装置用光照射装置 - Google Patents

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Description

本発明は、露光装置用光照射装置に関し、より詳細には、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを露光転写する露光装置に適用可能な露光装置用光照射装置に関する。
従来、フラットパネルディスプレイ装置のカラーフィルタ等のパネルを製造する装置として、近接露光装置、スキャン露光装置、投影露光装置、ミラープロジェクション、密着式露光装置などの種々の露光装置が考案されている。例えば、分割逐次近接露光装置では、基板より小さいマスクをマスクステージで保持すると共に、基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置した後、ワークステージをマスクに対してステップ移動させて各ステップ毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射することにより、マスクに描かれた複数のパターンを基板上に露光転写して、一枚の基板に複数のパネルを製作する。また、スキャン露光装置では、一定速度で搬送されている基板に対して、露光用の光をマスクを介して照射し、基板上にマスクのパターンを露光転写する。
近年、ディスプレイ装置は次第に大型化されつつあるため、露光装置においても露光領域の拡大が求められ、使用される光源部の出力も高める必要がある。このため、照明光学系として、複数の光源部を用いて(所謂、マルチランプ)、光源全体の出力を高めるようにしたものが知られている。
しかしながら、露光装置用の光源部として一般的に用いられる超高圧水銀ランプは、点灯時に熱源ともなる。したがって、多数の光源部を一斉に点灯した場合、光源部や、光源部が取り付けられるカセット及び支持体などが熱せられ、光照射装置の冷却が不十分となる虞がある。
そこで、マルチランプ式の光照射装置の冷却を行うために、例えば、特許文献1〜3に記載された技術を適用することが考えられる。
特許文献1の光照射装置には、光源ユニットを冷却する冷却手段として、冷却風取り入れ口が設けられ、冷却ファンにより、ランプ等を冷却する風が光源ユニット内に引き込まれることが記載されている。
特許文献2の光照射装置には、光源が、光出射口を有する支持体に互いに離間して固定され、離間する各光源間に隣接する光源への光を遮断する隔離壁を設け、冷却媒体を流通させるための流路を備えた冷却ブロックを隔離壁に当接させることが記載されている。
特許文献3の光照射器には、シャッタミラー全体の冷却効率を上げるために、ミラー保持枠のミラーに複数の放熱用の冷却フィンが設けられることが記載されている。
特開2006−278907号公報 特開2006−324435号公報 特開2006−43641号公報
しかしながら、特許文献1の光照射装置によれば、冷却手段としての部品が多いため、ランプの交換に時間がかかるという問題があった。
また、特許文献2の光照射装置によれば、それぞれの光源を冷却する効果を十分に得ることができない。
また、特許文献3の光照射器によれば、ミラーに冷却フィンが設けられている構造のため、ランプの交換に時間がかかる虞があった。
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、光源部の交換が簡易であり、且つ冷却効率を高めることができる露光装置用光照射装置を提供することにある。
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
(1) 発光部と該発光部から発生された光に指向性をもたせて射出する反射光学系をそれぞれ含む複数の光源部と、
所定数の前記光源部をそれぞれ取り付け可能なカセットと、
を備え、
前記カセットには、その前面側外周縁に沿って複数の放熱フィンが設けられ、且つ、前記光源部と重ならない位置において前記カセットの内部と外部とを連通する複数の冷却孔が設けられ
前記カセットには、前記冷却孔と連通するように、冷却媒体を導入するための冷却管が密封部材を介して接続されている
ことを特徴とする露光装置用光照射装置。
(2) 複数の前記カセットを取り付け可能な支持体を備え、
該支持体には、その前面側外周縁に沿って複数の他の放熱フィンがさらに設けられる
ことを特徴とする(1)に記載の露光装置用光照射装置。
(3) 前記各冷却孔の断面積は、200mm〜500mmである
ことを特徴とする(1)又は(2)に記載の露光装置用光照射装置。
) 前記冷却媒体は水である
ことを特徴とする(1)〜(3)の何れか1項に記載の露光装置用光照射装置。
上記(1)の露光装置用光照射装置によれば、所定数の光源部がそれぞれ取り付け可能なカセットに、その前面側外周縁に沿って複数の放熱フィンが設けられるため、光源部の熱をカセットの放熱フィンを介して放熱することができ、冷却効率を高めることが可能となる。また、従来の特許文献3とは異なり、光源部の反射鏡に放熱フィンを設ける構造ではないので、光源部の交換が簡易となる。
上記(2)の露光装置用光照射装置によれば、複数のカセットを取り付け可能な支持体を備え、支持体には、その前面側外周縁に沿って複数の他の放熱フィンがさらに設けられるため、支持体の放熱フィンを介して放熱することができる。したがって、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。
上記()の露光装置用光照射装置によれば、カセットの内部と外部とを連通する複数の冷却孔が設けられるため、この冷却孔を介してエアの吸排気が行われ、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。
上記()の露光装置用光照射装置によれば、各冷却孔の断面積は200mm〜500mmであるため、エアの吸排気が効率良く行われ、光照射装置の冷却効率をさらに高
めることが可能となる。
上記()の露光装置用光照射装置によれば、カセットには、冷却孔と連通するように、冷却媒体を導入するための冷却管が密封部材を介して接続されているので、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。さらに、冷却管は、密封部材を介してカセットに密封接続されるので、冷却媒体が外部に漏洩することがなく、クリーンルームが汚染されることを防ぐことができる。
本発明の第1実施形態に係る分割逐次近接露光装置を説明するための一部分解視図である。 図1に示す分割逐次近接露光装置の正面図である。 マスクステージの断面図である。 (a)は、照明光学系の光照射装置を示す正面図であり、(b)は(a)のIV−IV線に沿った断面図であり、(c)は、(a)のIV´−IV´線に沿った断面図である。 (a)は、カセットを示す正面図であり、(b)は(a)のV方向から見た断面図であり、(c)は、(a)のV´方向から見たカセットの断面図をインテグレータレンズとともに示す図である。 カセットに取り付けられた光源部近傍の拡大断面図である。 カセットの斜視図である。 カセットが支持体に取り付けられた状態を示す要部拡大図である。 各光源部の出射面からインテグレータレンズの入射面までの距離を示す概略図である。 エアにより各光源部を冷却する構造の一例を示す図である。 (a)〜(c)は、カセット押さえカバーに形成された排気孔の例を示す図である。 (a)、(b)は、冷媒により各光源部を冷却する冷却路の設計例を示す図である 各光源部の制御構成を示すための図である。 寿命時間検出手段を説明するための図である。 他のカセットの斜視図である。 第2実施形態の照明光学系の光照射装置を示す要部拡大図である。 冷却管と冷却孔とが連通している状態を示す断面図である。
以下、本発明に係る露光装置用光照射装置の各実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
(第1実施形態)
先ず、本実施形態の露光装置用光照射装置が適用される分割逐次近接露光装置について説明する。図1及び図2に示すように、第1実施形態の分割逐次近接露光装置PEは、マスクMを保持するマスクステージ10と、ガラス基板(被露光材)Wを保持する基板ステージ20と、パターン露光用の光を照射する照明光学系70と、を備えている。
なお、ガラス基板W(以下、単に「基板W」と称する。)は、マスクMに対向配置されており、このマスクMに描かれたパターンを露光転写すべく表面(マスクMの対向面側)に感光剤が塗布されている。
マスクステージ10は、中央部に矩形形状の開口11aが形成されるマスクステージベース11と、マスクステージベース11の開口11aにX軸,Y軸,θ方向に移動可能に装着されるマスク保持部であるマスク保持枠12と、マスクステージベース11の上面に設けられ、マスク保持枠12をX軸,Y軸,θ方向に移動させて、マスクMの位置を調整するマスク駆動機構16と、を備える。
マスクステージベース11は、装置ベース50上に立設される支柱51、及び支柱51の上端部に設けられるZ軸移動装置52によりZ軸方向に移動可能に支持され(図2参照。)、基板ステージ20の上方に配置される。
図3に示すように、マスクステージベース11の開口11aの周縁部の上面には、平面ベアリング13が複数箇所配置されており、マスク保持枠12は、その上端外周縁部に設けられるフランジ12aを平面ベアリング13に載置している。これにより、マスク保持枠12は、マスクステージベース11の開口11aに所定のすき間を介して挿入されるので、このすき間分だけX軸,Y軸,θ方向に移動可能となる。
また、マスク保持枠12の下面には、マスクMを保持するチャック部14が間座15を介して固定されている。このチャック部14には、マスクMのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数の吸引ノズル14aが開設されており、マスクMは、吸引ノズル14aを介して図示しない真空式吸着装置によりチャック部14に着脱自在に保持される。また、チャック部14は、マスク保持枠12と共にマスクステージベース11に対してX軸,Y軸,θ方向に移動可能である。
マスク駆動機構16は、マスク保持枠12のX軸方向に沿う一辺に取り付けられる2台のY軸方向駆動装置16yと、マスク保持枠12のY軸方向に沿う一辺に取り付けられる1台のX軸方向駆動装置16xと、を備える。
Y軸方向駆動装置16yは、マスクステージベース11上に設置され、Y軸方向に伸縮するロッド16bを有する駆動用アクチュエータ(例えば、電動アクチュエータ等)16aと、ロッド16bの先端にピン支持機構16cを介して連結されるスライダ16dと、マスク保持枠12のX軸方向に沿う辺部に取り付けられ、スライダ16dを移動可能に取り付ける案内レール16eと、を備える。なお、X軸方向駆動装置16xも、Y軸方向駆動装置16yと同様の構成を有する。
そして、マスク駆動機構16では、1台のX軸方向駆動装置16xを駆動させることによりマスク保持枠12をX軸方向に移動させ、2台のY軸方向駆動装置16yを同等に駆動させることによりマスク保持枠12をY軸方向に移動させる。また、2台のY軸方向駆動装置16yのどちらか一方を駆動することによりマスク保持枠12をθ方向に移動(Z軸回りの回転)させる。
さらに、マスクステージベース11の上面には、図1に示すように、マスクMと基板Wとの対向面間のギャップを測定するギャップセンサ17と、チャック部14に保持されるマスクMの取り付け位置を確認するためのアライメントカメラ18と、が設けられる。これらギャップセンサ17及びアライメントカメラ18は、移動機構19を介してX軸,Y軸方向に移動可能に保持され、マスク保持枠12内に配置される。
また、マスク保持枠12上には、図1に示すように、マスクステージベース11の開口11aのX軸方向の両端部に、マスクMの両端部を必要に応じて遮蔽するアパーチャブレード38が設けられる。このアパーチャブレード38は、モータ、ボールねじ、及びリニアガイド等からなるアパーチャブレード駆動機構39によりX軸方向に移動可能とされて、マスクMの両端部の遮蔽面積を調整する。なお、アパーチャブレード38は、開口11aのX軸方向の両端部だけでなく、開口11aのY軸方向の両端部に同様に設けられている。
基板ステージ20は、図1及び図2に示すように、基板Wを保持する基板保持部21と、基板保持部21を装置ベース50に対してX軸,Y軸,Z軸方向に移動する基板駆動機構22と、を備える。基板保持部21は、図示しない真空吸着機構によって基板Wを着脱自在に保持する。基板駆動機構22は、基板保持部21の下方に、Y軸テーブル23、Y軸送り機構24、X軸テーブル25、X軸送り機構26、及びZ−チルト調整機構27と、を備える。
Y軸送り機構24は、図2に示すように、リニアガイド28と送り駆動機構29とを備えて構成され、Y軸テーブル23の裏面に取り付けられたスライダ30が、装置ベース50上に延びる2本の案内レール31に転動体(図示せず)を介して跨架されると共に、モータ32とボールねじ装置33とによってY軸テーブル23を案内レール31に沿って駆動する。
なお、X軸送り機構26もY軸送り機構24と同様の構成を有し、X軸テーブル25をY軸テーブル23に対してX方向に駆動する。また、Z−チルト調整機構27は、くさび状の移動体34,35と送り駆動機構36とを組み合わせてなる可動くさび機構をX方向の一端側に1台、他端側に2台配置することで構成される。なお、送り駆動機構29,36は、モータとボールねじ装置とを組み合わせた構成であってもよく、固定子と可動子とを有するリニアモータであってもよい。また、Z−チルト調整機構27の設置数は任意である。
これにより、基板駆動機構22は、基板保持部21をX方向及びY方向に送り駆動するとともに、マスクMと基板Wとの対向面間のギャップを微調整するように、基板保持部21をZ軸方向に微動且つチルト調整する。
基板保持部21のX方向側部とY方向側部にはそれぞれバーミラー61,62が取り付けられ、また、装置ベース50のY方向端部とX方向端部には、計3台のレーザー干渉計63,64,65が設けられている。これにより、レーザー干渉計63,64,65からレーザー光をバーミラー61,62に照射し、バーミラー61、62により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー61,62により反射されたレーザー光との干渉を測定して基板ステージ20の位置を検出する。
図2、及び図4〜図6に示すように、照明光学系70は、発光部としての超高圧水銀ランプ71と、このランプ71から発生された光に指向性をもたせて射出する反射光学系としての反射鏡72と、をそれぞれ含む複数の光源部73と、複数の光源部73のうち、所定数の光源部73をそれぞれ取り付け可能な複数のカセット81と、複数のカセット81を取り付け可能な支持体82と、を備える光照射装置80を有する。また、光照射装置80は、複数の光源部73から射出された光束が入射されるインテグレータレンズ74と、各光源部73のランプ71の点灯と消灯の切り替えを含む電圧制御可能な光学制御部76と、インテグレータレンズ74の出射面から出射された光を反射して、略平行光(より詳細には、所定の照射角度であるコリメーション角を有する光)に変換するコリメーションミラー77と、複数の光源部73とインテグレータレンズ74との間に配置されて照射された光を透過・遮断するように開閉制御する露光制御用シャッター78と、を備える。なお、インテグレータレンズ74と露光面との間には、DUVカットフィルタ、偏光フィルタ、バンドパスフィルタが配置されてもよく、また、コリメーションミラー77には、ミラーの曲率を手動または自動で変更可能なデクリネーション角補正手段が設けられてもよい。また、インテグレータレンズ74は、同じ光学機構を持って縦横に配列された複数のレンズエレメントを構成するフライアイインテグレータであってもよいが、ロッドインテグレータであってもよい。また、ランプ71の発光部としては、超高圧水銀ランプ71の代わりに、LEDが適用されてもよい。
なお、照明光学系70において、160Wの超高圧水銀ランプ71を使用した場合、第6世代のフラットパネルを製造する露光装置では374個の光源部、第7世代のフラットパネルを製造する露光装置では572個の光源部、第8世代のフラットパネルを製造する露光装置では、774個の光源部が必要とされる。但し、本実施形態では、説明を簡略化するため、図4に示すように、α方向に3段、β方向に2列の計6個の光源部73が取り付けられたカセット81を3段×3列の計9個配した、54個の光源部73を有するものとして説明する。なお、本実施形態の光源部73では、反射鏡72の開口部72aが略正方形形状に形成されており、四辺がα、β方向に沿うように配置されている。
各カセット81は、所定数の光源部73を支持する光源支持部83と、光源支持部83に支持された光源部73を押さえて、該光源支持部83に取り付けられる凹状のランプ押さえカバー84と、を備えた略直方体形状に形成されており、それぞれ同一構成を有する。
光源支持部83には、光源部73の数に対応して設けられ、光源部73からの光を発光する複数の窓部83aと、該窓部83aのカバー側に設けられ、反射鏡72の開口部72a(又は、反射鏡72が取り付けられる反射鏡取り付け部の開口部)を囲うランプ用凹部83bと、隣接する窓部83aの間や窓部83aの周囲に設けられ、光源支持部83の板厚方向に貫通し、カセット81の内部と外部とを連通する複数の冷却孔83cと、が形成される。また、該窓部83aの反カバー側には、複数のカバーガラス85がそれぞれ取り付けられている。カバーガラス85は、それぞれのカバーガラス85の対角線上に設けられた座金状のカバーガラス押え100によって押えられている(図5(a)及び図7参照)。なお、カバーガラス85の取り付けは任意であり、設けられなくてもよい。
図7に示すように、カセット81の光源支持部83には、その前面側外周縁83dに沿って、冷却孔83c及びカバーガラス押え100を避けるように、複数の放熱フィン101が設けられている。各放熱フィン101は、光源支持部83の前面から前側に突出するように略直方体形状に形成されている。
各ランプ用凹部83bの底面は、光源部73の光を照射する照射面(ここでは、反射鏡72の開口面72b)と、光源部73の光軸Lとの交点pが、各α、β方向において単一の曲面、例えば、球面r上に位置するように、平面又は曲面(本実施形態では、平面)に形成される。
ランプ押さえカバー84の底面には、光源部73の後部に当接する当接部86が設けられており、各当接部86には、モータやシリンダのようなアクチュエータ、ばね押さえ、ねじ止め等によって構成されるランプ押さえ機構87が設けられている。これにより、各光源部73は、反射鏡72の開口部72aを光源支持部83のランプ用凹部83bに嵌合させ、ランプ押さえカバー84を光源支持部83に取り付け、ランプ押さえ機構87によって光源部73の後部を押さえつけることで、カセット81に位置決めされる。
従って、図5(c)に示すように、カセット81に位置決めされた所定数の光源部73の光が照射する各照射面と、全ての光源部73から照射される光のうち、略80%〜100%の光が入射されるインテグレータレンズ74の入射面までの各主光軸Lの距離が略一定となる。また、光源支持部83とランプ押さえカバー84との間の収納空間内では、隣接する光源部73の反射鏡72の背面72cは直接対向しており、光源部73、ランプ押さえ機構87等以外には該収納空間内の空気の流れを遮るものがなく、良好な空気の流動性が与えられる。
また、支持体82は、図4に示すように、複数のカセット81を取り付ける複数のカセット取り付け部90を有する支持体本体91と、該支持体本体91に取り付けられ、各カセット81の後部を覆う支持体カバー92と、を有する。
図8に示すように、各カセット取り付け部90には、光源支持部83が臨む開口部90aが形成され、該開口部90aの周囲には、光源支持部83の周囲の矩形平面が対向する平面90bを底面としたカセット用凹部(断面L字状の切り欠き)90cが形成される。また、支持体本体91のカセット用凹部90cの周囲には、カセット81を固定するためのカセット固定手段93が設けられており、本実施形態では、カセット81に形成された凹部81aに係合されて、カセット81を固定する。
α方向或いはβ方向に並ぶカセット用凹部90cの各平面90bは、各カセット81の全ての光源部73の光を照射する照射面と、光源部73の光軸Lとの交点pが、各α、β方向において単一の曲面、例えば、球面r上に位置するように(図9参照。)、所定の角度γで交差するように形成される。
従って、各カセット81は、これら光源支持部83を各カセット取り付け部90のカセット用凹部90cに嵌合させて位置決めした状態で、カセット固定手段93をカセット81の凹部81aに係合させることで、支持体82にそれぞれ固定される。そして、これら各カセット81が支持体本体91に取り付けられた状態で、該支持体本体91に支持体カバー92が取り付けられる。従って、図9に示すように、各カセット81に位置決めされた全ての光源部73の光が照射する各照射面と、全ての光源部73から照射される光のうち、略80%〜100%の光が入射されるインテグレータレンズ74の入射面までの各主光軸Lの距離が略一定となる。
図4、図8及び図9に示すように、支持体本体91には、その前面側外周縁91bに沿って複数の放熱フィン102が設けられており、各放熱フィン102は、支持体本体91の前面から前側に突出するように略直方体形状に形成されている。
また、光照射装置80の各光源部73、各カセット81、及び支持体82には、各ランプ71を冷却するための冷却構造が設けられている。具体的に、図5(a)及び図7に示すように、光源支持部83には、各カバーガラス85間に、複数の冷却孔83cが設けられており、光源支持部83の内部と外部とを連通させる。
更に、図6に示すように、各光源部73のランプ71と反射鏡72が取り付けられるベース部材75には、冷却路75aが形成されており、カセット81の各カバーガラス85には、一つ又は複数の空気流通孔である貫通孔85aが形成されている。また、カセット81のランプ押さえカバー84の底面には、複数の排気孔(連通孔)84aが形成され(図8参照。)、支持体82の支持体カバー92にも、複数の排気孔92aが形成されている(図4(c)参照。)。また、各排気孔92aには、支持体82の外部に形成されたブロアユニット(吸引手段)79が排気管79aを介して接続されている。
従って、ブロアユニット79によって支持体82内のエアを引いて排気することで、カバーガラス85の貫通孔85aから吸引された外部のエアが、矢印で示した方向へランプ71と反射鏡72との間の隙間sを通過し、光源部73のベース部材75に形成された冷却路75aへ導かれる。また、光源支持部83の複数の冷却孔83cを介して、支持体82の外部から内部に吸引されたエアが、反射鏡72間の空間を通過し、このエアにより各光源部73及びカセット81の冷却を行っている。
なお、エアの吸引を効率良く行うために、各冷却孔83cの断面積は、好ましくは200mm〜500mm、より好ましくは300mm〜400mm、さらに好ましくは350mm〜360mmとなるように設定される。
また、吸引手段は、ブロアユニット79に限定されるものでなく、ファン、インバータ、真空ポンプ、吸引バルブ等、支持体82の外部から内部にエアを吸引するものであればよい。また、ブロアユニット79によるエアの排気は、後方からに限らず、上方、下方、左方、右方のいずれの側方からでもよい。例えば、図10に示すように、支持体の側方に接続された複数の排気管79aをダンパー79bを介してブロアユニット79にそれぞれ接続するようにしてもよい。
また、ランプ押さえカバー84に形成される排気孔84aは、図5(c)に示すように底面に複数形成されてもよいし、図11(a)に示すように底面の中央に形成されてもよく、図11(b)、(c)に示すように長手方向、短手方向の側面に形成されてもよい。また、排気孔84aの他、ランプ押さえカバー84の開口縁から切欠いた連通溝を形成することで、光源支持部83とランプ押さえカバー84との間の収納空間と外部とを連通してもよい。
なお、ランプ押さえカバー84は、複数の支持体により構成される骨組構造とし、該支持体に連通孔や連通溝が形成されたカバー板を別途取り付けることで、連通孔や連通溝を構成するようにしてもよい。
さらに、図4に示すように、支持体本体91の周縁に、水冷管(冷却用配管)91aを設け、水ポンプ69によって水冷管91a内に冷却水を循環させることでも、各光源部73を冷却している。なお、水冷管91aは、支持体本体91内に形成されてもよいし、支持体本体91の表面に取り付けられても良い。また、水冷管91aは、図4に示すような配置に限定されるものでなく図12(a)及び図12(b)に示すように水冷管91aを全てのカセット81の周囲を通るように配置、又は、全てのカセット81の周囲の一部を通るようにジグザグに配置して、冷却水を循環させてもよい。
また、図13に示すように、各カセット81の光源部73には、ランプ71に電力を供給する点灯電源95及び制御回路96が個々に接続されており、各光源部73から後方に延びる各配線97は、各カセット81に設けられた少なくとも一つのコネクタ98に接続されてまとめられている。そして、各カセット81のコネクタ98と、支持体82の外側に設けられた光学制御部76との間は、他の配線99によってそれぞれ接続される。これにより、光学制御部76は、各ランプ71の制御回路96に制御信号を送信し、各ランプ71に対して点灯と消灯を含め、電圧を調整する電圧制御を行う。
なお、各光源部73の点灯電源95及び制御回路96は、カセット81に集約して設けられてもよいし、カセットの外部に設けられてもよい。また、ランプ押さえカバー84の当接部86は、各光源部73からの各配線97と干渉しないように形成されている。
さらに、図14に示すように、ランプ71毎にヒューズ94aを含む寿命時間検出手段94を設けて、タイマ96aによって点灯時間をカウントし、定格の寿命時間が来た段階でヒューズ94aに電流を流してヒューズ94aを切断する。従って、ヒューズ94aの切断の有無を確認することで、ランプ71を定格の寿命時間使用しているかどうかを検出することができる。なお、寿命時間検出手段94は、ヒューズ94aを含むものに限定されるものでなく、ランプ交換のメンテナンス時にランプ71の定格の寿命時間が一目でわかるようなものであればよい。例えば、ランプ71毎にICタグを配置して、ICタグに
よってランプ71を定格の寿命時間使用したかどうか確認できるもの、或いは、ランプ71の使用時間が確認できるようにしてもよい。
また、図14では、点灯電源95及び制御回路96は、光源部73毎に設けているが、複数の光源部73毎に1つ設けるようにし、カセット81内の光源部73を所定数ずつ纏めて管理するようにしてもよい。
なお、上記実施形態では、説明を簡略化するため、α方向に3段、β方向に2列の計6個の光源部73が取り付けられたカセット81を例に挙げたが、実際にはカセット81に配置される光源部73は8個以上であり、図15に示されるような配置で点対称又は線対称でカセット81に取り付けられる。即ち、光源部73をα方向、β方向で異なる数として配置しており、カセット81の光源支持部83に取り付けられた最外周に位置する光源部73の中心を四辺で結んだ線が長方形形状をなす。また、各カセット81が取り付けられる支持体82のカセット取り付け部90は、互いに直交するα、β方向に配置される各個数n(n:2以上の正の整数)を一致させて長方形形状に形成されている。ここで、この長方形形状は後述するインテグレータエレメントの各レンズエレメントの縦横毎の入射開口角比に対応させ、カセットの行数、列数を同数とした場合が最も効率が良いが異数でも良い。
ここで、インテグレータレンズ74の各レンズエレメントのアスペクト比(縦/横比)は、露光領域のエリアのアスペクト比に対応して決定されている。また、インテグレータレンズの各々のレンズエレメントは、その入射開口角以上の角度から入射される光を取り込むことができない構造となっている。つまり、レンズエレメントは長辺側に対して短辺側の入射開口角が小さくなる。このため、支持体82に配置された光源部73全体のアスペクト比(縦/横比)を、インテグレータレンズ74の入射面のアスペクト比に対応した長方形形状の配置とすることで、光の使用効率が良好となる。
このように構成された露光装置PEでは、照明光学系70において、露光時に露光制御用シャッター78が開制御されると、超高圧水銀ランプ71から照射された光が、インテグレータレンズ74の入射面に入射される。そして、インテグレータレンズ74の出射面から発せられた光は、コリメーションミラー77によってその進行方向が変えられるとともに平行光に変換される。そして、この平行光は、マスクステージ10に保持されるマスクM、さらには基板ステージ20に保持される基板Wの表面に対して略垂直にパターン露光用の光として照射され、マスクMのパターンPが基板W上に露光転写される。
ここで、光源部73を交換する際には、カセット81毎に交換される。各カセット81では、所定数の光源部73が予め位置決めされ、且つ、各光源部73からの配線97がコネクタ98に接続されている。このため、交換が必要なカセット81を支持体82の光が出射される方向とは逆方向から取り外し、新しいカセット81を支持体82のカセット用凹部90cに嵌合させて支持体82に取り付けることで、カセット81内の光源部73のアライメントを完了する。また、コネクタ98に他の配線99を接続することで、配線作業も完了するので、光源部73の交換作業を容易に行うことができる。また、カセット交換の際には装置を止める必要がある。理由としては、カセット81には複数のランプ(9個以上)が配置されており、カセット一つ一つが露光面での照度分布に大きく寄与するためである。しかしながら、前述したように複数のカセット81を交換する場合であっても作業が容易で且つ交換時間自体も短くすることができるため、有用な方法である。
以上、説明したように、本実施形態の露光装置用光照射装置80によれば、所定数の光源部73がそれぞれ取り付け可能なカセット81に、その前面側外周縁83dに沿って複数の放熱フィン101が設けられるため、光源部73の熱をカセット81の放熱フィン101を介して放熱することができ、冷却効率を高めることが可能となる。また、従来の特許文献3とは異なり、光源部73の反射鏡72に放熱フィンを設ける構造ではないので、光源部73の交換が簡易となる。
また、複数のカセット81を取り付け可能な支持体82を備え、支持体82には、その前面側外周縁91bに沿って複数の放熱フィン102がさらに設けられるため、この放熱フィン102を介して放熱することができる。したがって、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。
また、カセット81の内部と外部とを連通する複数の冷却孔83cが設けられるため、この冷却孔83cを介してエアの吸排気が行われ、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。
また、各冷却孔83cの断面積は200mm〜500mmであるため、エアの吸排気が効率良く行われ、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。
また、支持体82には、カセット81の冷却孔83cを介して、支持体82の外部から内部にエアを吸引するブロアユニット79が接続されるので、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。
(第2実施形態)
次に、露光装置用光照射装置の第2実施形態について図16及び図17を参照して説明する。なお、第1実施形態と同一または同等部分については同一符号又は相当符号を付して、説明を簡略化又は省略する。
図16は、本実施形態の光照射装置80を正面から見た要部拡大図である。本実施形態の光照射装置80は、支持体本体91の前面側外周縁91bに冷却管110が設けられている。この冷却管110には、複数のカセット81に設けられた冷却孔83cのうち、支持体82の周囲に近接配置された冷却孔83cと連通するように、略円環状の密封部材112を介して接続される(図17参照。)。密封部材としては、公知のものが適用され、例えば、Oリング、パッキン、シールなどが用いられる。
そして、冷却管110には、上述の水ポンプ69が接続され、この水ポンプ69によって冷却媒体としての水が供給され、カセット81の冷却孔83cに導入されることで、各光源部73が冷却される。なお、冷却孔83に供給された水は、カセット81の内部で水ポンプ69に循環されるように設計されている。
なお、冷却管110は、支持体本体91内に形成されてもよいし、支持体本体91の表面に取り付けられてもよい。また、水ポンプ69とは別に、冷却管110に冷却媒体を供給する冷却媒体供給手段を設けてもよい。また、冷却媒体は水以外の液体や、気体であってもよい。
以上述べたように、本実施形態の露光装置用光照射装置80によれば、カセット81には、冷却孔83cと連通するように、冷却媒体を導入するための冷却管110が密封部材112を介して接続されているので、光照射装置80の冷却効率をさらに高めることが可能となる。さらに、冷却管110は、カセット81に密封部材112を介して密封接続されるので、冷却媒体が外部に漏洩することがなく、クリーンルームが汚染されることを防ぐことができる。
尚、本発明は、前述した実施形態及び実施例に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
例えば、各放熱フィン101、102は、略直方体形状に形成されるとしたが、これに限定されず、放熱効果を有するものであれば、略立方体形状や略円柱形状など、任意の形状が適用される。
また、例えば、上記実施形態では、露光装置として分割逐次近接露光装置を説明したが、これに限定されず、本発明は、走査式近接露光装置、ミラープロジェクション式露光装置、レンズ投影式露光装置、密着式露光装置にも適用することができる。また、本発明は、一括式、逐次式、走査式等のいずれの露光装置にも適用することができる。
71 超高圧水銀ランプ(発光部)
72 反射鏡(反射光学系)
73 光源部
79 ブロアユニット(吸引手段)
80 露光装置用光照射装置
81 カセット
82 支持体
83 光源支持部
83c 冷却孔
83d 前面側外周縁
91b 前面側外周縁
101 放熱フィン
102 放熱フィン
110 冷却管
112 密封部材

Claims (4)

  1. 発光部と該発光部から発生された光に指向性をもたせて射出する反射光学系をそれぞれ含む複数の光源部と、
    所定数の前記光源部をそれぞれ取り付け可能なカセットと、
    を備え、
    前記カセットには、その前面側外周縁に沿って複数の放熱フィンが設けられ、且つ、前記光源部と重ならない位置において前記カセットの内部と外部とを連通する複数の冷却孔が設けられ
    前記カセットには、前記冷却孔と連通するように、冷却媒体を導入するための冷却管が密封部材を介して接続されている
    ことを特徴とする露光装置用光照射装置。
  2. 複数の前記カセットを取り付け可能な支持体を備え、
    該支持体には、その前面側外周縁に沿って複数の他の放熱フィンがさらに設けられる
    ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置用光照射装置。
  3. 前記各冷却孔の断面積は、200mm〜500mmである
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置用光照射装置。
  4. 前記冷却媒体は水である
    ことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の露光装置用光照射装置。
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